KR100839570B1 - A base plate transfer method and apparatus - Google Patents

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KR100839570B1 KR1020070141641A KR20070141641A KR100839570B1 KR 100839570 B1 KR100839570 B1 KR 100839570B1 KR 1020070141641 A KR1020070141641 A KR 1020070141641A KR 20070141641 A KR20070141641 A KR 20070141641A KR 100839570 B1 KR100839570 B1 KR 100839570B1
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Abstract

A method and an apparatus for transferring substrates are provided to reduce buffer time of substrates at first and second rotary supports, since first and second lifts are alternately lifted between a first position and a second position to transfer substrates, thereby reducing the entire processing time. An apparatus for transferring substrates carried to a first position on an upper side to a second position on a lower side, and transferring the substrates on the second position to a transfer rail for unloading, the apparatus comprises first and second lifting mechanisms, a first rotary support(130), a second rotary support(230), and first and second lifts. The first and second lifting mechanisms are formed between the first and second positions on the opposite side of the transfer rail. The first rotary support comprises a plurality of the first upper supports(131) whose one end is rotatably supported by a fixture near the first lifting mechanism at the first position, supporting the substrates on each horizontal position, and spaced away from each other on the same level, and a plurality of the first lower supports(132) whose one end is rotatably supported by the fixture, each disposed between the first upper supports. The second rotary support comprises a plurality of the second upper supports(231) whose one end is rotatably supported by a fixture near the second lifting mechanism at the first position, supporting the substrates on each horizontal position, and spaced away from each other on the same level, and a plurality of the second lower supports(232) whose one end is rotatably supported by the fixture, each disposed between the second upper supports. The first and second lifts that are supported by the first and second lifting mechanisms for vertical motion, and rotatable with respect to the first and second lifting mechanisms, has an extensible length to hold the substrates on the first and second rotary supports and load onto the transfer rail.

Description

기판 이송방법 및 장치{A base plate transfer method and apparatus}Substrate transfer method and apparatus

본 발명은 작업 대상물인 기판의 이송방법 및 장치에 관한 것으로써, 특히 기판을 상부 작업부로부터 하부작업부로 또는 하부작업부로부터 상부작업부로 이송시킬때 이송시간을 단축시키고 기판의 처리공정시간을 단축시킬 수 있도록한 기판 이송방법 및 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and an apparatus for transferring a substrate, which is an object to be worked on, and in particular, when transferring a substrate from an upper working part to a lower working part or from a lower working part to an upper working part, the transfer time is shortened and the processing time of the substrate is shortened. The present invention relates to a substrate transfer method and apparatus.

예컨대, 평판디스플레이(FPT;flat panel display), 반도체 웨이퍼, LCD 글라스 등에 사용되는 기판은 증착, 에칭, 스트립, 세정, 린스등의 일련의 공정을 거치면서 처리된다.For example, a substrate used for a flat panel display (FPT), a semiconductor wafer, an LCD glass, or the like is processed through a series of processes such as deposition, etching, stripping, cleaning, and rinsing.

이러한 일련의 기판 처리공정은 기판이송장치에 의해 이송되어 기판의 공급, 처리, 배출의 과정이 하나의 순환싸이클을 이루게 된다.Such a series of substrate processing processes are transferred by a substrate transfer device so that a process of supplying, processing, and discharging the substrate forms one circulation cycle.

일 예로서의 기판 이송방법을 나타낸 도 1 내지 도 3을 참조하면, 이는 상부작업대(10)로부터 하부작업대(20)로 기판(1)(2)을 이송시키고, 다시 하부작업대(20)로부터 상부작업대(10)로 기판(1)(2)을 이송하여 배출시키는 구조를 가진다.1 to 3 showing a substrate transfer method as an example, which transfers the substrate 1, 2 from the upper work platform 10 to the lower work platform 20, and again from the lower work platform 20 to the upper work platform ( It has a structure to transfer and discharge the substrate (1) (2) to 10.

즉, 도 1에서와 같이, 상부작업대(10)의 공급 및 배출부(15)를 통하여 기판(1)이 공급되어서, 상부작업대(10)의 일정구간에서 제1기판(1)에 대한 자외선세정이 행하여지고, 자외선세정이 완료된 제1기판(1)은 공급측리프트(11)로 이동되어서 도 2 및 도 3에서와 같이 하강되어 하부작업대(20)로 제1기판(1)이 이동되고, 하부작업대(20)에서 세정수에 의한 세정작업등의 공정이 이루어진다.That is, as shown in FIG. 1, the substrate 1 is supplied through the supply and discharge portions 15 of the upper working platform 10, so that the UV cleaning is performed on the first substrate 1 in a certain section of the upper working platform 10. After this, the first substrate 1, which has been cleaned with ultraviolet rays, is moved to the supply side lift 11 and lowered as shown in FIGS. 2 and 3 to move the first substrate 1 to the lower work bench 20, In the work bench 20, a process such as washing with washing water is performed.

이와 같이 하부작업대(20)에서의 공정이 완료된 후에는 배출측리프트(21)로 제1기판(1)이 이동되고, 상승되어서 상부작업대(10)의 공급 및 배출부(15)를 통하여 제1기판(1)이 배출되게 된다.After the process at the lower work platform 20 is completed, the first substrate 1 is moved to the discharge side lift 21, and ascended, the first substrate 1 is supplied to the upper work platform 10 through the supply and discharge portions 15. The substrate 1 is discharged.

그러나 이와 같은 기판 이송방법은 제1기판(1)이 공급측리프트(11)에 탑재되어서 상부작업대(10)로부터 하부작업대(20)로 이송되는 동안, 도 2에서와 같이 상부작업대(10)에서 자외선세정공정이 완료된 제2기판(2)이 대기하여야 하고 이에 따라 공급 및 배출부(15)를 통한 다른 기판의 공급이 지연되므로 생산성이 저하되는 문제점이 있다.However, this substrate transfer method, while the first substrate 1 is mounted on the supply side lift 11 and transferred from the upper work platform 10 to the lower work platform 20, the ultraviolet light in the upper work platform 10 as shown in FIG. Since the second substrate 2 having the cleaning process is completed, the second substrate 2 should wait, and thus, the supply of the other substrate through the supply and discharge portions 15 is delayed, which leads to a problem that productivity is lowered.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로써, 기판의 대기시간을 최소화하여 작업시간을 단축시키고 기판의 이송공간을 최소화할 수 있도록 한 기판 이송방법 및 장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to provide a substrate transfer method and apparatus that can minimize the waiting time of the substrate to reduce the working time and minimize the transfer space of the substrate have.

상기 목적을 달성하는 본 발명은 상부의 제1위치로 공급된 기판을 하부의 제2위치의 높이로 기판을 이송시키고, 제2위치로 이송된 기판을 이송레일에 안착시키 는 기판 이송방법에 있어서,The present invention to achieve the above object is to transfer the substrate to the height of the lower second position of the substrate supplied to the first position of the upper, in the substrate transfer method for seating the substrate transferred to the second position on the transfer rail ,

상기 이송레일의 마주보는 양측에 제1위치로부터 제2위치에 이르는 구간에 각각 제1,2승강기구를 마련하고;Providing first and second elevating mechanisms in sections extending from a first position to a second position on opposite sides of the transfer rail;

상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제1,2승강기구에 인접한 각 고정구조물에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하며 상하로 이격되어 각각 별도로 회동가능하게 상기 고정구조물에 지지되는 한쌍의 제1,2상/하부지지대를 구비하는 제1,2회동지지대와, 상기 제1,2승강기구에 지지되어 상하로 이동가능하고 상기 제1,2승강기구에 대해 회동가능하고 길이가 신축가능하며 상기 제1,2회동지지대의 기판을 탑재하여 상기 이송레일에 안착시키는 제1,2리프트를 구비하여서;Each end in the first position is rotatably supported by each of the fixed structures adjacent to the first and second elevating mechanisms, and supports the supplied substrate at each horizontal position and is spaced up and down, respectively, so as to be separately rotatable to the fixed structure. A first and second pivotal support having a pair of first and second upper / lower supports supported thereon, the first and second lifting mechanisms being supported by the first and second lifting mechanisms to be movable up and down, and rotatable with respect to the first and second lifting mechanisms; A first and second lifts having a stretchable length and having first and second lift support substrates mounted thereon and seated on the transfer rails;

a) 상기 제1위치에서 상기 제1,2상/하부지지대를 수평으로 위치시키고, 각 제1,2상부지지대와 제1,2하부지지대에 각각 기판을 공급하여 안착시키는 단계와;a) positioning the first and second upper and lower supports horizontally in the first position, and supplying and seating a substrate to each of the first and second upper supports and the first and second lower supports, respectively;

b) 상기 제1리프트를 제1,2하부지지대의 아래에서 길이를 신장시켜 수평으로 유지시키는 단계와;b) extending the length below the first and second lower supports to maintain the first lift horizontally;

c) 상기 제1리프트를 상승시켜서 제1,2하부지지대의 직하부에 위치시키고 제1,2하부지지대를 하방향으로 회전시키면서 기판을 상기 제1리프트로 옮겨 안착시키는 단계와;c) raising the first lift to be positioned directly underneath the first and second lower supports and moving the substrate to the first lift while rotating the first and second lower supports downward;

d) 상기 제1리프트를 하강시켜 상기 이송레일에 기판을 안착시키고 제1리프트의 길이를 수축시킨 후 하방향으로 회전시키며 이송레일을 회전구동하여 기판을 이송배출시키는 단계와;d) lowering the first lift to seat the substrate on the transfer rail, shrink the length of the first lift, rotate the downward direction, and rotate the transfer rail to transfer and discharge the substrate;

e) 상기 제1리프트가 d)단계를 수행하는 동안 상기 제2리프트를 제2승강기구를 통하여 상승시키고 제1,2상부지지대의 아래에서 길이를 신장시켜 수평으로 유지시키는 단계와;e) lifting the second lift through a second elevating mechanism and extending the length below the first and second upper supports while the first lift performs step d) to maintain horizontal;

f) 상기 제1,2상부지지대를 하방향으로 회동시키면서 제1,2상부지지대에 공급된 기판을 제2리프트에 옮겨 안착시키는 단계와;f) transferring the substrate supplied to the first and second upper supports to a second lift while rotating the first and second upper supports downward;

g) 상기 f)단계의 제2리프트를 제2위치로 하강시키는 동안 상기 d)단계에서 하방향으로 회전된 제1리프트를 상승시키고, 상기 c)단계와 f)단계에서 하방향으로 회전된 제1,2상부지지대와 제1,2하부지지대를 수평위치로 회전시키는 단계와;g) raising the first lift rotated downward in step d) while lowering the second lift in step f) and rotating downward in steps c) and f); Rotating the first and second lower supports and the first and second lower supports to a horizontal position;

h) 상기 g)단계에서 제2위치로 제2리프트를 하강시켜 상기 이송레일에 기판을 안착시키고 제2리프트의 길이를 수축시킨 후 하방향으로 회전시키며 이송레일을 회전구동하여 기판을 이송배출시키는 단계와;h) lowering the second lift to the second position in step g) to seat the substrate on the transfer rail, shrink the length of the second lift, rotate it downward, and rotate the transfer rail to transfer and discharge the substrate. Steps;

i) 상기 g)단계에서 수평위치로 회전된 제1,2상부지지대와 제1,2하부지지대에 각각 기판을 공급시키는 단계와;i) supplying a substrate to each of the first and second upper supports and the first and second lower supports rotated to a horizontal position in step g);

j) 상기 g)단계에서 상승된 제1리프트를 상기 제1,2하부지지대의 아래에서 수평으로 회전시키면서 길이를 신장시키는 단계와;j) extending the length while rotating the first lift raised in the step g) horizontally under the first and second lower supports;

k) 이후 상기 c)단계로부터 상기 i)단계구간을 반복적으로 수행하는 것을 특징으로 한다.and k) thereafter repeating the step i) from step c).

또한, 본 발명 기판 이송방법은 상기 d) 및 h)단계에서 상기 이송레일을 일방향으로 경사지게 하여 기판을 배출시키는 것을 특징으로 한다.In addition, the substrate transfer method of the present invention is characterized in that in step d) and h) the substrate is inclined in one direction to discharge the substrate.

한편, 상기 목적을 달성하는 본 발명 기판 이송장치는 상부의 제1위치로 공 급된 기판을 하부의 제2위치의 높이로 기판을 이송시키고, 제2위치로 이송된 기판을 이송레일로 이동시켜 배출시키는 기판 이송장치에 있어서,On the other hand, the substrate transfer apparatus of the present invention, which achieves the above object, transfers the substrate supplied to the first position of the upper portion to the height of the second position of the lower portion, and moves the substrate transferred to the second position by the transfer rail to discharge the substrate. In the substrate transfer device to

상기 이송레일의 마주보는 양측에 제1위치로부터 제2위치에 이르는 구간에 마련되는 제1,2승강기구와;First and second elevating mechanisms provided in sections extending from a first position to a second position on opposite sides of the transfer rail;

상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제1승강기구에 인접한 고정구조물에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 일정간격으로 이격되어 동일평면상에 마련되는 복수의 제1상부지지대와, 상기 제1상부지지대의 하부에 위치되어 상기 고정구조물에 각 일단이 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 각 제1상부지지대 사이사이에 위치되는 복수의 제1하부지지대를 구비하는 제1회동지지대와;A plurality of first upper parts each of which is rotatably supported at a fixed structure adjacent to the first lifting mechanism at the first position, and supports the supplied substrate at each horizontal position and is spaced at regular intervals and provided on the same plane; A plurality of first supports positioned at a lower portion of the support and the first upper support, the ends being rotatably supported by the fixed structure, supporting the supplied substrate at each horizontal position, and positioned between each first upper support; A first pivotal support having a lower support;

상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제2승강기구에 인접한 고정구조물에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 일정간격으로 이격되어 동일평면상에 마련되는 복수의 제2상부지지대와, 상기 제2상부지지대의 하부에 위치되어 상기 고정구조물에 각 일단이 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 각 제2상부지지대 사이사이에 위치되는 복수의 제2하부지지대를 구비하는 제2회동지지대와;A plurality of second upper portions each of which is rotatably supported at a fixed structure adjacent to the second lifting mechanism at the first position, and supports the supplied substrate at each horizontal position and is spaced at regular intervals and provided on the same plane; A plurality of second supports positioned at a lower portion of the support and the second upper support and rotatably supported at the one end to the fixed structure and supporting the supplied substrate at each horizontal position and between each second upper support; A second pivotal support having a lower support;

상기 제1,2승강기구에 지지되어 상하로 이동가능하고, 상기 제1,2승강기구에 대해 회동가능하고, 길이가 신축가능하며, 상기 제1,2회동지지대의 기판을 탑재하여 상기 이송레일에 안착시키는 포크형 제1,2리프트;를 구비하며,The transfer rail is supported by the first and second elevating mechanisms and is movable up and down, is rotatable with respect to the first and second elevating mechanisms, and has a length that is flexible. And fork-shaped first and second lifts seated on the

상기 이송레일은 상기 포크형 제1,2리프트가 통과되도록 일정간격으로 마련 되는 복수의 회전봉을 구비한 것을 특징으로 한다.The conveying rail is characterized in that it comprises a plurality of rotating rods are provided at a predetermined interval to pass through the fork-shaped first, second lift.

또한, 본 발명 이송장치에 있어서, 상기 승강기구는 모터의 동력으로 회전되는 스크류봉인 것을 특징으로 한다.In addition, in the transfer apparatus of the present invention, the lifting mechanism is a screw rod that is rotated by the power of the motor.

또한, 본 발명 이송장치에 있어서, 상기 제1,2리프트는 각각 상기 스크류봉에 나사결합되어 승강되는 제1,2이동블럭과, 상기 제1,2이동블럭에 고정되는 제1,2승강몸체와, 상기 각 제1,2승강몸체에 일단이 회동가능하게 지지되는 제1,2회동바아와, 일단이 상기 제1,2회동바아의 타단부에 회전수단에 의해서 회전가능하게 연결되는 제1,2확장바아를 구비한 것을 특징으로 한다.In addition, in the transfer apparatus of the present invention, the first and second lifts are first and second movable blocks which are screwed to and lifted from the screw rod, respectively, and the first and second lifting bodies fixed to the first and second movable blocks. And first and second pivot bars, one end of which is rotatably supported by the first and second lifting bodies, and one end of which is rotatably connected to the other end of the first and second pivot bars by rotation means. And two extension bars.

또한, 상기 회전수단은 상기 제1,2회동바아에 각각 소정간격 이격되어 회전가능하게 지지되는 제1,2풀리와, 상기 제1,2풀리에 권회되어 회전안내되는 벨트와, 상기 제1,2회동바아에 고정설치되며 그 로드가 상기 벨트와 연결고정되는 실린더를 구비하며,The rotating means may include first and second pulleys rotatably supported by the first and second pivot bars to be rotatably spaced apart from each other, a belt wound and guided by the first and second pulleys, and the first and second rotation bars. It is provided with a cylinder fixed to the two times the bar and the rod is fixed to the belt,

상기 각 제2풀리를 상기 각 제1,2확장바아와 동축으로 연결하여 된 것을 특징으로 한다.Each second pulley is characterized in that it is connected coaxially with each of the first and second extension bar.

또한, 본 발명 이송장치는 상단부에 상기 이송레일을 회전가능하게 지지하며 하단부 일측이 힌지축에 의해서 회동가능하게 지지되는 프레임과, 상기 프레임의 타측에 연결되어 출몰작동하는 경사실린더를 구비하여서,In addition, the conveying apparatus of the present invention includes a frame that rotatably supports the conveying rail at an upper end and one side of the lower end is rotatably supported by a hinge shaft, and an inclined cylinder connected to the other side of the frame to move in and out.

상기 경사실린더의 작동에 따라 프레임 및 이송레일이 수평 또는 일방향으로 경사지도록 된 것을 특징으로 한다.According to the operation of the inclined cylinder is characterized in that the frame and the conveying rail is inclined horizontally or in one direction.

본 발명은 제1,2리프트가 각각 제1위치와 제2위치 사이를 교대로 승강되면서 복수의 기판을 이송시키게 되므로 제1,2회동지지대에서의 기판 대기시간을 줄임으로써 이송시간 및 공정시간을 단축시킬 수 있게 한다.In the present invention, since the first and second lifts transfer a plurality of substrates while alternately lifting between the first position and the second position, respectively, the transfer time and the process time are reduced by reducing the substrate waiting time in the first and second pivotal supports. To be shortened.

또한, 제1,2리프트들을 회동가능하게 하고 신축가능하도록 함으로써, 좁은공간에서의 설치를 가능하게 한다.In addition, by making the first and second lifts rotatable and stretchable, installation in a narrow space is possible.

또한, 이송레일을 수평 및 경사구동을 가능하게 하여, 이송레일의 수평위치에서 기판을 안정적으로 안착시키고 또한 기판이 안착된 이송레일을 경사지도록 함으로써 물기 등의 배출을 원할하게 한다.In addition, the transfer rails can be horizontally and inclinedly driven, thereby stably seating the substrate at the horizontal position of the transfer rail, and inclining the transfer rail on which the substrate is seated.

본 발명 실시예에 적용되는 기판 이송방법 및 장치는 예컨대, LCD 글라스와 같은 기판을 증착, 에칭, 스트립, 세정, 린스등의 일련의 공정을 거칠 수 있도록 자동이송시키는 기판 이송라인에서, 각 공정간에 기판을 이송/대기시키는 버퍼(buffer)구간에 적용된다. 즉, 도 1에서와 같이, 상부작업대로부터 하부작업대로 또는 그 반대로 기판을 이송시키는 기판의 공급 및 배출과 퍼버구간에 적용된다.Substrate transfer method and apparatus applied to the embodiment of the present invention, for example, in a substrate transfer line for automatically transferring a substrate such as LCD glass to undergo a series of processes such as deposition, etching, stripping, cleaning, rinsing, between each process Applied to the buffer section to transfer / standby the substrate. That is, as shown in Figure 1, it is applied to the supply and discharge of the substrate to transfer the substrate from the upper workbench to the lower workbench and vice versa section.

이와 같은 일련의 기판 처리공정은 기판이송시스템에 의해 이송되어 기판의 공급, 처리, 배출의 과정이 대기시간없이 최소한의 시간으로 하나의 순환사이클을 이루게 된다.Such a series of substrate processing processes are transferred by a substrate transfer system so that the process of supplying, processing, and discharging the substrate forms a circulation cycle with a minimum time without waiting time.

종래에는 일련의 공정소요시간이 종래 리프터의 작동시간보다 짧아져서 문제가 되었는데, 본 발명은 리프터의 처리속도를 향상시켜서 공정소요시간보다 빠르게 하여 다음 기판공급준비를 가능하게 한다.In the related art, a series of process time is shorter than the operation time of the conventional lifter, but the present invention improves the processing speed of the lifter, making it possible to prepare the next substrate supply faster than the process time.

이하에서는 본 발명 기판 이송장치에 대하여 설명하고 이를 이용한 이송방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the substrate transfer apparatus of the present invention will be described and a transfer method using the same will be described.

본 발명 실시예의 기판 이송장치의 개략적 개념작동도를 나타낸 도 4, 도 6a 내지 도 6n를 참조하면,이는 제1위치(상부위치)로 공급된 기판(400)을 제1,2리프트(100)(200)에 의해서 제2위치(하부위치)의 높이로 이송시키고, 제2위치로 이송된 기판을 이송레일(300)에 이송시켜 배출시키도록 한다.4 and 6a to 6n which illustrate schematic conceptual operation diagrams of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, this is used to transfer the substrate 400 supplied to the first position (upper position) to the first and second lift 100. The substrate 200 is transferred to the height of the second position (lower position) by the 200 and the substrate transferred to the second position is transferred to the transfer rail 300 to be discharged.

먼저, 상기 이송레일(300)의 마주보는 양측에 제1위치로부터 제2위치에 이르는 구간에 각각 제1,2승강가이드를 마련하고, 제1,2승강가이드에 제1,2리프트(100)(200)를 승강가능하게 지지시킨다. 이때 승강구조는 체인,로우프, 타이밍벨트, 볼스크류 또는 유압실린더에 의해서 가능하게 구성될 수 있다.First, first and second elevating guides are respectively provided in sections extending from the first position to the second position on opposite sides of the transfer rail 300, and the first and second lift guides are provided in the first and second elevating guides. Support 200 in a liftable manner. At this time, the lifting structure may be configured by a chain, a rope, a timing belt, a ball screw or a hydraulic cylinder.

본 발명 실시예에서의 제1,2승강가이드는 제1,2모터(110)(210)에 의해서 회전되는 제1,2스크류봉(101)(201)을 채택하였다.The first and second lifting guides in the embodiment of the present invention adopt the first and second screw rods 101 and 201 rotated by the first and second motors 110 and 210.

상기 제1,2스크류봉(101)(201) 사이에는 로봇(미도시)에 의해서 2장의 기판(400)이 안착되는 제1회동지지대(130)와 제2회동지지대(230)가 수평위치 및 수직위치 사이를 왕복회동될 수 있도록 마련된다.Between the first and second screw rods 101 and 201, the first pivot support 130 and the second pivot support 230 on which two substrates 400 are seated by a robot (not shown) are positioned in a horizontal position and It is provided to be able to reciprocate between vertical positions.

도 4, 도 6a, 도 8, 도 10 및 도 11을 참조하면, 상기 제1회동지지대(130)는 상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제1승강기구(이하 제1스크류봉(101)이라한다)에 인접한 고정구조물(프레임;510)에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판(400)을 지지하고 일정간격으로 이격되어 동일평면상에 마련되는 복수의 제1상부지지대(131)와, 상기 제1상부지지대(131)의 하부에 위치되어 상기 고정구조물(150)에 각 일단이 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 각 제1상부지지대(131) 사이사이에 위치되는 복수의 제1하부지지대(132)를 구비한다.4, 6A, 8, 10, and 11, each end of the first pivotal support 130 is the first lifting mechanism (hereinafter referred to as the first screw rod 101) in the first position. A plurality of first upper supports 131 rotatably supported by a fixed structure (frame) 510 adjacent to each other and supporting the supplied substrate 400 at each horizontal position and spaced at regular intervals and provided on the same plane. And one end of the first upper supporter 131 is rotatably supported by the fixed structure 150 and supports the supplied substrate at each horizontal position, and the first upper supporter 131. It is provided with a plurality of first lower support 132 positioned between.

상기 제2회동지지대(230)는 제1회동지지대(130)와 동일한 구조를 가지는 바, 상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제2승강기구(이하 제2스크류봉(201)이라한다)에 인접한 고정구조물(프레임; 510)에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판(400)을 지지하고 일정간격으로 이격되어 동일평면상에 마련되는 복수의 제2상부지지대(231)와, 상기 제2상부지지대(231)의 하부에 위치되어 상기 고정구조물(510)에 각 일단이 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 각 제2상부지지대(231) 사이사이에 위치되는 복수의 제2하부지지대(232)를 구비한다.The second pivotal support 230 has the same structure as the first pivotal support 130, and each end of the second pivotal support 230 is adjacent to the second lifting mechanism (hereinafter referred to as the second screw rod 201). A plurality of second upper supports 231 rotatably supported on a fixed structure (frame) 510 to support the supplied substrate 400 at each horizontal position and to be spaced apart at regular intervals and provided on the same plane; Located at the bottom of the second upper support 231, each end is rotatably supported by the fixed structure 510, and supports the supplied substrate in each horizontal position and between each second upper support 231 A plurality of second lower support 232 is provided.

도 4 및 도 8을 참조하면, 상기 제1,2회동지지대(130)(230)는 동일한 구조를 가지므로 제1회동지지대(130)를 예로들어 설명한다. 제1상/하부지지대(131)(132)의 각 일단은 각각 프레임(510)에 고정된 제1,2고정레버(136)(236)의 하단부에 회전가능하게 연결된다. 또한, 프레임(510)에 회전가능하게 지지되고 모터(미도시)에 의해서 회전구동되는 제1,2샤프트(135)(235)에는 제1,2회동링크(137)(237)의 일단이 결합되어 회동되고, 제1,2회동링크(137)(237)의 타단은 제1,2상/하부지지대(131)(132)의 각 일단에 결합되어 제1,2상/하부지지대(131)(132)가 회동될 수 있도록 되어 있다.4 and 8, since the first and second pivotal supports 130 and 230 have the same structure, the first pivotal support 130 will be described as an example. Each end of the first upper and lower supporters 131 and 132 is rotatably connected to the lower ends of the first and second fixing levers 136 and 236 fixed to the frame 510, respectively. In addition, one end of the first and second pivotal links 137 and 237 is coupled to the first and second shafts 135 and 235 rotatably supported by the frame 510 and rotated by a motor (not shown). And the other end of the first and second pivotal links 137 and 237 is coupled to each one end of the first and second phase / lower supports 131 and 132 so that the first and second phase / lower supports 131 are rotated. 132 can be rotated.

상기 제1,2샤프트(135)(235)가 회전될때 제1,2회동링크(137)(237)가 회동되면서 제1상/하부지지대(131)(231)를 회전시킬 수 있도록 소정각도로 절곡 형성되어지며, 다양한 절곡상태로 설계되어질 수 있다.When the first and second shafts 135 and 235 are rotated, the first and second pivot links 137 and 237 are rotated to rotate the first upper / lower supports 131 and 231 at a predetermined angle. It is bent and can be designed in various bending states.

상기 제1,2리프트(100)(200)는 동일한 구조를 가지므로, 도 6a, 도 7 및 도 9를 참조하면서 구성을 설명한다.Since the first and second lifts 100 and 200 have the same structure, the configuration will be described with reference to FIGS. 6A, 7, and 9.

제1,2리프트(100)(200)는 상기 제1,2스크류봉(101)(201)에 지지되어 상하로 이동가능하고, 상기 제1,2스크류봉(101)(201)에 대해 회동가능하고, 길이가 신축가능하며, 상기 제1,2회동지지대(130)(230)의 기판(400)을 탑재하여 상기 이송레일(300)에 안착시키는 포크형 구조를 가진다.The first and second lifts 100 and 200 are supported by the first and second screw rods 101 and 201 and are movable up and down, and rotate with respect to the first and second screw rods 101 and 201. It is possible to stretch the length, and has a fork-type structure to be mounted on the transfer rail 300 by mounting the substrate 400 of the first and second pivotal support (130, 230).

상기 제1,2리프트(100)(200)는 각각 상기 스크류봉(101)(201)에 나사결합되어 승강되는 제1,2이동블럭(102)(202)과, 상기 제1,2이동블럭(102)(202)에 고정되는 제1,2승강몸체(103)(203)와, 상기 각 제1,2승강몸체(103)(203)에 일단이 회동가능하게 지지되는 복수의 제1,2회동바아(104)(204)와, 일단이 상기 제1,2회동바아(104)(204)의 타단부에 회전수단에 의해서 회전가능하게 연결되는 복수의 제1,2확장바아(105)(205)를 구비한다.The first and second lifts 100 and 200 are first and second movable blocks 102 and 202 which are screwed to and lifted from the screw rods 101 and 201, respectively, and the first and second movable blocks. First and second elevating bodies 103 and 203 fixed to the first and second elevating bodies 103 and 203, and a plurality of first and second ends that are rotatably supported by the first and second elevating bodies 103 and 203, respectively. A plurality of first and second extension bars 105 rotatably connected to the second rotation bar 104 and 204 and one end of which is rotatably connected to the other end of the first and second rotation bar 104 and 204 by a rotation means. 205 is provided.

도 7을 참조하면, 제1승강몸체(103)의 한쌍의 브라켓트(108)에 제1회동모터(106)의 동력으로 회전되는 회전축(107)이 회전가능하게 지지되어 있고, 이 회전축(107)의 양단부에는 각 제1회동바아(104)의 선단이 결합되어 함께 회동될 수 있도록 되어 있다.Referring to FIG. 7, a pair of brackets 108 of the first lifting body 103 are rotatably supported by a rotating shaft 107 that is rotated by the power of the first rotating motor 106, and the rotating shaft 107 is supported. Both ends of the first end of the first rotation bar 104 is coupled to be rotated together.

도 7 및 도 9를 참조하면, 상기 회전수단은 상기 제1,2회동바아(104)(204)에 각각 소정간격 이격되어 회전가능하게 지지되는 제1,2풀리(141)(142)와, 상기 제1,2풀리(141)(142)에 권회되어 회전안내되는 벨트(143)와, 상기 제1,2회동바아(104)(204)에 고정설치되며 그 로드(140a)가 상기 벨트(143)와 연결고정되는 실린더(140)를 구비한다. 상기 각 제2풀리(142)의 회전축은 상기 각 제1,2확장바아(105)(205)와 동축으로 연결되어서, 제2풀리(142)의 회전과 함께 제1,2확장바아(105)(205)가 회전되게 된다.7 and 9, the rotation means is a first pulley 141, 142 rotatably supported by the first and second pivoting bars 104, 204 spaced apart from each other at predetermined intervals, The belt 143 wound and rotated by the first and second pulleys 141 and 142 and the first and second pivot bars 104 and 204 are fixedly installed, and the rod 140a is fixed to the belt ( 143 and the cylinder 140 is fixed. The rotation axis of each second pulley 142 is coaxially connected with each of the first and second extension bars 105 and 205, so that the first and second extension bars 105 are rotated together with the rotation of the second pulley 142. 205 is rotated.

한편, 상기 이송레일(300)은 상기 포크형 제1,2리프트(100)(200)가 통과되도록 일정간격으로 마련되는 복수의 회전봉(301)을 구비하며, 각 회전봉(301)에는 기판(400)이 안착되는 복수의 롤러(302)들이 결합되어 있다.On the other hand, the transfer rail 300 is provided with a plurality of rotating rods 301 are provided at a predetermined interval so that the fork-type first, second lift (100, 200) passes, each of the rotating rods 301 to the substrate 400 ) Is coupled to a plurality of rollers 302 are seated.

도 5 및 도 6i를 참조하면, 일측이 힌지축(311)에 의해서 회동가능하게 지지되는 프레임(310)의 상단에 상기 이송레일(300)이 회전가능하게 지지되어 있고, 프레임(310)의 타측에는 출몰작동하는 경사실린더(320)가 연결되어서, 경사실린더(320)의 작동에 따라 프레임(310) 및 이송레일(300)이 수평 또는 일방향으로 경사지도록 되어 있다.5 and 6i, the transfer rail 300 is rotatably supported on an upper end of the frame 310, one side of which is rotatably supported by the hinge shaft 311, and the other of the frame 310. The inclined cylinder 320 is placed on the side is connected, so that the frame 310 and the transfer rail 300 is inclined horizontally or in one direction according to the operation of the inclined cylinder 320.

상기와 같은 구성을 가지는 기판 이송장치의 작동 및 기판의 이송방법은 다음과 같다.The operation of the substrate transfer apparatus and the substrate transfer method having the above configuration are as follows.

a) 도 4 및 도 6a를 참조하면, 상기 제1위치에서 상기 제1,2상/하부지지대(131,231)(132,232)를 수평으로 위치시키고, 각 제1,2상부지지대(131,231)와 제1,2하부지지대(132,232)에 로봇으로부터 각각 기판(400)을 공급하여 안착시킨다.a) Referring to FIGS. 4 and 6A, the first and second upper and lower supports 131, 231, 132 and 232 are horizontally positioned in the first position, and the first and second upper supports 131, 231 and the first 2, the lower support (132, 232) to supply the substrate 400 from the robot and seated respectively.

이때 이송레일(300)은 수평위치를 유지하고, 제1,2리프트(100)(200)들은 제1스크류봉(101)(201)과 평행상태가 되도록 지지되어 있게 된다.At this time, the conveying rail 300 is maintained in a horizontal position, the first and second lifts (100, 200) are supported to be in parallel with the first screw rod (101, 201).

b) 도 6b, 도 6c, 도 7 및 도 9b를 참조하면, 제1회동모터(106)에 의해서 상기 제1리프트(100)를 수평상태가 되도록 회전시키고, 제1,2하부지지대(132,232)의 아래에서 실린더(140)를 가동하여 제1확장바아(105)를 회동시킴으로써 길이를 신장시키고 수평으로 유지시킨다.b) Referring to FIGS. 6B, 6C, 7 and 9B, the first lift 100 is rotated to be in a horizontal state by the first rotating motor 106 and the first and second lower supports 132 and 232. The cylinder 140 is operated below to rotate the first extension bar 105 so that the length is extended and maintained horizontally.

c) 도 6d에서와 같이 제1스크류봉(101)을 회전시키면서 상기 제1리프트(100)를 상승시켜서 제1,2하부지지대(132,232)의 직하부에 위치시키고, 도 6e에서와 같이 제1,2하부지지대(132,232)를 하방향으로 회전시키면서 기판(400)을 상기 제1리프트(100)로 옮겨 안착시킨다.c) As shown in FIG. 6D, while rotating the first screw rod 101, the first lift 100 is raised to be positioned directly under the first and second lower supports 132 and 232, and the first as shown in FIG. 6E. 2, the lower supporters 132 and 232 are rotated downward to move the substrate 400 to the first lift 100.

도 8을 참조하면, 이때 제1,2하부지지대(132)(232)는 제2샤프트(235)의 회전으로 회전되는 제2회동링크(237)와 연동되어 아래방향으로 회전되게 된다. Referring to FIG. 8, at this time, the first and second lower supporters 132 and 232 are rotated downward in association with the second pivoting link 237 which is rotated by the rotation of the second shaft 235.

d) 도 6f 및 도 6g에서와 같이 제1스크류봉(101)을 구동하여 상기 제1리프트(100)를 하강시켜 상기 이송레일(300)에 기판을 안착시키고, 도 6h 및 도 6i에서와 같이 제1확장바아(105)을 접어서 제1리프트(100)의 길이를 수축시킨 후 제1회동바아(104)를 하방향으로 회전시킨다.d) driving the first screw rod 101 to lower the first lift 100 to seat the substrate on the transfer rail 300 as shown in FIGS. 6F and 6G, and as shown in FIGS. 6H and 6I. After folding the first extension bar 105 to shrink the length of the first lift 100, the first pivot bar 104 is rotated downward.

이어서, 도 5 및 도 6i에서와 같이 경사실린더(320)를 가동하여 프레임(310) 을 힌지축(311)을 중심으로 회동시켜서 이송레일(300)이 경사지도록 한다. 이때 기판(400)상에 잔류하는 세척액등의 액체들이 흘러내린다.Subsequently, the inclined cylinder 320 is operated as shown in FIGS. 5 and 6I to rotate the frame 310 about the hinge axis 311 so that the transfer rail 300 is inclined. At this time, liquids such as a cleaning liquid remaining on the substrate 400 flow down.

이어서 이송레일(300)을 회전구동하여 기판(400)을 이송배출시킨다.Subsequently, the transfer rail 300 is driven to transfer and discharge the substrate 400.

e) 상기 제1리프트(100)가 상기 d)단계를 수행하는 동안 도 6f에서와 같이 제2리프트(200)를 제2스크류봉(201)을 회전구동하여 상승시키고, 도 6g 및 도 6h에서와 같이 제1,2상부지지대(131,231)의 아래에서 길이를 신장시켜 수평으로 유지시킨다. 제2리프트(200)의 길이신장 작동은 상기 제1리프트(100)의 작동과 동일 구성을 가지므로 상세한 설명은 생략한다.e) While the first lift 100 performs the step d), as shown in FIG. 6F, the second lift 200 is driven by rotating the second screw rod 201, and as shown in FIGS. 6G and 6H. As described above, the length is extended below the first and second upper supporters 131 and 231 to be horizontally maintained. Since the length extension operation of the second lift 200 has the same configuration as the operation of the first lift 100, a detailed description thereof will be omitted.

f) 도 6i 내지 도 6l에서와 같이, 상기 제1,2상부지지대(131,231)를 하방향으로 회동시키면서 제1,2상부지지대(131,231)에 공급된 기판(400)을 제2리프트(200)에 옮겨 안착시킨다.f) As shown in FIGS. 6I to 6L, the first and second upper supports 131 and 231 are rotated downward, and the substrate 400 supplied to the first and second upper supports 131 and 231 is moved to the second lift 200. Transfer to and settle down.

이때 제1,2상부지지대(131,231)의 회전작동은 도 8에서 설명된 제1,2하부지지대(132)(232)의 회전작동과 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.At this time, the rotation operation of the first and second upper supporters 131 and 231 is the same as the rotation operation of the first and second lower supporters 132 and 232 described in FIG.

도 6l에서와 같이 제2리프트(200)의 하강으로 기판(400)을 이송레일(300)에 안착시킨 후에는, 제2확장바아(205)를 회동시켜서 접고 제2회동모터(206)를 구동하여 제2회동바아(204)를 도 6m에서와 같이 하강회전시키고, 도 6n에서와 같이 제2스크류봉(201)을 회전구동하여 제2리프트(200)를 제2위치로 상승이동시킨다.After the substrate 400 is seated on the transfer rail 300 by the lowering of the second lift 200 as shown in FIG. 6L, the second extension bar 205 is rotated and the second rotation motor 206 is driven. Thus, the second pivoting bar 204 is lowered and rotated as shown in FIG. 6M, and the second screw rod 201 is rotated as shown in FIG. 6N to move the second lift 200 to the second position.

한편, 기판(400)이 안착된 이송레일(300)은 도 6m에서와 같이 경사실린 더(320)의 작동으로 경사지게 되고 모터(미도시)의 구동으로 회전구동되어 기판(400)을 이송 배출시킨다. Meanwhile, the transfer rail 300 on which the substrate 400 is mounted is inclined by the operation of the inclined cylinder 320 as shown in FIG. 6M, and is rotated by the driving of a motor (not shown) to transfer and discharge the substrate 400. .

g) 상기 f)단계의 제2리프트(200)를 제2위치로 하강시키는 동안 상기 d)단계에서 하방향으로 회전된 제1리프트(100)를 상승시키고, 상기 c)단계와 f)단계에서 하방향으로 회전된 제1,2상부지지대(131,231)와 제1,2하부지지대(132,232)를 도 6k 및 도 6l에서와 같이 수평위치로 회전시키며, 도 6m에서와 같이 로봇(미도시)에 의해 새로운 기판(400)이 제1,2상부지지대(131,231)와 제1,2하부지지대(132,232)에 공급된다.g) while lowering the second lift 200 of step f) to the second position, the first lift 100 rotated downward in step d) is raised, and in steps c) and f) The first and second lower supports 131 and 231 rotated in the downward direction and the first and second lower supports 132 and 232 are rotated to a horizontal position as shown in FIGS. 6K and 6L, and the robot (not shown) as shown in FIG. 6M. The new substrate 400 is supplied to the first and second upper supporters 131 and 231 and the first and second lower supporters 132 and 232.

이후 제1리프트(100)에 제1,2하부지지대(132,232)에 공급된 기판(400)이 옮겨지게 되는 데, 이는 도 6f와 도 6n이 동일한 동작구간이 되게 되는 것이며 이로부터 상기한 동작이 반복적으로 수행되게 된다.Subsequently, the substrate 400 supplied to the first and second lower supports 132 and 232 is moved to the first lift 100, which is the same operation section of FIG. 6F and FIG. 6N, from which the above operation is repeated. To be performed.

상술한 바와 같이, 본 발명 실시예의 기판 이송방법 및 장치는 신축가능한 제1,2상/하부지지대들을 갖는 제1,2리프트(100)(200)를 제1,2위치에서 상호 교대로 승강시키면서 기판을 이송시킬 수 있도록 하며, 협소공간에서도 기판들을 상하로 이송시킬 수 있도록 한다.As described above, the substrate transfer method and apparatus of the embodiment of the present invention while lifting the first and second lifts 100 and 200 having the first and second upper / lower supports that are stretchable alternately in the first and second positions. The substrate can be transported and the substrate can be transported up and down even in a narrow space.

도 1 내지 도 3은 종래 기판 이송장치 및 방법을 설명하는 개념도,1 to 3 is a conceptual diagram illustrating a conventional substrate transfer apparatus and method,

도 4는 본 발명 이송장치의 개략도,4 is a schematic view of the transfer device of the present invention;

도 5는 도 4의 요부를 발췌하여 나타낸 개략도,Figure 5 is a schematic diagram showing the main portion of Figure 4,

도 6a 내지 도 6n은 본 발명 이송방법 및 장치의 공정 및 동작도를 나타낸 개념도,6a to 6n is a conceptual diagram showing a process and operation diagram of the transfer method and apparatus of the present invention,

도 7은 본 발명 장치에 채용되는 리프트를 나타낸 사시도,7 is a perspective view showing a lift employed in the device of the present invention;

도 8은 본 발명 장치에 채용되는 회동지지대를 나타낸 개략 사시도,8 is a schematic perspective view showing a rotation support employed in the device of the present invention;

도 9a 및 도 9b는 리프트의 신축상태를 설명하는 작동도,9A and 9B are operation diagrams illustrating a stretch state of a lift,

도 10 및 도 11은 상/하부지지대의 위치관계를 설명하는 개념도이다.10 and 11 are conceptual views illustrating the positional relationship of the upper and lower supports.

Claims (7)

상부의 제1위치로 공급된 기판을 하부의 제2위치의 높이로 기판을 이송시키고, 제2위치로 이송된 기판을 이송레일에 안착시키는 기판 이송방법에 있어서,In the substrate transfer method for transferring the substrate to the height of the lower second position of the substrate supplied to the first position of the upper, and seating the substrate transferred to the second position on the transfer rail, 상기 이송레일(300)의 마주보는 양측에 제1위치로부터 제2위치에 이르는 구간에 각각 제1,2승강기구를 마련하고;Providing first and second elevating mechanisms in sections extending from the first position to the second position on opposite sides of the transfer rail 300; 상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제1,2승강기구에 인접한 각 고정구조물에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하며 상하로 이격되어 각각 별도로 회동가능하게 상기 고정구조물에 지지되는 한쌍의 제1,2상/하부지지대(131,231)(132,232)를 구비하는 제1,2회동지지대(130)(230)와, 상기 제1,2승강기구에 지지되어 상하로 이동가능하고 상기 제1,2승강기구에 대해 회동가능하고 길이가 신축가능하며 상기 제1,2회동지지대(130)(230)의 기판을 탑재하여 상기 이송레일(300)에 안착시키는 제1,2리프트(100)(200)를 구비하여서;Each end in the first position is rotatably supported by each of the fixed structures adjacent to the first and second elevating mechanisms, and supports the supplied substrate at each horizontal position and is spaced up and down, respectively, so as to be separately rotatable to the fixed structure. First and second pivotal supports 130 and 230 having a pair of first and second upper and lower supporters 131 and 231 and 132 and 232 being supported, and being supported by the first and second lifting mechanisms and movable up and down First and second lifts rotatable with respect to the first and second elevating mechanisms and flexible in length and mounted on the transfer rail 300 by mounting the substrates of the first and second pivotal supports 130 and 230 ( 100) 200; a) 상기 제1위치에서 상기 제1,2상/하부지지대(131,231)(132,232)를 수평으로 위치시키고, 각 제1,2상부지지대(131,231)와 제1,2하부지지대(132,232)에 각각 기판을 공급하여 안착시키는 단계와;a) Position the first and second upper and lower supporters 131 and 231 and 132 and 232 horizontally in the first position, respectively, on the first and second upper and lower supporters 131 and 231 and the first and second lower supporters 132 and 232, respectively. Supplying and seating a substrate; b) 상기 제1리프트(100)를 제1,2하부지지대(132,232)의 아래에서 길이를 신장시켜 수평으로 유지시키는 단계와;b) extending the length of the first lift (100) below the first and second lower supports (132,232) to maintain the horizontal; c) 상기 제1리프트(100)를 상승시켜서 제1,2하부지지대(132,232)의 직하부에 위치시키고 제1,2하부지지대(132,232)를 하방향으로 회전시키면서 기판을 상기 제1 리프트(100)로 옮겨 안착시키는 단계와;c) Lifting the first lift 100 to be positioned directly under the first and second lower supports 132 and 232, and rotating the first and second lower supports 132 and 232 in the downward direction to lift the substrate to the first lift 100. Transferring to and seating; d) 상기 제1리프트(100)를 하강시켜 상기 이송레일(300)에 기판을 안착시키고 제1리프트(100)의 길이를 수축시킨 후 하방향으로 회전시키며 이송레일(300)을 회전구동하여 기판을 이송배출시키는 단계와;d) lowering the first lift 100 to seat the substrate on the transfer rail 300, shrink the length of the first lift 100, rotate downward, and rotate the transfer rail 300 to rotate the substrate. Transporting and discharging; e) 상기 제1리프트(100)가 d)단계를 수행하는 동안 상기 제2리프트(200)를 제2승강기구를 통하여 상승시키고 제1,2상부지지대(131,231)의 아래에서 길이를 신장시켜 수평으로 유지시키는 단계와;e) While the first lift 100 performs step d), the second lift 200 is lifted up through the second lifting mechanism and the length is extended below the first and second upper supports 131 and 231 to be horizontal. Maintaining the; f) 상기 제1,2상부지지대(131,231)를 하방향으로 회동시키면서 제1,2상부지지대(131,231)에 공급된 기판을 제2리프트(200)에 옮겨 안착시키는 단계와;f) transferring the substrates supplied to the first and second upper supports (131, 231) to the second lift (200) while rotating the first and second upper supports (131, 231) downward; g) 상기 f)단계의 제2리프트(200)를 제2위치로 하강시키는 동안 상기 d)단계에서 하방향으로 회전된 제1리프트(100)를 상승시키고, 상기 c)단계와 f)단계에서 하방향으로 회전된 제1,2상부지지대(131,231)와 제1,2하부지지대(132,232)를 수평위치로 회전시키는 단계와;g) while lowering the second lift 200 of step f) to the second position, the first lift 100 rotated downward in step d) is raised, and in steps c) and f) Rotating the first and second upper supports 131 and 231 and the first and second lower supports 132 and 232 which are rotated in a downward direction to a horizontal position; h) 상기 g)단계에서 제2위치로 제2리프트(200)를 하강시켜 상기 이송레일(300)에 기판을 안착시키고 제2리프트(200)의 길이를 수축시킨 후 하방향으로 회전시키며 이송레일(300)을 회전구동하여 기판을 이송배출시키는 단계와;h) lowering the second lift 200 to the second position in step g) to seat the substrate on the transfer rail 300, shrink the length of the second lift 200, and rotate it downward; Transporting and discharging the substrate by rotating 300; i) 상기 g)단계에서 수평위치로 회전된 제1,2상부지지대(131,231)와 제1,2하부지지대(132,232)에 각각 기판을 공급시키는 단계와;i) supplying a substrate to the first and second upper supports (131,231) and the first and second lower supports (132,232) rotated to a horizontal position in step g); j) 상기 g)단계에서 상승된 제1리프트(100)를 상기 제1,2하부지지대(132,232)의 아래에서 수평으로 회전시키면서 길이를 신장시키는 단계와;j) extending the length while rotating the first lift (100) raised in the step g) horizontally under the first and second lower supports (132,232); k) 이후 상기 c)단계로부터 상기 i)단계구간을 반복적으로 수행하는 것을 특징으로 하는 기판 이송방법.and k) thereafter repeating the step i) from step c). 제 1 항에 있어서, 상기 d) 및 h)단계에서 상기 이송레일(300)을 일방향으로 경사지게 하여 기판을 배출시키는 것을 특징으로 하는 기판의 이송방법.The method of claim 1, wherein the substrate is discharged by tilting the transfer rail in one direction in steps d) and h). 상부의 제1위치로 공급된 기판을 하부의 제2위치의 높이로 기판을 이송시키고, 제2위치로 이송된 기판을 이송레일로 이동시켜 배출시키는 기판 이송장치에 있어서,In the substrate transfer apparatus for transferring the substrate supplied to the first position of the upper portion to the height of the second position of the lower portion, and moving the substrate transferred to the second position by the transfer rail, 상기 이송레일(300)의 마주보는 양측에 제1위치로부터 제2위치에 이르는 구간에 마련되는 제1,2승강기구와;First and second elevating mechanisms provided at sections extending from a first position to a second position on opposite sides of the transfer rail 300; 상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제1승강기구에 인접한 고정구조물에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 일정간격으로 이격되어 동일평면상에 마련되는 복수의 제1상부지지대(131)와, 상기 제1상부지지대(131)의 하부에 위치되어 상기 고정구조물에 각 일단이 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 각 제1상부지지대(131) 사이사이에 위치되는 복수의 제1하부지지대(132)를 구비하는 제1회동지지대(130)와;A plurality of first upper parts each of which is rotatably supported at a fixed structure adjacent to the first lifting mechanism at the first position, and supports the supplied substrate at each horizontal position and is spaced at regular intervals and provided on the same plane; Located at the bottom of the support 131 and the first upper support 131, each end is rotatably supported by the fixed structure, and supports the supplied substrate in each horizontal position and each first upper support 131 A first pivotal support 130 having a plurality of first lower supports 132 positioned between them; 상기 제1위치에서 각 일단이 상기 제2승강기구에 인접한 고정구조물에 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 일정간격으로 이격되어 동일평면상에 마련되는 복수의 제2상부지지대(231)와, 상기 제2상부지지 대(231)의 하부에 위치되어 상기 고정구조물에 각 일단이 회동가능하게 지지되며 각 수평위치에서 상기 공급된 기판을 지지하고 각 제2상부지지대(231) 사이사이에 위치되는 복수의 제2하부지지대(232)를 구비하는 제2회동지지대(230)와;A plurality of second upper portions each of which is rotatably supported at a fixed structure adjacent to the second lifting mechanism at the first position, and supports the supplied substrate at each horizontal position and is spaced at regular intervals and provided on the same plane; Located at the bottom of the support 231 and the second upper support 231, each end is rotatably supported on the fixed structure, and supports the supplied substrate at each horizontal position and supports each second upper support 231. A second pivotal support 230 having a plurality of second lower supports 232 positioned between the second and second supporters 232; 상기 제1,2승강기구에 지지되어 상하로 이동가능하고, 상기 제1,2승강기구에 대해 회동가능하고, 길이가 신축가능하며, 상기 제1,2회동지지대(130)(230)의 기판을 탑재하여 상기 이송레일(300)에 안착시키는 포크형 제1,2리프트(100)(200);를 구비하며,Supported by the first and second elevating mechanism is movable up and down, rotatable with respect to the first and second elevating mechanism, the length is stretchable, the substrate of the first and second pivotal support (130, 230) A fork-type first and second lifts (100, 200) mounted on the transfer rail (300); 상기 이송레일(300)은 상기 포크형 제1,2리프트(100)(200)가 통과되도록 일정간격으로 마련되는 복수의 회전봉(301)을 구비한 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The transfer rail 300 is a substrate transfer device characterized in that it comprises a plurality of rotating rods (301) are provided at a predetermined interval so that the fork-type first, second lift (100) (200) passes. 제 3 항에 있어서, 상기 승강기구는 모터(110)(210)의 동력으로 회전되는 스크류봉(101)(201)인 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.4. The substrate transport apparatus according to claim 3, wherein the elevating mechanism is a screw rod (101) (201) which is rotated by the power of the motor (110) (210). 제 4 항에 있어서, 상기 제1,2리프트(100)(200)는 각각 상기 스크류봉(101)(201)에 나사결합되어 승강되는 제1,2이동블럭(102)(202)과, 상기 제1,2이동블럭(102)(202)에 고정되는 제1,2승강몸체(103)(203)와, 상기 각 제1,2승강몸체(103)(203)에 일단이 회동가능하게 지지되는 제1,2회동바아(104)(204)와, 일단이 상기 제1,2회동바아(104)(204)의 타단부에 회전수단에 의해서 회전가능하게 연결되는 제1,2확장바아(105)(205)를 구비한 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The method of claim 4, wherein the first and second lifts (100, 200) are first and second movable blocks (102, 202) screwed to the screw rods (101, 201) and lifted, respectively, One end of the first and second lifting bodies 103 and 203 fixed to the first and second moving blocks 102 and 202 and the first and second lifting bodies 103 and 203 are rotatably supported. First and second rotating bars 104 and 204, one end of which is connected to the other end of the first and second rotating bars 104 and 204 by means of rotation means, the first and second extension bars ( 105) (205) comprising a substrate transfer apparatus. 제 5 항에 있어서, 상기 회전수단은 상기 제1,2회동바아(104)(204)에 각각 소정간격 이격되어 회전가능하게 지지되는 제1,2풀리(141)(142)와, 상기 제1,2풀리(141)(142)에 권회되어 회전안내되는 벨트(143)와, 상기 제1,2회동바아(104)(204)에 고정설치되며 그 로드(140a)가 상기 벨트(143)와 연결고정되는 실린더(140)를 구비하며,The first and second pulleys 141 and 142 of claim 5, wherein the rotating means are rotatably supported by the first and second pivoting bars 104 and 204, respectively, at predetermined intervals. And a belt 143 wound and rotated by two pulleys 141 and 142, and fixed to the first and second pivot bars 104 and 204, and a rod 140a of the belt 143. The cylinder 140 is fixed to the connection, 상기 각 제2풀리(142)를 상기 각 제1,2확장바아(105)(205)와 동축으로 연결하여 된 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.And each of the second pulleys (142) is coaxially connected to each of the first and second extension bars (105) (205). 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상단부에 상기 이송레일(300)을 회전가능하게 지지하며 하단부 일측이 힌지축(311)에 의해서 회동가능하게 지지되는 프레임(310)과,The frame 310 of claim 3 or 4, wherein the transport rail 300 is rotatably supported at the upper end and one side of the lower end is rotatably supported by the hinge shaft 311. 상기 프레임(310)의 타측에 연결되어 출몰작동하는 경사실린더(320)를 구비하여서,It is provided with an inclined cylinder 320 connected to the other side of the frame 310 to operate 상기 경사실린더(320)의 작동에 따라 프레임(310) 및 이송레일(300)이 수평 또는 일방향으로 경사지도록 된 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.Substrate transfer apparatus, characterized in that the frame 310 and the conveying rail 300 is inclined in the horizontal or one direction according to the operation of the inclined cylinder (320).
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