KR100714734B1 - Pressure-sensitive adhesive composition - Google Patents

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KR100714734B1
KR100714734B1 KR1020030087730A KR20030087730A KR100714734B1 KR 100714734 B1 KR100714734 B1 KR 100714734B1 KR 1020030087730 A KR1020030087730 A KR 1020030087730A KR 20030087730 A KR20030087730 A KR 20030087730A KR 100714734 B1 KR100714734 B1 KR 100714734B1
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가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이
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Abstract

본 발명자는 사용되는 근적외선 흡수 염료가 자외선에 의해서 덜 열화되며, 플라즈마 디스플레이 등을 형성하는 적층 물질과 함께 점착시키기 위해 감압 접착제층 등을 형성시키는데 사용하기에 적합하며, 형성된 감압 접착제 층내 플라즈마 디스플레이 전면 플레이트에 각 층의 기능을 함께 모을 수 있으며, 근적외선 및 자외선을 흡수할 수 있고, 추가로 칼라 톤 조정 기능을 갖는 감압 접착제(pressure-sensitive)조성물을 제공한다.The inventors of the present invention find that the near-infrared absorbing dye used is less deteriorated by ultraviolet rays, and is suitable for use in forming a pressure-sensitive adhesive layer or the like for adhering with a laminated material forming a plasma display or the like, and the plasma display front plate in the formed pressure-sensitive adhesive layer. The present invention provides a pressure-sensitive composition capable of bringing together the functions of each layer, absorbing near infrared and ultraviolet rays, and further having a color tone adjustment function.

본 발명은 감압 접착제 중합체 (A), 근적외선 흡수 염료 (B), 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 를 포함하는 감압 접착제 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure sensitive adhesive composition comprising a pressure sensitive adhesive polymer (A), a near infrared absorbing dye (B), a ultraviolet absorber (C) and / or a hindered amine light stabilizer (D).

Description

감압 접착제 조성물 {PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION}Pressure Sensitive Adhesive Composition {PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION}

본 발명은 감압 접착제 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 층상 물질을 조합하여 플라즈마 디스플레이 등을 구성하기 위한 접착제층의 형성에 사용하기 적합한 감압 접착제 조성물, 및 감압 접착제 조성물을 포함하는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및 상기물을 포함하는 플라즈마 디스플레이 제품에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure sensitive adhesive composition. More specifically, the present invention provides a pressure-sensitive adhesive composition suitable for use in forming an adhesive layer for forming a plasma display by combining a layered material, and an optical filter for plasma display including the pressure-sensitive adhesive composition and a plasma including the same. Relates to a display product.

감압 접착제 조성물은 상온에서 점착성이며, 단순히 압력 적용시 접착물에 접착할 수 있는 감압 접착제를 포함한다. 이들은, 예를 들어 전기 및 전자 부품 분야 및 기타 분야에서 널리 사용된다. 감압 접착제 조성물의 상기 용도 중에서, 대형 박형 텔레비젼, 박형 디스플레이 등에 사용되는 플라즈마 디스플레이 (본원에서 또한 "PDP" 로 불림) 에서 이들을 사용하는 경우, 여러 층상 물질이 감압 접착제 조성물로 형성된 접착제층에 의해 통합된다.The pressure sensitive adhesive composition is tacky at room temperature and simply comprises a pressure sensitive adhesive that can adhere to the adhesive upon pressure application. These are widely used, for example, in the field of electrical and electronic components and other fields. Among the above uses of pressure sensitive adhesive compositions, when using them in plasma displays (also referred to herein as "PDPs") used in large thin televisions, thin displays and the like, several layered materials are incorporated by an adhesive layer formed of the pressure sensitive adhesive composition. .

상기 PDP 등에 있어서, 필터는 일반적으로, 예를 들어 PDP 로부터 방출되는 전자파, 적외선 등의 차폐, 외광 반사 또는 원하는 칼라를 나타내기 위한 본래 PDP 칼라링의 변화 방지를 위한 목적으로 각각의 PDP 앞에 배치된다. In the PDP and the like, a filter is generally disposed in front of each PDP, for example, for the purpose of shielding electromagnetic waves emitted from the PDP, infrared rays, etc., reflecting external light, or changing the original PDP coloring to exhibit a desired color.                         

대략적으로 말하자면, PDP 는 일반적으로 본체 (플라즈마 방출 부분) 및 전면 플레이트 (사람이 보게되는 스크린측) 로 이루어진다. 전면 플레이트는 시청자로부터 PDP 본체로 하기 순서의 층 (필요한 기능층) 으로 이루어지는 다층체 (적층물) 이다:Roughly speaking, a PDP generally consists of a body (plasma emitting part) and a front plate (screen side seen by a person). The front plate is a multilayer body (laminate) consisting of the following sequence of layers (required functional layers) from the viewer to the PDP body:

[시청자측] 반사 방지층/근적외선 흡수층/(칼라 톤 조정층)/자외선 흡수층/전자파 차폐층 [PDP 본체][Viewer side] Anti-reflective layer / Near infrared absorbing layer / (Color tone adjusting layer) / Ultraviolet absorbing layer / Electromagnetic shielding layer [PDP main body]

감압 접착제는 상기 층들을 함께 접착 (결합) 시키는데 사용된다. 예를 들어, 각각의 층 물질, 적층 순서, 및 적층 방법은 다양하며, 다양한 구현예에 대한 도면들이 개시되어 있다 (cf. 예로, 일본 공개 공보 2003-5663 (페이지 10, 11), 일본 공개 공보 2002-366048 (페이지 10), 일본 공개 공보 2002-268569 (페이지 11, 12), 일본 공개 공보 2002-323860 (페이지 11)).Pressure sensitive adhesives are used to bond (bond) the layers together. For example, each layer material, lamination order, and lamination method are various, and drawings for various embodiments are disclosed (cf. Japanese Laid-Open Publication 2003-5663 (pages 10 and 11), Japanese Laid-Open Publications, for example). 2002-366048 (page 10), Japanese Laid-Open Publication 2002-268569 (pages 11 and 12), Japanese Laid-Open Publication 2002-323860 (page 11)).

예를 들어 상기 방식으로, 열선인 근적외선 흡수성을 갖는 코팅층 또는 필름이 PDP 에 사용되어 중요한 기능을 수행한다. 예를 들어, 근적외선은 PDP 등에서 스크린으로부터 방출되며, 이들은 PDP 근처에 놓이며 근적외선을 이용하는 원격 조절 장치 또는 장비 또는 일부 다른 전자 장치 상에 작용하여, 이들의 오작동을 일으킬 수 있다. 따라서, 근적외선을 흡수하고 가시광선을 통과시키는 근적외선 흡수층이 스크린으로부터 방출되는 근적외선을 차폐시키기 위해 형성된다. 상기 필름 또는 코팅층은 일반적으로 근적외선 흡수 수지 조성물을 이용하여 형성된다. 상기 PDP 의 제조에 있어서, PDP 가 경량이고, 상기물의 제조 공정이 간소화되어 이들의 생산 비용이 절감되는 것이 바람직하다. 따라서, 비용 절감을 위해, 전면 플레이트에서 층의 수를 감소시키고자 하는 연구가 활발히 진행되고 있다. For example, in this manner, a coating layer or film having near infrared absorptivity, which is a hot wire, is used in the PDP to perform an important function. For example, near infrared light is emitted from a screen in a PDP or the like, which is placed near the PDP and acts on a remote control device or equipment or some other electronic device using near infrared, causing their malfunction. Thus, a near infrared absorbing layer that absorbs near infrared rays and passes visible light is formed to shield the near infrared rays emitted from the screen. The film or coating layer is generally formed using a near infrared absorbing resin composition. In the production of the PDP, it is preferable that the PDP is lightweight, and the manufacturing process of the water is simplified to reduce their production cost. Therefore, in order to reduce costs, studies are being actively conducted to reduce the number of layers in the front plate.

그 동안, 선행 기술의 감압 접착제로서, 히드록실기-함유 응집성 중합체 및 가교 프로모터를 포함하고, 추가로 휘발성 산을 포함하는 응집성 조성물이 개시되어 있다 (cf. 예로, 일본 공개 공보 2002-241732 (페이지 1, 2)). 또한, 적어도 자외선 흡수제-함유 표면 보호층, 감압 접착제층 및 분리기를 상기 순서로 갖는 방출성 기판 (cf. 예로, 일본 공개 공보 평-09-166963 (페이지 1, 2)) 및 분산된 열선-차폐 미립자로 중합된 아크릴계 공중합체를 포함하는 열선-차폐 감압 접착제 (cf. 예로, 일본 공개 공보 평-10-8010 (페이지 1, 2)) 를 포함하는, 디스플레이 표면 보호 필름 형성용 시이트가 개시되어 있다. 그러나, 상기 감압 접착제 조성물은 PDP 로의 적용을 위해 고안되지 않았다. 따라서, 이들을 PDP 와 같은 전자 장비 또는 장치에서 감압 접착제층을 형성하고, 상기 감압 접착제층에 근적외선 흡수층으로서의 기능을 제공하기 위한 물질로서 적용가능하게 하여, PDP 등의 층 구조가 단순해지고 중량이 감소될 수 있으며, 제조 공정 단순화가 가능해질 수 있도록, 상기 또는 기타 조성물의 개질을 위한 연구의 여지가 있다.In the meantime, as a pressure-sensitive adhesive of the prior art, a cohesive composition comprising a hydroxyl group-containing cohesive polymer and a crosslinking promoter and further comprising a volatile acid is disclosed (cf. Japanese Laid-Open Patent Publication 2002-241732 (page 1, 2)). Further, at least an ultraviolet absorber-containing surface protective layer, a pressure-sensitive adhesive layer, and a release substrate (cf. Japanese Unexamined Patent Publication No. H--09-166963 (pages 1 and 2)) and dispersed hot wire-shielding in this order A sheet for forming a display surface protective film is disclosed, comprising a heat-shielding pressure-sensitive adhesive (cf. Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei-10-8010 (pages 1 and 2)) comprising an acrylic copolymer polymerized with fine particles. . However, the pressure sensitive adhesive composition is not designed for application to PDP. Therefore, they can be applied as a material for forming a pressure-sensitive adhesive layer in electronic equipment or devices such as PDP, and providing a function as a near infrared absorbing layer to the pressure-sensitive adhesive layer, thereby simplifying the layer structure of PDP and the like and reducing the weight. There is room for research for modification of these or other compositions so that the manufacturing process can be simplified.

또한, 570 내지 600 nm 의 파장 범위에서 최대 흡수를 갖는 염료를 포함하는 접착제층 또는 감압 접착제층이 제공되는 광학 필터 (cf. 예로, 일본 공개 공보 2001-228323 (페이지 1, 2)), 칼라 감압 접착제 조성물 (cf. 예로, 일본 공개 공보 평-03-79687 (페이지 1)), 레이저 빔-흡수 감열 접착제 (cf. 예로, 일본 공개 공보 평-09-95657 (페이지 1, 2)), 및 근적외선 흡수 물질 (cf. 예로, JP 공개 평-09- 169849 (페이지 1, 2)) 이 개시되어 있다. 그러나, 상기물들에 대해서도 또한, PDP 와 같은 전자 기구 또는 장치에서 감압 접착제층을 형성하기 위한 물질로서 이들을 적용가능하게 하기 위한 연구의 여지가 남아 있다. 또한, 상기물은 또다른 문제점을 갖는다; 이들이 PDP 및 기타 전자 기구 또는 장치에서 감압 접착제층의 형성에 적용되는 경우, 염료가 열화되어 장기간 이들의 근적외선 흡수능을 유지하지 못한다.Further, an optical filter (cf. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2001-228323 (pages 1 and 2)) provided with an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer containing a dye having a maximum absorption in the wavelength range of 570 to 600 nm, color decompression Adhesive compositions (cf. Japanese Laid-Open Publication No. H 03-03-79687 (page 1)), laser beam-absorbing thermosensitive adhesives (cf. Japanese Laid-Open Publication No. H09-95657 (pages 1, 2)), and near infrared rays Absorbent materials (cf. eg JP Publication No. Hex. 9-169849 (pages 1, 2)) are disclosed. However, also with respect to the above items, there is room for research to make them applicable as materials for forming a pressure-sensitive adhesive layer in an electronic apparatus or device such as a PDP. In addition, the water has another problem; When they are applied to the formation of pressure sensitive adhesive layers in PDPs and other electronic devices or devices, the dyes deteriorate and fail to maintain their near infrared absorption capacity for a long time.

따라서, PDP 등에 요구되는 기본적 성능 특징이 달성될 수 있고, 나아가 비용 절감을 위해 전면 플레이트에서 층의 수가 감소될 수 있는 기술이 요구된다.Accordingly, there is a need for a technique in which the basic performance characteristics required for PDP and the like can be achieved, and furthermore, the number of layers in the front plate can be reduced for cost reduction.

본 발명은 상기 언급된 당분야의 상태의 견지에서 이루어졌으며, 본 발명의 목적은, 사용되는 근적외선 흡수 염료가 자외선에 의해 덜 열화되며, 플라즈마 디스플레이 등을 형성하는 층상 물질을 함께 점착하기 위한 감압 접착제층 등의 형성에 사용하기 적합하고, 형성된 감압 접착제층에 플라즈마 디스플레이 전면 플레이트에서의 각 층의 기능을 함께 통합시킬 수 있고, 자외선 뿐만 아니라 근적외선을 흡수할 수 있고, 또한 칼라 톤-조정 기능을 갖는 감압 접착제 조성물을 제공하는 것이다.The present invention has been made in view of the above-mentioned state of the art, and an object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive for adhering together a layered material in which the near-infrared absorbing dye used is less degraded by ultraviolet rays and forms a plasma display or the like. Suitable for use in forming layers and the like, the pressure sensitive adhesive layer formed can integrate the functions of each layer in the plasma display front plate together, absorb ultraviolet as well as near infrared rays, and also have a color tone-adjusting function. It is to provide a pressure-sensitive adhesive composition.

본 발명자들은 감압 접착제 조성물에 대한 다양한 연구를 수행하여, 근적외선 흡수 염료가 감압 접착제 중합체를 필수 성분으로 포함하는 감압 접착제 조성물 중에 혼입되고, 생성 조성물이 플라즈마 디스플레이 등을 형성하는 층상 물질을 함께 결합시키기 위한 접착제층 (감압 접착제층) 을 형성하는데 사용되는 경우, 플라 즈마 디스플레이 등의 층 구조를 감소시키고, 중량 절감 및 제조 공정 단순화를 달성할 수 있음을 확인하였다. 또한, 플라즈마 디스플레이와 같은 전자 기구 또는 장치 중의 근적외선 흡수 염료는 플라즈마 방출 등으로부터 방출되는 자외선에 의해 열화되며, 이들은 감압 접착제 중합체에서 쉽게 열화되어, 이들의 근적외선 흡수능이 감소되지만, 자외선 흡수제 및/또는 힌더드 (hindered) 아민 광 안정화제의 사용이 자외선에 의해 일어나는 상기 열화를 방지하고 근적외선 흡수 염료의 내구성을 개선시킬 수 있으며, 플라즈마 디스플레이와 같은 전자 기구 또는 장치 중 감압 접착제층으로의 이들의 적용이 요구되는 근적외선 흡수능을 만족스럽게 유지시킬 수 있음을 발견하였다. 따라서, 이들은 상기 목적이 성공적으로 달성될 수 있음을 확인하였다.The inventors have conducted various studies on pressure sensitive adhesive compositions so that near-infrared absorbing dyes are incorporated into pressure sensitive adhesive compositions comprising pressure sensitive adhesive polymers as essential components, and the resulting composition is used to bond layered materials together forming plasma displays and the like. When used to form the adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer), it was found that it is possible to reduce the layer structure of the plasma display or the like, and to achieve weight reduction and manufacturing process simplification. In addition, near-infrared absorbing dyes in electronic devices or devices such as plasma displays are degraded by ultraviolet rays emitted from plasma emission or the like, which are readily degraded in the pressure-sensitive adhesive polymer, reducing their near-infrared absorbing capacity, but reducing the ultraviolet absorber and / or The use of hindered amine light stabilizers can prevent the deterioration caused by ultraviolet light and improve the durability of the near infrared absorbing dyes, and their application to pressure sensitive adhesive layers in electronic devices or devices such as plasma displays is desired. It has been found that it is possible to satisfactorily maintain the near infrared absorption capacity. Thus, they confirmed that the above object can be successfully achieved.

플라즈마 디스플레이 등 중에서 감압 접착제층이 본 발명의 감압 접착제 조성물을 사용하여 형성되는 경우, 이들은 또한 근적외선 흡수층으로서 기능하며, 따라서 별도의 근적외선 흡수층을 제공할 필요가 적어져서 플라즈마 디스플레이 등의 층 구조가 감소될 수 있다. 따라서, 접착제층에서 플라즈마 디스플레이 전면 플레이트를 구성하는 각 층의 기능을 함께 통합하여 포함하는 방법이 전면 플레이트의 층수 감소, 따라서 비용 절감을 달성하기 위해 유용한 만큼, 본 발명은 상기 방법에 있어서, 자외선 뿐만 아니라 근적외선을 흡수할 수 있어서 층수를 감소시킬 수 있고, 또한 플라즈마 디스플레이 전면 플레이트에 대해 요구되는 기본적 성능 특징이 충분히 발현될 수 있게 하는 감압 접착제층의 사용을 제안한다. 또한, 여기에 칼라 톤-조정제가 혼입되는 경우, 상기 감압 접착제층은 또한 동시에 칼라 톤 조정 기능을 갖는 물질로서 작용할 수 있다.When the pressure-sensitive adhesive layer is formed using the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention in a plasma display or the like, they also function as a near infrared absorbing layer, thus reducing the need for providing a separate near infrared absorbing layer so that the layer structure of the plasma display or the like is reduced. Can be. Accordingly, the present invention provides a method for integrating together the functions of each layer constituting the plasma display front plate in the adhesive layer, in order to achieve a reduction in the number of layers of the front plate, and thus a cost reduction. It also proposes the use of a pressure sensitive adhesive layer that can absorb near infrared rays, thereby reducing the number of layers and also allowing the basic performance characteristics required for a plasma display front plate to be fully expressed. In addition, when the color tone-adjusting agent is incorporated therein, the pressure-sensitive adhesive layer can also function as a material having a color tone adjusting function at the same time.

본 발명자들은 또한, 상기 감압 접착제 조성물에 있어서, 항산화제가 사용되고/되거나 감압 접착제 중합체의 유리 전이 온도 및/또는 중량 평균 분자량이 감압 접착제로서의 기능을 만족스럽게 증강시키도록 특정되고/되거나, 감압 접착제 중합체와 자외선 흡수제 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제의 상용성 및/또는 이들의 비용의 견지에서, 반응형 및 첨가형 자외선 흡수제 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제가 병용되는 경우, 본 발명의 효과가 보다 현저히 얻어질 수 있음을 발견하였다. 이제 상기 발견으로 본 발명이 완성되었다.The inventors also note that in the pressure sensitive adhesive composition, an antioxidant is used and / or the glass transition temperature and / or the weight average molecular weight of the pressure sensitive adhesive polymer is specified such that it satisfactorily enhances its function as a pressure sensitive adhesive, and / or In view of the compatibility of the ultraviolet absorber and / or the hindered amine light stabilizer and / or their cost, when the reactive and additive ultraviolet absorber and / or the hindered amine light stabilizer are used in combination, the effect of the present invention is more marked. It was found that it can be obtained. The above findings have now completed the present invention.

따라서, 본 발명은 감압 접착제 중합체 (A), 근적외선 흡수 염료 (B), 및 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 를 포함하는 감압 접착제 조성물을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a pressure sensitive adhesive composition comprising a pressure sensitive adhesive polymer (A), a near infrared absorbing dye (B), and an ultraviolet absorbent (C) and / or a hindered amine light stabilizer (D).

본 발명은 또한 상기 언급된 감압 접착제 조성물을 포함하는 플라즈마 디스플레이에 사용하기 위한 광학 필터, 또는 상기 조성물을 포함하는 플라즈마 디스플레이에 관한 것이다.The invention also relates to an optical filter for use in a plasma display comprising the above-mentioned pressure sensitive adhesive composition, or to a plasma display comprising said composition.

하기에서, 본 발명을 상세히 설명한다.In the following, the present invention is described in detail.

본 발명의 감압 접착제 조성물은 필수 구성분으로서, 감압 접착제 중합체 (A) 및 근적외선 흡수 염료 (B) 와 함께 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 를 포함한다. 바람직한 구현예에 있어서, 자외선 흡수제 (C) 및 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 는 병용된다. 이런 경우, 근적외선 흡수 염료 (B) 상의 자외선 분해 저해 효과가 현저히 개선된다. 각각의 상기 필수 구성분은 1 개의 단일종 또는 2 이상의 종을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 조성물은 또한 항산화제 (E) 를 포함하며, 따라서 자외선 흡수제 (C), 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 및 항산화제 (E) 의 병용이 바람직하다. 이로써, 본 발명의 효과가 보다 만족스럽게 얻어질 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention contains, as an essential component, a ultraviolet absorbent (C) and / or a hindered amine light stabilizer (D) together with the pressure-sensitive adhesive polymer (A) and the near infrared absorbing dye (B). In a preferred embodiment, the ultraviolet absorber (C) and the hindered amine light stabilizer (D) are used in combination. In this case, the effect of inhibiting ultraviolet decomposition on the near infrared absorbing dye (B) is remarkably improved. Each of these essential ingredients may comprise one single species or two or more species. Preferably, the composition also comprises an antioxidant (E), and therefore a combination of an ultraviolet absorber (C), a hindered amine light stabilizer (D) and an antioxidant (E) is preferred. Thereby, the effect of this invention can be acquired more satisfactorily.

본 발명의 실시에 있어서, 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 는 첨가형 및/또는 반응형일 수 있다. 그러나, 반응형이 바람직하다. 반응형 자외선 흡수제 (C) 의 사용이 보다 바람직하다. 반응형 자외선 흡수제 (C) 및/또는 반응형 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 가 사용되는 경우, 바람직한 구현 방식은 반응형 자외선 흡수제 (C) 및/또는 반응형 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 가 감압 접착제 중합체 (A) 중 반응형 자외선 흡수제 (C) 및/또는 반응형 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 의 혼입을 위해 감압 접착제 중합체 (A) 의 생산 공정에 사용되는 것, 즉 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 와의 반응으로 생성되는 형태 중의 감압 접착제 중합체 (A) 의 구현이다. 또한 상기 경우에 있어서, 생성 조성물은 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 를 포함한다. 첨가형 자외선 흡수제 (C) 및/또는 첨가형 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 가 단독 사용되는 경우, 감압 접착제 중합체 (A) 와의 상용성이 불량할 수 있고, 상기물이 높은 첨가 수준으로 사용되는 경우, 코팅 필름 또는 감압 접착제층에 결정화 (침착) 가 일어나서 일부 경우 투과성이 수득되지 않을 수 있다. 또한 코팅 필름 또는 감압 접착제층에서 외관의 반점화 또는 혼탁화 가능성이 존재 한다.In the practice of the present invention, the ultraviolet absorber (C) and / or the hindered amine light stabilizer (D) may be additive and / or reactive. However, the reaction type is preferred. The use of the reactive ultraviolet absorber (C) is more preferred. When reactive ultraviolet absorbers (C) and / or reactive hindered amine light stabilizers (D) are used, preferred embodiments are reactive ultraviolet absorbers (C) and / or reactive hindered amine light stabilizers (D). ) Is used in the production process of the pressure sensitive adhesive polymer (A) for incorporation of the reactive ultraviolet absorber (C) and / or the reactive hindered amine light stabilizer (D) in the pressure sensitive adhesive polymer (A), ie ultraviolet An embodiment of the pressure sensitive adhesive polymer (A) in the form produced by reaction with an absorbent (C) and / or a hindered amine light stabilizer (D). Also in this case, the resulting composition comprises a ultraviolet absorber (C) and / or a hindered amine light stabilizer (D). When the additive ultraviolet absorber (C) and / or the additive hindered amine light stabilizer (D) are used alone, the compatibility with the pressure-sensitive adhesive polymer (A) may be poor, and when the water is used at a high addition level Crystallization (deposition) may occur in the coating film or the pressure-sensitive adhesive layer, so that in some cases permeability may not be obtained. There is also the possibility of speckling or clouding of the appearance in the coating film or pressure sensitive adhesive layer.

또한, 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 와의 반응으로 생성되는 감압 접착제 중합체 (A) 는 바람직하게는 첨가형 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 와 병용된다. 상기 경우에 있어서, 감압 접착제 중합체 (A) 및 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 간의 상용성이 개선될 수 있고, 또한 병용은 반응형 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 의 단독 사용의 경우에서와 비교하여 비용 관점에서도 유리하다.In addition, the pressure-sensitive adhesive polymer (A) produced by reaction with the ultraviolet absorber (C) and / or the hindered amine light stabilizer (D) is preferably an additive ultraviolet absorber (C) and / or a hindered amine light stabilizer ( It is used together with D). In this case, the compatibility between the pressure sensitive adhesive polymer (A) and the ultraviolet absorbent (C) and / or the hindered amine light stabilizer (D) can be improved, and the combination is also reactive UV absorber (C) and / Or it is advantageous in terms of cost as compared with the case of the use of the hindered amine light stabilizer (D) alone.

본 발명의 실시에 사용될 감압 접착제 중합체 (A) 는 압력 적용 시 접착물에 접착성 또는 점착성을 나타내는 임의의 중합체일 수 있고, 예를 들어 히드록실기-함유 응집성 중합체가 바람직하다. 개질 중합체, 예컨대 불소-함유 중합체, (메트)아크릴계 중합체, 폴리에스테르 중합체, 폴리에테르 중합체, 알키드 중합체, 실리콘 중합체 및 폴리에스테르-개질 아크릴계 중합체, 및 에틸렌계 불포화 결합을 갖는 단량체(들)을 중합하여 수득되는 중합체가 상기 중합체로 사용하기에 적합하다. 고무 중합체, 예컨대 천연 고무, 스티렌-이소프렌-스티렌 (SIS) 블록 공중합체, 스티렌-부타디엔-스티렌 (SBS) 블록 공중합체 및 합성 고무도 또한 사용가능하다. 이들 중에서, 이들의 내후성 및 이들의 용이하게 조절가능한 점착성의 견지에서 (메트)아크릴계 중합체가 바람직하다. 아크릴계 중합체가 보다 바람직하다.The pressure sensitive adhesive polymer (A) to be used in the practice of the present invention may be any polymer that exhibits adhesion or tackiness to the adhesive upon pressure application, for example hydroxyl group-containing cohesive polymers are preferred. Modified polymers such as fluorine-containing polymers, (meth) acrylic polymers, polyester polymers, polyether polymers, alkyd polymers, silicone polymers and polyester-modified acrylic polymers, and monomer (s) having ethylenically unsaturated bonds The polymer obtained is suitable for use as the polymer. Rubber polymers such as natural rubber, styrene-isoprene-styrene (SIS) block copolymers, styrene-butadiene-styrene (SBS) block copolymers and synthetic rubbers can also be used. Among them, (meth) acrylic polymers are preferred in view of their weather resistance and their easily adjustable tackiness. Acrylic polymers are more preferred.

감압 접착제 중합체 (A) 는 1 개 또는 2 개 이상의 단량체를 포함하는 단량 체 성분을 중합하여 수득될 수 있다. 단량체 성분에 포함될 단량체종 및 이들의 비율은 감압 접착제 중합체 (A) 에 요구되는 물리적 특성에 따라 적절히 선택될 수 있으며, 예를 들어 (메트)아크릴계 중합체의 경우, 주성분으로서 측쇄 상 탄소수 4 내지 12 인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트 에스테르를 포함하는 것들이 바람직하다. The pressure sensitive adhesive polymer (A) can be obtained by polymerizing a monomer component comprising one or two or more monomers. The monomer species to be included in the monomer component and the ratio thereof may be appropriately selected according to the physical properties required for the pressure-sensitive adhesive polymer (A), for example, in the case of the (meth) acrylic polymer, having 4 to 12 carbon atoms on the side chain as the main component. Preference is given to those comprising a (meth) acrylate ester having an alkyl group.

측쇄 상 탄소수 4 내지 12 인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트로서, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, n-부틸 (메트)아크릴레이트, 이소부틸 (메트)아크릴레이트, t-부틸 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 헵틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 이소옥틸 (메트)아크릴레이트, 노닐 (메트)아크릴레이트, 이소노닐 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트, 아밀 (메트)아크릴레이트, n-라우릴 (메트)아크릴레이트, 벤질 (메트)아크릴레이트, 이소보르닐 (메트)아크릴레이트 등이 언급될 수 있다.As the (meth) acrylate having an alkyl group having 4 to 12 carbon atoms on the side chain, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth ) Acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, n-lauryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate , Isobornyl (meth) acrylate and the like can be mentioned.

상기 언급된 단량체 성분은 또한 수득되는 감압 접착제 중합체 (A) 의 Tg 및/또는 극성을 조정하기 위해 상기 언급된 (메트)아크릴레이트(들) 이외의 단량체 (기타 단량체) 를 포함할 수 있다. 기타 단량체로서 하기 단량체가 바람직하다: The monomer component mentioned above may also comprise monomers (other monomers) other than the above-mentioned (meth) acrylate (s) for adjusting the Tg and / or polarity of the pressure-sensitive adhesive polymer (A) obtained. As other monomers, the following monomers are preferred:

비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트 및 비닐 부티레이트; 불소 원자-함유 불포화 단량체, 예컨대 트리플루오로에틸 (메트)아크릴레이트 및 테트라플루오로프로필 (메트)아크릴레이트; 비닐 에테르, 예컨대 비닐 메틸 에테르 및 비닐 에 틸 에테르; 규소 원자-함유 불포화 단량체, 예컨대 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란; 에폭시기-함유 불포화 단량체, 예컨대 글리시딜 (메트)아크릴레이트 및 α-메틸글리시딜 (메트)아크릴레이트; 다관능성 불포화 단량체, 예컨대 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트 및 폴리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트.Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl butyrate; Fluorine atom-containing unsaturated monomers such as trifluoroethyl (meth) acrylate and tetrafluoropropyl (meth) acrylate; Vinyl ethers such as vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether; Silicon atom-containing unsaturated monomers such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane; Epoxy group-containing unsaturated monomers such as glycidyl (meth) acrylate and α-methylglycidyl (meth) acrylate; Polyfunctional unsaturated monomers such as ethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate and polypropylene glycol diacrylate.

방향족 불포화 단량체, 예컨대 스티렌, α-메틸스티렌 및 비닐톨루엔; 탄화수소 불포화 단량체, 예컨대 부타디엔 및 이소프렌; 할로겐 원자-함유 불포화 단량체, 예컨대 클로로프렌 및 비닐 클로라이드; 질소 원자-함유 불포화 단량체, 예컨대 N,N'-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴아미드, N-이소프로필아크릴아미드, N-부톡시메틸아크릴아미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-비닐피리딘, N-비닐이미다졸, N-비닐피롤리돈, N-디메틸아크릴아미드 및 이소프로페닐옥사졸린; 불포화 시아노 화합물, 예컨대 (메트)아크릴로니트릴.Aromatic unsaturated monomers such as styrene, α-methylstyrene and vinyltoluene; Hydrocarbon unsaturated monomers such as butadiene and isoprene; Halogen atom-containing unsaturated monomers such as chloroprene and vinyl chloride; Nitrogen atom-containing unsaturated monomers such as N, N'-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-isopropylacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, N-phenylmaleimide, N Cyclohexylmaleimide, N-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylpyrrolidone, N-dimethylacrylamide and isopropenyloxazoline; Unsaturated cyano compounds such as (meth) acrylonitrile.

상기 언급된 단량체 성분에 있어서, 관능기, 예컨대 히드록실 또는 카르복실기를 갖는 단량체도 또한 가교점으로서 (가교성 단량체) 또는 Tg 및/또는 극성의 조정을 위해 사용될 수 있다. 하기가 상기 단량체로서 사용하기에 적합하다: In the monomer component mentioned above, monomers having functional groups such as hydroxyl or carboxyl groups can also be used as crosslinking points (crosslinkable monomers) or for the adjustment of Tg and / or polarity. The following are suitable for use as said monomers:

히드록실기-함유 단량체, 예컨대 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 카프로락톤-개질 히드록시 (메트)아크릴레이트, 메틸 α-(히드록시메틸)아크릴레이트, 에틸 α-(히드록시메틸)아크릴레이트, 및 프탈산- 및 프로필렌 글리콜-유도 폴리에스테르 디올의 모노 (메트)아크릴레이트; 산성 관능기-함유 불포화 단량체, 예컨대 (메 트)아크릴산, 말레산, 말레산 무수물, 이타콘산, 및 카르복실-말단 카프로락톤-개질 (메트)아크릴레이트.Hydroxyl group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, caprolactone-modified hydroxy (meth) acrylate Mono (meth) acrylates of methyl α- (hydroxymethyl) acrylate, ethyl α- (hydroxymethyl) acrylate, and phthalic acid- and propylene glycol-derived polyester diols; Acidic functional group-containing unsaturated monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, and carboxyl-terminated caprolactone-modified (meth) acrylates.

반응형 자외선 흡수제 (C) 및/또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 가 감압 접착제 중합체 (A) 의 형성을 위한 단량체로서 사용되는 경우, 하기 단량체가 사용에 적합하다: When reactive UV absorbers (C) and / or hindered amine light stabilizers (D) are used as monomers for the formation of the pressure sensitive adhesive polymer (A), the following monomers are suitable for use:

반응성 벤조트리아졸형 자외선 흡수 단량체 (예를 들어, 일본 공개 공보 평-08-151415 에 개시됨), 예컨대 2-[2'-히드록시-5'-(메트)아크릴로일옥시에틸페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메트)아크릴로일옥시프로필페닐]-2H-벤조트리아졸 및 시판 제품 RUVA-93 (상표명, Otsuka Chemical Co., Ltd. 제품); 반응성 벤조페논형 자외선 흡수 단량체, 예컨대 2-히드록시-4-메타크릴옥시벤조페논 및 2-히드록시-4-(2-히드록시-3-메타크릴로일옥시)프로폭시벤조페논; 반응성 트리아진형 자외선 흡수 단량체; 4-(메트)아크릴로일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-(메트)아크릴로일옥시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘, 시판 제품 Adekastab LA-82 및 LA-87 (둘 다 상표명, Asahi Denka Kogyo 제품), 시판 제품 FA-711MM 및 FA-712HM (둘 다 상표명, Hitachi Chemical Co., Ltd. 제품), 등 반응형 자외선 안정화 단량체 (예를 들어, 일본 공개 공보 평-O1-26l409 에 개시됨). Reactive benzotriazole type ultraviolet absorbing monomer (for example, disclosed in Japanese Laid-Open Publication No. Hei-08-151415), such as 2- [2'-hydroxy-5 '-(meth) acryloyloxyethylphenyl] -2H -Benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(meth) acryloyloxypropylphenyl] -2H-benzotriazole and commercially available product RUVA-93 (trade name, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) ); Reactive benzophenone type ultraviolet absorbing monomers such as 2-hydroxy-4-methacryloxybenzophenone and 2-hydroxy-4- (2-hydroxy-3-methacryloyloxy) propoxybenzophenone; Reactive triazine type ultraviolet absorbing monomer; 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, Commercially available Adekastab LA-82 and LA-87 (both trade names, manufactured by Asahi Denka Kogyo), commercially available FA-711MM and FA-712HM (both trade names, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), etc. Monomers (for example, disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. O1-26l409).

상기 언급된 단량체 조성물을 중합하기 위한 중합 방법으로서, 선행 기술에 공지된 중합 방법, 예를 들어 용액 중합, 에멀젼 중합, 현탁액 중합 및 벌크 중합 방법을 사용할 수 있다. 제조 절차의 단순성 및 용이성의 견지에서, 용액 중합 방법이 바람직하게 사용된다. 용액 중합 방법이 사용되는 경우 사용가능한 용 매는 감압 접착제 중합체 (A) 에 대해 실질적으로 불활성인 것들 중에서 적절히 선택될 수 있으며, 감압 접착제 중합체 (A) 를 용해시키거나 분산시킬 수 있다. 따라서, 유기 용매, 예를 들어 방향족 탄화수소 용매, 예컨대 톨루엔 및 자일렌; 에스테르 용매, 예컨대 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트; 케톤 용매, 예컨대 아세톤, 메틸 에틸 케톤 및 메틸 아밀 케톤; 알콜 용매, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-프로필 알콜 및 이소프로필 알콜; 알킬렌 글리콜 모노알킬 에테르 용매, 예컨대 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 (메틸 셀로솔브), 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 (에틸 셀로솔브), 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르 (부틸 셀로솔브) 및 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르; 및 기타 용매, 예컨대 테트라히드로푸란, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디옥산 및 클로로포름; 및 물이 사용하기에 적합하다. 이들은 단독으로 사용되거나, 이들 중 2 개 이상이 병용될 수 있다. 감압 접착제 조성물이 본원에서 후기에 언급될 폴리이소시아네이트 화합물을 포함하는 경우, 이소시아나토기에 대해 활성을 보이는 용매, 예컨대 알콜 용매, 알킬렌 글리콜 모노알킬 에테르 용매 및 물은 대부분의 경우 바람직하지 못하다.As the polymerization method for polymerizing the above-mentioned monomer composition, polymerization methods known in the art, for example, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and bulk polymerization methods can be used. In view of the simplicity and ease of the preparation procedure, a solution polymerization method is preferably used. The solvent usable when the solution polymerization method is used can be appropriately selected from those which are substantially inert to the pressure sensitive adhesive polymer (A), and can dissolve or disperse the pressure sensitive adhesive polymer (A). Thus, organic solvents such as aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl amyl ketone; Alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol and isopropyl alcohol; Alkylene glycol monoalkyl ether solvents such as ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (ethyl cellosolve), ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve) and propylene glycol monomethyl ether; And other solvents such as tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, dimethylacetamide, dioxane and chloroform; And water are suitable for use. These may be used alone or two or more of them may be used in combination. When the pressure sensitive adhesive composition comprises a polyisocyanate compound to be mentioned later herein, solvents that show activity against isocyanato groups such as alcohol solvents, alkylene glycol monoalkyl ether solvents and water are in most cases undesirable.

상기 언급된 용매는 바람직하게는 감압 접착제 조성물에 대해 95 질량% 를 초과하지 않는 용매비로 사용된다. 보다 바람직하게는, 상기 비율은 10 질량% 이상이다. 더욱 바람직하게는, 15 질량% 이상 90 질량% 이하이다.The solvents mentioned above are preferably used in a solvent ratio which does not exceed 95 mass% with respect to the pressure-sensitive adhesive composition. More preferably, the said ratio is 10 mass% or more. More preferably, they are 15 mass% or more and 90 mass% or less.

상기 언급된 단량체 조성물의 중합에 있어서, 중합 개시제가 사용될 수 있다. 사용될 중합 개시제는 다른 것들 중에서, 아조형 개시제, 예컨대 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴; 및 퍼옥시드형 개 시제, 예컨대 t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 벤조일 퍼옥시드, 디-t-부틸 퍼옥시드 및 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산을 포함하는 임의의 종래 라디칼 중합 개시제일 수 있다. 중합 개시제의 첨가 수준은 바람직하게는 단량체 성분의 총 질량 (100 질량%) 에 비해 0.05 내지 20 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 15 질량% 이다.In the polymerization of the above-mentioned monomer composition, a polymerization initiator may be used. Polymerization initiators to be used include, among others, azo initiators such as 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile) and 2,2'-azobisisobutyronitrile; And peroxide type initiators such as t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide and 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3, It can be any conventional radical polymerization initiator, including 5-trimethylcyclohexane. The addition level of the polymerization initiator is preferably 0.05 to 20 mass%, more preferably 0.1 to 15 mass% relative to the total mass (100 mass%) of the monomer components.

상기 언급된 단량체 조성물의 중합에 있어서, 필요하다면 분자량 조정을 위해, 사슬 전달제 또는 중합 조절제가 사용될 수 있다. 예를 들어, 알킬메르캅탄, 예컨대 n-부틸메르캅탄, n-헥실메르캅탄 및 도데실메르캅탄; 기타 메르캅탄, 예컨대 티오글리콜산, 메르캅토프로피온산, 티오글리세롤, 2-메르캅토에탄올; α-메틸스티렌 이량체, 디술피드, 이소프로필 알콜, 디옥산, 사염화탄소, 클로로포름 등이 언급될 수 있다. 상기물은 단독으로 사용되거나, 이들 중 2 개 이상이 병용될 수 있다. 상기물의 첨가 수준은 단량체 성분의 총 질량 (100 질량%) 에 비해 바람직하게는 0.01 내지 10 질량% 이다.In the polymerization of the above-mentioned monomer composition, a chain transfer agent or a polymerization regulator may be used for molecular weight adjustment if necessary. Alkyl mercaptans such as n-butyl mercaptan, n-hexyl mercaptan and dodecyl mercaptan; Other mercaptans such as thioglycolic acid, mercaptopropionic acid, thioglycerol, 2-mercaptoethanol; α-methylstyrene dimer, disulfide, isopropyl alcohol, dioxane, carbon tetrachloride, chloroform and the like can be mentioned. The water may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. The addition level of the product is preferably 0.01 to 10 mass% relative to the total mass (100 mass%) of the monomer components.

상기 언급된 단량체 성분의 중합에 있어서의 반응 온도는 바람직하게는 실온 내지 200℃, 보다 바람직하게는 40 내지 140℃ 이다. 반응 시간은 중합 반응이 완결될 수 있도록, 다른 것들 중에서 반응 온도, 단량체 조성 및 중합 개시제종에 따라 적절하게 선택될 수 있다.The reaction temperature in the polymerization of the aforementioned monomer component is preferably from room temperature to 200 ° C, more preferably from 40 to 140 ° C. The reaction time may be appropriately selected depending on the reaction temperature, the monomer composition and the polymerization initiator species, among others, so that the polymerization reaction can be completed.

본 발명의 실시에 사용될 감압 접착제 중합체 (A) 는 바람직하게는 -80 내지 -20℃ 의 유리 전이 온도를 가지므로, 다른 것들 중에서 중합체-형성 단량체 성분은 중합체의 유리 전이 온도가 상기 범위 내에 속하도록 바람직하게 선택된다. 유리 전이 온도가 -80℃ 미만인 경우, 고온 응집 강도가 저하되는 경향이 있으며, -20℃ 를 초과하는 경우, 상온에서 감압 접착성이 발현되지 않을 수 있다. 두 경우 모두, 우수한 점착성을 달성하는데 실패할 가능성이 존재한다. 유리 전이 온도 Tg 는 [POLYMER HANDBOOK, 3 판 (John Wiley & Sons, Inc. 출판)] 에 기재된 바와 같은 다양한 동종중합체의 유리 전이 온도 Tg (K) 에 대한 데이타에 근거하여, 하기 주어진 식에 따라 용이하게 계산될 수 있다. 또한 DSC (시차 주사 열량계) 또는 DTA (시차 열 분석계) 를 이용하여 결정될 수 있다. The pressure-sensitive adhesive polymer (A) to be used in the practice of the present invention preferably has a glass transition temperature of -80 to -20 ° C so that, among other things, the polymer-forming monomer component is such that the glass transition temperature of the polymer falls within the above range. Preferably selected. When the glass transition temperature is lower than -80 ° C, the high temperature cohesive strength tends to be lowered, and when the glass transition temperature is higher than -20 ° C, pressure-sensitive adhesiveness may not be expressed at room temperature. In both cases, there is a possibility of failing to achieve good tack. The glass transition temperature Tg is easy according to the formula given below, based on the data for the glass transition temperature Tg (K) of various homopolymers as described in [POLYMER HANDBOOK, 3rd edition (published by John Wiley & Sons, Inc.)]. Can be calculated. It can also be determined using DSC (differential scanning calorimeter) or DTA (differential thermal analyzer).

1/Tg (K) = w1/Tg1 + w2/Tg2 + ... + wn/Tgn 1 / Tg (K) = w 1 / Tg 1 + w 2 / Tg 2 + ... + w n / Tg n

식 중에서, wn 은 각 단량체의 질량분이며, Tgn 은 상기 단량체의 동종중합체의 Tg (K) 이다. 상기 Tg 에 대하여, [POLYMER HANDBOOK (3 판, J. Brandrup 및 E. H. Immergut, WILEY INTERSCIENCE)] 에 주어진 값 또는 일반적으로 공개된 문헌에 주어진 값이 사용될 수 있다.In the formula, w n is the mass fraction of each monomer, and Tg n is Tg (K) of the homopolymer of the monomer. For the above Tg, the value given in [POLYMER HANDBOOK (3rd edition, J. Brandrup and EH Immergut, WILEY INTERSCIENCE)] or a value given in the general published literature can be used.

상기 언급된 감압 접착제 중합체 (A) 는 바람직하게는 250,000 이상 2,000,000 이하의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 갖는다. Mw 가 250,000 미만인 경우, 가교가 수행되는 경우에도 보유력 (응집 강도) 을 개선시키기 어려워지며, 또한 제거성이 저하되어, 서로에 대한 다양한 물리적 특성의 균형을 맞추기가 어려워질 수 있다. 2,000,000 을 초과하는 경우, 중합 안정성이 악화될 가능성이 있다. 보다 바람직하게는, 400,000 이상 1,500,000 이하이다. 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피 (GPC) 로 측정되는 폴리스티렌-동등값이다. The above-mentioned pressure sensitive adhesive polymer (A) preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 250,000 or more and 2,000,000 or less. When Mw is less than 250,000, it is difficult to improve the retention force (cohesive strength) even when crosslinking is performed, and also the removability is lowered, making it difficult to balance various physical properties with each other. When it exceeds 2,000,000, polymerization stability may deteriorate. More preferably, they are 400,000 or more and 1,500,000 or less. The weight average molecular weight is a polystyrene-equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC).                     

상기 언급된 감압 접착제 중합체 (A) 는 바람직하게는 특정 범위 내에 속하는 산값 또는 히드록실값을 갖는다. 감압 접착제 중합체 (A) 의 고체물 산값은 바람직하게는 30 mg KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 15 mg KOH/g 이하, 더욱 바람직하게는 8 mg KOH/g 이하이다. 산값이 과도하게 높은 경우, 근적외선 흡수 염료가 열화되거나, 중합체가 반응형 자외선 흡수제 (C) 또는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 와 반응하여 그 점착성이 소실될 수 있다. 감압 접착제 중합체 (A) 의 히드록실값은 바람직하게는 10 mg KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 5 mg KOH/g 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 mg KOH/g 이하이다. 더 높은 히드록실값은 근적외선 흡수 염료의 열화를 야기할 수 있다.The above-mentioned pressure sensitive adhesive polymer (A) preferably has an acid value or hydroxyl value which falls within a specific range. The solid acid value of the pressure-sensitive adhesive polymer (A) is preferably 30 mg KOH / g or less, more preferably 15 mg KOH / g or less, still more preferably 8 mg KOH / g or less. When the acid value is excessively high, the near-infrared absorbing dye may deteriorate or the polymer may react with the reactive ultraviolet absorber (C) or the hindered amine light stabilizer (D) to lose its tackiness. The hydroxyl value of the pressure-sensitive adhesive polymer (A) is preferably 10 mg KOH / g or less, more preferably 5 mg KOH / g or less, still more preferably 2.5 mg KOH / g or less. Higher hydroxyl values can cause degradation of the near infrared absorbing dye.

히드록실값은 표본 1 g 의 아세틸화 시 히드록실기에 결합된 아세트산의 중화에 필요한 수산화칼륨의 밀리그램수이다. 이는 JIS-K-0070 에 기재된 방법에 의해 결정되거나, 충전 조성물을 기준으로 하는 계산에 의한 이론적 값으로서 계산될 수 있다. 산값은 표본 1 g 에 포함된 산의 중화에 필요한 수산화칼륨의 밀리그램수이며, JIS K 0070 에 기재된 방법에 의해 결정되거나, 충전 조성물을 기준으로 하는 계산에 의해 계산될 수 있다.The hydroxyl value is the number of milligrams of potassium hydroxide required for the neutralization of acetic acid bound to the hydroxyl group upon acetylation of a sample of 1 g. It can be determined by the method described in JIS-K-0070 or as a theoretical value by calculation based on the filling composition. The acid value is the number of milligrams of potassium hydroxide required for neutralization of the acid contained in 1 g of the sample, and can be determined by the method described in JIS K 0070 or by calculation based on the filling composition.

상기 언급된 감압 접착제 중합체 (A) 는 감압 접착제 조성물 100 질량% 에 대해, 바람직하게는 3 질량% 이상 99.9 질량% 이하의 양으로 사용된다. 그 양이 3 질량% 미만인 경우, 문제가 발생할 수 있어서, 예를 들어 충분한 점착성이 수득되지 않을 수 있고, 적용성이 불량해질 것이다. 99.9% 를 초과하는 수준에서, 또한 문제가 발생할 수 있어서, 예를 들어 적용성이 불량해질 것이며, 점도가 높아질 것이고, 불량한 취급성 (handleability) 이 얻어질 것이고, 염료가 거의 혼화되지 않을 것이며, 만족스럽지 못한 포트 (pot) 주기가 수득되지 못할 것이다. 보다 바람직하게는 10 질량% 이상 90 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상 85 질량% 이하이다.The above-mentioned pressure-sensitive adhesive polymer (A) is used in an amount of preferably 3 mass% or more and 99.9 mass% or less with respect to 100 mass% of the pressure-sensitive adhesive composition. If the amount is less than 3% by mass, problems may arise, for example, sufficient adhesion may not be obtained, and the applicability will be poor. At levels above 99.9%, problems may also arise, for example, poor applicability, high viscosity, poor handleability will be obtained, dyes will not be miscible and satisfactory. Unpleasant pot cycles will not be obtained. More preferably, they are 10 mass% or more and 90 mass% or less, More preferably, they are 20 mass% or more and 85 mass% or less.

본 발명의 실시에 있어서, 780 ~ 1200 nm 범위 이내의 최대 흡수 파장을 갖는 염료가 근적외선 흡수 염료 (B) 로서 사용하기에 적합하다. 근적외선 흡수 특징이 상이한 2 개 이상의 상기 염료가 병용될 수 있다. 상기 경우에 있어서, 근적외선 흡수 효과가 개선될 수 있다. 본원에서 사용되는 "근적외선 흡수 특징" 이라는 용어는 "열선 흡수 특징" 에서와 동일한 의미를 갖는다.In the practice of the present invention, dyes having a maximum absorption wavelength within the range of 780 to 1200 nm are suitable for use as the near infrared absorbing dye (B). Two or more such dyes having different near infrared absorption characteristics may be used in combination. In this case, the near infrared absorption effect can be improved. As used herein, the term "near infrared absorption feature" has the same meaning as in "heat radiation absorption feature".

본 발명의 실시에 있어서, 유기 용매에 용해될 수 있는, 즉 유기 용매-가용성인 근적외선 흡수 용매가 근적외선 흡수 염료로서 바람직하게 사용된다. 염료가 유기 용매에 가용성인 경우, 감압 접착제 중합체 (A) 에 용이하게 용해될 수 있어서, 코팅제 제조가 촉진된다. 반대로, 염료의 용해도가 불량한 경우, 염료 및 감압 접착제 중합체 (A) 를 혼합하기 어려워져서, 코팅제 제조가 또한 어려워진다. 유기 용매 중에서의 용해도에 있어서, 유기 용매 100 질량% 중에 0.01 질량% 이상의 용해도를 갖는 근적외선 흡수 염료를 사용하는 것이 적합하다. 유기 용매 중에서의 용해도에 관해 상기 언급되는 유기 용매는 구체적으로 제한되지는 않지만, 하기물 중 하나이거나 2 개 이상의 조합일 수 있다: 방향족 용매, 예컨대 톨루엔 및 자일렌; 알콜 용매, 예컨대 이소-프로필 알콜, n-부틸 알콜, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 및 디프로필렌 글리콜 메틸 에테르; 에스테르 용매, 예컨대 부틸 아세테이트, 에틸 아세테이트 및 셀로솔브 아세테이트; 케톤 용매, 예컨대 아세톤, 메틸 에틸 케톤 및 메틸 이소부틸 케톤; 디메틸포름아미드 등.In the practice of the present invention, a near infrared absorbing solvent that can be dissolved in an organic solvent, that is, an organic solvent-soluble, is preferably used as the near infrared absorbing dye. When the dye is soluble in the organic solvent, it can be easily dissolved in the pressure-sensitive adhesive polymer (A), thereby facilitating coating production. In contrast, when the solubility of the dye is poor, it becomes difficult to mix the dye and the pressure-sensitive adhesive polymer (A), which makes the coating production also difficult. In solubility in an organic solvent, it is suitable to use a near-infrared absorbing dye having a solubility of 0.01% by mass or more in 100% by mass of the organic solvent. The organic solvents mentioned above with respect to solubility in organic solvents are not particularly limited but may be one of the following or a combination of two or more: aromatic solvents such as toluene and xylene; Alcohol solvents such as iso-propyl alcohol, n-butyl alcohol, propylene glycol methyl ether and dipropylene glycol methyl ether; Ester solvents such as butyl acetate, ethyl acetate and cellosolve acetate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Dimethylformamide and the like.

상기 언급된 근적외선 흡수 염료로서, 다른 것들 중에서 프탈로시아닌-기재 염료, 나프탈로시아닌-기재 염료, 안트라퀴논-기재 염료, 나프토퀴논-기재 염료, 시아닌-기재 염료, 알루미늄-기재 염료, 임모늄-기재 염료, 폴리메틴-기재 염료, 방향족 디티올-기재 염료, 및 방향족 디올-기재 염료가 언급될 수 있다. 구체적 시판 제품으로서, Nippon Shokubai 의 "EX 칼라" 시리즈, US Epolin 의 "Epolight" 시리즈, 및 Nippon Kayaku 의 "KAYASORB" 시리즈가 언급될 수 있다. 이들 중에서, 프탈로시아닌 염료가 이들의 뛰어난 근적외선 흡수능 및 유기 용매 용해도로 인해 바람직하게 사용된다.As the above-mentioned near-infrared absorbing dyes, among others, phthalocyanine-based dyes, naphthalocyanine-based dyes, anthraquinone-based dyes, naphthoquinone-based dyes, cyanine-based dyes, aluminum-based dyes, immonium-based dyes , Polymethine-based dyes, aromatic dithiol-based dyes, and aromatic diol-based dyes may be mentioned. As specific commercial products, mention may be made of the "EX color" series of Nippon Shokubai, the "Epolight" series of US Epolin, and the "KAYASORB" series of Nippon Kayaku. Among them, phthalocyanine dyes are preferably used because of their excellent near infrared absorption capacity and organic solvent solubility.

본원에서 프탈로시아닌-기재로 언급되는 것은 프탈로시아닌, 프탈로시아닌 착물, 및 프탈로시아닌 골격 벤젠 고리 상에 OR, SR, NHR 및 NRR' 중에서 선택되는 하나 이상의 치환기를 갖는 프탈로시아닌 또는 프탈로시아닌 착물의 유도체를 의미한다. R 및 R' 은 동일하거나 상이하며, 각각 임의로 치환기를 가질 수 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 20 의 알킬기 또는 탄소수 7 내지 20 의 아르알킬기를 나타낸다. 치환기 중 하나가 NHR 로 치환된 프탈로시아닌이 바람직하다.Referenced herein to phthalocyanine-based means phthalocyanine, phthalocyanine complex, and derivatives of phthalocyanine or phthalocyanine complex having one or more substituents selected from OR, SR, NHR and NRR 'on the phthalocyanine backbone benzene ring. R and R 'are the same or different and each represents a phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, which may optionally have a substituent. Preference is given to phthalocyanines in which one of the substituents is substituted with NHR.

하기 화학식 1 로 나타내는 화합물이 본 발명의 실시에 사용될 근적외선 흡수 염료로서 바람직하다: Compounds represented by the following general formula (1) are preferred as the near infrared absorbing dye to be used in the practice of the present invention:                     

Figure 112003046425109-pat00001
Figure 112003046425109-pat00001

(식 중, 다수의 α는 동일하거나 상이하며, 각각 SR1, OR2, NHR3 또는 할로겐 원자를 나탄내지만, 이들 중 하나 이상은 NHR3 인 것이 필수적이며; R1, R2 및 R3 은 동일하거나 상이하고, 각각 임의로 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 20 의 알킬기 또는 탄소수 7 내지 20 의 아르알킬기를 나타내고; 다수의 β는 동일하거나 상이하며, 각각 SR1, OR2 또는 할로겐 원자를 나타내지만, 이들 중 하나 이상은 SR1 또는 OR2 인 것이 필수적이고; 다수의 α및 β중 하나 이상은 할로겐 원자 또는 OR2 인 것이 필수적이고; M 은 비금속, 금속, 금속 산화물 또는 금속 할로겐화물을 나타낸다.) 이들은 본 발명의 효과가 완전한 범위로 나타나도록 한다. Wherein a plurality of α are the same or different and each represents SR 1 , OR 2 , NHR 3 or halogen atom, but at least one of them is necessarily NHR 3 ; R 1 , R 2 and R 3 Represents the same or different and each may optionally have one or more substituents, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms; a plurality of βs are the same or different and each represents SR 1 , OR 2 or Represents a halogen atom, but at least one of these is required to be SR 1 or OR 2 ; at least one of the plurality of α and β is required to be a halogen atom or OR 2 ; M is a nonmetal, metal, metal oxide or metal Halides.) These allow the effects of the present invention to be seen in full range.

상기 화학식 1 에 있어서, 탄소수 1 내지 20 의 알킬기에는 선형 또는 분지형 알킬기, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 1,2-디메틸프로필, n-헥실, 1,3-디메틸부틸, 1-이소프로필프로필, 1,2-디메틸부틸, n-헵틸, 1,4-디메틸펜틸, 2-메틸-1-이소프로필프로필, 1-에틸-3-메틸부틸, n-옥틸 및 2-에틸헥실; 고리형 알킬기, 예컨대 시클로헥실이 포함된다. 탄소수 7 내지 20 의 아르알킬기에는 벤질 및 페네틸이 포함된다. 할로겐 원자에는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자가 포함되며, 이들 중 불소 원자가 바람직하다.In Formula 1, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms includes linear or branched alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, and isopentyl. , Neopentyl, 1,2-dimethylpropyl, n-hexyl, 1,3-dimethylbutyl, 1-isopropylpropyl, 1,2-dimethylbutyl, n-heptyl, 1,4-dimethylpentyl, 2-methyl- 1-isopropylpropyl, 1-ethyl-3-methylbutyl, n-octyl and 2-ethylhexyl; Cyclic alkyl groups such as cyclohexyl. Aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms include benzyl and phenethyl. The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, of which a fluorine atom is preferable.

R1, R2 및 R3 에 있어서, 페닐기, 탄소수 1 내지 20 의 알킬기 또는 탄소수 7 내지 20 의 아르알킬기는 하나 이상의 치환기(들)을 가질 수 있다. 상기 치환기(들)로서, 예를 들어, 할로겐 원자, 아실기, 알킬기, 알콕시기, 할로알콕시기, 니트로기, 아미노기, 알킬아미노기, 알킬카르보닐아미노기, 아릴아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 카르보닐기, 및 알콕시카르보닐기가 언급될 수 있다.For R 1 , R 2 and R 3 , a phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms may have one or more substituent (s). As the substituent (s), for example, a halogen atom, acyl group, alkyl group, alkoxy group, haloalkoxy group, nitro group, amino group, alkylamino group, alkylcarbonylamino group, arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, and Alkoxycarbonyl groups may be mentioned.

상기 언급된 화학식 1 에서의 M 에 있어서, 비금속은 금속 이외의 원자, 예를 들어 2 개의 수소 원자가 있다는 것을 의미한다. 보다 구체적으로, 프탈로시아닌 구조의 중심부에서 생성되는, 각각 치환기를 가질 수 있는 2 개의 대치 질소 원자 각각에 수소 원자가 결합된 구조를 의미한다. 금속으로서, 예를 들어 철, 마그네슘, 니켈, 코발트, 구리, 팔라듐, 아연, 바나듐, 티탄, 인듐, 및 주석이 언급될 수 있다. 금속 산화물로서, 예를 들어 티타닐 및 바나딜이 언급될 수 있다. 금속 할로겐화물로서, 예를 들어 알루미늄 클로라이드, 인듐 클로라이드, 게르마늄 클로라이드, 주석 클로라이드, 및 규소 클로라이드가 언급될 수 있다. 금속, 금속 산화물, 또는 금속 할로겐화물이 M 으로서 바람직하다. 구체예로서, 니켈, 코발트, 구리, 아연, 철, 바나딜, 및 디클로로주석이 언급될 수 있다. 아연, 코발트, 바나딜, 및 디클로로주석이 보다 바람직하다.For M in the above-mentioned formula (1), the nonmetal means that there are atoms other than the metal, for example two hydrogen atoms. More specifically, it refers to a structure in which a hydrogen atom is bonded to each of two substituted nitrogen atoms, each of which may have a substituent, generated at the center of the phthalocyanine structure. As the metal, mention may be made, for example, of iron, magnesium, nickel, cobalt, copper, palladium, zinc, vanadium, titanium, indium, and tin. As the metal oxide, mention may be made, for example, titanyl and vanadil. As the metal halide, mention may be made, for example, of aluminum chloride, indium chloride, germanium chloride, tin chloride, and silicon chloride. Metals, metal oxides, or metal halides are preferred as M. As an embodiment, nickel, cobalt, copper, zinc, iron, vanadil, and dichlorotin may be mentioned. Zinc, cobalt, vanadil, and dichlorotin are more preferred.

화학식 1 로 나타내는 화합물의 바람직한 형태에 있어서, 8 개 β중 4 내지 8 개가 동일하거나 상이하며, 각각 SR1 또는 OR2 를 나타낸다. 보다 바람직하게는, 8 개 β모두가 동일하거나 상이하며, 각각 SR1 또는 OR2 를 나타낸다. 상기 근적외선 흡수 염료로서, 예를 들어 하기 기호로 나타내는 프탈로시아닌 화합물이 언급될 수 있다: ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5, ZnPc(PhS)8(PhNH)4 F4, ZnPc(PhS)8(PhNH)5F3, ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4, ZnPc(PhS)8(PhCH2 NH)5F3, ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)6F2, CuPc(PhS)8(PhNH)7F, CuPc(PhS)8(PhNH)6F2, CuPc(PhS) 8(PhNH)5F3, VOPc(PhO)8(PhCH2NH)5F3, VOPc(PhO)8(PhCH2 NH)6F2, VOPc(PhO)8(PhCH2NH)8, VOPc(PhS)8(PhCH2NH)8, VOPc(2,5-Cl2PhO)8{2,6-(CH 3)2PhO}4Ph(CH3)CHNH3F, VOPc(2,5-Cl2PhO)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH) 4, CuPc(2,5-Cl2PhO)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH 2NH)4, CuPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4, VOPc(4-CNPhO)8{2,6-Br2-4-(CH3)PhO}4Ph(CH3)CHNH4, 및 ZnPc(2,6-Cl2PhO)8 {2,6-Br2-4-(CH3)PhO}4Ph(CH3)CHNH3F. 상기 화합물 중에서, 8 개 α중 4 개가 동일하거나 상이하며 각각 OR2 또는 할로겐 원자를 나타내고, 하기 기호로 나타내는 화합물이 구체적으로 언급될 수 있다: ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5, ZnPc(PhS)8(PhNH)4F4 , ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4, VOPc(2,5- Cl2PhO)8{2,6-(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH} 3F, VOPc(2,5-Cl2PhO)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4, CuPc(2,5-Cl2PhO) 8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4, CuPc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4, VOPc(4-CNPhO)8{2,6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}4, 및 ZnPc(2,6-Cl2PhO) 8{2,6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F. 화합물명에 대한 상기 언급된 약어에 있어서, Pc 는 프탈로시아닌 핵을 나타내며, Pc 는 β위치에서 8 개 치환기를 수반하고, 또한 α위치에서 8 개 치환기를 수반한다. 상기 언급된 Ph 는 페닐기를 나타낸다. 보다 구체적으로, 상기 언급된 각각의 약어는 중심 금속 원자:Pc:β위치에서의 8 개 치환기:α위치에서의 8 개 치환기를 나타낸다. 예를 들어 ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5 의 경우, 상기 방식은 Zn Pc (PhS) 8 (PhNH) 3 F 5 의 밑줄 친 부분으로 예시된다.In a preferable embodiment of the compound represented by the formula (1), 4 to 8 of 8 β are the same or different, and each represents SR 1 or OR 2 . More preferably, all 8 βs are the same or different and each represent SR 1 or OR 2 . As the near-infrared absorbing dye, for example, a phthalocyanine compound represented by the following symbol may be mentioned: ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 3 F 5 , ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 4 F 4 , ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 5 F 3 , ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 4 F 4 , ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 5 F 3 , ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 6 F 2 , CuPc (PhS) 8 (PhNH) 7 F, CuPc (PhS) 8 (PhNH) 6 F 2 , CuPc (PhS) 8 (PhNH) 5 F 3 , VOPc (PhO) 8 (PhCH 2 NH) 5 F 3 , VOPc ( PhO) 8 (PhCH 2 NH) 6 F 2 , VOPc (PhO) 8 (PhCH 2 NH) 8 , VOPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 8 , VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2, 6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 Ph (CH 3 ) CHNH 3 F, VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , CuPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , CuPc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 ( PhCH 2 NH) 4, VOPc ( 4-CNPhO) 8 {2,6-Br 2 -4- (CH 3) PhO} 4 Ph (CH 3) CHNH 4, and ZnPc (2,6-Cl 2 PhO) 8 {2,6-Br 2 -4- (CH 3) PhO} 4 Ph (CH 3) CHNH 3 F. of the above compounds, the same four of eight α or different and represent oR 2, or a halogen atom each And, to a compound represented by the symbols may be mentioned specifically: ZnPc (PhS) 8 (PhNH ) 3 F 5, ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 4 F 4, ZnPc (PhS) 8 (PhCH 2 NH) 4 F 4 , VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 3 F, VOPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 { 2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , CuPc (2,5-Cl 2 PhO) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , CuPc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 (PhCH 2 NH) 4 , VOPc (4-CNPhO) 8 {2,6-Br 2 -4- (CH 3 ) PhO} 4 { Ph (CH 3 ) CHNH} 4 , and ZnPc (2,6-Cl 2 PhO) 8 {2,6-Br 2 -4- (CH 3 ) PhO} 4 {Ph (CH 3 ) CHNH} 3 F. Compound In the above-mentioned abbreviation for the name, Pc represents a phthalocyanine nucleus, Pc carries eight substituents at the β position and also eight substituents at the α position. Ph mentioned above represents a phenyl group. More specifically, each abbreviation mentioned above represents eight substituents at the central metal atom: Pc: β position: eight substituents at the α position. For example for ZnPc (PhS) 8 (PhNH) 3 F 5 the scheme is illustrated by the underlined portion of Zn Pc (PhS) 8 (PhNH) 3 F 5 .

상기 언급된 적외선 흡수 염료로서, 현재 공지된 프탈로시아닌 염료에 비해 장파장 영역 (920 내지 1050 nm) 에서 최대 흡수 파장을 가지며 높은 정도의 가시광선 투과성을 갖는 프탈로시아닌 염료가 사용될 수 있으며, 상기 프탈로시아닌 염 료를 사용하는 것이 본 발명의 구현에 있어서 바람직하다. 상기 언급된 프탈로시아닌 염료에는 적합하게는 하기 화학식 2 로 나타내는 화합물이 포함된다:As the above-mentioned infrared absorbing dyes, phthalocyanine dyes having a maximum absorption wavelength in the long wavelength region (920 to 1050 nm) and a high degree of visible light transmission compared to the currently known phthalocyanine dyes can be used, and the phthalocyanine dyes can be used. It is preferable in the implementation of the present invention. The above-mentioned phthalocyanine dyes suitably include compounds represented by the following general formula (2):

Figure 112003046425109-pat00002
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(식 중, Z2, Z3, Z6, Z7, Z10, Z11, Z14 및 Z15 는 동일하거나 상이하며, 각각 SR1, SR2, OR3 또는 할로겐 원자를 나타내고; Z1, Z4, Z5, Z8, Z9, Z12, Z13 및 Z16 은 동일하거나 상이하며 각각 NHR4, NHR5, SR1, SR2, OR3 또는 할로겐 원자를 나타내고; R1 은 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 페닐기, 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 아르알킬기 또는 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 C1-C20 알킬기를 나타내고; R2 는 하나 이상의 C1-C20 알콕실기를 가질 수 있는 페닐기를 나타내고; R3 및 R4 는 동일하거나 상이하며, 각각 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 페닐기, 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 아르알킬기 또는 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 C1-C20 알킬기를 나타내고; R5 는 하나 이상의 치환기를 가질 수 있는 C1-C20 알킬기를 나타내고; M 은 비금속, 금속, 금속 산화물 또는 금속 할로겐화물을 나타내지만; 하나 이상의 Z2, Z3, Z6, Z7, Z10, Z11 , Z14 및 Z15 가 SR2 인 것이 필수적이고; 하나 이상의 Z1, Z4, Z5, Z8, Z9, Z12, Z13 및 Z16 이 NHR5 이고 이들 중 4 개 이상이 OR3 인 것이 필수적이고; 다수의 R1, R2, R3, R4 및 R5 는 동일하거나 상이할 수 있다.)(Wherein Z 2 , Z 3 , Z 6 , Z 7 , Z 10 , Z 11 , Z 14 and Z 15 are the same or different and each represent SR 1 , SR 2 , OR 3 or a halogen atom; Z 1 , Z 4, Z 5, Z 8, Z 9, Z 12, Z 13 and Z 16 are the same or different and each NHR 4, NHR 5, SR 1 , SR 2, oR 3 , or a halogen atom; R 1 is A phenyl group which may have one or more substituents, an aralkyl group which may have one or more substituents or a C 1 -C 20 alkyl group which may have one or more substituents; R 2 may have one or more C 1 -C 20 alkoxyl groups R 3 and R 4 are the same or different and each is a phenyl group which may have one or more substituents, an aralkyl group which may have one or more substituents, or a C 1 -C 20 alkyl group which may have one or more substituents It represents; R 5 is or a C 1 -C 20 alkyl group which may have one or more substituents Out; M is non-metal, metal, represents a metal oxide or metal halide by one or more Z 2, Z 3, Z 6 , Z 7, Z 10, Z 11, Z 14 and Z 15 are SR 2 is not essential and At least one of Z 1 , Z 4 , Z 5 , Z 8 , Z 9 , Z 12 , Z 13 and Z 16 is NHR 5 and at least four of them are OR 3 ; a number of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different.)

상기 언급된 화학식 2 로 나타내는 화합물은 920 nm 초과 1050 nm 이하의 파장을 갖는 근적외선을 선택적으로 흡수할 수 있다. 상기 화합물이 적외선 흡수 염료로 사용되는 경우, 상기 언급된 화합물의 농도가 920 nm 초과 1050 nm 이하의 파장을 갖는 근적외선의 최소 투과도값이 5 내지 6% 가 되도록 조정되는 용액 중 가시광선의 투과도는 65% 이상일 수 있고, 상기 구현예가 바람직하다. 보다 바람직하게는, 가시광선의 투과도는 70% 이상이다. 높은 가시광선 투과도를 가지며, 근적외선 흡수능이 뛰어나고, 높은 근적외선 차단 효율을 갖고, 용해도, 내열성, 내광 특성 등이 우수한 상기 염료는 열선-차폐 물질, 근적외선 흡수 필터, 예컨대 플라즈마 디스플레이용 필터, 비접촉 고정, 예컨대 플래시 고정 토너용 또는 보온 (heat reserving) 섬유용 근적외선 흡수제를 위해 적합하게 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기물이 플라즈마 디스플레이용 필터로서 사용되는 경우, 차폐되기 어 려운 장파장 근적외선이 효과적으로 흡수되어, 원격 조절기 등의 성능 에러가 보다 효과적으로 방지될 수 있으며; 또한 65% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상의 높은 투과도로 인해, 깨끗한 영상이 제공될 수 있다. The compound represented by the above-mentioned formula (2) can selectively absorb near infrared rays having a wavelength of more than 920 nm and 1050 nm or less. When the compound is used as an infrared absorbing dye, the transmittance of visible light in the solution is adjusted such that the concentration of the above-mentioned compound is adjusted so that the minimum transmittance value of near infrared light having a wavelength of more than 920 nm and less than 1050 nm is 5 to 6%. It may be the above, the above embodiment is preferred. More preferably, the transmittance of visible light is 70% or more. The dyes having high visible light transmittance, excellent near infrared absorption ability, high near infrared blocking efficiency, and excellent solubility, heat resistance, light resistance, etc. are heat ray-shielding materials, near infrared absorption filters such as filters for plasma displays, non-contact fixed, such as It may be suitably used for near infrared absorbers for flash fixing toner or for heat reserving fibers. For example, when the water is used as a filter for a plasma display, long wavelength near infrared rays, which are difficult to be shielded, can be effectively absorbed, so that a performance error such as a remote controller can be more effectively prevented; Also, due to the high transmittance of at least 65%, more preferably at least 70%, a clear image can be provided.

상기 언급된 화학식 2 에 있어서, M 은 비금속, 금속, 금속 산화물 또는 금속 할로겐화물을 나타내며; 비금속 및 금속에는 상기 언급된 화학식 1 의 M 을 나타내는 비금속 및 금속에서와 동일한 것들이 포함된다. 금속 산화물로서, 예를 들어 티타닐 및 바나딜이 언급될 수 있다. 금속 할로겐화물로서, 예를 들어 알루미늄 클로라이드, 인듐 클로라이드, 게르마늄 클로라이드, 주석 (II) 클로라이드, 주석 (IV) 클로라이드, 및 규소 클로라이드가 언급될 수 있다. 금속, 금속 산화물, 또는 금속 할로겐화물이 M 으로서 바람직하다. 구체예로서, 구리, 아연, 코발트, 니켈, 철, 바나딜, 티타닐, 인듐 클로라이드 및 주석 (II) 클로라이드가 언급될 수 있다. 구리, 바나딜 및 아연이 보다 바람직하다.In the above-mentioned formula (2), M represents a nonmetal, metal, metal oxide or metal halide; Base metals and metals include the same as those for base metals and metals which refer to M in Formula 1 above. As the metal oxide, mention may be made, for example, titanyl and vanadil. As the metal halide, mention may be made, for example, of aluminum chloride, indium chloride, germanium chloride, tin (II) chloride, tin (IV) chloride, and silicon chloride. Metals, metal oxides, or metal halides are preferred as M. As an embodiment, mention may be made of copper, zinc, cobalt, nickel, iron, vanadil, titanyl, indium chloride and tin (II) chloride. Copper, vanadil and zinc are more preferred.

상기 언급된 화학식 2 에 있어서, 4 개 이상의 Z2, Z3, Z6, Z7, Z10, Z11, Z14 및 Z15 (이들은 프탈로시아닌 코어의 8 개 β위치를 치환하는 치환기로 불릴 수 있다) 는 바람직하게는 SR2 이다. 보다 바람직하게는, 이들 8 개 모두가 SR2 이다. 이들 중 임의의 하나 이상이 할로겐 원자인 경우, 할로겐 원자로서 불소 원자 또는 염소 원자가 바람직하다. 불소 원자가 보다 바람직하다. 전자 공여기, 예컨대 SR2 가 포함되는 경우, 흡수 파장이 더 길어지고, 투과도가 우수해 지며, 920 nm 초과 1050 nm 이하의 파장을 갖는 근적외선의 선택적 흡수능이 제공된다. 제조 공정에 있어서 아미노 화합물로의 치환 후 SR2 로의 치환을 수행함으로써, 치환 위치가 쉽게 조절될 수 있고 수지와 우수한 상용성을 갖는 프탈로시아닌 화합물이 수득될 수 있다.In the above-mentioned formula (2), four or more Z 2 , Z 3 , Z 6 , Z 7 , Z 10 , Z 11 , Z 14 and Z 15 (these may be referred to as substituents that substitute 8 β positions of the phthalocyanine core) Is preferably SR 2 . More preferably, all eight of these are SR 2 . When any one or more of these are halogen atoms, a fluorine atom or a chlorine atom is preferable as the halogen atom. The fluorine atom is more preferable. When an electron donor such as SR 2 is included, the absorption wavelength is longer, the transmittance is better, and the selective absorption of near infrared rays having a wavelength above 920 nm and below 1050 nm is provided. By carrying out the substitution with SR 2 after the substitution with the amino compound in the production process, the substitution position can be easily controlled and a phthalocyanine compound having excellent compatibility with the resin can be obtained.

상기 언급된 화학식 2 에 있어서, Z1, Z4, Z5, Z8, Z9 , Z12, Z13 및 Z16 (이들은 프탈로시아닌 코어의 8 개 α위치를 치환하는 치환기로 불릴 수 있다) 에 대하여, 이들 중 3 내지 4 개가 NHR5 이고, 이들 중 4 내지 5 개가 OR3 에 의해 치환되는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 이들 중 4 개가 NHR5 이고, 이들 중 4 개가 OR3 에 의해 치환되며, 더욱 바람직하게는, 이들 중 2 내지 3 개가 NHR5 이고, 이들 중 4 개가 OR3 이고, 나머지 1 내지 2 개가 할로겐 원자이다. 할로겐 원자로서, 불소 원자 또는 염소 원자가 바람직하다. 보다 바람직하게는, 이들 중 1 내지 2 개가 모두 불소 원자이다.In the above-mentioned formula (2), Z 1 , Z 4 , Z 5 , Z 8 , Z 9 , Z 12 , Z 13 and Z 16 (these may be referred to as substituents replacing 8 α positions of the phthalocyanine core) In contrast, it is preferable that 3-4 of these are NHR5, and 4-5 of these are substituted by OR3. More preferably, 4 of these are NHR 5 , 4 of which are substituted by OR 3 , and more preferably 2 to 3 of them are NHR 5 , 4 of these are OR 3 , and the remaining 1 to Two are halogen atoms. As the halogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom is preferable. More preferably, one or two of these are all fluorine atoms.

상기 언급된 화학식 2 에 있어서, 프탈로시아닌 코어의 8 개 α위치 중 2 내지 3 개가 NHR5 이며, 이들 중 4 개가 OR3 이고, 나머지 1 내지 2 개가 모두 불소 원자인 경우, 흡수 파장이 더 길어지고, 프탈로시아닌 코어의 α위치에 수소 원자(들) 또는 기타 할로겐 원자(들)을 포함하는 화합물과 비교하여 수지와의 상용성이 우수하며, 내광 특성, 내열성 등이 개선되는 기능적 효과를 가질 수 있다. 또 한, 화합물의 제조가 낮은 비용으로, 쉽고 편리하게 수행될 수 있다.In the above-mentioned formula (2), when 2 to 3 of the 8 α positions of the phthalocyanine core are NHR 5 , 4 of them are OR 3 , and the remaining 1 to 2 are all fluorine atoms, the absorption wavelength is longer, Compared with the compound containing hydrogen atom (s) or other halogen atom (s) at the α-position of the phthalocyanine core, the compatibility with the resin is excellent, and the light resistance, heat resistance, and the like may be improved. In addition, the preparation of the compounds can be carried out easily and conveniently at low cost.

상기 언급된 화학식 2 의 R1 내지 R5 에 있어서, R1, R3 또는 R4 의 아르알킬기에는 바람직하게는 벤질, 페네틸 및 디페닐메틸기가 포함된다.In R 1 to R 5 of the above-mentioned formula (2), the aralkyl group of R 1 , R 3 or R 4 preferably includes benzyl, phenethyl and diphenylmethyl groups.

R1, R3, R4 또는 R5 의 알킬기는 바람직하게는 탄소수 1 내지 8 의 선형, 분지형 또는 고리형 알킬기이며, 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, 1,2-디메틸프로필, n-헥실, 시클로헥실, 1,3-디메틸부틸, 1-이소프로필프로필, 1,2-디메틸부틸, n-헵틸, l,4-디메틸펜틸, 2-메틸-1-이소프로필프로필, 1-에틸-3-메틸부틸, n-옥틸 및 2-에틸헥실기가 포함된다. 이들 중에서, 메틸 및 에틸기가 보다 바람직하다.The alkyl group of R 1 , R 3 , R 4 or R 5 is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, Isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, 1,2-dimethylpropyl, n-hexyl, cyclohexyl, 1,3-dimethylbutyl, 1-isopropylpropyl, 1, 2-dimethylbutyl, n-heptyl, l, 4-dimethylpentyl, 2-methyl-1-isopropylpropyl, 1-ethyl-3-methylbutyl, n-octyl and 2-ethylhexyl groups are included. Among these, methyl and ethyl groups are more preferable.

상기 언급된 R2 의 알콕실기는 바람직하게는 탄소수 1 내지 8 의 선형, 분지형 또는 고리형 알콕실기일 수 있으며, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시, tert-부톡시, n-펜틸옥시, 이소펜틸옥시, 네오펜틸옥시, 1,2-디메틸프로폭시, n-헥실옥시, 시클로헥실옥시, 1,3-디메틸부톡시, 1-이소프로필프로폭시, 1,2-디메틸부톡시, n-헵틸옥시, 1,4-디메틸펜틸옥시, 2-메틸-1-이소프로필프로폭시, 1-에틸-3-메틸부톡시, n-옥틸옥시 및 2-에틸헥실옥시기가 바람직하다. 이들 중에서, 920 nm 초과 1050 nm 이하의 파장을 갖는 근적외선의 선택적 흡수능을 증강시키는 효과가 특히 높기 때문에, 메톡시 및 에톡시 기가 보다 바람직하다. 메톡시기가 더욱 바람직하다. SR2 에는 바람직하게는 페닐티오, 2-메톡시페닐티오 및 4-메톡시페닐티오기가 포함된다. 상기 알콕실기는 페닐기의 1 내지 5 개 위치를 치환할 수 있으며, 다수의 알콕실기가 치환하는 경우, 이들은 동일 종 또는 상이한 종일 수 있으나, 1 개 치환이 바람직하다. 상기 알콕실기로 치환될 페닐기의 위치는 구체적으로 제한되지 않지만, 2- 또는 4-위치가 바람직하다.The alkoxyl groups of R 2 mentioned above may preferably be linear, branched or cyclic alkoxyl groups having 1 to 8 carbon atoms, and are methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, Isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, isopentyloxy, neopentyloxy, 1,2-dimethylpropoxy, n-hexyloxy, cyclohexyloxy, 1,3-dimethyl Butoxy, 1-isopropylpropoxy, 1,2-dimethylbutoxy, n-heptyloxy, 1,4-dimethylpentyloxy, 2-methyl-1-isopropylpropoxy, 1-ethyl-3-methylpart Preference is given to oxy, n-octyloxy and 2-ethylhexyloxy groups. Among them, methoxy and ethoxy groups are more preferable because the effect of enhancing the selective absorption of near infrared rays having a wavelength of more than 920 nm and 1050 nm or less is particularly high. More preferred is a methoxy group. SR 2 preferably includes phenylthio, 2-methoxyphenylthio and 4-methoxyphenylthio groups. The alkoxyl group may be substituted for 1 to 5 positions of the phenyl group, and when a plurality of alkoxyl groups are substituted, they may be the same species or different species, but one substitution is preferred. The position of the phenyl group to be substituted with the alkoxyl group is not particularly limited, but the 2- or 4-position is preferred.

R1, R3 또는 R4 의 상기 언급된 탄소수 1 내지 20 의 비치환 알킬기에는 탄소수 1 내지 8 의 선형, 분지형 또는 고리형 알킬기가 포함되며, 구체적으로 R1, R3, R4 및 R5 에서와 동일한 알킬기가 포함되지만, 이들 중에서 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필 및 n-부틸기가 바람직하다.The aforementioned unsubstituted alkyl groups of 1 to 20 carbon atoms of R 1 , R 3 or R 4 include linear, branched or cyclic alkyl groups of 1 to 8 carbon atoms, specifically R 1 , R 3 , R 4 and R The same alkyl groups as in 5 are included, of which methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl and n-butyl groups are preferred.

알킬기의 치환기에는, 예를 들어 할로겐 원자, 알콕실기, 히드록시알콕실기, 알콕시알콕실기, 할로알콕실기, 니트로기, 아미노기, 알킬아미노기, 알콕시카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기 및 알콕시술포닐기가 포함된다. 다수의 상기 치환기가 치환하는 경우, 치환기는 동일 종이거나 상이한 종일 수 있다.Examples of the substituent of the alkyl group include a halogen atom, an alkoxyl group, a hydroxyalkoxyl group, an alkoxyalkoxy group, a haloalkoxyl group, a nitro group, an amino group, an alkylamino group, an alkoxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group and an alkoxysulfonyl group. When a plurality of said substituents are substituted, the substituents may be the same species or different species.

R1, R3 또는 R4 의 상기 언급된 페닐기 또는 아르알킬기가 치환기를 갖는 경우, 치환기에는, 예를 들어 할로겐 원자, 아실기, 알킬기, 페닐기, 알콕실기, 할로알킬기, 할로알콕실기, 니트로기, 아미노기, 알킬아미노기, 알킬카르보닐아미노기, 아릴아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 알킬아미노 카르보닐기, 알콕시술포닐기, 알킬티오기, 카르바모일기, 아릴옥시카르보닐기, 옥시알킬에테르기 및 시아노기가 포함된다. 상기 치환기 중 1 내지 5 개가 페닐 또는 아르알킬기를 치환할 수 있다. 다수의 상기 치환기가 치환하는 경우, 치환기는 동일 종이거나 상이한 종일 수 있다.When the above-mentioned phenyl group or aralkyl group of R 1 , R 3 or R 4 has a substituent, the substituent includes, for example, a halogen atom, acyl group, alkyl group, phenyl group, alkoxyl group, haloalkyl group, haloalkoxy group, nitro group , Amino group, alkylamino group, alkylcarbonylamino group, arylamino group, arylcarbonylamino group, carbonyl group, alkoxycarbonyl group, alkylamino carbonyl group, alkoxysulfonyl group, alkylthio group, carbamoyl group, aryloxycarbonyl group, oxyalkyl ether group and cyan Anger is included. One to five of the substituents may substitute for a phenyl or aralkyl group. When a plurality of said substituents are substituted, the substituents may be the same species or different species.

할로겐 원자가 상기 언급된 페닐기 또는 아르알킬기를 치환하는 경우, 할로겐 원자는 바람직하게는 염소 원자이다.When the halogen atom substitutes the above-mentioned phenyl group or aralkyl group, the halogen atom is preferably a chlorine atom.

상기 언급된 아실기에는 아세틸, 에틸카르보닐, 프로필카르보닐, 부틸카르보닐, 펜틸카르보닐, 헥실카르보닐, 벤조일, p-t-부틸벤조일 등의 기가 포함되며, 이들 중에서 에틸카르보닐이 바람직하다.The acyl groups mentioned above include groups such as acetyl, ethylcarbonyl, propylcarbonyl, butylcarbonyl, pentylcarbonyl, hexylcarbonyl, benzoyl, p-t-butylbenzoyl and the like, of which ethylcarbonyl is preferred.

상기 언급된 할로알킬기는 탄소수 1 내지 20 의 알킬기의 일부가 할로겐화된 치환기이며, 탄소수 1 내지 8 의 선형, 분지형 또는 고리형 알킬기의 일부가 할로겐화된 것이 바람직하게 포함되고; 클로로메틸, 브로모메틸, 트리플루오로메틸, 클로로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 브로모에틸, 클로로프로필, 브로모프로필 등의 기가 바람직하다.The above-mentioned haloalkyl group is a substituent in which a part of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is halogenated, and preferably includes a part in which a part of a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is halogenated; Groups, such as chloromethyl, bromomethyl, trifluoromethyl, chloroethyl, 2,2,2-trichloroethyl, bromoethyl, chloropropyl, bromopropyl, are preferable.

상기 언급된 할로알콕실기는 탄소수 1 내지 20 의 알콕실기의 일부가 할로겐화된 치환기이며, 탄소수 1 내지 8 의 선형, 분지형 또는 고리형 알콕실기의 일부가 할로겐화된 것이 바람직하게 포함되고; 클로로메톡시, 브로모메톡시, 트리플루오로메톡시, 클로로에톡시, 2,2,2-트리클로로에톡시, 브로모에톡시, 클로로프로폭시, 브로모프로폭시 등의 기가 바람직하다. The above-mentioned haloalkoxy group is a substituent in which a part of the alkoxyl group having 1 to 20 carbon atoms is halogenated, and preferably includes a part of the linear, branched or cyclic alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms is halogenated; Groups such as chloromethoxy, bromomethoxy, trifluoromethoxy, chloroethoxy, 2,2,2-trichloroethoxy, bromoethoxy, chloropropoxy and bromopropoxy are preferable.                     

상기 언급된 알킬아미노기는 C1-C20 알킬 잔기를 갖는 치환기이며, C1-C 8 알킬 잔기를 갖는 것이 바람직하게 포함되고; 메틸아미노, 에틸아미노, n-프로필아미노, n-부틸아미노, sec-부틸아미노, n-펜틸아미노, n-헥실아미노, n-헵틸아미노, n-옥틸아미노, 2-에틸헥실아미노 등의 기가 바람직하다. 이들 중에서, 메틸아미노, 에틸아미노, n-프로필아미노 및 n-부틸아미노기가 보다 바람직하다.The above-mentioned alkylamino group is a substituent having a C 1 -C 20 alkyl residue, preferably including a C 1 -C 8 alkyl residue; Groups such as methylamino, ethylamino, n-propylamino, n-butylamino, sec-butylamino, n-pentylamino, n-hexylamino, n-heptylamino, n-octylamino, 2-ethylhexylamino and the like are preferable. Do. Among these, methylamino, ethylamino, n-propylamino and n-butylamino groups are more preferable.

상기 언급된 알콕시카르보닐기는 알콕실기의 알킬 잔기에 헤테로 원자(들)을 가질 수 있는 C1-C8 기이며, 헤테로 원자를 가질 수 있는 C1-C5 알콕시카르보닐 및 C3-C8, 바람직하게는 C5-C8 의 고리형 알콕시카르보닐이 바람직하게 포함된다. 구체적으로, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, n-프로폭시카르보닐, 이소프로폭시카르보닐, n-부톡시카르보닐, 이소부톡시카르보닐, sec-부톡시카르보닐, tert-부톡시카르보닐 등의 기가 바람직하게 언급될 수 있다. 이들 중에서, 메톡시카르보닐 및 에톡시카르보닐기가 보다 바람직하다.The above-mentioned alkoxycarbonyl group is a C 1 -C 8 group which may have a hetero atom (s) at the alkyl moiety of the alkoxyl group, and C 1 -C 5 alkoxycarbonyl and C 3 -C 8 , which may have a hetero atom, Preferably cyclic alkoxycarbonyl of C 5 -C 8 is preferably included. Specifically, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbon Groups such as bonyl and the like can be mentioned preferably. Among these, methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl groups are more preferable.

상기 언급된 화학식 2 로 나타내는 프탈로시아닌 화합물은 프탈로시아닌 코어의 α위치에 NHR5 로 나타내는 치환기를 갖는 것이다. NHR5 는 강한 전자 공여성을 가지고 벌키한 치환기를 갖는 아미노기이며, 프탈로시아닌 코어의 α위치에 존재함으로써, 920 nm 초과 1050 nm 이하의 파장을 갖는 근적외선의 선택적 흡수능이 증강될 수 있고, 수지와의 상용성이 개선될 수 있다.The phthalocyanine compound represented by the above-mentioned formula (2) has a substituent represented by NHR 5 at the α position of the phthalocyanine core. NHR 5 is an amino group having a strong electron donating and having a bulky substituent, and by being present at the α position of the phthalocyanine core, the selective absorption ability of near infrared rays having a wavelength of more than 920 nm and 1050 nm or less can be enhanced, and it is compatible with resins. Sex can be improved.

상기 언급된 NHR5 에서 R5 의 경우는 탄소수 1 내지 20 의 비치환된 알킬기이 며, 알킬기에는 상기 언급된 R1, R3, R4 및 R5 에 대한 알킬기의 구체예에 덧붙여, 2-헵틸, 2-메틸헥실, 2-프로필헥실, n-노닐, 이소노닐, n-데실, 이소데실, n-운데실, 이소운데실, n-도데실, 이소도데실, n-트리데실, 이소트리데실, n-테트라데실, 이소테트라데실, n-펜타데실, 이소펜타데실, n-헥사데실, 이소헥사데실, n-헵타데실, 이소헵타데실, n-옥타데실, 이소옥타데실, n-노나데실, 이소노나데실, n-이코실, 이소이코실 등의 기가 포함된다. 이들 중에서, 탄소수 5 이상의 장쇄를 갖는 알킬기, 및 두번째에서 분지화된 알킬기 또는 또한 아미노 질소 원자로부터의 추가 탄소 원자가 바람직하며, 1,2-디메틸프로필, 시클로헥실, 2-헵틸, n-헥실, 2-에틸헥실, n-옥틸, 2-메틸헥실, n-옥타데실, 2-프로필헥실 등의 기가 보다 바람직하다.In the above-mentioned NHR 5 , R 5 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and in addition to the embodiments of the alkyl group for R 1 , R 3 , R 4 and R 5 mentioned above, the alkyl group is 2-heptyl , 2-methylhexyl, 2-propylhexyl, n-nonyl, isononyl, n-decyl, isodecyl, n-undecyl, isoundecyl, n-dodecyl, isododecyl, n-tridecyl, isotri Decyl, n-tetradecyl, isotetradecyl, n-pentadecyl, isopentadecyl, n-hexadecyl, isohexadecyl, n-heptadecyl, isoheptadecyl, n-octadecyl, isooctadecyl, n-nona Groups such as decyl, isononadecyl, n-icosyl, isoicosyl and the like. Among them, alkyl groups having 5 or more carbon atoms, and second branched alkyl groups or further carbon atoms from amino nitrogen atoms are preferred, and 1,2-dimethylpropyl, cyclohexyl, 2-heptyl, n-hexyl, 2 Groups, such as -ethylhexyl, n-octyl, 2-methylhexyl, n-octadecyl, 2-propylhexyl, are more preferable.

상기 언급된 NHR5 의 R5 의 알킬기에 대한 치환기에는 탄소수 1 내지 20 의 알콕실기 및 탄소수 1 내지 20 의 질소-함유기가 포함된다. 알콕실기로서, 상기 언급된 R2 의 페닐기의 치환기로서 포함될 알콕실기의 구체예에 덧붙여, 1,2-디메틸부톡시, n-헵틸옥시, 1,4-디메틸펜틸옥시, 2-메틸-1-이소프로필프로폭시, 1-에틸-3-메틸부톡시, n-옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시 등의 기가 언급될 수 있다. 이들 중에서, 에톡시, 이소프로폭시, n-부톡시 및 2-에틸헥실옥시기가 바람직하며, 탄소수 1 내지 20 의 상기 알콕실기를 포함하는 알킬기로서, 3-에톡시프로필, 3- 이소프로폭시프로필, 3-부톡시프로필 및 3-(2-에틸헥실옥시)프로필기가 바람직하다. Substituents for the alkyl group of R 5 of NHR 5 mentioned above include an alkoxyl group having 1 to 20 carbon atoms and a nitrogen-containing group having 1 to 20 carbon atoms. 1,2-dimethylbutoxy, n-heptyloxy, 1,4-dimethylpentyloxy, 2-methyl-1- in addition to the specific examples of the alkoxyl group to be included as substituents for the phenyl group of R 2 mentioned above as an alkoxyl group Groups such as isopropylpropoxy, 1-ethyl-3-methylbutoxy, n-octyloxy, 2-ethylhexyloxy and the like can be mentioned. Among them, ethoxy, isopropoxy, n-butoxy and 2-ethylhexyloxy group are preferable, and as the alkyl group containing the alkoxyl group having 1 to 20 carbon atoms, 3-ethoxypropyl, 3-isopropoxy Preference is given to propyl, 3-butoxypropyl and 3- (2-ethylhexyloxy) propyl groups.

질소-함유기에는 바람직하게는 하기 화학식 3 으로 나타내는 일차 모노아민으로부터, 또는 하기 화학식 4 로 나타내는 2 차 아미노로부터 1 개의 수소 원자를 제거하여 수득되는 1 가 기, 및 헤테로 원자로서 질소 원자를 갖는 헤테로고리형 화합물로부터 유도되는 1 가 기 (질소 원자는 자유 원자가를 가짐) 가 포함된다:The nitrogen-containing group preferably contains a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a primary monoamine represented by the following formula (3) or from a secondary amino represented by the following formula (4), and a hetero atom having a nitrogen atom as a hetero atom. Monovalent groups derived from cyclic compounds (nitrogen atoms have free valences) include:

RNH2 RNH 2

R2NHR 2 NH

(상기 식 3 및 4 중, R 은 탄소수 1 내지 20 의 알킬기를 나타내며, 식 4 중, 2 개의 R 은 동일하거나 상이할 수 있다.). 알킬기로서, 상기 언급된 페닐 및 아르알킬기의 치환기와 동일한 알킬기가 포함된다. 상기 질소-함유기는 바람직하게는 2 차 아민으로부터 1 개의 수소 원자를 제거하여 수득되는 1 가 기일 수 있다.(In Formulas 3 and 4, R represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and in Formula 4, two R's may be the same or different.). As the alkyl group, the same alkyl group as the substituent of the above-mentioned phenyl and aralkyl group is included. The nitrogen-containing group may preferably be a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a secondary amine.

상기 언급된 질소-함유기에는 바람직하게는 N,N-디에틸아미노, N,N-디이소프로필아미노, N,N-디-n-부틸아미노, N,N-디에틸아미노에틸, N,N-디이소프로필아미노에틸, N,N-디-n-부틸아미노에틸, 피페라지노, 피페리딘, 모르폴리노, 2-피페라지노에틸, 2-피페리디노에틸, 2-모르폴리노에틸 등의 기가 포함된다. 프탈로시아닌 코어의 α위치에 상기 언급된 바와 같은 치환기를 갖는 NHR5 로 나타내는 치환기를 가짐으로써, 920 nm 초과 1050 nm 이하의 파장을 갖는 근적외선의 선택적 흡수능이 보다 증강될 수 있다. The above-mentioned nitrogen-containing group preferably contains N, N-diethylamino, N, N-diisopropylamino, N, N-di-n-butylamino, N, N-diethylaminoethyl, N, N-diisopropylaminoethyl, N, N-di-n-butylaminoethyl, piperazino, piperidine, morpholino, 2-piperazinoethyl, 2-piperidinoethyl, 2-morpholi Groups, such as noethyl, are included. By having a substituent represented by NHR 5 having a substituent as mentioned above at the α position of the phthalocyanine core, the selective absorption ability of near infrared rays having a wavelength of more than 920 nm and 1050 nm or less can be further enhanced.

상기 언급된 화학식 2 로 나타내는 프탈로시아닌 화합물 중에서, M 이 비금속인 것의 구체예에는 하기가 포함된다. 하기 화합물에 있어서, 각각의 3- 및 6- 위치는 프탈로시아닌 코어의 α위치이며 (Z1, Z4, Z5, Z8, Z9, Z12, Z13 및 Z16), 각각의 4- 및 5-위치는 프탈로시아닌 코어의 β위치이다 (Z2, Z3, Z6, Z7 , Z10, Z11, Z14 및 Z15). 하기 화합물의 약어에 있어서, Pc 는 프탈로시아닌 코어를 나타내며, β위치의 8 개 치환기는 Pc 바로 뒤에 나타내고, α위치의 8 개 치환기는 β위치 뒤에 나타낸다.Among the phthalocyanine compounds represented by the above-mentioned formula (2), specific examples of those in which M is a nonmetal include the following. In the following compounds, each 3- and 6-position is the α position of the phthalocyanine core (Z 1 , Z 4 , Z 5 , Z 8 , Z 9 , Z 12 , Z 13 and Z 16 ), and each of 4- And the 5-position is the β-position of the phthalocyanine core (Z 2 , Z 3 , Z 6 , Z 7 , Z 10 , Z 11 , Z 14 and Z 15 ). In the abbreviation of the following compound, Pc represents a phthalocyanine core, 8 substituents of a (beta) position are shown immediately after Pc, and 8 substituents of (alpha) position are shown after a (beta) position.

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(N,N-디에틸에틸렌디아미노)프탈로시아닌 화합물 4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (N, N-diethylethylenediamino) phthalocyanine compounds

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{(C2H5) 2NCH2CH2NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {(C 2 H 5 ) 2 NCH 2 CH 2 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스(2-메톡시페닐티오)-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(N,N-디에틸에틸렌디아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakis (2-methoxyphenylthio) -3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (N, N-diethylethylenediamino) phthalocyanine compounds

약어; Pc{2-(CH3O)PhS}8{2,6-(CH3)2PhO}4{(C2 H5)2NCH2CH2NH}4 Abbreviation; Pc {2- (CH 3 O) PhS} 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {(C 2 H 5 ) 2 NCH 2 CH 2 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(N,N-디이소프로필에틸렌디아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (N, N-diisopropylethylenediamino) phthalocyanine compounds

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4[{(CH3)2CH} 2NCH2CH2NH]4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 [{(CH 3 ) 2 CH} 2 NCH 2 CH 2 NH] 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(N,N- 디-n-부틸에틸렌디아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (N, N-di-n-butylethylenediamino) phthalocyanine compounds

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4[{CH3(CH2 )2CH}2NCH2CH2NH]4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 [{CH 3 (CH 2 ) 2 CH} 2 NCH 2 CH 2 NH] 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(2-피페라지노에틸아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (2-piperazinoethylamino) phthalocyanine compound

약어;

Figure 112003046425109-pat00003
Abbreviation;
Figure 112003046425109-pat00003

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(2-피페리디노에틸아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (2-piperidinoethylamino) phthalocyanine compound

약어;

Figure 112003046425109-pat00004
Abbreviation;
Figure 112003046425109-pat00004

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(2-모르폴리노에틸아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (2-morpholinoethylamino) phthalocyanine compound

약어;

Figure 112003046425109-pat00005
Abbreviation;
Figure 112003046425109-pat00005

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(3-에톡시프로필아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (3-ethoxypropylamino) phthalocyanine compound

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3CH2O(CH 2)3NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 CH 2 O (CH 2 ) 3 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(3-이소프로폭시프로필아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (3-isopropoxypropylamino) phthalocyanine compounds

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2Ph0}4{(CH3)2CHO(CH 2)3NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 Ph0} 4 {(CH 3 ) 2 CHO (CH 2 ) 3 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(3-부톡시프로필아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (3-butoxypropylamino) phthalocyanine compound

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2) 30(CH2)3NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 3 0 (CH 2 ) 3 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스{3- (2-에틸헥실옥시)프로필아미노}프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis {3- (2-ethylhexyloxy) propylamino} phthalocyanine compound

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2Ph0}4{CH3(CH2) 3CH(C2H5)CH2O(CH2)3NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 Ph0} 4 {CH 3 (CH 2 ) 3 CH (C 2 H 5 ) CH 2 O (CH 2 ) 3 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(1,2-디메틸프로필아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (1,2-dimethylpropylamino) phthalocyanine compound

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3CH2C(CH 3)2NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 CH 2 C (CH 3 ) 2 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(시클로헥실아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (cyclohexylamino) phthalocyanine compound

약어;

Figure 112003046425109-pat00006
Abbreviation;
Figure 112003046425109-pat00006

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(2-헵틸아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (2-heptylamino) phthalocyanine compound

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2) 4CH(CH3)NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 4 CH (CH 3 ) NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(n-헥실아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (n-hexylamino) phthalocyanine compound

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2) 5NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 5 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(2-에틸헥실아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (2-ethylhexylamino) phthalocyanine compound

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2) 3CH(C2H5)CH2NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 3 CH (C 2 H 5 ) CH 2 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스(4-메톡시페닐티오)-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(2-에틸헥실아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakis (4-methoxyphenylthio) -3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (2-ethylhexylamino) phthalocyanine compound

약어; Pc{4-(CH3O)PhS}8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3 (CH2)3CH(C2H5)CH2NH}4 Abbreviation; Pc {4- (CH 3 O) PhS} 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 3 CH (C 2 H 5 ) CH 2 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(n-옥틸아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (n-octylamino) phthalocyanine compounds

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2) 7NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 7 NH} 4

ㆍ4,5-옥타키스페닐티오-3,6-테트라키스(2,6-디메틸페녹시)-테트라키스(n-옥타데실아미노)프탈로시아닌 화합물4,5-octakisphenylthio-3,6-tetrakis (2,6-dimethylphenoxy) -tetrakis (n-octadecylamino) phthalocyanine compounds

약어; Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2) 17NH}4 Abbreviation; Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 17 NH} 4

상기 언급된 화합물 중에서 M 이 금속, 금속 산화물 또는 금속 할로겐화물인 프탈로시아닌 화합물로서, 중심 금속으로 바나딜을 갖는 것이 가장 바람직하며, 구체예에는 하기와 같은 4 개 화합물을 제외한, M 이 비금속인 상기 언급된 구체예의 프탈로시아닌 코어 (Pc) 잔기를 VOPc 로 변화시켜 수득되는 것이 포함된다:Of the above-mentioned compounds, as the phthalocyanine compound in which M is a metal, a metal oxide or a metal halide, it is most preferable to have vanadil as the center metal, and in the embodiments, the above-mentioned in which M is a nonmetal, except for the following four compounds Included are those obtained by changing the phthalocyanine core (Pc) residues of the embodiments to VOPc:

Figure 112003046425109-pat00007
,
Figure 112003046425109-pat00007
,

Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3CH2C(CH 3)2NH}4,Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 CH 2 C (CH 3 ) 2 NH} 4 ,

Figure 112003046425109-pat00008
Figure 112003046425109-pat00008

및 Pc(PhS)8{2,6-(CH3)2PhO}4{CH3(CH2) 4CH(CH3)NH}4. 프탈로시아닌 화합물로서 중심 금속으로 바나딜을 갖는 것을 이용함으로써, 920 nm 초과 1050 nm 이하근적외선의 선택적 흡수능 및 내광 특성이 우수해진다. 상기 언급된 프탈로시아닌 화합물은 1 개 종 또는 2 개 이상의 종이 사용될 수 있다. 상기 언급된 화학식 1 로 나타내는 프탈로시아닌 화합물과 병용될 수 있다. 파장이 상이한 2 개 이상의 종이 사용되는 경우, 열선 흡수성이 개선될 수 있다. And Pc (PhS) 8 {2,6- (CH 3 ) 2 PhO} 4 {CH 3 (CH 2 ) 4 CH (CH 3 ) NH} 4 . By using what has vanadil as a center metal as a phthalocyanine compound, the selective absorption ability and light resistance characteristic of near-infrared exceeding 920 nm and 1050 nm or less are excellent. The above-mentioned phthalocyanine compound may be used in one species or in two or more species. It can be used together with the phthalocyanine compound represented by Formula 1 mentioned above. When two or more species having different wavelengths are used, heat ray absorptivity may be improved.

근적외선 흡수 염료 (B) 는 바람직하게는 감압 접착제 중합체 (A) 의 100 중량부 당 0.005 중량부 이상의 양으로 사용된다. 그 양이 0.005 중량부 미만인 경우, 감압 접착제 조성물에 의해 형성되는 코팅 필름 또는 접착제층은 만족스러운 정도로 그 근적외선 흡수능을 나타내지 못할 수 있다. 그 양은 보다 바람직하게는 0.025 중량부 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 중량부 이상이다. 반면, 그 양은 바람직하게는 20 중량부 이하이다. 그 양이 20 중량부를 초과하는 경우, 근적외선 흡수 코팅 필름의 물리적 특성이 감소될 수 있다. 보다 바람직하게는 이는 10 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 5 중량부 이하이다. 바람직하게는, 이는 코팅 필름 두께에 따라 선택된다. 예를 들어 두께가 10 ㎛ 인 경우, 그 양은 바람직하게는 0.5 중량부 이상 20 중량부 이하, 보다 바람직하게는 1.0 중량부 이상 10 중량부 이하이다. 3 mm 두께를 갖는 코팅 필름의 형성에 있어서, 그 양은 바람직하게는 0.002 중량부 이상 0.06 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0.005 중량부 이상 0.03 중량부 이하이다. 두께가 10 mm 인 경우, 그 양은 바람직하게는 0.0005 중량부 이상 0.02 중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 0.0010 중량부 이상 0.01 중량부 이하이다. 또한, 코팅 필름의 단위 면적 당 포함되는 염료의 중량은 바람직하게는 예를 들어 0.01 g/cm2 이상이다. 0.01 g/m2 미만인 경우, 근적외선 흡수 염료의 효과가 만족스러운 정도로 나타나지 않을 수 있다. 그 중량은 바람직하게는 0.05 g/m2 이상, 보다 바람직하게는 0.1 g/m2 이상이다. 반면에, 바람직하게는 2.5 g/m2 이하이다. 2.5 g/m2 를 초과하는 수준에서는, 코팅 필름의 생산 단가가 증가할 수 있다. 보다 바람직하게는 1.0 g/m2 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.5 g/m2 이하이다.The near infrared absorbing dye (B) is preferably used in an amount of at least 0.005 parts by weight per 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer (A). If the amount is less than 0.005 parts by weight, the coating film or adhesive layer formed by the pressure sensitive adhesive composition may not exhibit its near infrared absorption capacity to a satisfactory degree. The amount is more preferably 0.025 parts by weight or more, and still more preferably 0.05 parts by weight or more. On the other hand, the amount is preferably 20 parts by weight or less. If the amount exceeds 20 parts by weight, the physical properties of the near infrared absorbing coating film may be reduced. More preferably it is 10 parts by weight or less, even more preferably 5 parts by weight or less. Preferably, it is selected according to the coating film thickness. For example, when thickness is 10 micrometers, the quantity becomes like this. Preferably it is 0.5 weight part or more and 20 weight part or less, More preferably, it is 1.0 weight part or more and 10 weight part or less. In the formation of the coating film having a thickness of 3 mm, the amount is preferably 0.002 parts by weight or more and 0.06 parts by weight or less, more preferably 0.005 parts by weight or more and 0.03 parts by weight or less. When the thickness is 10 mm, the amount is preferably 0.0005 parts by weight or more and 0.02 parts by weight or less, and more preferably 0.0010 parts by weight or more and 0.01 parts by weight or less. In addition, the weight of the dye included per unit area of the coating film is preferably, for example, 0.01 g / cm 2 or more. If it is less than 0.01 g / m 2 , the effect of the near infrared absorbing dye may not appear to a satisfactory degree. The weight thereof is preferably 0.05 g / m 2 or more, more preferably 0.1 g / m 2 or more. On the other hand, it is preferably 2.5 g / m 2 or less. At levels exceeding 2.5 g / m 2 , the production cost of the coating film may increase. More preferably, it is 1.0 g / m <2> or less, More preferably, it is 0.5 g / m <2> or less.

본 발명의 실시에 있어서, 첨가형 및/또는 반응형 자외선 흡수제가 본원에 기재된 바와 같은 자외선 흡수제 (C) 로서 사용될 수 있으며, 살리실레이트형 자외선 흡수제, 벤조페논형 자외선 흡수제, 벤조트리아졸형 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트형 자외선 흡수제, 및 벤조에이트형 자외선 흡수제가 사용하기에 적합하다. 이들 중에서, 상기 언급된 자외선-흡수 단량체가 반응성 자외선 흡수제로서 사용하기에 적합하다.In the practice of the present invention, additive and / or reactive ultraviolet absorbers can be used as ultraviolet absorbers (C) as described herein, salicylate UV absorbers, benzophenone UV absorbers, benzotriazole type UV absorbers, Cyanoacrylate type ultraviolet absorbers, and benzoate type ultraviolet absorbers are suitable for use. Among these, the above-mentioned ultraviolet-absorbing monomers are suitable for use as the reactive ultraviolet absorber.

페닐 살리실레이트, p-tert-부틸페닐 살리실레이트 및 p-옥틸페닐 살리실레 이트가 상기 언급된 살리실레이트 자외선 흡수제로 사용하기에 적합하다. 페닐 살리실레이트의 시판 등급으로서, SAP (상표명, Iwaki Seiyaku Co., Ltd. 제품), Salol (상표명, Dow Chem. Co. 제품), 및 Salol P (상표명, Hatsudai Pharmaceutical Co. 제품) 가 언급될 수 있다. p-tert-부틸페닐 살리실레이트의 시판 등급으로서, TBS (상표명, Dow Chem. Co. 제품), TBS (상표명, Hatsudai Pharmaceutical Co. 제품), Biosorb 90 (상표명, Kyodo Chemical Co. 제품), 및 Butylsalol (상표명, Iwaki Seiyaku Co., Ltd. 제품) 이 언급될 수 있다. p-옥틸페닐 살리실레이트의 시판 등급으로서, OPS (상표명, Eastman Chemical Co. 제품) 및 OPS (상표명, Hatsudai Pharmaceutical Co. 제품) 가 언급될 수 있다.Phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate and p-octylphenyl salicylate are suitable for use as the salicylate ultraviolet absorbers mentioned above. As commercial grades of phenyl salicylate, SAP (trade name, manufactured by Iwaki Seiyaku Co., Ltd.), Salol (trade name, manufactured by Dow Chem. Co.), and Salol P (trade name, manufactured by Hatsudai Pharmaceutical Co.) will be mentioned. Can be. Commercial grades of p-tert-butylphenyl salicylate include TBS (trade name, manufactured by Dow Chem. Co.), TBS (trade name, manufactured by Hatsudai Pharmaceutical Co.), Biosorb 90 (trade name, manufactured by Kyodo Chemical Co.), and Butylsalol (trade name, available from Iwaki Seiyaku Co., Ltd.) may be mentioned. As commercial grades of p-octylphenyl salicylate, OPS (trade name, manufactured by Eastman Chemical Co.) and OPS (trade name, manufactured by Hatsudai Pharmaceutical Co.) may be mentioned.

2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논 및 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐)메탄이 상기 언급된 벤조페논 자외선 흡수제로 사용하기에 적합하다. 2,4-디히드록시벤조페논의 시판 등급으로서, ASL-23 (상표명, Shonan Kagaku 제품), Seesorb 100 (상표명, Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd. 제품), Zislizer 0 (상표명, Sankyo Chemical Co., Ltd. 제품), Sumisorb 100 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), DHBP (상표명, Eastman Chemical Co. 제품), Biosorb 100 (상표명, Kyodo Chemical 제품), 및 Uvinul 400 (상표명, BASF Corp. 제품) 이 언급될 수 있다. 2-히드록시-4-메톡시벤조페논의 시판 등급으로서, ASL-23 (상표명, Shonan Kagaku 제품), Cyasorb UV-9 (상표명, Cytec Industries Inc. 제품), Zislizer M (상표명, Sankyo Chemical Co., Ltd. 제품), Sumisorb 100 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), Seesorb 101 (상표명, Shiraishi Calcium Kaisha Ltd. 제품), Biosorb 110 (상표명, Kyodo Chemical 제품), Uvinul M-40 (상표명, BASF Corp. 제품), 및 Eusorex 4360 (상표명, Merck Ltd., Japan 제품) 이 언급될 수 있다. 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논의 시판 등급으로서, Cyasorb UV-531 (상표명, Cytec Industries Lnc. 제품), Seesorb 102 (상표명, Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd. 제품), Zislizer E (상표명, Sankyo Chemical Co., Ltd. 제품), Sumisorb 130 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), Seesorb 130 (상표명, Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd. 제품), Biosorb 130 (상표명, Kyodo Chemical 제품), Advastab 46, 및 Adekastab 1413 (상표명, Asahi Denka Kogyo 제품) 이 언급될 수 있다. 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논의 시판 등급으로서, DOPB (상표명, Eastman Chemical Co. 제품) 및 AM-320 (상표명) 이 언급될 수 있으며, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논의 시판 제품으로서, Cyasorb UV-24 (상표명, Cytec Industries Inc. 제품) 가 언급될 수 있다. 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논의 시판 등급으로서, ASL-40 (상표명, Shonan Kagaku 제품) 및 Uvinul D-49 (상표명, BASF Corp. 제품) 가 언급될 수 있으며, 2-히드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논의 시판 등급으로서, Uvinul MS-40 (상표명, BASF Corp. 제품) 이 언급될 수 있다. 비스(2-메톡시-4-히드록시-5-벤조일페닐)메탄의 시판 등급으로서, Adekastab LA-51 (상표명, Asahi Denka Kogyo 제품) 이 언급될 수 있다. 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2 '-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2- Hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone and bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenyl) methane are suitable for use as the above-mentioned benzophenone ultraviolet absorbers. As a commercial grade of 2,4-dihydroxybenzophenone, ASL-23 (trade name, product of Shonan Kagaku), Seesorb 100 (trade name, product of Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd.), Zislizer 0 (trade name, Sankyo Chemical Co., Ltd.) Product), Sumisorb 100 (trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), DHBP (trade name, manufactured by Eastman Chemical Co.), Biosorb 100 (trade name, manufactured by Kyodo Chemical), and Uvinul 400 (trade name, manufactured by BASF Corp. ) May be mentioned. Commercial grades of 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone include ASL-23 (trade name, manufactured by Shonan Kagaku), Cyasorb UV-9 (trade name, manufactured by Cytec Industries Inc.), Zislizer M (trade name, Sankyo Chemical Co. , Ltd.), Sumisorb 100 (trade name, product of Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Seesorb 101 (trade name, product of Shiraishi Calcium Kaisha Ltd.), Biosorb 110 (trade name, product of Kyodo Chemical), Uvinul M-40 (trade name) , BASF Corp.), and Eusorex 4360 (trade name, available from Merck Ltd., Japan). As a commercial grade of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, Cyasorb UV-531 (trade name, manufactured by Cytec Industries Lnc.), Seesorb 102 (trade name, manufactured by Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd.), Zislizer E (trade name, Sankyo) Chemical Co., Ltd.), Sumisorb 130 (trade name, product of Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Seesorb 130 (trade name, product of Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd.), Biosorb 130 (trade name, product of Kyodo Chemical), Advastab 46 , And Adekastab 1413 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo) may be mentioned. As a commercial grade of 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, DOPB (trade name, manufactured by Eastman Chemical Co.) and AM-320 (trade name) can be mentioned, and 2,2'-dihydroxy-4 As a commercial product of -methoxybenzophenone, Cyasorb UV-24 (trade name, manufactured by Cytec Industries Inc.) may be mentioned. As commercial grades of 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, ASL-40 (trade name, manufactured by Shonan Kagaku) and Uvinul D-49 (trade name, manufactured by BASF Corp.) may be mentioned. As the commercial grade of 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, Uvinul MS-40 (trade name, available from BASF Corp.) may be mentioned. As a commercial grade of bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenyl) methane, Adekastab LA-51 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo) may be mentioned.                     

2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3",4",5",6"-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸릴-2-일)페놀], 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 및 2-(2'-히드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)벤조트리아졸이 상기 언급될 벤조트리아졸 자외선 흡수제로서 사용하기에 적합하다. 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸의 시판 등급으로서, JF-77 (상표명, Johoku Chemical 제품), Tinuvin P (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K. 제품), Seesorb 701 (상표명, Shiraishi Calcium 제품), Sumisorb 200 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), Biosorb 520 (상표명, Kyodo Chemical 제품), 및 Adekastab LA-32 (상표명, Asahi Denka Kogyo 제품) 가 언급될 수 있다. 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸의 시판 등급으로서, Tinuvin PS (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K. 제품) 가 언급될 수 있으며, 2-(2'-히드록시-3',5-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸의 시판 등급으로서, Tinuvin 320 (상표명, Ciba Specialty Chemicals 제품), Biosorb 582 (상표명, Kyodo Chemical 제품), 및 JF-86 (상표명, Johoku Chemical 제품) 이 언급될 수 있다. 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸의 시판 등급으로서, Tinuvin 326 (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K. 제품), Seesorb 703 (상표명, Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd. 제품), Biosorb 550 (상표명, Kyodo Chemical 제품), Sumisorb 300 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), JF-79 (상표명, Johoku Chemical 제품), 및 Adekastab LA-36 (상표명, Asahi Denka Kogyo 제품) 이 언급될 수 있으며, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸의 시판 등급으로서, Tinuvin 327 (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K. 제품), Seesorb 702 (상표명, Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd. 제품), Biosorb 580 (상표명, Kyodo Chemical 제품), JF-78 (상표명, Johoku Chemical 제품), 및 Adekastab LA-34 (상표명, Asahi Denka Kogyo 제품) 가 언급될 수 있다. 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸의 시판 등급으로서, Tinuvin 328 (상표명, Ciba Specialty Chemicals 제품), Biosorb 591 (상표명, Kyodo Chemical 제품), Sumisorb 350 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), 및 JF-80 (상표명, Johoku Chemical 제품) 이 언급될 수 있다. 2-(2'-히드록시-3'-(3",4",5",6"-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸의 시판 등급으로서, Biosorb 590 (상표명, Kyodo Chemical 제품), Sumisorb 250 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), 및 Seesorb 706 (상표명, Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd. 제품) 이 언급될 수 있다. 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-[(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀]] 의 시판 등급으로서, Adekastab LA-31 (상표명, Asahi Denka Kogyo 제품) 이 언급될 수 있으며, 2-(2'-히드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸의 시판 등급으로서, RUVA-93 (상표명, Otsuka Chemical Co., Ltd. 제품) 이 언급될 수 있다.2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ' , 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'- Hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-4'-octoxyphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-5'-methacryloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- [(2H-Benzotriazol-2-yl) phenol], and 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole to be mentioned above Suitable for use as The. As a commercial grade of 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, JF-77 (trade name, manufactured by Johoku Chemical), Tinuvin P (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals KK), Seesorb 701 (trade name, Shiraishi Calcium product), Sumisorb 200 (trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Biosorb 520 (trade name, manufactured by Kyodo Chemical), and Adekastab LA-32 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo). As a commercial grade of 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, Tinuvin PS (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals KK) may be mentioned, and 2- (2'-hydroxy Commercial grades of -3 ', 5-di-tert-butylphenyl) benzotriazole include Tinuvin 320 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Biosorb 582 (trade name, manufactured by Kyodo Chemical), and JF-86 (trade name, Johoku). Chemical products) may be mentioned. As a commercial grade of 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, Tinuvin 326 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals KK), Seesorb 703 (trade name, Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd.), Biosorb 550 (trade name, Kyodo Chemical), Sumisorb 300 (trade name, Sumitomo Chemical Co., Ltd.), JF-79 (trade name, Johoku Chemical), and Adekastab LA-36 (Trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo) may be mentioned, and as a commercial grade of 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, Tinuvin 327 (Trade name, product of Ciba Specialty Chemicals KK), Seesorb 702 (trade name, product of Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd.), Biosorb 580 (trade name, product of Kyodo Chemical), JF-78 (trade name, product of Johoku Chemical), and Adekastab LA-34 (Trade name, product of Asahi Denka Kogyo) may be mentioned. As a commercial grade of 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, Tinuvin 328 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Biosorb 591 (trade name, manufactured by Kyodo Chemical) , Sumisorb 350 (trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and JF-80 (trade name, manufactured by Johoku Chemical) may be mentioned. As a commercial grade of 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, Biosorb 590 (trade name, Kyodo Chemical), Sumisorb 250 (trade name, product of Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and Seesorb 706 (trade name, product of Shiraishi Calcium Kaisha, Ltd.) may be mentioned. Adekastab LA-31 as a commercial grade of 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6-[(2H-benzotriazol-2-yl) phenol]] (Trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo) may be mentioned, and as a commercial grade of 2- (2'-hydroxy-5'-methacryloxyphenyl) -2H-benzotriazole, RUVA-93 (trade name, Otsuka Chemical) Co., Ltd.) may be mentioned.

2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트 및 에틸-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트가 상기 언급된 시아노아크릴레이트 자외선 흡수제로서 사용하기에 적합하다. 2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트의 시판 등급으로서, Uninol 3039, N539T (상표명, BASF Corp. 제품) 및 Biosorb 930 (상표명, Kyodo Chemical 제품) 이 언급될 수 있으며, 에틸 2-시아노-3,3'-디페닐아크릴레이트의 시판 등급으로서, Uninol 3035 (상표명, BASF Corp. 제품) 및 Biosorb 910 (상표명, Kyodo Chemical 제품) 이 언급될 수 있다.2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate and ethyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate for use as the above-mentioned cyanoacrylate ultraviolet absorbers Suitable. As commercial grades of 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, Uninol 3039, N539T (trade name, manufactured by BASF Corp.) and Biosorb 930 (trade name, manufactured by Kyodo Chemical) can be mentioned. As the commercial grade of ethyl 2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, Uninol 3035 (trade name, manufactured by BASF Corp.) and Biosorb 910 (trade name, manufactured by Kyodo Chemical) may be mentioned.

Tinuvin 120 (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K. 제품) 및 Sumisorb 400 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품) 이 벤조에이트 자외선 흡수제로 사용하기에 적합하다.Tinuvin 120 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals K.K.) and Sumisorb 400 (trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) are suitable for use as benzoate ultraviolet absorbers.

자외선 흡수제 (C) 의 첨가량에 있어서, 첨가형 자외선 흡수제 및 반응형 자외선 흡수제는 바람직하게는 감압 접착제 중합체 (A) 의 100 중량부 당 0.1 중량부 이상 100 중량부 이하의 총량으로 사용된다. 그 양이 0.1 중량부 미만인 경우, 근적외선 흡수 염료는 현저한 열화를 겪을 수 있다. 100 중량부를 초과하는 경우, 불량한 점착성이 얻어질 수 있다. 보다 바람직하게는, 첨가량은 1 중량부 이상이며, 더욱 바람직하게는 3 중량부 이상이다. 더욱 바람직하게는, 50 중량부 이하이며, 더욱 더 바람직하게는 20 중량부 이하이다. 자외선 흡수제 (C) 의 상기 언급된 첨가량은 첨가형 및 반응형 흡수제 둘 다를 포함하는 양을 나타낸 다.In the addition amount of the ultraviolet absorber (C), the additive ultraviolet absorber and the reactive ultraviolet absorber are preferably used in a total amount of 0.1 part by weight or more and 100 parts by weight or less per 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer (A). If the amount is less than 0.1 part by weight, the near infrared absorbing dye may undergo significant degradation. If it exceeds 100 parts by weight, poor tack can be obtained. More preferably, the addition amount is 1 weight part or more, More preferably, it is 3 weight part or more. More preferably, it is 50 weight part or less, More preferably, it is 20 weight part or less. The above-mentioned addition amount of ultraviolet absorber (C) shows the amount containing both an addition type and a reactive type absorbent.

상기 언급된 바와 같은 첨가형 및/또는 반응형 물질은 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 로서 사용가능하다. 상기 광 안정화제로서, 2 종의 광 안정화제, 즉 힌더드 페놀 골격-자유 힌더드 아민 광 안정화제 (d-1) 및 힌더드 페놀 골격-포함 힌더드 아민 광 안정화제 (d-2) 가 언급될 수 있다. 이들은 상이한 효과를 나타낸다. 본 발명의 실시에 있어서, 이들은 병용될 수 있다. 힌더드 페놀 골격-포함 힌더드 아민 광 안정화제 (d-2) 는 일종의 전형적 항산화제를 구성한다. 이들은 자외선에 의해 생성되는 라디칼 종을 포획하여, 열화 방지 효과를 나타낸다. 따라서, 힌더드 페놀 골격-포함 힌더드 아민 광 안정화제 (d-2) 의 병용은 자외선으로 인한 열화의 억제에 효과적이므로 바람직하다. 즉, 본 발명의 바람직한 구현예에 있어서, 자외선 흡수제 (C) 는 이의 필수 구성분으로서 힌더드 페놀 골격-포함 힌더드 아민 광 안정화제 (d-2) 를 포함하는 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 와 병용된다.Additive and / or reactive materials as mentioned above can be used as hindered amine light stabilizers (D). As the light stabilizer, two kinds of light stabilizers, namely, a hindered phenol skeleton-free hindered amine light stabilizer (d-1) and a hindered phenol skeleton-containing hindered amine light stabilizer (d-2) May be mentioned. These show different effects. In the practice of the present invention, these may be used in combination. The hindered phenol skeleton-containing hindered amine light stabilizer (d-2) constitutes a kind of typical antioxidant. These trap radical species generated by ultraviolet rays, and exhibit an antidegradation effect. Therefore, the use of the hindered phenol skeleton-containing hindered amine light stabilizer (d-2) is preferable because it is effective in suppressing deterioration due to ultraviolet rays. That is, in a preferred embodiment of the present invention, the ultraviolet absorbent (C) comprises a hindered amine light stabilizer (D) comprising a hindered phenol skeleton-containing hindered amine light stabilizer (d-2) as an essential component thereof. It is used together with).

힌더드 페놀 골격-자유 힌더드 아민 광 안정화제 (d-1) 로서, Sanol LS-770 (상표명, Sankyo Co., Ltd. 제품), Adekastab LA-77 (상표명, Asahi Denka Kogyo 제품), Sumisorb 577 (상표명, Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제품), Biosorb 04 (상표명, Kyodo Chemical 제품), Chimassorb 944LD (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K. 제품), Tinuvin 622LD (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K. 제품), Biosorb 03 (상표명, Kyodo Chemical 제품), Adekastab LA-57, Adekastab LA-62, Adekastab LA-67, Adekastab LA-63, Adekastab LA-68, Adekastab LA-82, Adekastab LA-87, Adekastab LA-52 (상기 8 개가 상표명, Asahi Denka Kogyo 제품), 및 Goodrite UV 3034 (상표명, Goodrich Co. 제품) 가 언급될 수 있다.As a hindered phenol skeleton-free hindered amine light stabilizer (d-1), Sanol LS-770 (trade name, manufactured by Sankyo Co., Ltd.), Adekastab LA-77 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo), Sumisorb 577 (Trade name, product of Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Biosorb 04 (trade name, product of Kyodo Chemical), Chimassorb 944LD (trade name, product of Ciba Specialty Chemicals KK), Tinuvin 622LD (trade name, product of Ciba Specialty Chemicals KK), Biosorb 03 ( Trade name, manufactured by Kyodo Chemical), Adekastab LA-57, Adekastab LA-62, Adekastab LA-67, Adekastab LA-63, Adekastab LA-68, Adekastab LA-82, Adekastab LA-87, Adekastab LA-52 (the above eight Trade names, products of Asahi Denka Kogyo), and Goodrite UV 3034 (trade name, Product of Goodrich Co.) may be mentioned.

TINUVIN 144 (상표명, Ciba Specialty Chemicals 제품) 가 힌더드 페놀 골격-포함 힌더드 아민 광 안정화제 (d-2) 로 사용하기에 적합하다.TINUVIN 144 (trade name, available from Ciba Specialty Chemicals) is suitable for use as the hindered phenol skeleton-containing hindered amine light stabilizer (d-2).

힌더드 아민 광 안정화제 (D) 의 첨가량에 있어서, 상기물이 힌더드 페놀 골격-자유 힌더드 아민 광 안정화제 (d-1) 인 경우, 상기물은 바람직하게는 감압 접착제 중합체 (A) 의 100 중량부 당 0.1 중량부 이상 10 중량부 이하의 양으로 사용된다. 0.1 중량부 미만인 경우, 근적외선 흡수 염료가 현저한 열화를 겪을 수 있는 반면, 10 중량부를 초과하면, 불량한 점착성이 얻어질 수 있다. 보다 바람직하게는 첨가량은 0.3 중량부 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.5 중량부 이상이다. 보다 바람직하게는 5 중량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 2 중량부 이하이다. 힌더드 페놀 골격-포함 힌더드 아민 광 안정화제 (d-2) 의 경우, 상기물은 바람직하게는 감압 접착제 중합체 (A) 의 100 중량부 당 0.1 중량부 이상 50 중량부 이하의 양으로 사용된다. 상기 범위 미만 또는 초과의 양에서는, 근적외선 흡수 색소를 열화로부터 충분히 방지하기 어려워질 수 있다. 보다 바람직하게는 상기물은 0.3 중량부 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.5 중량부 이상이다. 보다 바람직하게는 20 중량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 10 중량부 이하이다.In the addition amount of the hindered amine light stabilizer (D), when the water is a hindered phenol skeleton-free hindered amine light stabilizer (d-1), the water is preferably of the pressure-sensitive adhesive polymer (A) It is used in the amount of 0.1 weight part or more and 10 weight part or less per 100 weight part. If it is less than 0.1 part by weight, the near infrared absorbing dye may undergo significant deterioration, while if it is more than 10 parts by weight, poor adhesiveness may be obtained. More preferably, the addition amount is 0.3 parts by weight or more, and still more preferably 0.5 parts by weight or more. More preferably, it is 5 weight part or less, More preferably, it is 2 weight part or less. In the case of the hindered phenol skeleton-containing hindered amine light stabilizer (d-2), the water is preferably used in an amount of at least 0.1 parts by weight and at most 50 parts by weight per 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer (A). . In amounts below or above this range, it may be difficult to sufficiently prevent the near infrared absorbing pigment from degradation. More preferably, the said water is 0.3 weight part or more, More preferably, it is 0.5 weight part or more. More preferably, it is 20 weight part or less, More preferably, it is 10 weight part or less.

산화방지제 (E) 로는 라디칼 사슬 억제제 (1 차 산화방지제) 및 퍼옥시드 분해제 (2 차 산화방지제)가 유용하다.As antioxidants (E) are radical chain inhibitors (primary antioxidants) and peroxide degradants (secondary antioxidants).

라디칼 사슬 억제제 (1 차 산화방지제)로는, 페놀계 산화방지제 및 아민 산화방지제가 언급될 수 있다. 페놀계 산화방지제로 사용하기에는 모노페놀류 산화방지제, 예컨대, 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 부틸화 히드록시아니솔 (BHA), 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀 및 스테아릴 β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트; 비스페놀 산화방지제, 예컨대, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스 (3-메틸-6-t-부틸페놀) 및 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[β-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐) 프로피오닐옥시]에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸; 및 고분자량 페놀계 산화방지제, 예컨대, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 테트라키스 [메틸렌-3-(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 비스[3,3'-비스(4'-히드록시-3'-t-부틸페닐)부티르산]글리콜 에스테르, 1,3,5-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시벤질)-심-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)-트리온 및 토코페롤(들)이 적합하다.As radical chain inhibitors (primary antioxidants), phenolic antioxidants and amine antioxidants may be mentioned. Monophenolic antioxidants, such as 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole (BHA), 2,6-di-t-butyl-4-, for use as phenolic antioxidants Ethylphenol and stearyl β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate; Bisphenol antioxidants such as 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4 ' -Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol) and 3,9-bis [1,1-dimethyl- 2- [β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane; And high molecular weight phenolic antioxidants such as 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, tetrakis [methylene-3- (3 ', 5'- Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3'-bis (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 1,3 , 5-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) -sim-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione and tocopherol (s Is appropriate.

퍼옥시드 분해제로는, 함황 산화방지제 및 함인 산화방지제가 언급될 수 있다. 함황 산화방지제로 사용하기에는 디라우릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸 3,3'-티오디프로피오네이트, 및 디스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트가 적합하다. 함인 산화방지제로 사용하기에는 트리페닐 포스파이트, 디페닐 이소데실 포스파이트, 페닐 디이소데실 포스파이트, 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페닐 디트리데실) 포스파이트, 시클릭 네오펜탄테트라일 비스 (옥타데실 포스파이트), 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 트리스(모노- 및/또는 디노닐페닐) 포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파펜 안트렌-10-옥시드, 10-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파펜안트렌-10-옥시드, 10-데실옥시-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파펜안트렌, 트리스 (2, 4-디-t-부틸페닐) 포스파이트, 시클릭 네오펜탄테트라일 비스(2,4-디-t-부틸페닐) 포스파이트, 시클릭 네오펜탄테트라일 비스 (2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐) 포스파이트, 및 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐) 옥틸 포스파이트가 적합하다.As the peroxide decomposer, sulfur-containing antioxidants and phosphorus antioxidants may be mentioned. Dilauryl 3,3'-thiodipropionate, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, and distearyl 3,3'-thiodipropionate are suitable for use as sulfur-containing antioxidants. . Triphenyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenyl ditridecyl) phosph Fight, Cyclic Neopentanetetrayl Bis (octadecyl phosphite), Tris (nonylphenyl) phosphite, Tris (mono- and / or dinonylphenyl) phosphite, diisodecyl pentaerythritol diphosphite, 9,10 -Dihydro-9-oxa-10-phosphaphen anthren-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa -10-phosphaphenanthren-10-oxide, 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene, tris (2, 4-di-t-butylphenyl) Phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, And 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) The butyl phosphite are suitable.

이들중, 힌더드 페놀류의 것이 이들의 감압 접착제 중합체 (A)와의 양호한 상용성 및 덜한 착색 경향 등의 면에서 바람직하다.Of these, hindered phenols are preferred in view of their good compatibility with these pressure-sensitive adhesive polymers (A), less coloring tendency, and the like.

산화방지제 (E)는 바람직하게는 감압 접착제 중합체 (A) 100 중량부당, 0.1 중량부 이상, 좀더 바람직하게는 1 중량부 이상, 좀더 더 바람직하게는 3 중량부 이상의 첨가량으로 사용한다. 또한, 이 양은 바람직하게는 100 중량부 이하, 좀더 바람직하게는 50 중량부 이하, 좀더 더 바람직하게는 20 중량부 이하이다.The antioxidant (E) is preferably used in an added amount of at least 0.1 part by weight, more preferably at least 1 part by weight, even more preferably at least 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer (A). In addition, this amount is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or less, even more preferably 20 parts by weight or less.

산화방지제 (E) 의 첨가량이 과도하게 낮으면, 근적외선 흡수 염료는 쉽게 열화될 수 있는 반면, 과도하게 양이 높으면, 불량한 점착성이 발생하거나, 또는 침전이 생길 수 있어, 코팅 필름의 투명성이 손실될 수 있다.If the addition amount of the antioxidant (E) is excessively low, the near-infrared absorbing dye may be easily degraded, while if the amount is excessively high, poor tackiness may occur or precipitation may occur, resulting in a loss of transparency of the coating film. Can be.

본 발명의 실시에서, 자외선 흡수제 (C) 및 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 를 조합하여 사용하고, 힌더드 페놀 골격-자유 힌더드 아민 광 안정화제 (d-l)를 후자로 사용하면, 이들 사이의 비율은 바람직하게는 후자가 자외선 흡수제 (C)의 100 중량부당, 0.1 중량부 이상, 좀더 바람직하게는 1 중량부 이상, 좀더 더 바람직하게는 5 중량부 이상이 되는 정도이다. 한편, (d-1) 의 양은 바람직하게는 100 중량 부 이하, 좀더 바람직하게는 50 중량부 이하, 좀더 더 바람직하게는 30 중량부 이하이다. 힌더드 페놀 골격-포함 힌더드 아민 광 안정화제 (d-2)를 사용하면, 이는 자외선 흡수제 (C)의 100 중량부당, 바람직하게는 0.1 중량부 이상, 좀더 바람직하게는 1 중량부 이상, 좀더 더 바람직하게는 5 중량부 이상이다. 이 양은 바람직하게는 100 중량부 이하, 좀더 바람직하게는 50 중량부 이하, 좀더 더 바람직하게는 30 중량부 이하이다.In the practice of the present invention, when the ultraviolet absorber (C) and the hindered amine light stabilizer (D) are used in combination, and the hindered phenol skeleton-free hindered amine light stabilizer (dl) is used as the latter, The ratio of is preferably such that the latter is at least 0.1 parts by weight, more preferably at least 1 part by weight, even more preferably at least 5 parts by weight per 100 parts by weight of the ultraviolet absorber (C). On the other hand, the amount of (d-1) is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or less, even more preferably 30 parts by weight or less. Using a hindered phenol skeleton-containing hindered amine light stabilizer (d-2), it is preferably at least 0.1 part by weight, more preferably at least 1 part by weight, more per 100 parts by weight of ultraviolet absorber (C). More preferably, it is 5 weight part or more. This amount is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or less, even more preferably 30 parts by weight or less.

바람직하게는, 본 발명의 감압 접착제 조성물은 추가로 칼라 톤 조정제를 포함할 수 있다. 플라즈마 디스플레이에서, 네온듀(neon-due) 오렌지색이 580 내지 600 nm 의 파장에서 발생한다. 생생한 적색을 수득하기 위해서는, 상기 오렌지 배색은 컷오프시켜야 하며, 동시에, 광학필터의 칼라 톤은 천연색인 회색으로 조정하여야 한다. 칼라 톤 조정제를 감압 접착제 조성물에 첨가하고, 생성된 조성물을 플라즈마 디스플레이 광학 필터-형성 물질을 접착시키는데 함께 사용하면, 네온듀 오렌지 배색을 컷오프시키고, 천연색인 회색으로 광학 필터의 칼라 톤을 조정하는 것이 가능하다.Preferably, the pressure sensitive adhesive composition of the present invention may further comprise a color tone adjuster. In plasma displays, neon-due orange occurs at wavelengths of 580-600 nm. In order to obtain a vivid red color, the orange color scheme should be cut off and at the same time the color tone of the optical filter should be adjusted to the natural gray color. When a color tone modifier is added to the pressure sensitive adhesive composition and the resulting composition is used together to bond the plasma display optical filter-forming material, it is necessary to cut off the neon dew orange color scheme and adjust the color tone of the optical filter to natural gray. It is possible.

칼라 톤 조정제는 염료 또는 안료일 수 있다. 염료로는 스쿠아릴륨 염료, 아조메틴 염료, 시아닌 염료, 메로시아닌 염료, 프탈로시아닌 염료, 옥소놀 염료, 안트라퀴논 염료, 벤질리덴 염료, 아조 염료, 및 트리아릴메탄 염료 및 이로부터 유도된 금속 킬레이트 화합물과 같은 염료가 바람직하다. 안료로는 아조, 프탈로시아닌, 안트라퀴논, 퀸아크리돈 등의 유기 안료가 바람직하다.The color tone adjuster may be a dye or a pigment. Dyes include squarylium dyes, azomethine dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, anthraquinone dyes, benzylidene dyes, azo dyes, and triarylmethane dyes and metal chelates derived therefrom. Preference is given to dyes such as compounds. As the pigment, organic pigments such as azo, phthalocyanine, anthraquinone and quinacridone are preferable.

칼라 톤 조정제의 첨가량은 질량기준으로 근적외선 흡수 염료의 바람직하게 는 0.1 내지 10 배, 좀더 바람직하게는 0.5 내지 5 배이다. The amount of color tone modifier added is preferably 0.1 to 10 times, more preferably 0.5 to 5 times, of the near infrared absorbing dye on a mass basis.

본 발명의 감압 접착제 조성물로 형성된 필름 또는 코팅 필름은 가교 또는 비가교 상태에서 사용할 수 있다.The film or coating film formed from the pressure sensitive adhesive composition of the present invention can be used in a crosslinked or non-crosslinked state.

본 발명의 감압 접착제 조성물은 이의 의도하는 용도 및 경화제의 종류에 따라 다양한 경화 조건하에서 경화될 수 있어, 예컨대, 냉경화, 열경화, 자외선경화 또는 전자빔경화 형의 형태로 사용할 수 있다. 경화제의 첨가량 및 분산 및 첨가방법은 특별히 제한되지 않으나, 감압 접착제 중합체 (A) 가 각 분자내 복수의 히드록실기를 갖는 폴리올로서 발생하면, 예컨대, 폴리올의 경화시 통상적으로 사용하는 첨가 및 분산 방법 및 첨가량을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may be cured under various curing conditions depending on the intended use thereof and the kind of curing agent, and may be used, for example, in the form of a cold curing, thermal curing, ultraviolet curing or electron beam curing type. The addition amount, dispersion and addition method of the curing agent are not particularly limited, but if the pressure-sensitive adhesive polymer (A) occurs as a polyol having a plurality of hydroxyl groups in each molecule, for example, an addition and dispersion method commonly used in curing the polyol. And addition amounts can be used.

감압 접착제 중합체 (A) 가 폴리올로 구성되는 경우, (블록키드(blocked)) 폴리이소시아네이트 화합물 및 아미노플라스트 수지가 가교제로서 사용하기에 적합하다. 이는 단독으로 또는 이의 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.When the pressure sensitive adhesive polymer (A) is composed of polyols, (blocked) polyisocyanate compounds and aminoplast resins are suitable for use as crosslinking agents. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

본원에서 사용하는 용어 “(블록키드) 폴리이소시아네이트 화합물”은 폴리이소시아네이트 화합물 및/또는 블록키드 폴리이소시아네이트 화합물을 의미한다.As used herein, the term “(blocked) polyisocyanate compound” refers to a polyisocyanate compound and / or a blocked kit polyisocyanate compound.

폴리이소시아네이트 화합물은 분자내 둘 이상의 이소시아네이토기를 갖는 화합물중 임의의 것일 수 있다. 따라서, 이에는 톨릴렌 디이소시아네이트, 크실릴렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실 이소시아네이트), 라이신디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이토메틸) 시클로헥산, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소 시아네이트, 및 기타 폴리이소시아네이트; 이러한 폴리이소시아네이트의 부가물, 비우레트 형, 및 이소시아누레이트 형 및 기타 폴리이소시아네이트 유도체 (개질화)가 포함된다.The polyisocyanate compound may be any of compounds having at least two isocyanato groups in the molecule. Thus, this includes tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), lysine di Isocyanates, trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,5-naphthalene diisocyanate, triphenylmethanetriiso cyanate, and other polyisocyanates; Adducts of these polyisocyanates, biuret forms, and isocyanurate forms and other polyisocyanate derivatives (modifications).

전술한 블록키드 폴리이소시아네이트 화합물은 통상적으로 폴리이소시아네이트 화합물의 이소시아네이토기의 블록킹제에 의한 블록킹의 산물이어서, 감압 접착제 조성물은 가열에 의하여 건조 단계에서 가교될 수 있으며, 보통의 온도에서 이의 저장 안정성은 향상될 수 있다.The above-mentioned blocky polyisocyanate compounds are usually the product of the blocking by the blocking agent of the isocyanate group of the polyisocyanate compound, so that the pressure-sensitive adhesive composition can be crosslinked in the drying step by heating, and its storage stability at normal temperature. Can be improved.

블록킹제에는 β-카프로락탐, 페놀, 크레졸, 옥심, 및 알코올과 같은 화합물이 포함된다.Blocking agents include compounds such as β-caprolactam, phenol, cresol, oxime, and alcohol.

(블록키드) 폴리이소시아네이트 화합물의 시판 등급으로는, Sumidur N 3200, Sumidur N 3300, Sumidur EL 3175, Desmodur N 3400, Desmodur N 3600, Desmodur VPLS 2102 (상표명, Sumitomo Bayer Urethane 제품), 및 Duranate E-402-90T (상표명, Asahi Kasei Corp.제품)을 언급할 수 있다. 감압 접착제 조성물로 형성된 코팅 필름의 황색화를 방지하기 위하여, 방향족 고리에 직접적으로 결합하는 이소시아네이토기를 갖지 않는 비황색화 폴리이소시아네이트 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Commercial grades of (blockkid) polyisocyanate compounds include Sumidur N 3200, Sumidur N 3300, Sumidur EL 3175, Desmodur N 3400, Desmodur N 3600, Desmodur VPLS 2102 (trade name, available from Sumitomo Bayer Urethane), and Duranate E-402 -90T (trade name, manufactured by Asahi Kasei Corp.) may be mentioned. In order to prevent yellowing of the coating film formed of the pressure-sensitive adhesive composition, it is preferable to use a non-yellowing polyisocyanate compound having no isocyanato group directly bonded to the aromatic ring.

(블록키드) 폴리이소시아네이트 화합물은 바람직하게는 (블록키드) 폴리이소시아네이트 화합물내 이소시아네이토기가 감압 접착제 조성물내 히드록실기의 1 몰당, 0.01 몰 이상 및 5 몰 이하가 되는 양으로 사용한다. 이것이 0.01 몰 미만이면, 비반응 히드록실기는 감압 접착제 조성물내 다량으로 잔존하게 되어, 생성된 감압 접착제 조성물을 이용하여 형성된 코팅 필름의 내후성이 감소할 수 있다. 이것이 5 몰을 초과하면, 비반응 이소시아네이토기는 코팅 필름에 다량으로 남아, 코팅 필름 경화의 단계에서, 공기중의 수분과 반응하여, 코팅 필름내에서 기포발생 또는 백색화를 유발한다. 좀더 바람직하게는, 상기 양은 0.1 몰 이상, 좀더 더 바람직하게는 0.5 몰 이상이다. 좀더 바람직하게는, 이는 2 몰 이하, 좀더 더 바람직하게는 1.2 몰 이하이다.(Blocked) The polyisocyanate compound is preferably used in an amount such that the isocyanate group in the (blocked) polyisocyanate compound becomes 0.01 mol or more and 5 mol or less per mole of hydroxyl groups in the pressure-sensitive adhesive composition. If it is less than 0.01 mole, unreacted hydroxyl groups remain in large amounts in the pressure sensitive adhesive composition, thereby reducing the weather resistance of the coating film formed using the resulting pressure sensitive adhesive composition. If it exceeds 5 moles, unreacted isocyanato groups remain in the coating film in a large amount, and react with moisture in the air at the stage of coating film curing, causing bubbles or whitening in the coating film. More preferably, the amount is at least 0.1 moles, even more preferably at least 0.5 moles. More preferably, it is at most 2 moles, even more preferably at most 1.2 moles.

전술한 아미노플라스트 수지는 아미노기 함유 화합물, 예컨대, 멜라민 또는 구아나민, 및 포름알데히드로부터 유도된 부가 축합물이며, 또한 "아미노 수지" 로 불리운다.The aforementioned aminoplast resins are addition groups derived from amino group containing compounds such as melamine or guanamine, and formaldehyde, also called "amino resins".

아미노플라스트 수지로는, 디메틸올멜라민, 트리메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 헥사메틸올멜라민, 완전 알킬형(complete alkyl type) 메틸화 멜라민, 완전 알킬형 부틸화 멜라민, 완전 알킬형 이소부틸화 멜라민, 완전 알킬형 혼합 에테르화 멜라민, 메틸올형 메틸화 멜라민, 이미노형 메틸화 멜라민, 메틸올형 혼합 에테르화 멜라민, 이미노형 혼합 에테르화 멜라민, 등의 멜라민 수지; 부틸화 벤조구아나민, 메틸/에틸 혼합 알킬화 벤조구아나민, 메틸/부틸 혼합 알킬화 벤조구아나민, 부틸화 글리콜우릴, 등의 구아나민 수지, 등을 언급할 수 있다.Examples of the aminoplast resins include dimethylolmelamine, trimethylolmelamine, tetramethylolmelamine, pentamethylolmelamine, hexamethylolmelamine, complete alkyl type methylated melamine, fully alkylated butylated melamine, and fully alkyl. Melamine resins such as isobutylated melamine, fully alkylated etherified melamine, methylol methylated melamine, imino methylated melamine, methylol mixed etherified melamine, imino mixed etherified melamine, and the like; And guanamine resins such as butylated benzoguanamine, methyl / ethyl mixed alkylated benzoguanamine, methyl / butyl mixed alkylated benzoguanamine, butylated glycoluril, and the like.

전술한 아미노플라스트 수지의 시판 등급으로는, Cymel 1128, Cymel 303, Mycoat 506, Cymel 232, Cymel 235, Cymel 771, Cymel 325, Cymel 272, Cymel 254, 및 Cymel 1170 (모두 상표명, Mitsui Cytec 제품), 등을 언급할 수 있다. Commercial grades of the aforementioned aminoplast resins include Cymel 1128, Cymel 303, Mycoat 506, Cymel 232, Cymel 235, Cymel 771, Cymel 325, Cymel 272, Cymel 254, and Cymel 1170 (all trade names, manufactured by Mitsui Cytec) , Etc. may be mentioned.                     

아미노플라스트 수지의 첨가량과 관련하여서는, 이는 바람직하게는 아미노플라스트 수지의 고형물 질량이 감압 접착제 중합체 (A)의 100 중량부당, 0.1 중량부 이상, 좀더 바람직하게는 0.5 중량부 이상이 될 수 있는 양으로 도입한다. 이는 바람직하게는 10 중량부 이하, 좀더 바람직하게는 5 중량부 이하로 도입한다. 과량의 아미노플라스트 수지의 사용은 점착성의 손실을 초래할 수 있으며, 이의 양이 너무 작으면, 가교가 진행되지 않아 불량한 접착력을 초래할 수 있다.With regard to the amount of aminoplast resin added, it is preferable that the solid mass of the aminoplast resin can be at least 0.1 parts by weight, more preferably at least 0.5 parts by weight, per 100 parts by weight of the pressure sensitive adhesive polymer (A). Introduced in quantity. It is preferably introduced at 10 parts by weight or less, more preferably at 5 parts by weight or less. The use of excess aminoplast resin can result in loss of tack, and if the amount is too small, crosslinking will not proceed and result in poor adhesion.

본 발명의 감압 접착제 조성물내 가교계로는 전술한 OH/이소시아네이트계 뿐만아니라 산/에폭시, 산/금속 킬레이트, 산/옥사졸린, 및 산/아민계가 적합하게 사용된다. 만일 본 발명의 효과가 감소되지 않는다면, 본 발명의 감압 접착제 조성물은 추가로 전술한 폴리이소시아네이트 화합물외의 가교제, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 옥사졸린 화합물, 멜라민 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 카르보디이미드 화합물, 글리시딜아민 화합물, 아민 화합물 등을 포함할 수 있다. 이는 단독으로 또는 이들의 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the crosslinking system in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, not only the aforementioned OH / isocyanate system but also acid / epoxy, acid / metal chelate, acid / oxazoline, and acid / amine system are suitably used. If the effect of the present invention is not reduced, the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may further comprise crosslinking agents, epoxy compounds, aziridine compounds, oxazoline compounds, melamine compounds, metal chelate compounds, carbodiimide compounds, Glycidylamine compounds, amine compounds and the like. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

본 발명의 감압 접착제 조성물은 필요에 따라 감압 접착제 중합체 (A) 및 가교제 사이의 가교반응을 촉진시키기 위하여, 1 종 이상의 경화촉매를 포함할 수 있다. 이러한 경화촉매는 특별히 제한되지 않으나, 전술한 (블록키드) 폴리이소시아네이트 화합물을 사용하면, 예컨대, 디부틸주석 디라우레이트 또는 삼차 아민과 같은 촉매를 바람직하게는 사용한다. 전술한 아미노플라스트 수지를 사용하면, 산성 또는 염기성 경화촉매가 바람직하게는 사용된다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may include one or more kinds of curing catalysts in order to promote the crosslinking reaction between the pressure-sensitive adhesive polymer (A) and the crosslinking agent as necessary. Such a curing catalyst is not particularly limited, but using the aforementioned (blocked) polyisocyanate compound, a catalyst such as, for example, dibutyltin dilaurate or tertiary amine is preferably used. If the above-described aminoplast resin is used, an acidic or basic curing catalyst is preferably used.

본 발명의 감압 접착제 조성물은 추가의 성분(들)로, 1 종 이상의 용매 및 첨가제를 포함할 수 있다. 이러한 용매로는, 전술한 바와 동일한 유기 용매를 예로 들 수 있고, 첨가제로는, 당해기술에서 공지되어 있고, 필름 형성, 필름 코팅 등을 위한 수지 조성물에서 통상적으로 사용되는 첨가제, 예컨대, 레벨링제; 콜로이드성 실리카, 알루미나 졸 등의 무기 미립자; 소포제; 흐름 방지제; 실란 커플링제; 티타늄 화이트, 복합 산화물 안료, 카본 블랙, 유기 안료, 안료 중간체, 및 기타 안료; 안료 분산제; 점도 개질제; 자외선 안정화제; 금속 불활성화제; 퍼옥시드 분해제; 충진제; 보강제; 가소화제; 윤활제; 부식방지제; 방청제; 유기 및 무기 자외선 흡수제; 무기 열선 흡수제; 유기 및 무기 난염제; 대전방지제; 점착제; 핵형성제, 등을 언급할 수 있다.The pressure sensitive adhesive composition of the present invention may comprise one or more solvents and additives as additional component (s). As such a solvent, the same organic solvent as mentioned above can be mentioned, As an additive, It is known in the art, Additives conventionally used in resin composition for film formation, film coating, etc., For example, Leveling agent; Inorganic fine particles such as colloidal silica and alumina sol; Antifoam; Flow inhibitors; Silane coupling agents; Titanium white, composite oxide pigments, carbon black, organic pigments, pigment intermediates, and other pigments; Pigment dispersants; Viscosity modifiers; Ultraviolet stabilizers; Metal deactivators; Peroxide degrading agents; Fillers; Adjuvant; Plasticizers; slush; Preservatives; Antirust agent; Organic and inorganic ultraviolet absorbers; Inorganic heat absorbers; Organic and inorganic flame retardants; Antistatic agent; adhesive; Nucleating agents, and the like.

전술한 점착제는 점착성 향상제이며, 점착성을 조정(향상)시킬 수 있다. 점착제로는 (중합화) 로신형, (중합화) 로신 에스테르형, 테르펜형, 테르펜 페놀형, 쿠마론형, 쿠마론-인덴형, 스티렌계 수지형, 크실렌 수지형, 페놀 수지형, 및 페트롤륨 수지형 점착제를 언급할 수 있다. 이것은 단독으로 또는 이들의 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 점착제를 도입하는 경우에는, 첨가량은 특별히 제한되지 않으나, 목적하는 점착 성능 특성이 수득되도록 적절하게 선택할 수 있다. 핵형성제로는, 소듐 2,2'-메틸렌비스 (4,6-디-t-부틸페닐)포스페이트, 소듐 비스 (4-t-부틸페닐)포스페이트, 비스(p-메틸벤질리덴)소르비톨, 알킬-치환 디벤질리덴소르비톨, 및 비스 (p-에틸벤질리덴) 소르비톨을 언급할 수 있다. 핵형성제의 첨가량은 감압 접착제 중합체 (A)의 100 중량부에 대해, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량부, 좀더 바람직하게는 0.1 내지 2 중량부이다. 이보다 낮은 양에서는, 만족 스러운 효과가 얻어질 수 없다.The above-mentioned adhesive is an adhesive improving agent, and can adjust (improve) adhesiveness. As the pressure-sensitive adhesive, (polymerized) rosin type, (polymerized) rosin ester type, terpene type, terpene phenol type, coumarone type, coumarone-indene type, styrene resin type, xylene resin type, phenol resin type, and petroleum Mention may be made of resinous pressure-sensitive adhesives. These may be used alone or in combination of two or more thereof. In the case of introducing such an adhesive, the addition amount is not particularly limited, but may be appropriately selected so that the desired adhesive performance characteristics are obtained. Examples of nucleating agents include sodium 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) phosphate, sodium bis (4-t-butylphenyl) phosphate, bis (p-methylbenzylidene) sorbitol, alkyl Mention may be made of -substituted dibenzylidene sorbitol, and bis (p-ethylbenzylidene) sorbitol. The addition amount of the nucleating agent is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer (A). At lower amounts, satisfactory effects cannot be obtained.

본 발명의 감압 접착제 조성물은 추가로 힌더드 아민 광 안정화제 (D) 이외의 광안정화제를 포함할 수 있다. 이러한 광 안정화제로는, 니켈 비스 (옥틸페닐) 술피드, [2,2'-티오비스(4-tert-옥틸페놀레이토)]-n-부틸아민 니켈, 니켈 복합체-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질인산 모노에틸레이트, 및 니켈 디부틸디티오카르바메이트를 언급할 수 있다. 니켈 비스(옥틸페닐) 술피드의 적합한 시판 등급으로는 AM-101 (상표명, Ferro Chemical Corp.제품) 및 AM-105 (상표명, Ferro Chemical Corp.제품)을 이용할 수 있다. [2,2'-티오비스(4-tert-옥틸페놀레이토)]-n-부틸아민 니켈의 적합한 시판 등급으로는 Cyasorb UV-l084 (상표명, Cytec Industries Inc. 제품)을 이용할 수 있다. 니켈 복합체-3, 5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질인산 모노에틸레이트의 시판 등급으로는 Irgasorb 2002 (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K.제품)을 이용할 수 있다. 니켈 디부틸디티오카르바메이트의 적합한 시판 등급물은 NBC (상표명, ICI 또는 Ouchishinko Chemical Industrial Co., Ltd.제품)이다.The pressure sensitive adhesive composition of the present invention may further include light stabilizers other than the hindered amine light stabilizer (D). Such light stabilizers include nickel bis (octylphenyl) sulfide, [2,2'-thiobis (4-tert-octylphenolrato)]-n-butylamine nickel, nickel composite-3,5-di-tert Mention may be made of -butyl-4-hydroxybenzylphosphate monoethylate, and nickel dibutyldithiocarbamate. Suitable commercial grades of nickel bis (octylphenyl) sulfide can use AM-101 (trade name, manufactured by Ferro Chemical Corp.) and AM-105 (trade name, manufactured by Ferro Chemical Corp.). A suitable commercial grade of [2,2'-thiobis (4-tert-octylphenolrato)]-n-butylamine nickel may use Cyasorb UV-084 (trade name, manufactured by Cytec Industries Inc.). As a commercial grade for nickel complex-3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphate monoethylate, Irgasorb 2002 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals K.K.) can be used. A suitable commercial grade of nickel dibutyldithiocarbamate is NBC (trade name, manufactured by ICI or Ouchishinko Chemical Industrial Co., Ltd.).

본 발명의 감압 접착제 조성물로 형성된 필름 또는 코팅 필름의 형태와 관련하여서는, 본 발명의 감압 접착제 조성물로 형성된 필름 또는 코팅 필름을 포함하는 적층체를 언급할 수 있으며, 이는 투명한 기판상에 배치하거나 또는 2 개의 기판사이에 끼워짐으로써 접착제 층으로 작용한다.With regard to the form of a film or coating film formed of the pressure sensitive adhesive composition of the present invention, mention may be made of a laminate comprising a film or coating film formed of the pressure sensitive adhesive composition of the invention, which is disposed on a transparent substrate or 2 It sandwiches between two substrates and acts as an adhesive layer.

전술한 투명한 기판으로는 유기 기판, 예컨대, 다른것들 중, 폴리카르보네이트 수지, 아크릴계 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리프로필렌 수 지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐 클로라이드 수지, 폴리비닐 알코올 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지; 및 무기 기판, 예컨대, 유리 기판이 적합하게는 사용된다. As the above-mentioned transparent substrate, an organic substrate, for example, polycarbonate resin, acrylic resin, polyethylene resin, polyester resin, polypropylene resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl alcohol resin, polyethylene, among others Terephthalate resin, triacetyl cellulose resin; And inorganic substrates such as glass substrates are suitably used.

전술한 접착제 층은 감압 접착제 조성물을 투명한 기판상에 적용하여 형성시킬 수 있다. 감압 접착제 조성물을 기판상에 적용하는 방법은 특별히 제한되지는 않지만, 종래 기술에 공지된 방법을 사용할 수 있다. 따라서, 예컨대, 상기 조성물은 기판에 직접적으로, 또는 이형 라이너 (이형지, 이형필름)에 미리 적용하고, 이어서, 건조한 후, 기판으로 옮길수 있다. 감압 접착제 조성물은 기판의 한면 또는 양면에 적용할 수 있다. 본 발명의 감압 접착제 조성물로 형성된 필름 또는 코팅 필름은 점착성을 갖기 때문에, 감압 접착제 조성물을 기판에 적용하여 접착제층을 형성시킨후, 또 다른 기판을 이용하여 적층체를 추가로 형성시키는 경우 또는 감압 접착제 조성물을 필름의 형태로 사용하는 경우, 접착제 층 표면 또는 필름 표면을 이형지로 적층시키고, 사용하는 경우에는, 이형지를 벗겨내는 것이 바람직하다.The above-described adhesive layer can be formed by applying the pressure-sensitive adhesive composition on a transparent substrate. The method of applying the pressure-sensitive adhesive composition on the substrate is not particularly limited, but a method known in the art can be used. Thus, for example, the composition may be applied directly to the substrate or in advance to a release liner (release paper, release film), and then dried and then transferred to the substrate. The pressure sensitive adhesive composition may be applied to one or both sides of the substrate. Since the film or coating film formed from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is tacky, after applying the pressure-sensitive adhesive composition to a substrate to form an adhesive layer, when further forming a laminate using another substrate or pressure-sensitive adhesive When using a composition in the form of a film, it is preferable to laminate | stack an adhesive layer surface or a film surface with a release paper, and, when using, to peel off a release paper.

전술한 접착제 층의 형성시, 감압 접착제 조성물을 투명한 기판에 적용하는 방법은 적용시킬 감압 접착제 조성물의 형태 및 기타 요인에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 이러한 방법으로는, (1) 감압 접착제 조성물을 유기 용매중에 용해시키고, 생성된 균일한 용액을 다양한 필름 또는 시트(기판)의 표면에 적용하는 것을 포함하는 용매형 적용 방법, (2) 감압 접착제 조성물을 수중에 용해시키고, 생성된 에멀젼을 다양한 기판의 표면에 적용하는 것을 포함하는 에멀젼형 적용 방법, (3) 감압 접착제 조성물을 승온된 온도에서 용융 및 혼합하고, 생성된 용융물을 기판 표면에 적용하는 것을 포함하는 열용융형 적용 방법, 및 (4) 무용매적용 방법인 칼렌더링형 적용 방법을 언급할 수 있다. (1) 용매형 적용 방법 또는 (2) 에멀젼형 적용 방법의 경우에서, 전술한 적절한 유기 용매는 이의 적용을 위하여 감압 접착제 조성물과 혼합할 수 있고, 적용 방법과 관련하여서는, 다양한 코터 및 딥핑, 분무, 브러슁 및 정전기술 등을 사용하는 적용 방법을 언급할 수 있다. 코터로는, 그라비어 코터, 예컨대, 아크 그라비어 코터, 옵셋 그라비어 코터, 팬 피드 그라비어 코터 및 다이 피드 그라비어 코터; 리버스코터, 예컨대, 탑 피드 리버스코터 및 바텀 피드 리버스코터; 콤마 코터, 예컨대, 콤마 디렉트 코터, 콤마 리버스코터 및 U 콤마 코터; 에어 나이프 코터, 나이프 코터, 파운틴 다이 코터, 립 코터, 메이어 바아 코터, 커튼 플로우 코터, 롤 코터, 스핀 코터, 블레이드 코터, 바아 코터, 다이 코터, 스프레이 코터, 등을 언급할 수 있다. 감압 접착제 조성물의 경화 방법은 구성성분 종류 및 기타 요인에 따라 적절하게 선택할 수 있으며, 예컨대, 가열을 포함하는 방법 및 자외선 또는 전자빔의 조사를 포함하는 방법을 언급할 수 있다.In forming the adhesive layer described above, the method of applying the pressure sensitive adhesive composition to the transparent substrate may be appropriately selected depending on the form and other factors of the pressure sensitive adhesive composition to be applied. Such methods include (1) a solvent-type application method comprising dissolving a pressure-sensitive adhesive composition in an organic solvent and applying the resulting uniform solution to the surface of various films or sheets (substrates), (2) pressure-sensitive adhesive composition Method of dissolving in water, and applying the resulting emulsion to the surfaces of various substrates, (3) melting and mixing the pressure-sensitive adhesive composition at elevated temperatures, and applying the resulting melt to the substrate surface. Heat melting type application method, and (4) a calendering type application method which is a solventless application method. In the case of (1) solvent type application method or (2) emulsion type application method, the above-mentioned suitable organic solvent can be mixed with the pressure-sensitive adhesive composition for its application, and with regard to the application method, various coaters and dipping, spraying Mention may be made of application methods using brushing, electrostatics and the like. Coaters include gravure coaters, such as arc gravure coaters, offset gravure coaters, pan feed gravure coaters and die feed gravure coaters; Reversors such as top feed reversator and bottom feed reversator; Comma coaters such as comma direct coater, comma reversor and U comma coater; Air knife coaters, knife coaters, fountain die coaters, lip coaters, Meyer bar coaters, curtain flow coaters, roll coaters, spin coaters, blade coaters, bar coaters, die coaters, spray coaters, and the like. The curing method of the pressure-sensitive adhesive composition may be appropriately selected depending on the kind of components and other factors, and may mention, for example, a method including heating and a method including irradiation of ultraviolet or electron beams.

전술한 접착제 층의 두께는 특별히 제한되지는 않지만, 목적하는 용도에 따라 적절한 수준에서 선택할 수 있다. 예컨대, 건조 두께는 바람직하게는 5 ㎛ 이상 및 200 ㎛ 이하이다. 좀더 바람직하게는 15 ㎛ 이상 및 100 ㎛ 이하, 좀더 더 바람직하게는 50 ㎛ 이하이다. 접착제 층이 상기 보다 얇으면, 불량한 접착성이 발생할 수 있으며, 불리하게는 부분적 리프팅(lifting) 또는 플래깅(flagging)이 발 생한다. 층이 상기 보다 두꺼우면, 접착제가 불리하게는 비어져 나올 수 있다.The thickness of the above-described adhesive layer is not particularly limited, but may be selected at an appropriate level depending on the intended use. For example, the dry thickness is preferably at least 5 μm and at most 200 μm. More preferably, it is 15 micrometers or more and 100 micrometers or less, More preferably, it is 50 micrometers or less. If the adhesive layer is thinner than this, poor adhesiveness may occur, and disadvantageously, partial lifting or flagging occurs. If the layer is thicker than above, the adhesive may disadvantageously bulge out.

전술한 적층체에서, 자외선 흡수층은 바람직하게는 근적외선 흡수층의 입사광면에 배치한다. 이에 의해, 근적외선 흡수 염료가 열화되는 것을 좀더 효과적으로 방지할 수 있다. 이러한 적층체의 적층 구조는 특별히 제한되지는 않지만, 예컨대, (1) 입사광면에서 자외선 흡수층, 접착제 층 및 기판순으로 이들을 포함하는 적층체 형태, 및 (2) 입사광면에서 자외선 흡수층, 기판 및 접착제 층순으로 이들을 포함하는 적층체 형태가 포함된다. 마찰방지 및 오염방지의 향상을 위해서는, 적층체 표면에는 추가로 표면 보호층 또는 층들, 예컨대, 실리콘 또는 유기 하드 코트 층 또는/및 광촉매 관능층이 제공될 수 있다. 필요하면, 프라이머 층을 기판 및 적층체 사이 및/또는 적층체의 두개의 인접 층사이에 제공할 수 있다. 이러한 자외선 흡수층, 표면 보호층 또는 프라이머 층의 조성 또는 두께는 특별히 제한되지는 않는다.In the above-mentioned laminate, the ultraviolet absorbing layer is preferably disposed on the incident light surface of the near infrared absorbing layer. This can prevent the near-infrared absorbing dye from deteriorating more effectively. The laminated structure of such a laminate is not particularly limited, but for example, (1) in the form of a laminate comprising them in the order of the ultraviolet light absorbing layer, the adhesive layer and the substrate at the incident light surface, and (2) the ultraviolet absorbing layer, the substrate and the adhesive at the incident light surface. Included are laminate forms comprising them in layered order. In order to improve antifriction and antifouling, the laminate surface may further be provided with a surface protective layer or layers, such as a silicone or organic hard coat layer or / and photocatalytic functional layer. If desired, a primer layer may be provided between the substrate and the laminate and / or between two adjacent layers of the laminate. The composition or thickness of such ultraviolet absorbing layer, surface protective layer or primer layer is not particularly limited.

본 발명의 감압 접착제 조성물로 형성된 코팅 필름은 근적외선 흡수능에서의 열화는 경미하며, 조성물은 점착성을 갖는 것을 특징으로 한다. 코팅 필름의 유익한 물성은 광보호 시험후 근적외선 흡수 염료의 근적외선 흡수능에서의 감소는 경미하다는 사실, 즉, 잔류 흡수능이 높다는 사실에 의해 입증된다. 후술되는 근적외선 흡수 염료의 열화에 대한 평가에서 96 시간의 UV 조사후 최대 흡수 파장 (근적외선 흡수 염료의 최대 흡수 파장: 780 내지 1200 nm)에서의 필름의 흡수성은 초기값을 100% 로 하였을 때, 바람직하게는 5% 이상, 좀더 바람직하게는 50% 이상, 좀더 더 바람직하게는 85% 이상, 가장 바람직하게는 95% 이상이다. UV 조사후 흡 수값은 초기값을 100% 로 하였을때 상대값이다.The coating film formed from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is characterized in that the deterioration in the near-infrared absorptivity is slight, and the composition has adhesiveness. The beneficial physical properties of the coating film are evidenced by the fact that the decrease in near infrared absorption capacity of the near infrared absorbing dye after the photoprotective test is slight, i.e., the high residual absorption capacity. The absorbency of the film at the maximum absorption wavelength (maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing dye: 780 to 1200 nm) after 96 hours of UV irradiation in the evaluation of deterioration of the near infrared absorbing dye described below is preferable when the initial value is 100%. Preferably at least 5%, more preferably at least 50%, even more preferably at least 85%, most preferably at least 95%. Absorption values after UV irradiation are relative when the initial value is 100%.

(열화에 대한 근적외선 흡수 염료 평가) (Near Infrared Absorbing Dye Evaluation for Degradation)

근적외선 흡수 염료의 최대 흡수 파장에서의 흡수성을 UV 조사후 모니터링한다.The absorbance at the maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing dye is monitored after UV irradiation.

감압 접착제 층을, 어플리케이터를 이용하여, 감압 접착제 조성물을 이형 필름 (실리콘 처리 PET 필름)에 25 ㎛ 의 건조 두께로 적용하여 형성시킨다. 상기 층을 100℃ 에서 2 분간 건조시킨다. 접착제 층을 50-㎛-두께 또는 100-㎛-두께 PET 필름 (상기 필름으로 접착제층의 전달을 위해)으로 적층시킨다. 이형 필름을 감압 접착제 조성물에서 벗겨낸 후, 이를 50-㎛-두께 PET 필름으로 적층시킨다. The pressure-sensitive adhesive layer is formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition to a release film (silicon treated PET film) at a dry thickness of 25 μm using an applicator. The layer is dried at 100 ° C. for 2 minutes. The adhesive layer is laminated with a 50-μm-thick or 100-μm-thick PET film (for delivery of the adhesive layer to the film). The release film is peeled off from the pressure sensitive adhesive composition and then laminated to a 50-μm-thick PET film.

분광기 (Shimadzu Corp.제품, 상표명: UV-3100)를 이용하여, 최대 흡수 파장에서의 상기 필름의 흡수성 (근적외선 흡수 염료의 최대 흡수 파장: 780 내지 1200 nm)을 측정한다. 전술한 필름은 자외선 자동 페이드 미터(Suga Test Instruments Co., Ltd.제품, 상표명: FAL-AU-B)를 이용하여 UV 조사시킨다. 분광기 (Shimadzu Corp. 제품, 상표명: UV-3100)를 이용하여, 흡수성 측정을 필름의 최대 흡수 파장에서 (근적외선 흡수 염료의 최대 흡수 파장: 780 내지 1200 nm) 48 시간 간격으로 UV 를 조사하여 수행한다. 상대 흡수성 값을 기록하고, 초기값을 100 으로 한다. 100% 에 가까운 값일 수록 염료의 실질적 열화가 없는 보다 나은 결과를 나타낸다.Using a spectrometer (manufactured by Shimadzu Corp., trade name: UV-3100), the absorbency of the film at the maximum absorption wavelength (maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing dye: 780 to 1200 nm) is measured. The film described above is UV irradiated using an ultraviolet automatic fade meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., trade name: FAL-AU-B). Absorption measurements are performed using a spectrometer (Shimadzu Corp., trade name: UV-3100) by irradiating UV at 48 hour intervals at the maximum absorption wavelength of the film (maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing dye: 780 to 1200 nm). . Record the relative absorbency value and set the initial value to 100. Values close to 100% yield better results without substantial degradation of the dye.

본 발명의 감압 접착제 조성물로 형성된 필름 또는 코팅 필름 또는 접착제 층으로 상기 코팅 필름 또는 필름을 포함하는 적층체는 바람직하게는 향상된 투명성을 갖는다. 따라서, 예컨대, 바람직하게는 3.0% 이하, 좀더 바람직하게는 2.0% 이하, 좀더 더 바람직하게는 1.0% 이하의 헤이즈 값을 갖는다.Films or coating films or adhesive layers formed from the pressure-sensitive adhesive composition of the invention preferably comprise laminates comprising the coating films or films have improved transparency. Thus, for example, it has a haze value of preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, even more preferably 1.0% or less.

본 발명의 감압 접착제 조성물은 통상의 접착 목적으로 광범위하게 사용될 수 있으며, 이는 바람직하게는 전자 장비 또는 장치, 예컨대 플라즈마 디스플레이에 접착제 층을 형성시키기 위한 물질로서 사용된다.The pressure sensitive adhesive compositions of the present invention can be used extensively for conventional adhesive purposes, which are preferably used as materials for forming adhesive layers in electronic equipment or devices, such as plasma displays.

이러한 감압 접착제 조성물이 접착제 층 및 동시에 근적외선 흡수층으로 기능하면, 플라즈마 디스플레이 등의 층구조는 단순해질 수 있으며, 스크린으로부터의 근적외선 등의 방사는 억제될 수 있다.If such a pressure-sensitive adhesive composition functions as an adhesive layer and at the same time a near infrared absorbing layer, the layer structure of a plasma display or the like can be simplified, and radiation of near infrared or the like from the screen can be suppressed.

본 발명의 바람직한 구현예로는, 전술한 감압 접착제 조성물을 이용하여 형성된, 플라즈마 디스플레이 전면 플레이트를 형성시키는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터, 즉, 전술한 감압 접착제 조성물을 포함하는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터를 언급할 수 있다. 또한, 전술한 감압 접착제 조성물을 포함하는 플라즈마 디스플레이를 들 수 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이의 바람직한 형태는 전술한 플라즈마 디스플레이 광학 필터를 주 구성성분으로 포함하는 플라즈마 디스플레이이다.As a preferred embodiment of the present invention, an optical filter for plasma display forming a plasma display front plate formed using the above-described pressure-sensitive adhesive composition, that is, an optical filter for plasma display including the pressure-sensitive adhesive composition described above will be mentioned. Can be. Moreover, the plasma display containing the pressure sensitive adhesive composition mentioned above is mentioned. A preferred form of such plasma display is a plasma display comprising the aforementioned plasma display optical filter as a main component.

이러한 플라즈마 디스플레이 광학 필터 또는 플라즈마 디스플레이에서, 본 발명의 감압 접착제 조성물로 형성된 접착제 층은 근적외선 및 자외선을 흡수할 수 있으며, 칼라 톤 조정제를 첨가하면, 상기 층은 또한 칼라 톤 조정 기능을 갖는 물질로서 작용할 수 있다. 따라서, 플라즈마 디스플레이의 전면 플레이트를 구성하는 각층의 기능을 통합하는 것이 가능해져, 경비 절감을 위해 전면 플레이트에서 층의 수를 감소시킬 수 있게 된다. 이러한 플라즈마 디스플레이 광학 필터 및 플라즈마 디스플레이는 또한 본 발명의 한 양태를 구성한다.In such a plasma display optical filter or plasma display, the adhesive layer formed of the pressure sensitive adhesive composition of the present invention can absorb near infrared and ultraviolet rays, and when the color tone adjusting agent is added, the layer will also function as a material having a color tone adjusting function. Can be. Thus, it is possible to integrate the functions of each layer constituting the front plate of the plasma display, thereby reducing the number of layers in the front plate for cost reduction. Such plasma display optical filters and plasma displays also constitute an aspect of the present invention.

전술한 바와 같은 구성을 갖는 본 발명의 감압 접착제 조성물은 자외선에 의해 유발되는 근적외선 흡수 염료의 경미한 열화를 가능케하여, 플라즈마 디스플레이 등을 구성하는 적층 물질과 함께 점착시키기 위한 접착제 층의 형성시에 사용하기에 적합하여, 플라즈마 디스플레이의 전면 플레이트내의 각층의 기능을 접착제 층으로 통합하는 것이 가능해지며; 따라서, 접착제 층은 근적외선 층 및 자외선을 흡수할 수 있는 물질로서 작용하여, 추가로 칼라 톤 조정 기능을 가질 수 있다. 그 결과, 플라즈마 디스플레이 등에 요구되는 기본적 성능 특성을 만족시키면서 경비 절감을 위하여 전면 플레이트에서 층의 수를 감소시키는 것이 가능해진다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention having the configuration as described above enables slight deterioration of the near-infrared absorbing dye caused by ultraviolet rays, so as to be used in the formation of an adhesive layer for sticking together with the laminating material constituting a plasma display or the like. Suitable for, it becomes possible to integrate the function of each layer in the front plate of the plasma display into the adhesive layer; Thus, the adhesive layer can act as a material capable of absorbing the near infrared layer and the ultraviolet light, which can further have a color tone adjusting function. As a result, it is possible to reduce the number of layers in the front plate for cost reduction while satisfying the basic performance characteristics required for plasma displays and the like.

본 발명을 수행하기 위한 최선의 양태Best Mode for Carrying Out the Invention

하기의 실시예는 본 발명을 좀더 상세히 설명한다. 그러나, 이는 본 발명의 범위를 제한코자 하는 것은 아니다. 다른 언급이 없으면, “부(들)”은 “중량부(들)”을 의미한다. The following examples illustrate the invention in more detail. However, this is not intended to limit the scope of the present invention. Unless stated otherwise, "part (s)" means "part (s) by weight".

합성예 1 (적하식 단량체 중합 방법)Synthesis Example 1 (Drop monomer polymerization method)

358.2 g 의 2-에틸헥실 아크릴레이트 (2EHA), 240 g 의 시클로헥실 메타크릴레이트 (CHMA), 및 1.8 g 의 2-히드록시에틸 아크릴레이트 (HEA)를 측량하고, 충분히 혼합하였다 (생성된 혼합물은 이후 “단량체 혼합물 (A1)”로 부른다). 40% 분량의 단량체 혼합물 (A1) 및 196.4 g 의 에틸 아세테이트를 측량하여, 온도계, 교반기, 불활성 가스 유입 튜브, 환류 응축기 및 적하 깔대기가 장착된 플라스크에 넣었다. 나머지 60% 분량의 단량체 혼합물 (A1), 16 g 의 에틸 아세테이트, 및 0.72 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NOF Corp.제품)을 적하 깔대기에 넣고, 충분히 혼합하였다 (이 혼합물은 이후 “단량체 혼합물 (B1)”로 부른다). 플라스크 내부 온도를 85℃ 로 승온시키면서, 20 mL/분의 질소 가스를 플라스크를 통해 적절하게 통과시켰다. 0.96 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NOF Corp.제품)을 플라스크에 충전시켜, 반응을 개시시켰다. 중합 개시제의 충전 15 분후부터, 단량체 혼합물 (B1) 을 고르게 90 분에 걸쳐 플라스크에 첨가하여 반응을 진행시켰다. 단량체 혼합물 (E1)의 첨가 완료직후, 50 g 의 에틸 아세테이트를 첨가하였다. 숙성 반응을 80% 에서 90 분간 수행하였다. 1.8 g 의 중합 개시제 ABN-E (상표명, Japan Hydrazine Co, Inc. 제품) 및 39 g 의 에틸 아세테이트로 이루어진 혼합 용액을 5 회 분량으로 나눠 30 분 간격으로 플라스크에 넣었다 (잔류 단량체 반응을 위하여). 숙성 반응을 80℃ 에서 90 분간 수행하였고, 575 g 의 톨루엔을 첨가하고, 반응을 종결하였다. 감압 접착제 중합체 (A-1) 를 수득하였다.358.2 g of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 240 g of cyclohexyl methacrylate (CHMA), and 1.8 g of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) were weighed and thoroughly mixed (the resulting mixture) Is later referred to as “monomer mixture (A1)”). 40% of the monomer mixture (A1) and 196.4 g of ethyl acetate were weighed and placed in a flask equipped with a thermometer, agitator, inert gas inlet tube, reflux condenser and dropping funnel. The remaining 60% portion of monomer mixture (A1), 16 g of ethyl acetate, and 0.72 g of polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NOF Corp.) were placed in a dropping funnel and thoroughly mixed (this mixture was then referred to as "monomer"). Mixture (B1) ”). 20 mL / min of nitrogen gas was properly passed through the flask while the flask internal temperature was raised to 85 ° C. 0.96 g of a polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NOF Corp.) was charged to the flask to initiate a reaction. After 15 minutes of charging the polymerization initiator, the monomer mixture (B1) was evenly added to the flask over 90 minutes to proceed with the reaction. Immediately after completion of the addition of the monomer mixture (E1), 50 g of ethyl acetate was added. Aging reactions were performed at 80% for 90 minutes. A mixed solution of 1.8 g of polymerization initiator ABN-E (trade name, manufactured by Japan Hydrazine Co, Inc.) and 39 g of ethyl acetate was divided into 5 portions and placed in a flask at 30 minute intervals (for residual monomer reaction). The aging reaction was carried out at 80 ° C. for 90 minutes, 575 g of toluene were added and the reaction was terminated. The pressure sensitive adhesive polymer (A-1) was obtained.

합성예 2 (배취식 단량체 중합 방법) Synthesis Example 2 (Batchwise Monomer Polymerization Method)

209.1 g 의 2EHA, 60 g 의 CHMA, 0.9 g 의 HEA, 30 g 의 RUVA-93 (상표명, Otsuka Chemical Co., Ltd.제품), 및 245 g 의 에틸 아세테이트를 측량하여 온도계, 교반기, 불활성 가스 유입 튜브, 환류 응축기 및 적하 깔대기가 장착된 플라스크에 넣었다. 플라스크 내부 온도를 85℃ 로 승온시키면서, 20 mL/분의 질소 가스를 플라스크를 통해 적절하게 통과시켰다. 0.6 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NOF Corp.제품)을 플라스크에 충전시켜, 반응을 개시시켰다. 반응을 90 분간 수행하였다. 0.3 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NOF Corp.제품) 및 15 g 의 에틸 아세테이트로 이루어진 혼합용액을 2 회 분량으로 나눠 플라스크에 1 시간 간격으로 첨가하였다 (잔류 단량체 반응을 위하여). 숙성 반응을 80℃ 에서 150 분간 수행하고, 155 g 의 톨루엔을 첨가한 후, 반응을 종결하였다. 감압 접착제 중합체 (A-2) 를 수득하였다.209.1 g of 2EHA, 60 g of CHMA, 0.9 g of HEA, 30 g of RUVA-93 (trade name, manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), and 245 g of ethyl acetate were weighed to obtain a thermometer, stirrer, inert gas inlet. The flask was fitted with a tube, reflux condenser and dropping funnel. 20 mL / min of nitrogen gas was properly passed through the flask while the flask internal temperature was raised to 85 ° C. 0.6 g of the polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NOF Corp.) was charged to the flask to initiate the reaction. The reaction was carried out for 90 minutes. A mixed solution of 0.3 g of polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NOF Corp.) and 15 g of ethyl acetate was added in two portions each time to the flask (for residual monomer reactions). The aging reaction was carried out at 80 ° C. for 150 minutes, and after adding 155 g of toluene, the reaction was terminated. The pressure sensitive adhesive polymer (A-2) was obtained.

합성예 3 내지 5 (배취식 단량체 중합 방법)Synthesis Examples 3 to 5 (batch monomer polymerization method)

표 1 에 특정된 각 단량체 조성을 사용한 것만 제외하고, 합성예 2 와 동일한 방식으로 감압 중합체 (A-3), 감압 중합체 (A-4) 및 감압 중합체 (A-5)를 수득하였다.A pressure-sensitive polymer (A-3), a pressure-sensitive polymer (A-4) and a pressure-sensitive polymer (A-5) were obtained in the same manner as in Synthesis Example 2, except that each monomer composition specified in Table 1 was used.

합성예 6 (적하식 단량체 중합 방법)Synthesis Example 6 (Drop-type monomer polymerization method)

120 g 의 부틸 아크릴레이트 (BA), 456 g 의 2EHA, 6 g 의 스테아릴 아크릴레이트 (STA) 및 18 g 의 HEA 를 측량하고, 충분히 혼합하였다 (이 혼합물은 이후 "단량체 혼합물 (A2)"로 부른다). 40% 분량의 단량체 혼합물 (A2) 및 293.3 g 의 에틸 아세테이트를 측량하여, 온도계, 교반기, 불활성 가스 유입 튜브, 환류 응축기 및 적하 깔대기가 장착된 플라스크에 적하하였다. 나머지 60% 분량의 단량체 혼합물 (A2), 10 g 의 에틸 아세테이트, 60 g 의 톨루엔, 및 0.36 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NCF Corp.제품)을 적하 깔대기에 넣어 충분히 혼합하였다 (이 혼합물은 이후 "단량체 혼합물 (B2)"로 부른다). 플라스크 내부 온도를 85℃ 로 승온시키면서, 20 mL/분의 질소 가스를 플라스크를 통해 적절하게 통과시켰다. 0.48 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NCF Corp.제품)을 플라스크에 충전시켜, 반응을 개시시켰다. 중합 개시제의 충전 10 분후, 단량체 혼합물 (B2)을 고르게 60 분에 걸쳐 플라스크에 충전하여 반응을 진행시켰다. 단량체 혼합물 (B2)의 첨가 완료 직후, 6 g 의 에틸 아세테이트 및 52.4 g 의 톨루엔을 첨가하였다. 숙성 반응을 86℃에서 90 분간 수행하였다. 0.6 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NOF Corp.제품) 및 30 g 의 톨루엔으로 이루어진 혼합 용액을 2 회 분량으로 나눠 1 시간 간격으로 플라스크에 첨가하였다 (잔류 단량체 반응을 위하여). 숙성 반응을 86℃ 에서 90 분간 수행하고, 318.5 g 의 에틸 아세테이트 및 423.4 g 의 톨루엔을 첨가하고, 반응을 종결하였다. 최종적으로, 0.15 g 의 가교 촉진제 디-n-부틸주석 디라우레이트, 3 g 의 아세트산 및 25 g 의 톨루엔으로 이루어진 혼합 용액을 첨가한 후, 충분히 혼합하여 감압 접착제 중합체 (A-6)을 수득하였다.120 g butyl acrylate (BA), 456 g 2EHA, 6 g stearyl acrylate (STA) and 18 g HEA were weighed and thoroughly mixed (this mixture is then referred to as "monomer mixture (A2)"). Call). 40% of the monomer mixture (A2) and 293.3 g of ethyl acetate were weighed and dropped into a flask equipped with a thermometer, agitator, inert gas inlet tube, reflux condenser and dropping funnel. The remaining 60% of the monomer mixture (A2), 10 g of ethyl acetate, 60 g of toluene, and 0.36 g of polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NCF Corp.) were added to the dropping funnel and thoroughly mixed (this mixture) Is then referred to as "monomer mixture (B2)"). 20 mL / min of nitrogen gas was properly passed through the flask while the flask internal temperature was raised to 85 ° C. 0.48 g of a polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NCF Corp.) was charged to a flask to initiate a reaction. After 10 minutes of charging the polymerization initiator, the monomer mixture (B2) was evenly charged to the flask over 60 minutes to proceed with the reaction. Immediately after completion of the addition of the monomer mixture (B2), 6 g of ethyl acetate and 52.4 g of toluene were added. The aging reaction was carried out at 86 ° C. for 90 minutes. A mixed solution consisting of 0.6 g of polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NOF Corp.) and 30 g of toluene was added in two portions each time to the flask at 1 hour intervals (for the residual monomer reaction). The aging reaction was carried out at 86 ° C. for 90 minutes, 318.5 g of ethyl acetate and 423.4 g of toluene were added and the reaction was terminated. Finally, a mixed solution consisting of 0.15 g of crosslinking accelerator di-n-butyltin dilaurate, 3 g of acetic acid and 25 g of toluene was added, followed by sufficient mixing to obtain a pressure sensitive adhesive polymer (A-6). .

합성예 7 (적하식 단량체 중합 방법)Synthesis Example 7 (Drop monomer polymerization method)

275.5 g 의 BA, 136.8 g 의 2EHA, 36 g 의 아크릴산 (AA), 149.9 g 의 비닐 아세테이트 (VAC) 및 1.8 g 의 HEA 를 측량하고, 충분히 혼합하였다 (이 혼합물은 이후 "단량체 혼합물 (A3)"로 부른다). 33% 분량의 단량체 혼합물 (A3), 312.9 g 의 에틸 아세테이트 및 3.3g 의 톨루엔을 측량하여, 온도계, 교반기, 불활성 가스 유입 튜브, 환류 응축기 및 적하 깔대기가 장착된 플라스크에 넣었다. 나머지 67% 의 단량체 혼합물 (A3), 139.9 g 의 에틸 아세테이트 및 0.79 g 의 중합 개시제 ABN-E (상표명, Japan Hydrazine Co., Inc. 제품)을 적하 깔대기에 넣어 충분히 혼합하였다 (이 혼합물은 이후 "단량체 혼합물 (B3)"로 부른다). 플라스크 내부 온도는 82℃로 승온시키면서, 20 mL/분의 질소 가스를 플라스크를 통해 적절하게 통과시켰다. 0.79 g 의 중합 개시제 Nyper BMTK 40 (상표명, NCF Corp.제품)을 플라스크에 충전시켜, 반응을 개시시켰다. 중합 개시제의 충전 15 분후, 단량체 혼합물 (B3) 을 고르게 플라스크에 90 분에 걸쳐 첨가하여 반응을 진행시켰다. 단량체 혼합물 (B3)의 첨가 완료 직후, 151.2 g 의 톨루엔을 첨가하였다. 숙성 반응을 80℃ 에서 90 분간 수행하였다. 182.9 g 의 톨루엔을 첨가하였다. 이어서, 1.8 g 의 중합 개시제 ABN-R (상표명, Japan Hydrazine Co., Inc. 제품) 및 23.4 g 의 톨루엔으로 이루어진 혼합 용액을 5 회 분량으로 나눠 30 분 간격으로 플라스크에 첨가하였다 (잔류 단량체 반응을 위하여). 숙성 반응을 80% 에서 90 분간 수행하고, 164.4 g 의 톨루엔을 첨가하고, 반응을 종결하였다. 감압 접착제 중합체(A-7) 를 수득하였다.275.5 g of BA, 136.8 g of 2EHA, 36 g of acrylic acid (AA), 149.9 g of vinyl acetate (VAC) and 1.8 g of HEA were weighed and thoroughly mixed (this mixture is then referred to as "monomer mixture (A3)"). Is called). 33% of the monomer mixture (A3), 312.9 g of ethyl acetate and 3.3 g of toluene were weighed and placed in a flask equipped with a thermometer, agitator, inert gas inlet tube, reflux condenser and dropping funnel. The remaining 67% of monomer mixture (A3), 139.9 g of ethyl acetate and 0.79 g of polymerization initiator ABN-E (trade name, manufactured by Japan Hydrazine Co., Inc.) were placed in a dropping funnel and thoroughly mixed (this mixture was then " Monomer mixture (B3) "). While the flask internal temperature was raised to 82 ° C., 20 mL / min of nitrogen gas was properly passed through the flask. 0.79 g of a polymerization initiator Nyper BMTK 40 (trade name, manufactured by NCF Corp.) was charged to a flask to initiate a reaction. After 15 minutes of charging the polymerization initiator, the monomer mixture (B3) was evenly added to the flask over 90 minutes to proceed with the reaction. Immediately after the addition of the monomer mixture (B3) was completed, 151.2 g of toluene was added. The aging reaction was carried out at 80 ° C. for 90 minutes. 182.9 g of toluene was added. Subsequently, a mixed solution consisting of 1.8 g of polymerization initiator ABN-R (trade name, manufactured by Japan Hydrazine Co., Inc.) and 23.4 g of toluene was added to the flask at 30-minute intervals in five portions (residual monomer reaction for). The aging reaction was carried out at 80% for 90 minutes, 164.4 g of toluene was added and the reaction was terminated. A pressure sensitive adhesive polymer (A-7) was obtained.

Figure 112003046425109-pat00009
Figure 112003046425109-pat00009

표 1 과 관련된 비고. BA 는 부틸 아크릴레이트를 나타내고, 2EHA 는 2-에틸헥실 아크릴레이트를 나타내며, CHMA 는 시클로헥실 메타크릴레이트를 나타내고, HEA 는 2-히드록시에틸 아크릴레이트를 나타내며, RUVA 는 RUVA-93 (상표명, Otsuka Chemical Co., Ltd.제품)을 나타내고, VAC 는 비닐 아세테이트를 나타내며, AA 는 아크릴산을 나타내고, STA 는 스테아릴 아크릴레이트를 나타낸다.Remarks related to Table 1. BA stands for butyl acrylate, 2EHA stands for 2-ethylhexyl acrylate, CHMA stands for cyclohexyl methacrylate, HEA stands for 2-hydroxyethyl acrylate, and RUVA stands for RUVA-93 (trade name, Otsuka Chemical Co., Ltd.), VAC represents vinyl acetate, AA represents acrylic acid, and STA represents stearyl acrylate.

Tg 는 각각의 단독중합체에 대한 Tg 값을 기초로하여 계산된 값이다. 하기의 값을 단독중합체 Tg 값으로 사용하였다: BA: -55℃, 2EHA: -70℃, CHMA: 66℃, HEA: -15℃, RUVA: 100℃, VAC: 25℃, AA: 106℃ 및 STA: -70℃. Tg is a calculated value based on the Tg value for each homopolymer. The following values were used as homopolymer Tg values: BA: -55 ° C, 2EHA: -70 ° C, CHMA: 66 ° C, HEA: -15 ° C, RUVA: 100 ° C, VAC: 25 ° C, AA: 106 ° C and STA: -70 ° C.                     

히드록실 값 및 산 값은 중합체 고형물의 1 g 당 값이다.The hydroxyl value and acid value are the values per gram of polymer solids.

실시예 1Example 1

0.2 g 의 근적외선 흡수 염료 IR-12 (Nippon Shokubai Co., Ltd. 제품, 상표명: EX Color), 0.49g 의 자외선 흡수제 TINUVIN 234 (상표명, Ciba Specialty Chemicals K.K.제품) 및 톨루엔을 22.93 g 의 감압 접착제 중합체 (A-1) 용액 (비휘발성 물질 (NV) 40.6%)에 첨가하였다. 톨루엔의 양은 2g 이었다 (이론적 비휘발성 물질 함량 39% 를 제공하는 양). 상기 혼합물을 균질한 용액이 형성될 때까지 페인트 쉐이커를 이용하여 교반하고; 이어서 수지 용액을 제조하였다. IR-12 의 최대 흡수 파장 (λmax) 는 885 nm (톨루엔 용액) 이었다.0.2 g of a near-infrared absorbing dye IR-12 (Nippon Shokubai Co., Ltd., trade name: EX Color), 0.49 g of a UV absorber TINUVIN 234 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals KK) and toluene 22.93 g of a pressure-sensitive adhesive polymer To (A-1) solution (40.6% nonvolatile (NV)). The amount of toluene was 2 g (a quantity giving a 39% theoretical nonvolatile content). The mixture is stirred using a paint shaker until a homogeneous solution is formed; Then a resin solution was prepared. The maximum absorption wavelength (λmax) of IR-12 was 885 nm (toluene solution).

어플리케이터를 이용하여 상기 수지 용액을 이형 필름 (실리콘 처리 PET 필름)에 적용시켜 25 ㎛ 의 건조 두께를 수득하여 감압 접착제 층을 형성시켰다. 이를 100℃ 에서 2 분간 건조시켰다. 감압 접착제 층에 50-㎛-두께 또는 100-㎛-두께 PET 필름을 적층시켰다 (감압 접착제 층을 상기 필름으로 전달하기 위하여). 이렇게 수득한 접착제 시료를 점착성 및 외관 및 후술된 방법에 의한 근적외선 흡수 염료 열화에 대하여 평가하였다. 결과는 표 2 에 나타내었다.The resin solution was applied to a release film (silicone treated PET film) using an applicator to obtain a dry thickness of 25 μm to form a pressure sensitive adhesive layer. It was dried at 100 ° C. for 2 minutes. A 50-μm- or 100-μm-thick PET film was laminated to the pressure sensitive adhesive layer (to transfer the pressure sensitive adhesive layer to the film). The adhesive samples thus obtained were evaluated for tackiness and appearance and for near infrared absorption dye deterioration by the method described below. The results are shown in Table 2.

실시예 2 내지 10 및 비교예 1Examples 2 to 10 and Comparative Example 1

수지 용액을 표 2 내지 4 에 특정된 제형에 따라 제조한 것만 제외하고 동일한 방식으로 실시예 1의 절차를 따랐다. 얻어진 결과를 표 2 내지 4 에 나타내었다.The procedure of Example 1 was followed in the same manner except that the resin solution was prepared according to the formulations specified in Tables 2-4. The obtained result is shown to Tables 2-4.

실시예 11 내지 25 Examples 11-25                     

수지 용액을 표 2 및 3 에 특정된 제형에 따라 제조한 것만 제외하고, 동일한 방식으로 실시예 1 의 절차를 따랐다. 이어서, 1.0 부의 이소시아네이트 가교제 Coronate L-55E (상표명, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.제품)을 각 수지 용액의 100 부에 대해 혼합한 후, 충분히 혼합하였다. 이 경우, 감압 접착제 시료는 실온에서 1 주일 이상 숙성한 후 평가하였다. 이 결과는 표 2 및 3 에 나타내었다. The procedure of Example 1 was followed in the same manner, except that the resin solution was prepared according to the formulations specified in Tables 2 and 3. Subsequently, 1.0 part of isocyanate crosslinking agent Coronate L-55E (trade name, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was mixed with respect to 100 parts of each resin solution, followed by sufficient mixing. In this case, the pressure-sensitive adhesive sample was evaluated after aging for 1 week or longer at room temperature. The results are shown in Tables 2 and 3.

(점착성 평가)(Tackiness evaluation)

이형 필름을 각각의 감압 접착제 시료로부터 박리하고, 감압 접착제 층을 손가락 끝으로 만져 평가하였다. 점착성이 느껴지면, 이는 점착성 (0) 으로 평가하고, 전혀 점착성이 없으면, 비점착성 (X) 으로 평가하였다.The release film was peeled from each pressure-sensitive adhesive sample, and the pressure-sensitive adhesive layer was evaluated by touching the fingertips. When stickiness was felt, it was evaluated as stickiness (0), and when there was no stickiness at all, it was evaluated as non-tackiness (X).

(외관 평가)(Appearance evaluation)

상기 방식으로 제조된 감압 접착제 시료는 육안으로 각각 관찰하였다. 시료가 투명성을 가지면, 이는 양호한 (0) 것으로 평가하였고, 투명성이 없으면 (혼탁성 및/또는 반점 및 기타 외래 물질 형성) 불량 (X)으로 평가하였다. Pressure-sensitive adhesive samples prepared in this manner were visually observed respectively. If the sample had transparency, it was evaluated as good (0) and without transparency (cloudy and / or spot and other foreign material formation) as poor (X).

(근적외선 흡수 염료 열화 평가) (Near infrared absorption dye deterioration evaluation)

근적외선 흡수 염료의 최대 흡수 파장에서의 흡수성은 UV 조사후 모니터링하였다.The absorbance at the maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing dye was monitored after UV irradiation.

이형 필름을 각각의 접착제 시료로부터 박리한 후, 이에 50-㎛-두께 PET 필름을 적층하였다. 분광기 (Shimadzu Corp. 제품, 상표명: UV-3100)를 이용하여, 최대 흡수 파장에서의 전술한 필름의 흡수성 (근적외선 흡수 염료의 최대 흡수 파장: 780 내지 1200 nm) 을 측정하였다.After the release film was peeled off from each adhesive sample, a 50-μm-thick PET film was laminated thereto. The spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corp., trade name: UV-3100) was used to measure the absorbency (maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing dye: 780 to 1200 nm) of the above-mentioned film at the maximum absorption wavelength.

전술한 필름을 자외선 자동 페이드 미터 (Suga Test Instruments Co., Ltd. 제품, 상표명: FAL-AU-B)를 이용하여 UV 조사하였다. 분광기 (Shimadzu Corp. 제품, 상표명: UV-3100)를 이용하여, 흡수성을 필름의 최대 흡수 파장 (근적외선 흡수 염료의 최대 흡수 파장: 780 내지 1200 nm)에서 48 시간 간격으로 UV 를 조사하여 수행하였다. 상대 흡수성 값을 기록하고, 초기 값을 100 으로 하였다. 값이 100% 에 가까울수록 염료의 실제적 열화가 없는 더 나은 결과를 나타낸다. The film described above was UV irradiated using an ultraviolet automatic fade meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., trade name: FAL-AU-B). Absorption was carried out using a spectrometer (Shimadzu Corp., trade name: UV-3100) by irradiating UV at 48 hour intervals at the maximum absorption wavelength of the film (maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing dye: 780 to 1200 nm). The relative absorbency value was recorded and the initial value was 100. The closer the value is to 100%, the better the result is without the actual deterioration of the dye.                     

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표 2 내지 4 와 관련된 비고. 근적외선 흡수 염료 B 와 관련하여서는, IR12 는 Nippon Shokubai Co., Ltd. 사제의 근적외선 흡수 염료 (상표명: EX Color)이다. 자외선 흡수제 C 와 관련하여서는, TINUVIN 234 및 TINUVIN 384 (모두 상표명)은 Ciba Specialty Chemicals K.K. 사제의 자외선 흡수제이다. 힌더드 아민 광 안정화제 d-l 및 힌더드 아민 광 안정화제 d-2 와 관련하여서는, TINUVIN 765 및 TINUVIN 144 (모두 상표명)은 Ciba Specialty Chemicals K.K. 사제의 광 안정화 제이다. 산화방지제 E 와 관련하여서는, BHT (상표명) 는 Sumitomo Chemical Co., Ltd. 사제의 힌더드 페놀 산화방지제이다.Remarks related to Tables 2-4. Regarding the near infrared absorbing dye B, IR12 is obtained from Nippon Shokubai Co., Ltd. It is a near-infrared absorption dye (trade name: EX Color) made by Corporation. With regard to ultraviolet absorbent C, TINUVIN 234 and TINUVIN 384 (both trade names) are Ciba Specialty Chemicals K.K. It is a ultraviolet absorber of the company. With respect to the hindered amine light stabilizer d-1 and the hindered amine light stabilizer d-2, TINUVIN 765 and TINUVIN 144 (both trade names) are described in Ciba Specialty Chemicals K.K. It is a light stabilizer made by the company. With respect to antioxidant E, BHT ™ is Sumitomo Chemical Co., Ltd. It is a homemade hindered phenol antioxidant.

본 발명에 따라 플라즈마 디스플레이 등의 층 구조를 감소시키고, 중량 절감 및 제조 공정 단순화를 달성할 수 있다.
According to the present invention, it is possible to reduce the layer structure of the plasma display or the like, to achieve weight reduction and simplify the manufacturing process.

Claims (6)

감압 접착성 중합체 (A) 및 근적외선 흡수 색소 (B)를 포함하고, 또한 자외선 흡수제 (C), 힌더드 아민계 광 안정화제 (D), 또는 자외선 흡수제 (C) 및 힌더드 아민계 광 안정화제 (D)를 포함하는 감압 접착제 조성물로서,A pressure-sensitive adhesive polymer (A) and a near infrared absorbing dye (B), and further comprising an ultraviolet absorber (C), a hindered amine light stabilizer (D), or an ultraviolet absorber (C) and a hindered amine light stabilizer. As a pressure-sensitive adhesive composition comprising (D), 상기 감압 접착성 중합체 (A)는 (메트)아크릴계 중합체이고,The pressure-sensitive adhesive polymer (A) is a (meth) acrylic polymer, 상기 감압 접착성 중합체 (A)의 유리전이온도는 -80 내지 -20℃이며,The glass transition temperature of the pressure-sensitive adhesive polymer (A) is -80 to -20 ℃, 상기 감압 접착성 중합체 (A)의 산 값은 30 mg KOH/g 이하인 조성물.The acid value of the pressure-sensitive adhesive polymer (A) is 30 mg KOH / g or less composition. 제 1 항에 있어서, 추가로 산화방지제 (E)를 포함하는 감압 접착제 조성물.The pressure sensitive adhesive composition according to claim 1, further comprising an antioxidant (E). 삭제delete 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 감압 접착성 중합체 (A) 는 250,000 이상의 중량평균 분자량을 갖는 감압 접착제 조성물.The pressure sensitive adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein the pressure sensitive adhesive polymer (A) has a weight average molecular weight of 250,000 or more. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 감압 접착제 조성물을 포함하는 플라즈마 디스플레이용 광학 필터.An optical filter for plasma display comprising the pressure sensitive adhesive composition according to claim 1. 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 감압 접착제 조성물을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이.A plasma display comprising the pressure sensitive adhesive composition according to claim 1.
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