KR100764799B1 - 플렉소 인쇄판용 이축 연신 폴리에스테르 필름 - Google Patents

플렉소 인쇄판용 이축 연신 폴리에스테르 필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은 이축연신 폴리에스테르 필름의 표면 및 이면에 서로 상이한 표면특성 즉, 감광성수지와의 접착성 및 대전방지성을 부여함으로써 접착성이 뛰어나면서 내블록킹성 및 투명성이 우수한 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
본 발명에 따른 이축연신 폴리에스테르 필름은 폴리에스테르 기재층(B층)의 일면에 감광성수지층과 접착성이 우수한 표면층(A층)과 반대면에 대전방지제를 함유한 대전방지코팅층(C층)을 형성함으로써 접착성, 내블록킹성 및 대전방지성이 모두 우수한 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조할 수 있다.
이축연신 폴리에스테르 필름, 플렉소 인쇄판, 대전방지성, 층상 실리케이트

Description

플렉소 인쇄판용 이축 연신 폴리에스테르 필름{Biaxially oriented PET films for flexographic printing plate}
본 발명은 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 본 발명은 한 층 이상으로 이루어진 폴리에스테르 기재층 표면의 어느 일면 및 그 이면에 상이한 표면특성을 부여하여, 감광성수지와의 접착성, 대전방지성 뿐만 아니라 내블록킹성 및 투명성이 우수한 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
폴리에스테르, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트는 구조적 안정성 및 우수한 화학적 특성, 물리적 특성, 열적 특성, 기계적 특성, 내용제성, 내구성, 내약품성 및 전기절연성 등이 우수하여 자기기록 매체용, 콘덴서용, 전기전자 부품재, 포장재, 사진재료 외에도 각종 의료용, 산업용등 산업 전 분야에 걸쳐서 광범위하게 사용되고 있다.
그러나 이 같은 많은 장점에도 불구하고 모든 고분자 필름의 단점인 정전기 문제는 폴리에스테르도 예외가 아니어서 제조 중 또는 가공 중에 이물부착, 스파크, 전기적 쇼크 등으로 품질문제 뿐 아니라 안전에도 큰 문제가 되고 있다. 이런 정전기 문제들을 해결하기 위해서 대전방지성을 부여하는 다양한 방법들이 사용되고 있는데, 예를 들면 유기설폰산염 또는 유기인산염 등을 이용한 내부첨가법, 금속화합물을 증착하는 방법, 도전성 무기입자를 도포하는 방법, 음이온성 또는 양이온성 화합물을 도포하는 방법 등을 들 수 있다. 그러나, 유기설폰산염 또는 유기인산염 화합물을 이용한 내부첨가법은 경시변화나 안정성이 우수한 장점이 있지만 필름 지지체 고유의 특성을 저해하는 단점과 대전방지효과에 한계가 있고, 금속 화합물을 증착하는 방법과 도전성 무기입자를 도포하는 방법은 대전방지성이 우수하여 최근에는 투명 도전성 필름용도로 많이 이용되고 있지만, 제조비용이 너무 높아 특정용도에만 사용되고 있다. 한편, 음이온성 또는 양이온성 화합물을 이용한 도포법은 대전방지효과가 비교적 양호하고 제조비용 측면에서 유리하므로 매우 광범위하게 적용되고 있지만 습도 의존성이 높다는 단점이 있다.
또한 폴리에스테르필름은 고분자 고유특성인 높은 마찰계수로 인해 블로킹이 쉽게 발생하여 주행성, 권취성 및 슬릿팅시에 취급이 어려운데 이러한 문제들을 해결하는 방법으로 실리카, 알루니마, 탄산칼슘, 탈크, 클레이, 이산화티탄과 같은 무기화합물을 필름 내부에 첨가하는 방법과 PET와 친화력이 우수한 내부입자(PET중합중에 촉매성분과 열안정제 성분의 반응생성물)를 생성시키는 방법 그리고 필름표면에 유기입자나 무기입자를 도포하는 방법이 있으나 투명성, 입경조절의 어려움 및 도
포층의 입자탈락 등에 의해 주행성 등의 개선에는 제한성이 있다고 하겠다.
이에 본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 한 층 이상으로 이루어진 폴리에스테르 기재층의 표면의 어느 일면 및 그 이면에 상이한 표면특성을 부여한 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 폴리에스테르 기재층(B층); 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 어느 일면에 감광성수지층과 접착성이 우수한 표면층(A층); 및 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 다른 일면에 대전방지코팅층(C층)이 적층된 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 폴리에스테르 기재층(B층); 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 어느 일면에 아크릴계 수지, 멜라민계 가교제 및 계면활성제로 이루어진 코팅액으로 형성된 표면층(A층); 및 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 다른 일면에 대전방지코팅층(C층)이 적층된 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공한다.
상기 폴리에스테르 기재층(B층)은 단층 또는 공압출법에 의한 복층일 수 있다.
표면층(A층)는 0.05∼4㎛의 두께를 가지며, 상기 대전방지코팅층(C층)은 실리카 사면체 시트, 알루미나 팔면체 시트 및 마그네슘 팔면체 시트로 이루어진 군에서 선 택된 적어도 1종 이상의 천연 층상 실레케이트 미네랄 화합물 또는 라포나이트, 메가다이트, 플루오로헥토라이트, 쿠니피아 및 수멕톤으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 합성 층상 실레케이트 미네랄 화합물을 함유한다.
이때, 상기 폴리에스테르 필름에서, 표면층(A층) 또는 대전방지코팅층(C층)에서 선택된 적어도 한 면의 표면조도는 0.1∼3㎛이다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 이축연신 폴리에스테르 필름은 폴리에스테르 기재층(B층); 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 어느 일면에 아크릴계 수지, 멜라민계 가교제 및 계면활성제로 이루어진 코팅액으로 형성된 표면층(A층); 및 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 다른 일면에 대전방지코팅층(C층)이 적층된 구조로서, 투명성, 접착성, 대전방지성 및 내블록킹성이 우수하여 플렉소 인쇄판용으로 바람직하다.
플렉소 인쇄판의 제조는 폴리에스테르 기재의 한 면에 감광성수지를 코팅 또는 압출하여 합지한 후 감광성수지를 보호하기 위하여 보호필름을 합지하여 숙성시킨다. 다음으로 폴리에스테르 기재쪽에서 자외선을 노광(백노광)하여 폴리에스테르 기재와 감광성수지층의 결합력을 견고히 한 후, 보호필름을 벗겨내고 감광성수지 위에 네가필름을 마스크로 하여 자외선노광(주노광)한 후에 솔벤트나 열을 이용하여 현상하고 최종적으로 후노광을 실시하여 감광성수지판의 끈적거림을 없애는 동시에 내쇄성을 갖도록 한다. 제작된 고무 인쇄판은 폴리에스테르면에 초강력 양면테이프를 이용하여 플렉소 인쇄롤에 설치함으로써 플렉소 인쇄를 수행할 수 있게 된다.
이 공정에서 기재로 사용되는 폴리에스테르 필름에 요구되는 특성은 다음과 같다.
먼저, 감광성수지와 접착성이 우수해야 하며 특히 백노광 및 후노광까지 종료된 시점에서 감광성수지층과 접착력이 우수하여야 한다.
다음으로, 상기 노광공정에서 플렉소판을 유리지지대에 진공밀착하여 노광을 진행하는데 이때 폴리에스테르의 표면조도 상태에 따라 유리지지대와 폴리에스테르 경계면에서 뉴튼링이 발생하는 정도가 달라지게 된다. 즉, 폴리에스테르 필름의 조도가 높으면 뉴튼링의 발생이 없고 낮아질수록 발생하는데, 이때 발생하는 뉴튼링은 노광공정시 링형태로 최종 노광층에 남게 되어 해상도에 악영향을 끼치므로 폴리에스테르 필름의 표면조도가 높아야 한다.
또한, 가공 공정시 필름이 투명해야 노광시 광의 진행이 굴절되지 않아 해상도를 높일 수 있으며 대전방지성 역시 이물부착에 의한 결점을 최소화할 수 있는 주요한 특성이라 하겠다.
따라서, 본 발명은 폴리에스테르 기재층(B층); 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 어느 일면에 감광성수지층과 접착성이 우수한 표면층(A층); 및 상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 다른 일면에 대전방지코팅층(C층)이 적층된 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공한다.
상기 표면층(A층)은 감광성수지층과의 접착성을 향상시키기 위하여 아크릴계 수지, 멜라민계 가교제 및 계면활성제 등으로 이루어진 코팅액을 도포하여 형성된다. 이때 코팅 두께는 0.05∼4㎛이 바람직하며, 보다 바람직하기로는 0.2∼2.0㎛로 하는 것이 좋다. 코팅두께가 0.05㎛보다 얇으면 투명성은 양호해지나 접착력이 떨어지 며, 4㎛보다 두꺼울 경우 접착특성은 우수하나 투명성 및 코팅성이 저하되어 바람직하지 않다. 코팅성 및 기능성 향상을 위하여 코팅액에 첨가제를 사용할 수 있으며, 계면활성제, 유기입자, 무기입자, 가교제, 대전방지제, 산화방지제, 소포제, 자외선 차단제, 왁스, 실리콘오일, 난연제, 안료, 염료 또는 각종 솔벤트 등을 사용할 수 있다.
또한, 대전방지코팅층(C층)는 대전방지성을 부여하기 위하여 대전방지 특성을 지닌 무기입자를 이용하여 연신공정 전후의 필름위에 수지 바인더등과 함께 도포하여 형성된 것으로, 광범위한 습도레벨에서 우수한 대전방지 특성을 가지게 한다.
본 발명에서 사용가능한 무기입자로는 층상(layered) 실레케이트 미네랄 화합물을 사용한다. 상기 층상 실레케이트 미네랄 화합물은 전형적으로 점토 표면의 알짜 음전하에 끌리는 갤러리 내에 존재하는 최소 하나의 자연 발생 양이온 혹은 포타슘(K), 칼슘(Ca), 혹은 나트륨(Na)과 같은 제 1양이온을 가질 수 있고, 소량의 수분을 함유할 수 있어 외부 혹은 마찰에 의해 표면에 축적되는 정전기를 도전시킬 수 있다. 이러한 10% 내외의 자연적 수분 함량과 내부전하에 의해 광범위한 습도레벨에서도 우수한 대전방지성을 유지할 수 있는 특징을 가지고 있다. 따라서, 본 발명에서는 습도의존성이 작으면서 대전방지성도 우수한 상기 층상 실리케이트 미네랄을 폴리에스테르 필름위에 도포함으로써 광범위한 습도레벨에서 우수한 대전방지성을 유지할 수 있다. 이러한 층상 실레케이트 미네랄 화합물의 일례로는 천연 및 합성 미네랄을 포함하며, 실리카 사면체 시트, 알루미나 팔면체 시트 및 마그네슘 팔면체 시트로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종 이상을 혼합하여 사용할 수 있 다. 대표적으로 스멕타이트(Smectite) 또는 몬모릴로나이트(Montmorillonite)를 단독 또는 혼합형태로 사용하며, 합성 미네랄 또는 합성 필로실리케이트의 예로는 라포나이트(Laponite), 메가다이트, 플루오로헥토라이트(Charlotte, North Carolina의 Laporte Industries, Ltd.제조), 쿠니피아(Kunipia) 및 수멕톤(Sumecton)(Kunimine Industries, Ltd.제조) 등이 있으며, 이들 중 라포나이트 및 쿠니피아가 가장 바람직하다.
본 발명에서는 상기 노광공정 중에 발생하는 뉴튼링 발생을 방지하기 위하여 폴리에스테르 필름의 표면조도(Rz)는 적어도 어느 한 면에 있어서 0.1∼3㎛인 것이 바람직하며, 보다 바람직하기로는 0.2∼2.0㎛인 것이 좋다. 표면조도가 너무 낮으면 광택도는 우수하나 뉴튼링이 발생하고 표면조도가 너무 높으면 취급성이 우수해지고 뉴튼링이 발생하지 않으나 투명성 저하 및 광택도 저하를 일으키게 되어 바람직하지 않다.
본 발명의 폴리에스테르 기재층(B층)은 단층 또는 공압출법에 의한 복층일 수 있다. 또한, 필름의 투명성을 확보하기 위해 폴리에스테르 기재층에는 입자를 전혀 첨가하지 않거나 첨가하더라도 단층일 경우, 50ppm 이하 또는 복층의 경우 150 ppm 이하로 첨가하고 이때 사용되는 입자는 그 크기에 있어 0.1 ∼ 10.0㎛인 것이 바람직하다. 첨가되는 입자로는 실리카, 탄산칼슘, 알루미나, 알루미늄 실리케이트, 이산화티탄, 바륨설페이트, 지르코니아 같은 무기 입자 및 폴리메틸 메타아크릴레이 트(PMMA), 멜라민등의 유기 입자를 사용할 수 있으며, 형태에 있어서는 구형, 다공성, 판상형, 무정형 등을 사용할 수 있고 필름의 한면은 필름의 이활을 돕도록 무기입자나 유기입자를 함유하도록 코팅 또는 공압출함으로써 주행성을 향상시키며 나머지 한면은 감광성수지나 여러 코팅에 이접착성을 가지도록 수지를 코팅할 수 있다.
본 발명에 따른 이축연신 폴리에스테르 필름은 극한점도 0.4 내지 1.0㎗/g의 폴리에스테르 수지를 용융압출시켜 15∼35℃의 냉각롤에서 정전인가하여 미연신 시트를 성형한 후, 70∼130℃에서 종방향으로 2∼5배, 바람직하게는 3∼4.5배 연신시킨 다음, 다시 100∼140℃에서 횡방향으로 2∼5배, 바람직하게는 3∼4.5배 연신시키고 이어서 180∼260℃, 바람직하게는 210∼240℃에서 상기 2축연신된 시트를 열고정시켜 폴리에스테르 필름을 얻는 일련의 제조과정 중에서 종방향 연신 후, 횡방향 연신 전의 단계에서 코팅액을 한면 혹은 양변에 도포하여 접착 및/또는 대전방지기능을 가지는 폴리에스테르 필름을 제조할 수 있다.
특별히 제한하는 것은 아니지만 코팅액을 도포하기 전에 도포액을 쉽게 습윤하거나 베이스 기재와의 밀착성을 향상시키기 위해서 필름 표면에 코로나(corona) 방전처리를 하는 것이 바람직하다
이하에서 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다. 실시예 및 비교예에서 얻어진 필름의 각종 평가는 다음의 방법에 따라 실시하였다.
<실시예 1>
1. 표면층(A)용 코팅액 제조
이온 교환 수지를 통과한 순수에 비증발성 성분기준으로 수분산성 아크릴계 공중합체수지(롬앤하스사 제품) 100중량부, 멜라민계 가교제 (사이텍사 제품) 20중량부, 및 계면활성제로서 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르(일본유지사 제품) 2.5중량부를 투입하고 교반하여 코팅액을 제조하였다. 이때, 전체 고형분 5.0%의 조성물로 제조하였다.
2. 대전방지코팅층(C층)용 코팅액의 제조
이온 교환 수지를 통과한 순수에 계면활성제로서 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 2.5중량부 및 대전방지 특성을 지닌 라포나이트(Laporte Industries 제품) 200중량부를 투입한 후 잘 교반하여 나노졸을 만든 다음, 수분산 아크릴계 수지 100중량부 및 멜라민계 가교제 10중량부를 트입하고 재 교반하여 코팅액을 제조하였다. 이때, 전체 고형분 3.0%의 조성물로 제조하였다.
3. 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름의 제조
통상의 방법으로 진공 건조한 고유점도 0.625㎗/g 폴리에스테르 펠렛과 통상의 방법으로 진공 건조한 평균입경 2.5㎛의 무정형 구형 실리카 입자가 150ppm 들어 있는 고유점도 0.625㎗/g의 폴리에틸렌테레프탈레이트를 서로의 층이 섞이지 않도록 용융 공압출하여 냉각드럼에 정전인가법으로 밀착시켜 무정형 미연신 시트를 만들고 이를 다시 가열하여 105℃에서 필름 진행 방향으로 3.3배 연신하여 기재필름을 제조하였다. 제조된 기재필름의 양면에 코로나 방전처리를 한 후 메이버 바 코팅 방식을 이용하여 상기 필름의 일면의 표면에 단계 1의 코팅액을 도포하고, 필름의 반대면에는 단계 2에서 제조된 코팅액을 도포하여, 각각 표면층(A) 및 대전방지코팅층(C층)을 제조하였다. 코팅된 필름은 스텐터에서 건조 및 예열을 행한 후 100∼140℃ 구간에서 필름의 진행방향과 수직 방향으로 3.5배 연신을 한 후 240℃에서 14초간 열처리하여 125㎛ 두께의 필름을 얻었다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.21㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 1.50㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<실시예 2>
표면층(A)용 코팅액 제조단계에서, 전체 고형분이 10%인 조성물로 제조하여 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.54㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 1.50㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<실시예 3>
표면층(A)용 코팅액 제조단계에서, 전체 고형분이 5%인 조성물로 제조하고, 대전방지코팅층(C층)용 코팅액의 제조단계에서, 라포나이트 대신에 쿠니피아(Kunimine Industries 제품)를 200중량부 사용하고, 기재필름의 제조공정 중에서 평균입경 2.5㎛ 구형 실리카 입자 대신에 평균입경 1.5㎛ 구형 실리카 입자를 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.22㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 0.8㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<실시예 4>
표면층(A)용 코팅액 제조단계에서, 전체 고형분이 10%인 조성물로 제조하여 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 3과 동일한 방법으로 실시하여, 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.52㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 0.8㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<비교예 1>
표면층(A)용 코팅액 제조단계에서, 전체 고형분이 2%인 조성물로 제조하여 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 3과 동일한 방법으로 실시하여, 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.11㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 0.8㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<비교예 2>
표면층(A)용 코팅액 제조단계에서, 전체 고형분이 1.5%인 조성물로 제조하고, 대전방지코팅층(C층)용 코팅액의 제조단계에서, 라포나이트 대신에 4급 암모늄염(닛폰가야구사제)을 100중량부 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.04㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 1.5㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<비교예 3>
대전방지코팅층(C층)용 코팅액의 제조단계에서, 라포나이트 대신에 4급 암모늄염(사이텍사제)을 200중량부 사용하고, 기재필름의 제조공정 중에서 평균입경 2.5㎛ 구형 실리카 입자 대신에 평균입경 2.3㎛인 무정형 실리카 20ppm를 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.22㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 0.08㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<비교예 4>
대전방지코팅층(C층)용 코팅액의 제조단계에서, 라포나이트 대신에 술폰화폴리스티렌(내쇼날스타치사제)을 200중량부 사용하고, 기재필름의 제조공정 중에서 폴리에스테르 기재층에 첨가하는 입자로 평균입경 1.7㎛인 무정형실리카 20ppm 함유하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여, 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이때 표면층(A)의 두께는 0.11㎛, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도(Rz)는 0.06㎛였으며 그 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
<실험예 1>
상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 폴리에스테르 필름의 물성측정을 위하여 하기와 같이 실험하였다.
1. 접착력
폴리에스테르 필름의 접착 코팅층에 자외선 경화형 감광성수지를 합지한 후 자외선 경화형 감광성수지층과 폴리에스테르 필름층을 25mm로 시료를 준비한 후 인스트론에 걸어 감광성수지층과 폴리에스테르층의 박리시 걸리는 부하를 측정함으로써 접착성을 평가하는데 자외선 노광전, 후로 각각 실시한다.
◎ : 두층간 벗겨지지 않음
○ :박리시 2.5kg/25mm이상
△ : 박리시 1.0kg/25mm 이상 2.5kg/25mm 미만
× : 박리시 0.5kg/25mm미만
2. 표면저항 및 습도의존성
23℃, 상대습도 50%인 조건하에서 측정필름을 24시간 방치한 후 일본 가와구치사의 표면저항 측정기 모델 R-503형을 사용하여 500V의 인가전압을 가하여 표면저항을 측정하였다. 또 습도조건을 25%, 70%에서 측정한 표면저항의 상용로그값의 차이에 따라 다음과 같은 기준으로 습도의존성을 평가하였다.
우수 : 1.0 미만
양호 : 1.0 이상 2.0 미만
불량 : 2.0 이상
3. 내블록킹성
제조한 필름의 대전방지코팅면을 유리판과 밀착시킨 후 뉴우튼링의 발생하는 정도를 측정함으로써 뉴우튼링이 발생하면 불량, 발생하지 않으면 양호수준으로 내블록킹성을 평가하였다.
4. 투명성(%)
제조한 필름을 C-광원을 사용하여 입사광에 대한 산란광의 비율을 %값으로 나타낸 헤이즈(Haze)값을 헤이즈미터(일본 덴소쿠고교사의 모델 NDH-1001DP형)로 측정한 후 무처리 필름의 헤이즈값과의 차이를 다음 기준으로 나타내었다. 헤이즈의 편차가 작을수록 필름의 투명성이 우수하다.
◎ : 0.1% 미만
○ : 0.1% 이상 0.5% 미만
△ : 0.5% 이상 1.0% 미만
× : 1.0% 이상
5. 코팅두께(㎛)
UVISEL DH10 ellipsometer를 이용하여 코팅두께를 분석하였다.
6. 표면조도
제조한 필름을 일본 코사카사의 기기(KOSAKA사의 모델 SE-3300)를 사용하여 JIS-B0601규격에 의거하여 표면조도를 측정하였다.
제조된 폴리에스테르 필름의 물성 측정
두께(A층) 표면조도 접착력 대전방지성 내블록킹성 투명성
(㎛) (㎛) 표면저항 습도의존성
실시예 1 0.21 1.50 2.0 ×109 우수 양호
실시예 2 0.54 1.50 2.0 ×109 우수 양호
실시예 3 0.22 0.8 3.0 ×109 우수 양호
실시예 4 0.52 0.8 3.0 ×109 우수 양호
비교예 1 0.11 0.8 3.0 ×109 우수 양호
비교예 2 0.04 1.5 × 3.7 ×1011 양호 양호
비교예 3 0.22 0.08 5.0 ×109 양호 불량 ×
비교예 4 0.11 0.06 4.2 ×1010 불량 불량
상기 표 1에서 알 수 있듯이, 실시예 1 내지 4에서와 같이 표면층(A)의 두께가 0.05∼4.0㎛이고 대전방지제로서 라포나이트 또는 쿠니피아와 같은 층상 실리케이트 미네랄을 사용한 경우 대전방지제로서 4급 암모늄염이나 술폰화폴리스티렌와 같 이 통상의 무기입자를 사용한 비교예 2 내지 4의 경우보다 접착력, 대전방지성 및 내블록킹성이 모두 우수하거나 양호함을 알 수 있다. 또한, 실시예 1 내지 4의 경우는 대전방지코팅층(C층)의 표면조도가 0.1∼3.0㎛의 범위이므로 노광공정시 뉴튼링의 발생의 염려가 없고 필름의 투명성 또한 우수함을 알 수 있다. 반면, 대전방지코팅층(C층)의 표면조도가 0.08㎛ 및 0.06㎛인 비교예 3 및 4의 경우 필름의 투명성이 저하될정도로 표면조도를 형성시켰어도 뉴튼링이 발생하였다.
상기에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 이축연신 폴리에스테르 필름은 한 층 이상으로 이루어진 폴리에스테르 기재층의 표면의 어느 일면 및 그 이면에 상이한 표면특성을 부여함으로써, 감광성 수지층과의 접착성 향상 및 광범위한 습도레벨에서 우수한 대전방지성을 가지므로 내블록킹성 및 대전방지성이 모두 우수한 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 기술되었지만, 본 발명의 기술사상 범위내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이다.

Claims (6)

  1. 폴리에스테르 기재층(B층);
    상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 어느 일면에 아크릴계 수지, 멜라민계 가교제 및 계면활성제로 이루어진 코팅액으로 형성된 표면층(A층); 및
    상기 폴리에스테르 기재층(B층)의 다른 일면에 대전방지코팅층(C층)이 적층된 것을 특징으로 하는 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 폴리에스테르 기재층(B층)이 단층 또는 공압출법에 의한 복층인 것을 특징으로 하는 상기 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 표면층(A층)의 두께가 0.05∼4.0 ㎛인 것을 특징으로 하는 상기 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 대전방지코팅층(C층)이 실리카 사면체 시트, 알루미나 팔면체 시트 및 마그네슘 팔면체 시트로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 천연 층상 실레케이트 미네랄 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 대전방지코팅층(C층)이 라포나이트, 메가다이트, 플루오로 헥토라이트, 쿠니피아 및 수멕톤으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 합성 층상 실레케이트 미네랄 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 폴리에스테르 필름에서, 표면층(A층) 또는 대전방지코팅층(C층)에서 선택된 적어도 어느 한 면의 표면조도가 0.1∼3 ㎛인 것을 특징으로 하는 상기 플렉소 인쇄판용 이축연신 폴리에스테르 필름.
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