KR100838550B1 - 착색이 적은 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 착색이 적은 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 그 제조방법을 제공한다.
시스-1,3-디클로로프로펜, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 C6 화합물을 함유하는 조성물을, 증류 공정과 염소 또는 브롬을 작용시키는 공정을 거침으로써 시스-1,3-디클로로프로펜을 저비등 성분으로 제거하고, 이어서 잔류분을 증류시킴으로써 염소화된 C6 화합물을 고비등 성분으로 제거하여, 트랜스-1,3-디클로로프로펜을 저비등 성분으로 얻는다.
Description
본 발명은 의ㆍ농약의 중간체 등으로 유용한 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 그 제조방법에 관한 것이다.
1,3-디클로로프로펜은 시스-1,3-디클로로프로펜 (이하, 시스체라고 함) 과 트랜스-1,3-디클로로프로펜 (이하, 트랜스체라고 함) 의 이성체를 가지며 의학ㆍ농학분야에서 유용한 화합물로 알려져 있다.
종래 이 시스체, 트랜스체를 분리하는 방법으로서, 예컨대 일본 특허공보 소53-15484호에서는 프로펜과 염소를 반응시켜 얻어지는 반응 생성물을 증류시켜 3-클로로프로펜을 얻은 후, 이 증류후의 탑저액으로부터 1,3-디클로로프로펜의 시스체, 트랜스체를 분리하는 방법이 개시되어 있다. 즉, 상기 탑저액에는 반응 부생성물로서 1,3-디클로로프로펜과 C6 올레핀 등의 잔류물이 함유되어 있는데, 우선 이 탑저액에 염소 또는 브롬을 작용시켜 C6 올레핀을 선택적으로 할로겐화하고, 이어서 이 탑저액을 증류시켜 1,3-디클로로프로펜보다 저비등점의 경질 성분을 제거한 후, 이 탑저액을 다시 증류시킴으로써 고비등 성분으로 할로겐화된 C6 올레핀 을 제거하고 저비등 성분으로 1,3-디클로로프로펜을 분류 (分留) 한다. 그리고, 이 1,3-디클로로프로펜을 다시 증류시켜 고비등 성분으로 트랜스체를 저비등 성분으로 시스체를 분리한다.
상기 방법에서는 시스체 및 트랜스체보다 저비등 성분, 고비등 성분을 순차적으로 증류에 의해 제거한 후, 시스체 및 트랜스체를 분류하고, 이것을 증류시켜 시스체와 트랜스체를 분리한다. 이 경우, 트랜스체는 시스체보다 고비등점이기 때문에 트랜스체는 고비등 성분으로 분리된다. 그로 인해, 이 고비등 성분으로서의 트랜스체에는 증발 잔류분이 혼입되는 문제나, 순도가 낮아 착색 성분이 많이 함유되는 등의 문제가 있었다.
또, 트랜스체는 일반적으로 의약 중간체, 농약 중간체 및 기능성 재료의 중간체 등의 원료로서 사용하는 경우, 하아젠색수 (APHA) 가 20 이하일 필요가 있는 데에 비해, 종래 방법으로 얻어지는 트랜스체의 APHA 는 500 정도로 상당히 진하게 착색되어 있다는 문제도 있었다.
즉, 본 발명은 상기 문제를 해결하여 고순도이며 착색이 적은 트랜스체를 효과적으로 얻는 것을 목적으로 한다.
발명의 개시
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 하기 조성물 (Ⅰ) 에서 얻어지는 하기 조성물 (Ⅱ) 를 증류시켜 염소화 또는 브롬화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 을 함유하는 성분을 고비등 성분으로 제거하고, 트랜스-1,3-디클로로프로펜을 저비등 성분 으로 얻는 것을 특징으로 하는 고순도이며 착색이 적은 트랜스-1,3-디클로로프로펜의 제조방법을 제공한다.
조성물 (Ⅰ): 시스-1,3-디클로로프로펜, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 C6 화합물을 함유하는 조성물.
조성물 (Ⅱ): 하기 조성물 (ⅡA) 및/또는 하기 조성물 (ⅡB) 인 조성물.
조성물 (ⅡA): 조성물 (Ⅰ) 을 증류시켜 시스-1,3-디클로로프로펜을 함유하는 저비등 성분을 제거하고, 이어서 나머지 고비등 성분에 염소 또는 브롬을 작용시킴으로써 얻어지는, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 염소화 또는 브롬화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 을 함유하는 조성물.
조성물 (ⅡB): 조성물 (Ⅰ) 에 염소 또는 브롬을 작용시킨 후 증류시켜 시스-1,3-디클로로프로펜을 함유하는 저비등 성분을 제거함으로써 얻어지는, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 염소화 또는 브롬화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 을 함유하는 조성물.
본 발명은 하아젠색수 (APHA) 가 200 이하의 착색이 적은 트랜스-1,3-디클로로프로펜을 제공한다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 본 발명에 대해 도 1, 2 를 참조하면서 상세하게 기술한다.
본 발명의 제조방법은 2 회의 증류 공정과 1 회의 염소 또는 브롬을 작용시키는 공정을 포함한다. 보다 구체적으로는 조성물 (Ⅰ) 에 대해 1 회의 증류 ( 제 1 증류) 공정과, 1 회의 염소 또는 브롬을 작용시키는 공정을 거침으로써 조성물 (Ⅱ) 를 얻고, 이어서 이 조성물 (Ⅱ) 에 대해 2 회째의 증류 (제 2 증류) 공정을 경과시킴으로써 고순도이며 착색이 적은 트랜스체를 얻는다.
본 발명에 사용되는 조성물 (Ⅰ) 은 시스체, 트랜스체 및 C6 화합물을 함유한다. C6 화합물이란, 탄소수가 6 인 화합물을 말한다. 본 발명에서의 조성물 (Ⅰ) 은 프로펜과 염소의 반응 생성물, 또는 이 반응 생성물로부터 3-클로로프로펜을 분리한 잔여물인 것이 바람직하고, 후자의 잔여물이 보다 바람직하다. 구체적으로는 프로펜과 염소의 반응 생성물로부터 3-클로로프로펜을 증류시켜 분리한 탑저액이 바람직하게 사용된다. 이 반응 생성물 또는 이 잔여물중에 함유되는 C6 화합물로는 클로로헥산, 클로로헥사디엔 등의 탄소수 6 의 염소화 탄화수소를 들 수 있다. 염소화 탄화수소는 포화, 불포화 모두 포함한다. 이 염소화 탄화수소는 염소원자의 결합 위치나 탄소-탄소 불포화결합 위치가 다른 2 종 이상으로 이루어지는 것이 보통이다. 또, 본 발명의 조성물 (Ⅰ) 은 C3 화합물 등 그 외의 성분을 함유하고 있어도 된다. C3 화합물이란, 탄소수가 3 인 화합물을 말하며, 1,3-디클로로프로판, 1,2-디클로로프로판 또는 3,3-디클로로프로판 등의 탄소수 3 의 염소화 탄화수소를 예시할 수 있다. 이 경우도 염소화 탄화수소는 포화, 불포화 모두 포함한다.
본 발명에서의 조성물 (Ⅰ) 에서 시스체의 함유량은 바람직하게는 10 내지 40 질량% 이며, 트랜스체의 함유량은 바람직하게는 10 내지 40 질량% 이며, C6 화합물의 함유량은 바람직하게는 20 질량% 이하이다. 또, C3 화합물을 함유하는 경우의 함유량은 조성물 (Ⅰ) 중에 바람직하게는 60 질량% 이하이다.
본 발명에서는 조성물 (Ⅰ) 에 대해 염소 또는 브롬을 작용시키는 공정과, 증류 공정을 거침으로써 조성물 (Ⅱ) 를 얻는다. 이하, 염소 또는 브롬을 작용시키는 공정에 대해서는 염소를 대표로 설명하지만, 본 발명을 염소의 경우에 한정하는 것은 아니다.
도 1 은 조성물 (Ⅱ) 로서 조성물 (ⅡA) 를 얻는 경우의 본 발명의 제조방법의 일례를 나타낸다.
이 방법에서는 조성물 (ⅡA) (6) 는 조성물 (Ⅰ) (3) 을 증류탑 (1) 내에서 증류 (제 1 증류. 이하, A 증류라고 함) 시켜, 시스체를 함유하는 저비등 성분 (4) 을 제거하고, 이어서 나머지 고비등 성분 (5) 에 염소를 작용시켜 얻어진다. 조성물 (Ⅰ) (3) 이 C3 화합물이나, 저비등 그 외의 성분을 함유하는 경우에는, 시스체와 함께 C3 화합물이나 저비등 그 외의 성분은 저비등 성분 (4) 으로 제거될 수 있다.
A 증류에서 저비등 성분 (4) 의 유출온도는 바람직하게는 20 내지 120℃, 보다 바람직하게는 60 내지 80℃ 이다. 압력 (게이지압, 이하 동일) 은 바람직하게는 0 내지 1013hPa, 보다 바람직하게는 80 내지 300hPa 이다. A 증류는 통상은 증류탑 (1) 을 사용하여 실시되고, 바람직하게는 20 내지 50 단, 보다 바람직하 게는 30 내지 50 단의 증류탑을 사용할 수 있다. 또한, 제 1 증류 방식은 특별히 한정되는 것은 아니며, 회분 방식, 연속 방식 등 임의로 실시할 수 있다.
A 증류의 나머지 고비등 성분 (5) 중에는 트랜스체 및 C6 화합물이 함유된다. 사용하는 조성물 (Ⅰ) (3) 에 따라서는 고비등 성분 (5) 중에는 다른 고비등 성분, 착색 성분, 증류장치 등으로부터 혼입되는 증발 잔류분 등이 함유될 수도 있다.
이어서, 이 고비등 성분 (5) 에 염소를 작용시킨다. 그 결과, 조성물 (ⅡA) 를 얻을 수 있다. 고비등 성분 (5) 중에 함유되는 클로로헥사디엔 등의 탄소-탄소 불포화결합 함유 화합물 (C6 화합물) 의 이 불포화결합에 염소 부가하거나, 또는 이들 C6 화합물중에 존재할 수 있는 C-H 부분을 염소 치환함으로써 염소화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 이 생성된다. 고비등 성분 (5) 에 염소를 작용시킬 때에는, 통상은 고비등 성분 (5) 중에 염소가스를 불어 넣으면 된다.
본 발명에서의 염소를 작용시키는 공정은 0 내지 100℃ 에서 실시하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 내지 60℃ 이며, 통상은 상온 (25℃ 부근) 에서 신속하게 실시할 수 있는 반응이다. 염소를 작용시키는 온도가 0℃ 보다 낮으면 반응속도가 늦어지고, 본 발명의 제조방법을 실시하는 설비에서의 염소를 작용시키는 공정의 반응영역을 넓게 취할 필요가 있어 경제적 및 효율면에서 불리해진다. 또, 100℃ 이상에서는 트랜스체가 염소화되어 트랜스체의 수량 (收量) 이 저하될 우려가 있다.
본 발명에서의 염소를 작용시키는 공정은 저압에서 고압까지의 모든 압력하에서 실시할 수 있고, 통상은 상압에서 실시하는 것이 바람직하다. 작용시키는 염소의 양은 바람직하게는 C6 화합물의 0.5 내지 5.0 배 몰량, 보다 바람직하게는 1.0 내지 2.0 배 몰량이다. 염소의 양이 C6 화합물의 0.5 배 몰량보다 적으면, C6 화합물의 염소화가 충분히 실시되지 않아 고순도의 트랜스체를 얻을 수 없게 될 우려가 있다. 한편, 5.0 배 몰량보다 많으면, 트랜스체의 염소화되는 양이 증가하여 트랜스체의 수량이 매우 저하될 우려가 있다.
본 발명에서의 염소를 작용시키는 공정에서 사용되는 염소는 액체여도 되고 기체여도 된다.
본 발명에서의 염소를 작용시키는 공정에서는 C-H 를 C-Cl 로 변환하는 반응이 일어나 염화수소가 생성되는 경우가 있다. 염화수소가 생성된 경우에는 염소를 작용시킨 조성물에 플래싱, 방산, 흡착, 중화 등의 일반적인 후처리를 실시하여 염화수소를 제거한 것을 조성물 (ⅡA) (6) 로 하는 것이 바람직하다.
이어서, 조성물 (Ⅱ) 로서 조성물 (ⅡB) 를 얻는 경우의 본 발명의 제조방법의 일례를 도 2 에 나타낸다.
이 방법에서는 조성물 (Ⅰ) (3) 에 염소 또는 브롬을 작용시킨 후에 증류탑 1) 내에서 증류 (제 1 증류. 이하, B 증류라고 함) 시킨다. 염소를 작용시키는 공정은 상기 조성물 (ⅡA) (6) 를 얻는 공정에서 서술한 것과 동일하게 실시할 수 있다. 또 B 증류의 조작도 A 증류와 동일하게 실시할 수 있다. B 증류에서 는 시스체를 함유하는 저비등 성분 (9) 이 제거된다. 또, 조성물 (Ⅰ) (3) 중에 C3 화합물 등이 함유되는 경우에는, 이 C3 화합물 등은 저비등 성분 (9) 으로 시스체와 함께 제거될 수 있다. 고비등 성분으로 얻어지는 조성물 (ⅡB) (10) 중에는 트랜스체 및 염소화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 이 함유될 수 있다.
이와 같이 하여 조성물 (ⅡA) (6) 및/또는 조성물 (ⅡB) (10) 를 얻은 후, 이들 조성물 (ⅡA) (6) 및/또는 조성물 (ⅡB) (10) 를 증류탑 (2) 내에서 증류 (이하, 제 2 증류라고 함) 시킨다. 조성물 (ⅡA) (6) 및/또는 조성물 (ⅡB) (10) 중에는 트랜스체 및 화합물 (X) 이 함유되고, 또한 경우에 따라 착색 성분이나 증발 잔류분 등이 함유되는 것으로 여겨진다.
제 2 증류에서는 화합물 (X) 을 고비등 성분 (8) 으로 제거하고, 목적하는 트랜스체를 저비등 성분 (7) 으로 얻는다. 트랜스체 이외의 성분은 고비등 성분 (8) 으로 제거되는 것이 바람직하다. 또한 저비등 성분 (7) 은 증류탑 (2) 에서의 탑정으로부터의 성분으로 얻는 것이 바람직하다.
제 2 증류에서 유출온도는 바람직하게는 20 내지 120℃, 보다 바람직하게는 60 내지 80℃ 이다. 압력 (게이지압, 이하 동일) 은 바람직하게는 0 내지 1013hPa, 보다 바람직하게는 80 내지 300hPa 이다. 제 2 증류는 통상은 증류탑 (2) 을 사용하여 실시된다. 증류탑 (2) 의 이론 단수의 상한에 특별히 한정은 없지만, 제 2 증류는 바람직하게는 1 내지 20 단, 보다 바람직하게는 1 내지 10 단의 증류탑을 사용하여 실시할 수 있다. 또한, 제 2 증류 방식은 특별히 한정되 는 것은 아니며, 회분 방식, 연속 방식 등 임의로 실시할 수 있다.
본 발명의 제조방법에서는 착색이 적은 트랜스체를 얻을 수 있는데, 무색인 쪽이 바람직하다. 또, 하아젠색수 (APHA) 는 바람직하게는 200 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더욱 바람직하게는 20 이하이다.
또한, 여기에서 하아젠색수 (APHA) 는 ASTM D1209-1980 (미국 규격협회 규격) 에 준거하여 측정된다. 색수 표준액은 헥사클로로백금 (Ⅳ) 칼륨 1.245g (백금으로 0.500g) 및 염화코발트 (Ⅱ) 6수화물 1.000g (코발트로 0.250g) 을 염산 100㎖ 에 용해시키고, 다시 증류수로 1000㎖ 로 희석시켜 이것을 하아젠색수 500 의 색수 표준액으로 하는 것이다. 하아젠색수 100, 50, 20, 10 등의 색수 표준액은 하아젠색수 500 의 색수 표준액을 각각 증류수로 5, 10, 25, 50 배로 희석시켜 조정한 것이다. 하아젠색수는 시료를 규정 크기의 시험관 (직경 3㎝, 길이 약 20㎝) 에 넣고 육안으로 비교하여 같은 느낌의 색수 표준액의 번호로 표시된다. 시험관의 상면에서 관찰한 경우에는 하아젠색수 (APHA) 로 표기된다. APHA 는 미국 공중위생 협회 (American Public Health Association) 의 약칭이다.
또 본 발명의 제조방법에서는 고순도의 트랜스체를 얻을 수 있고, 그 순도는 바람직하게는 98% 이상, 보다 바람직하게는 99% 이상이다.
본 발명의 제조방법은 트랜스체를 얻는 것을 목적으로 하지만, 시스체도 또 얻고자 하는 경우에는 A 증류에서 제거한 시스체를 함유하는 저비등 성분 (4) 및/또는 B 증류에서 제거한 시스체를 함유하는 저비등 성분 (9) 을 사용하여 A 증류나 B 증류와 동일한 증류에 의해 고순도의 시스체를 분취할 수도 있다.
본 발명의 방법으로 얻어진 트랜스체 및 필요에 따라 얻어지는 시스체는 의ㆍ농약의 중간체 등으로 유용하게 사용할 수 있다. 본 발명의 방법 모두 또는 일부를 회분법으로 실시해도 되고 연속법으로 실시해도 된다.
도 1 은 본 발명의 제조방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 2 는 본 발명의 제조방법의 일례를 나타내는 공정도이다.
이하에 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 이것에 의해 본 발명이 조금도 한정되는 것은 아니다. 예 1 내지 3 은 실시예, 예 4 는 비교예이다. 또한 표 안의 % 의 단위는 가스 크로마토그래피에 의해 구해지는 질량% 이다. 또한 트랜스체의 % 는 트랜스체의 순도도 나타내고 있다.
[예 1]
프로펜과 염소의 반응 생성물로부터 3-클로로프로펜을 증류시켜 분리한 탑저액 (이 탑저액의 조성을 표 1 의 탑저액 칸에 나타냄) 의 500mL 를 50 단의 증류탑에서 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 회분 증류시켰다. 이 탑저액중의 C3 화합물 및 시스체를 함유하는 조성물을 저비등 성분으로 분류 제거하였다. 그리고, 이 회분 증류에서 고비등 성분으로 C6 화합물 및 트랜스체를 함유되는 비정제(粗)액 150mL 를 얻었다.
이어서, 이 비정제액중에 함유되는 C6 화합물의 1.2 배 몰량의 염소가스와 이 비정제액을 혼합하여 30℃, 대기압에서 비정제액에 염소를 작용시켰다. 그 후, 질소로 염화수소를 방산시켰다. 이어서, 이 비정제액을 5 단의 증류탑에서 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 증류시켜 저비등 성분으로 고순도의 트랜스체를 115mL 얻었다. 이 저비등 성분의 가스 크로마토그래피에 의한 분석결과, 트랜스체 회수율 및 하아젠색수 (APHA) 를 표 1 에 나타내었다.
[예 2]
예 1 과 동일한 탑저액을 시간당 100mL 씩 30 단의 증류탑에 공급하여 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 연속적으로 증류시켰다. 이 탑저액중의 C3 화합물 및 시스체를 함유하는 조성물을 저비등 성분으로 연속적으로 분류 제거하였다. 이 증류의 고비등 성분으로 탑저로부터 비정제액을 시간당 30mL 씩 빼내었다.
이어서, 예 1 과 동일하게, 이 비정제액에 함유되는 C6 화합물의 1.2 배 몰량의 염소가스와 이 비정제액을 혼합하여 30℃, 대기압에서 연속적으로 염소를 작용시켰다. 그 후, 이 비정제액을 입자형상 가성 소다 충전통에 액통과시켜 염화수소를 제거하였다. 이어서, 액통과된 이 비정제액을 5 단의 증류탑에서 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 증류시켜 저비등 성분으로 고순도의 트랜스체를 탑정으로부터 시간당 23mL 씩 얻었다. 이 저비등 성분의 가스 크로마토그래피에 의한 분석결과, 트랜스체 회수율 및 하아젠색수 (APHA) 를 표 1 에 나타내었다.
[예 3]
예 1 과 동일한 탑저액을, 우선 처음에 이 탑저액중의 C6 화합물의 1.5 배 몰량의 염소가스와 혼합하여 30℃, 대기압에서 연속적으로 염소를 작용시켰다. 이어서, 이 탑저액을 시간당 100mL 씩 30 단의 증류탑에 공급하여 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 연속적으로 증류시켰다. C3 화합물 및 시스체를 함유하는 조성물을 저비등 성분으로 연속적으로 분류 제거하였다. 이 증류의 고비등 성분으로 탑저로부터 염소화된 C6 화합물 및 트랜스체를 함유하는 비정제액을 빼내었다. 또한, 얻어진 이 비정제액을 5 단의 증류탑에서 온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 연속적으로 증류시켜 저비등 성분으로 고순도의 트랜스체를 탑정으로부터 시간당 23mL 씩 얻었다. 이 저비등 성분의 가스 크로마토그래피에 의한 분석결과, 트랜스체 회수율 및 하아젠색수 (APHA) 를 표 1 에 나타내었다.
[예 4]
예 1 과 동일한 탑저액 500mL 를, 우선 처음에 이 탑저액중의 C6 화합물의 1.5 배 몰량의 염소가스와 혼합하여 30℃, 대기압에서 염소를 작용시켰다. 그리고, 질소로 염화수소를 방산시켰다. 이어서, 이 탑저액을 50 단의 증류탑에서 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 회분 증류시켰다. 저비등 성분으로 C3 화합물 등을 분류 제거하고, 고비등 성분으로 비정제액 290mL 를 얻었다. 이어서, 이 비정제액을 5 단의 증류탑에서 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 증류시켰다. 그리고, 탑정으로부터 시스체 및 트랜스체를 함유하는 성분을 저비등 성분으로 250mL 를 얻었다. 또한, 이 저비등 성분을 50 단의 증류탑에서 유출온도 60℃, 압력 100hPa 의 조건으로 증류시켜 탑저로부터 고비등 성분으로 113mL 의 트랜스체를 얻었다. 증류를 3 회 실시하였지만, 얻어진 트랜스체는 뚜렷하게 착색되어 있어 추가로 착색 성분을 제거하는 조작을 할 필요가 있었다. 착색 성분 제거전의 고비등 성분의 가스 크로마토그래피에 의한 분석결과, 트랜스체 회수율 및 하아젠색수 (APHA) 를 표 1 에 나타내었다.
성분 | 탑저액 | 예 1 | 예 2 | 예 3 | 예 4 |
C3 화합물 (%) 시스체 (%) 트랜스체 (%) C6 화합물 (%) | 43 27 24 6 | - 0.1 99.8 0.1 | - 0.1 99.5 0.4 | - 0.1 99.5 0.4 | - 0.1 99.5 0.4 |
트랜스체 회수율 (%) | - | 96.5 | 95.2 | 94.3 | 94.3 |
하아젠색수 (APHA) | - | 10 | 10 | 10 | 500 |
본 발명의 제조방법에 의해, 의약 중간체, 농약 중간체, 기능성 재료의 중간체 등에 사용할 수 있는 고순도이며 착색이 적은 트랜스체를 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 제조방법에서는 2 회의 증류조작과 1 회의 염소 또는 브롬을 작용시키는 공정에 의해, 고순도의 트랜스체를 얻을 수 있고 제조 공정을 크게 단축시킬 수 있다. 본 발명의 제조방법에서는, 수득되는 트랜스체가 저비등 성분으로 분리되기 때문에, 추가로 증류시키지 않고 활성탄 등의 흡착제로 탈색시키지 않아도 착색이 적은 증발 잔류분이 없는 고순도의 트랜스체를 얻을 수 있다. 본 발명의 제조방법은 대용량의 트랜스체를 제조할 수 있는 방법으로, 적은 공정으로 특별 한 조작을 필요로 하지 않기 때문에 공업적 실시에도 적합한 우수한 방법이다.
Claims (7)
- 200 이하의 하아젠 색수 (APHA) 를 갖는 트랜스-1,3-디클로로프로펜의 제조방법으로, 하기 조성물 (Ⅰ) 에서 얻어지는 하기 조성물 (Ⅱ) 를 증류시켜, 염소화 또는 브롬화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 을 함유하는 성분을 고비등 성분으로 제거하고, 상기 APHA 를 갖는 트랜스-1,3-디클로로프로펜을 저비등 성분으로 수득하는 것을 특징으로 하는 방법:조성물 (Ⅰ) ― 시스-1,3-디클로로프로펜, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 C6 화합물을 함유하는 조성물,조성물 (Ⅱ) ― 하기 조성물 (ⅡA), 하기 조성물 (ⅡB), 또는 하기 조성물 (ⅡA) 및 하기 조성물 (ⅡB) 인 조성물,조성물 (ⅡA) ― 조성물 (Ⅰ) 을 증류시켜 시스-1,3-디클로로프로펜을 함유하는 저비등 성분을 제거하고, 이어서 나머지 고비등 성분에 염소 또는 브롬을 작용시킴으로써 얻어지는, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 염소화 또는 브롬화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 을 함유하는 조성물,조성물 (ⅡB) ― 조성물 (Ⅰ) 에 염소 또는 브롬을 작용시킨 후에 증류시켜, 시스-1,3-디클로로프로펜을 함유하는 저비등 성분을 제거함으로써 얻어지는, 트랜스-1,3-디클로로프로펜 및 염소화 또는 브롬화된 C6 화합물 [화합물 (X)] 을 함유하는 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 조성물 (Ⅰ) 이 프로펜과 염소의 반응 생성물, 또는 이 반응 생성물로부터 3-클로로프로펜을 분리한 잔여물인 제조방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물 (Ⅰ) 이 추가로 1,3-디클로로프로판을 함유하는 제조방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화합물 (X) 가 염소화된 C6 화합물인 제조방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물 (Ⅱ) 가 조성물 (ⅡA) 인 제조방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물 (Ⅱ) 를 수득하는 공정에서 제거한 시스-1,3-디클로로프로펜을 함유하는 저비등 성분을, 추가로 증류시킴으로써 시스-1,3-디클로로프로펜을 분취하는 공정을 포함하는 제조방법.
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