KR100697893B1 - 반도체 제조용 처리기체의 유량제어시스템 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (27)
- 반도체 제조용 처리기체를 일괄 운반하기 위한 유동모드로 동작할 수 있는 유량제어시스템을 이용해 처리기체의 일괄 운반을 제어하는 방법에 있어서:처리기체의 조정된 압력을 상기 유량제어시스템의 유동라인에 설정하기 위한 압력조정기, 처리기체를 운반기간동안 반도체 제조장치로 운반하는 유동모드를 시작하고 중단하도록 압력조정기의 하류측에 위치한 온/오프 밸브, 및 상기 운반되는 실제 유량을 측정하는데 사용되고 상기 유동라인에서 압력조정기 상류에 위치한 기준 커패시티를 포함하는 유량제어시스템의 상기 유동라인을 통해 압축 처리기체원으로부터 제어된 유량으로 상기 운반기간동안 반도체 제조장치로 처리기체를 일괄 운반하는 단계;상기 처리기체의 일괄 운반을 개시한 뒤, 상기 유량제어시스템의 유동라인을 통해 상기 기준 커패시티로의 처리기체 흐름을 중단하고 상기 조절된 유량으로 상기 유동라인으로부터 반도체 제조장치로 처리기체를 계속 운반하면서 상기 기준 커패시티내의 처리기체의 압력강하를 측정 기간동안 측정하는 단계; 및상기 측정기간동안 기준 커패시티내의 압력강하율 및 운반되는 상기 일괄 처리기체의 실제 유량을 상기 측정단계에서 결정하고, 상기 실제유량이 운반을 위한 특정 유량과 일치하지 않을 경우 처리기체의 또다른 일괄 운반을 위한 후속 운반기간을 위해 상기 실제 유량으로부터 특정 유동 방향으로 상기 조절된 유량을 조정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 유량제어시스템이 압력조정기 하류측의 유량제어밸브를 더 포함하고, 상기 조절된 유량을 조정하는 단계는 유량제어밸브의 설정값을 조정하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 유량제어시스템이 상기 유동라인에서 압력조정기 하류측에 고정된 오리피스를 더 포함하고, 상기 조절된 유량을 조정하는 단계는 압력조정기의 압력세팅을 조정하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 압력조정기는 돔에 인가된 유체압력에 의해 압력세팅이 설정되는 돔형 압력조정기이고, 정지모드에서 압력조정기의 출구에서의 크리프를 방지하기 위해 압력조정기의 돔에 인가된 압력신호를 상기 운반기간의 끝에서 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 유량제어시스템은 세팅에 따라 가능한 유량범위내에서 상기 조절된 기체 운반 유량을 설정하도록 조정될 수 있으며, 상기 유량제어시스템의 실제 유량과 유량세팅 사이의 수학적 관계를 설정하는 단계와, 운반중인 상기 일괄 처리기체의 결정된 실제 유량이 운반을 위한 상기 특정 유량과 일치하지 않을 경우 조절된 유량의 조정 사이즈를 결정하는데 있어서 상기 수학적 관계를 기준으로 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 기준을 위해 상기 수학적 관계를 유량제어시스템의 기준 메모리에 저장하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 유량제어시스템이 10:1의 유효 범위로 풀 스케일의 100%까지 가능 유량 세팅범위를 확장한 유량제어밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 측정기간이 20초 보다 짧거나 같은 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 측정기간이 소정 최대 기간동안 지속되거나 측정 커패시티내의 압력이 소정 최소값에 도달할 때 더 빨리 종결되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 측정기간의 끝에서 상기 유동라인을 통한 기준 커패시티로의 처리기체의 흐름을 중단하여 기준 커패시티내의 압력을 상기 압축기체원으로부터 공급된 처리기체의 압력 레벨로 되돌리는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 압력조정기가 압축된 처리기체원과 통하도록 결합된 입구, 출구, 및 압력조정기를 닫아 처리기체의 흐름을 차단하고 압력조정기를 통한 처리기체의 흐름을 트로틀하도록 교대로 동작하는 밸브요소를 구비하고, 상기 밸브요소는 힘을 전달하게 결합된 격막에 의해 작동되고 처리기체의 압력에 반응하도록 처리기체가 흐르도록 배치되며, 상기 압력조정기가 상기 격막에 선택압력 설정치를 인가하기 위한 조정식 메인 압력세팅 조립체를 더 포함하고,상기 조절된 유량으로 처리기체를 운반하기 위해 소정 출구압력보다 낮은 출구압력으로 처리기체의 유량을 조정하도록 상기 압력조정기의 메인 압력 세팅조립체를 조정하는 단계;상기 운반기간내에 상기 소정 출구압력에서 운반기체의 유량을 조정하도록 상기 압력설정값과 무관하게 운반기간 초기에 차압을 상기 격막에 인가하는 단계; 및상기 운반기간 끝에 상기 차압의 인가를 중단하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 반도체 제조용으로 후속 운반기간 동안 또다른 일괄 처리기체의 운반을 반복하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 조절된 유량을 적어도 상기 측정기간동안 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 조절된 유량을 상기 운반기간 내내 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 조절된 유량범위로 처리기체를 운반하도록 상기 유량제어시스템을 조정할 수 있고, 상기 일괄 처리기체를 더 운반하기 위해 상기 실제유량을 이용해 상기 범위에 걸쳐 유랑제어시스템을 교정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 폭 1.5인치 미만의 기다란 운반스틱 형태의 기체 매니폴드를 따라 상기 유량제어시스템의 요소들을 배열하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 운반중의 처리기체의 온도를 측정하는 단계와, 측정된 온도를 이용해 결정된 상기 실제 유량을 표준상태로 표현하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 조절된 유량으로 목적지로 일괄적으로 운반될 압축기체원을 갖는 유체회로내에서 사용되고, 처리기체를 일괄 운반하기 위한 유동모드와 정지모드로 교대로 작동되는 유량제어시스템에 있어서:상기 압축기체원으로부터의 기체를 운반하기 위한 유동라인;상기 유동라인에 조절된 기체압력을 설정하기 위한 상기 유동라인내의 압력조정기;상기 처리기체를 운반기간동안 운반하기 위한 상기 유동모드를 시작하고 중단하도록 상기 압력조정기의 하류측으로 유동라인에 설치된 온/오프 밸브;상기 유량제어시스템에 의해 운반되는 처리기체의 실제 유량을 측정하는데 사용하도록 상기 압력조정기 상류측으로 유동라인에 설치된 기준 커패시티;운반기간이 시작된 후 개시되는 측정기간동안 상기 기준 커패시티내의 처리기체의 압력강하를 측정하기 위한 압력센서;유량제어시스템에 의한 처리기체의 운반중에 압축기체원으로부터 기준 커패시티로의 처리기체의 흐름을 중단하기 위해 기준 커패시티 상류측으로 상기 유동라인에 설치된 수단; 및상기 측정기간동안 기준 커패시티내의 측정된 압력강하와 압력강하율로부터 운반중인 일괄 처리기체의 실제 유량을 결정하고, 상기 실제유량이 운반을 위한 특정 유량과 일치하지 않을 경우 다른 일괄 처리기체가 운반되는 후속 운반기간을 위해 특정 유동의 방향으로 상기 조절된 유량을 실제 유량으로부터 조정하기 위한 제어기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제18항에 있어서, 상기 압력조정기 하류측으로 유동라인에 설치된 유량제어밸브를 더 포함하고, 상기 제어기는 상기 조절된 유량을 조정하기 위해 유량제어밸 브의 설정값을 조정하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제19항에 있어서, 상기 유량제어밸브의 가능한 조정유량 범위가 10:1의 유효 범위를 갖는 풀 스케일의 100%까지 확장되는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제19항에 있어서, 상기 제어기가 상기 조정된 유량의 조정 크기를 결정하는데 있어 기준하기 위해 상기 유량제어밸브의 유량세팅과 실제 유량 사이의 수학적 관계를 저장하는 기준 메모리를 포함하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제18항에 있어서, 폭 1.5인치 미만의 기다란 운반스틱 형태의 기체 매니폴드를 더 포함하고, 이 매니폴드를 따라 구성요소들이 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제18항에 있어서, 상기 압력조정기의 하류측으로 유동라인에 설치된 고정 오리피스를 더 포함하고, 상기 압력조정기는 상기 조정된 유량을 조정하기 위한 조정가능 압력세팅을 갖는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제23항에 있어서, 상기 압력조정기는 자체 돔에 인가된 유체압력에 의해 압력세팅을 설정하는 돔형 압력조정기이고, 상기 제어기는 압력조정기의 돔에 인가된 압력신호를 운반기간 끝에서 제거하여 정지모드에서 압력조정기 출구의 압력 크리 프를 방지하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제18항에 있어서, 상기 압력조정기가 처리기체원과 통하도록 결합된 입구, 출구, 및 압력조정기를 닫아 처리기체의 흐름을 차단하고 압력조정기를 통한 처리기체의 흐름을 트로틀하도록 교대로 동작하는 밸브요소를 구비하고, 상기 밸브요소는 힘을 전달하게 결합된 격막에 의해 작동되고 유체 압력에 반응하도록 처리기체가 흐르도록 배치되며, 상기 압력조정기가 상기 격막에 선택압력 설정치를 인가하기 위한 조정식 메인 압력세팅 조립체를 더 포함하여 상기 조절된 유량으로 처리기체를 운반하기 위해 소정 출구압력보다 낮은 출구압력으로 상기 압력조정기로부터의 기체흐름을 조정하고, 차압 세팅조립체를 작동하여 상기 세팅력과 무관하게 격막에 차압을 인가하여 상기 힘들과 함께 상기 소정 출구압력과 비슷한 처리기체의 조절된 출구압력을 제공하며, 상기 제어기는 운반기간 초기에는 상기 차압 세팅 조립체를 작동시켜 운반기간동안 상기 차압을 인가하고 운반기간 끝에는 격막에 대한 차압의 인가를 중단하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 제18항에 있어서, 상기 중단수단이 온/오프 밸브인 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.
- 반도체 제조중에 조절된 유량으로 처리기체를 일괄 운반할 것을 필요로 하고, 압축 처리기체원, 반도체 제조장치, 및 처리기체를 일괄 운반하기 위한 유동모 드와 정지모드로 교대로 작동되는 유량제어시스템을 구비한 반도체 제조용 장치에 있어서:상기 압축기체원으로부터의 처리기체를 운반할 수 있는 유동라인;상기 유동라인에 조절된 기체압력을 설정하기 위한 상기 유동라인내의 압력조정기;상기 처리기체를 운반기간동안 운반하기 위한 상기 유동모드를 시작하고 중단하도록 상기 압력조정기의 하류측으로 상기 유동라인에 설치된 온/오프 밸브;상기 유량제어시스템에 의해 운반되는 처리기체의 실제 유량을 측정하는데 사용하도록 상기 압력조정기 상류측으로 상기 유동라인에 설치된 기준 커패시티;운반기간이 시작된 후 개시되는 측정기간동안 상기 기준 커패시티내의 처리기체의 압력강하를 측정하기 위한 압력센서;유량제어시스템에 의한 처리기체의 운반중에 압축 처리기체원으로부터 기준 커패시티로의 처리기체의 흐름을 중단하기 위한 상기 유동라인내의 수단; 및상기 측정기간동안 기준 커패시티내의 측정된 압력강하와 압력강하율로부터 운반중인 일괄 처리기체의 실제 유량을 결정하고, 상기 실제유량이 운반을 위한 특정 유량과 일치하지 않을 경우 다른 일괄 처리기체가 운반되는 후속 운반기간을 위해 특정 유동 방향으로 상기 조절된 유량을 실제 유량으로부터 조정하기 위한 제어기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/535,750 US6363958B1 (en) | 1999-05-10 | 2000-03-27 | Flow control of process gas in semiconductor manufacturing |
US09/535,750 | 2000-03-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020093857A KR20020093857A (ko) | 2002-12-16 |
KR100697893B1 true KR100697893B1 (ko) | 2007-03-20 |
Family
ID=24135599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020027012643A KR100697893B1 (ko) | 2000-03-27 | 2001-02-22 | 반도체 제조용 처리기체의 유량제어시스템 및 방법 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6363958B1 (ko) |
EP (2) | EP1424614B1 (ko) |
JP (1) | JP4564223B2 (ko) |
KR (1) | KR100697893B1 (ko) |
CN (1) | CN1237423C (ko) |
AU (1) | AU2001241629A1 (ko) |
DE (1) | DE60128566T2 (ko) |
HK (1) | HK1057621A1 (ko) |
WO (1) | WO2001073820A2 (ko) |
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