KR100685743B1 - 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치 - Google Patents

광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100685743B1
KR100685743B1 KR1020050053767A KR20050053767A KR100685743B1 KR 100685743 B1 KR100685743 B1 KR 100685743B1 KR 1020050053767 A KR1020050053767 A KR 1020050053767A KR 20050053767 A KR20050053767 A KR 20050053767A KR 100685743 B1 KR100685743 B1 KR 100685743B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical
optical members
illumination light
support member
optical member
Prior art date
Application number
KR1020050053767A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060134239A (ko
Inventor
심우석
이중현
한영국
윤광섭
이시형
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020050053767A priority Critical patent/KR100685743B1/ko
Priority to US11/451,580 priority patent/US7457058B2/en
Publication of KR20060134239A publication Critical patent/KR20060134239A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100685743B1 publication Critical patent/KR100685743B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/701—Off-axis setting using an aperture
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

광학 부재 홀더와 이를 갖는 투영 노광 장치에서, 광원으로부터 조사된 광 빔은 광학 부재 홀더에 의해 지지된 다수의 광학 부재들을 통해 목적하는 형태를 갖는 조명광으로 형성된다. 상기 광학 부재 홀더는 상기 광 빔을 서로 다른 형태의 조명광들로 형성하기 위한 다수의 광학 부재들이 원주 방향으로 배열되도록 지지하는 지지부재와, 상기 광학 부재들 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재를 회전시키며 상기 선택된 광학 부재의 배치 방향을 조절하기 위하여 상기 선택된 광학 부재를 회전시키는 회전 구동부를 포함한다. 상기 선택된 광학 부재를 통과한 조명광은 레티클 및 투영 광학 시스템을 통하여 기판 상으로 조사된다. 상기와 같이 선택된 광학 부재의 배치 방향을 조절할 수 있으므로, 상기 광학 부재들의 사용 효율 및 투영 노광 장치의 가동율을 크게 향상시킬 수 있다.

Description

광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치{Optical element holder and projection exposure apparatus having the same}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전식 광학 부재 홀더(carrousel optical element holder)와 이를 갖는 투영 노광 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 회전식 광학 부재 홀더를 설명하기 위한 확대 단면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 회전식 광학 부재 홀드를 설명하기 위한 측면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전식 광학 부재 홀더를 설명하기 위한 측면도이다.
도 5는 본 발명의 또 실시예에 따른 광학 부재 홀더를 설명하기 위한 개략도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 반도체 기판 20 : 레티클
100 : 투영 노광 장치 102 : 조명 광학 시스템
104 : 투영 광학 시스템 106 : 레티클 스테이지
108 : 기판 스테이지 110 : 광원
116, 118, 124, 128, 152, 154 : 렌즈부
122, 130 : 플라이 아이 렌즈 160, 162 : 보조 및 주 집광 렌즈 유닛
132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f : 애퍼처 플레이트
134 : 지지부재 136 : 제1 회전 구동부
138a, 138b, 138c, 138d, 138e, 138f : 수용부
142 : 제2 회전 구동부 144 : 광학 부재 홀더
본 발명은 광학 부재 홀더와 이를 갖는 투영 노광 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 서로 다른 형태의 조명광을 형성하기 위한 다수의 광학 부재들을 수용하는 광학 부재 홀더와 이를 이용하여 기판 상으로 레티클 패턴(reticle pattern)을 전사하기 위한 투영 노광 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 장치는 반도체 기판으로 사용되는 실리콘웨이퍼 상에 전기적인 회로를 형성하는 팹(Fab) 공정과, 상기 팹 공정에서 형성된 반도체 장치들의 전기적인 특성을 검사하는 EDS(electrical die sorting)공정과, 상기 반도체 장치들을 각각 에폭시 수지로 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정을 통해 제조된다.
상기 팹 공정은 다양한 단위 공정들을 포함하며, 상기 단위 공정들은 반도체 기판 상에 전기적 소자를 형성하기 위해 반복적으로 수행된다. 상기 단위 공정들은 증착 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정, 화학적 기계적 연마 공정, 이온 주입 공정, 세정 공정 등을 포함한다.
상기 포토리소그래피 공정은 증착 공정을 통해 반도체 기판 상에 형성된 막을 전기적 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 포토레지스트 패턴을 상기 막 상에 형성하기 위해 수행된다. 상기 포토레지스트 패턴은 상기 패턴을 형성하기 위한 식각 공정에서 마스크로써 사용된다.
상기 포토리소그래피 공정은 반도체 기판 상에 포토레지스트 막을 형성하기 위한 포토레지스트 코팅 공정과, 상기 포토레지스트 막을 경화시키기 위한 베이킹 공정과, 상기 경화된 포토레지스트 막 상에 레티클 패턴과 대응하는 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 노광 공정 및 현상 공정 등을 포함한다.
최근, 반도체 장치의 집적도가 높아짐에 따라 반도체 기판 상에 형성되는 패턴들의 크기가 점차 작아지고 있으며, 이에 따라 상기 포토리소그래피 공정의 해상도(resolution) 및 초점 심도(depth of focus; DOF)의 중요성이 더욱 커지고 있다.
상기 해상도 및 초점 심도는 노광 공정에 사용되는 광 빔의 파장 및 투영 렌즈(projection lens)의 수치구경(numerical aperture; NA)에 좌우된다. 현재, 노광 공정에 사용되는 광 빔의 예들은 수은 램프로부터 발생되는 436nm의 파장을 갖는 g-line 광 빔 및 365nm의 파장을 갖는 i-line 광 빔, KrF 엑시머 레이저(excimer laser)로부터 발생되는 248nm의 파장을 갖는 KrF 레이저 빔, ArF 엑시머 레이저로부터 발생되는 198nm의 파장을 갖는 ArF 레이저 빔, F2 엑시머 레이저로부터 발생되 는 157nm의 파장을 갖는 F2 레이저 빔 등이 있다.
또한, 패턴의 크기가 작아짐에 따라 레티클을 통과하는 광 빔의 산란 및 회절에 의해 발생하는 포토레지스트 패턴의 왜곡을 방지하기 위한 방법으로 위상 편이 마스크(phase shaft mask; PSM)를 사용하는 방법과 광학적 근접 보상(optical proximity correction; OPC) 방법이 있다.
한편, 해상도를 향상시키기 위하여 투영 렌즈의 수치구경을 증가시키면 초점 심도가 낮아지는 문제점이 발생한다. 오프 액시스 조명(off-axis illumination; OAI)은 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있도록 레티클 패턴에 의해 회절된 광 빔의 0차 광과 +1차 광만을 반도체 기판으로 조사하기 위하여 사용된다.
오프 액시스 조명으로는 환형 조명(annular illumination; AI), 이중극 조명(dipole illumination), 사중극 조명(quadrupole illumination), 크로스-폴 조명(cross-pole illumination), 육중극 조명(hexapole illumination) 등이 있다. 상기 오프 액시스 조명의 일 예로써, 미합중국 특허 제6,388,736호에는 사중극 조명 패턴을 제공하는 투영 리소그래피 시스템이 개시되어 있다.
한편, 미합중국 특허공개 제2004/0239904호에는 서로 다른 형태를 갖는 조명광들을 형성하기 위한 애퍼처 다이아프램 플레이트가 개시되어 있다. 상기 애퍼처 다이아프램 플레이트는 다양한 형태를 갖는 조명광들을 선택적으로 형성하기 위하여 다양한 형태의 애퍼처 다이아프램들을 지지하는 광학 부재 홀더로서 기능한다. 상기 애퍼처 다이아프램들은 상기 애퍼처 다이아프램 플레이트에 원주 방향으로 배 치되며, 상기 애퍼처 다이아프램 플레이트는 상기 다수의 애퍼처 다이아프램들 중에서 하나를 선택하기 위하여 회전 가능하도록 배치된다. 예를 들면, 상기 애퍼처 다이아프램 플레이트는 서로 다른 직경을 갖는 원형 조명광들을 형성하기 위한 원형 다이아프램들과, 사중극 조명광을 형성하기 위한 사중극 다이아프램과, 환형 조명광을 형성하기 위한 환형 다이아프램을 갖는다.
최근, 반도체 장치의 제조 공정에서 패턴 형상이 다양해지고, 점차 미세해짐에 따라 다양한 조명광들이 요구되고 있다. 그러나, 노광 장치의 설계 공간이 제한되어 있으므로, 상기와 같은 애퍼처 다이아프램 플레이트가 갖는 다이아프램들의 수량 증가는 매우 제한적이다. 따라서, 애퍼처 다이아프램 플레이트를 매우 빈번하게 교체해야 하는 번거로움이 있으며, 이는 노광 공정의 쓰루풋을 저하시키는 원인으로 작용한다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 제1 목적은 광학 부재들의 사용 효율을 향상시킬 수 있는 광학 부재 홀더를 제공하는데 있다.
본 발명의 제2 목적은 상술한 바와 같은 광학 부재 홀더를 갖는 투영 노광 장치를 제공하는데 있다.
상기 제1 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 광학 부재 홀더는, 서로 다른 형태의 조명광들을 형성하기 위한 다수의 광학 부재들이 원주 방향으로 배열되도록 지지하는 지지부재와, 상기 광학 부재들이 상기 지지부재의 중 심축을 기준으로 공전하면서 각각의 중심축을 기준으로 자전하도록 상기 지지부재와 상기 광학 부재들을 회전시키는 회전 구동부를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 지지부재는 원반 형상을 가지며, 상기 광학 부재들이 삽입되는 다수의 홀들이 원주 방향으로 형성되어 있으며, 상기 광학 부재들은 상기 홀들 내에 회전 가능하도록 각각 삽입되는 다수의 수용부들에 수용될 수 있다.
상기 조명광들은 원형 조명광(circular illumination light), 환형 조명광(annular illumination light), 이중극 조명광(dipole illumination light), 사중극 조명광(quadrupole illumination light), 크로스-폴 조명광(cross-pole illumination light), 육중극 조명광(hexapole illumination light) 등을 포함할 수 있으며, 상기 회전 구동부는 상기 광학 부재들 중에서 다수의 폴들을 갖는 조명광들을 형성하는 광학 부재들을 각각의 중심축을 기준으로 회전시킬 수 있다.
따라서, 광원으로부터 제공된 광 빔은 상기 회전 구동부에 의해 선택된 광학 부재에 의해 원형 조명광 또는 다수의 폴들을 갖는 오프 액시스 조명광들로 형성될 수 있으며, 상기 폴들의 배치 방향들이 용이하게 조절될 수 있다. 예를 들면, X축 방향으로 배치된 다이폴 조명을 상기 X축 방향에 대하여 수직하는 Y축 방향으로 변환시킬 수 있다.
상기 회전 구동부는 상기 지지부재를 회전시킴으로써 다수의 광학 부재들 중에서 하나를 선택하기 위한 제1 회전 구동부와, 상기 선택된 광학 부재를 회전시킴으로써 상기 선택된 광학 부재가 갖는 폴들의 배치 방향을 조절하기 위한 제2 회전 구동부를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제2 회전 구동부는 상기 광학 부재들을 회전시키기 위한 다수의 모터들을 포함할 수 있으며, 상기 광학 부재들은 상기 모터들로부터 제공되는 회전 구동력들에 의해 개별적으로 회전할 수 있다. 이와는 다르게, 상기 제2 회전 구동부는 하나의 모터로부터 제공되는 회전력을 이용하여 상기 광학 부재들을 각각의 중심축들에 대하여 동시에 회전시킬 수도 있다. 또한, 상기 제2 회전 구동부는 자기력을 이용하여 상기 광학 부재들을 동시에 또는 개별적으로 회전시킬 수도 있다.
상기 제1 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 따르면, 광학 부재 홀더는, 서로 다른 형태를 갖는 조명광들을 형성하기 위한 다수의 광학 부재들을 지지하는 지지부재와, 상기 광학 부재들 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재를 이동시키는 제1 구동부와, 상기 선택된 광학 부재에 의해 형성되는 조명광의 형태를 변화시키기 위하여 상기 선택된 광학 부재를 회전시키는 제2 구동부를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 지지부재는 원반 형상을 가지며 상기 광학 부재들은 원주 방향으로 배치될 수 있고, 상기 제1 구동부는 상기 지지부재를 회전시킴으로써 상기 광학 부재들 중에서 하나를 선택할 수 있다. 이와는 다르게, 상기 지지부재는 일 방향으로 연장하는 플레이트 형상을 가질 수 있으며 상기 광학 부재들은 상기 지지부재의 연장 방향을 따라 배치될 수 있고, 상기 제1 구동부는 상기 광학 소재들 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재의 연장 방향을 따 라 상기 지지부재를 이동시킬 수 있다.
상기 제2 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 투영 노광 장치는, 조명 광학 시스템(illumination optical system)과 투영 광학 시스템(projection optical system)을 포함할 수 있다. 상기 조명 광학 시스템은 광 빔을 발생시키기 위한 광원과, 상기 광 빔을 서로 다른 형태의 조명광들 중에서 선택된 하나의 조명광으로 형성하기 위한 다수의 광학 부재들을 지지하는 광학 부재 홀더를 포함하며, 상기 선택된 조명광을 레티클 상으로 유도하기 위하여 채용된다. 상기 투영 광학 시스템은 기판 상에 상기 레티클 패턴과 대응하는 포토레지스트 패턴을 형성하기 위하여 상기 레티클을 통과한 광을 상기 기판으로 유도하기 위하여 채용된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 광학 부재 홀더는 상기 광 빔을 상기 조명광들로 각각 형성하기 위한 다수의 광학 부재들이 원주 방향으로 배열되도록 지지하는 지지부재와, 상기 광학 부재들이 상기 지지부재의 중심축을 기준으로 공전하면서 각각의 중심축을 기준으로 자전하도록 상기 지지부재와 상기 광학 부재들을 회전시키는 회전 구동부를 포함할 수 있다.
상기 광학 부재들의 예로는 원형 애퍼처 플레이트, 환형 애퍼처 플레이트, 이중극 애퍼처 플레이트, 크로스-폴 애퍼처 플레이트, 사중극 애퍼처 플레이트, 육중극 애퍼처 플레이트 등이 있다. 이와는 다르게, 상기 광학 부재들은 마이크로 그레이팅 패턴 플레이트(micro-grating pattern plate)와 같은 회절 광학 부재들이 사용될 수도 있다. 상기 회절 광학 부재들의 표면에는 상기와 같은 다양한 조명광 들을 형성하기 위한 마이크로 그레이팅 패턴들이 각각 형성될 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 광학 부재들의 폴들이 배치되는 방향을 조절함으로서 상기 광학 부재들의 사용 효율을 크게 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 광학 부재들의 교체를 위해 소요되는 시간을 제거할 수 있으므로, 투영 노광 장치의 가동율을 크게 증가시킬 수 있으며, 광학 부재들에 대한 설비 투자비를 감소시킬 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다. 그러나, 본 발명의 범위는 하기의 실시예들에 한정되지 않으며 다양한 형태들로 구현될 수도 있다. 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 보다 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상과 특징이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공된다. 도면들에 있어서, 각각의 요소들 및 장치는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 과장되게 도시되었으며, 또한 상기 장치는 본 명세서에서 설명되지 아니한 다양한 부가 요소들을 구비할 수 있으며, 상기 부가 요소들에 의해 다양하게 변경될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전식 광학 부재 홀더(carrousel optical element holder)와 이를 갖는 투영 노광 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 1에 도시된 바에 의하면, 투영 노광 장치(100)는 조명 광학 시스템(102)과 투영 광학 시스템(104)을 포함하며, 실리콘웨이퍼와 같은 반도체 기판(10) 상에 전사하고자 하는 레티클 패턴을 갖는 레티클(20)을 지지하는 레티클 스테이지(106) 를 사이에 두고 배치되며, 상기 반도체 기판을 지지하기 위한 기판 스테이지(108)는 투영 광학 시스템(104) 아래에 배치된다.
상기 조명 광학 시스템(102)은 상기 레티클 패턴에 따라 선택된 형태를 갖는 조명광을 상기 레티클(20) 상으로 유도하기 위하여 사용되며, 다수의 광학 부재들을 포함할 수 있다.
광원(110)으로부터 조사된 광 빔은 상기 다수의 광학 부재들을 통해 상기 선택된 형태를 갖는 조명광으로 형성되며, 레티클(20)을 통과함으로써 상기 레티클(20) 상에 형성된 레티클 패턴에 대한 이미지 정보를 얻는다. 상기 레티클(20)을 통과한 광은 투영 광학 시스템(104)을 통해 반도체 기판(10) 상으로 투영되며, 이에 따라 반도체 기판(10) 상에 형성되어 있는 포토레지스트 막에 상기 레티클 패턴 이미지가 전사된다.
상기 광원(110)으로는 ArF 엑시머 레이저, F2 레이저, KrF 엑시머 레이저, 야그(YAG) 레이저 또는 수은 램프 등이 사용될 수 있다. 상기 광원(110)으로부터 조사된 광 빔은 상기 투영 노광 장치(100)의 바디에 대하여 광 경로를 정합하기 위한 빔 매칭 유닛(112, beam matching unit; BMU)과 광 감쇠기(114, light attenuator)를 통해 빔 형상화 유닛(beam shaping unit)으로 입사된다. 상기 빔 형상화 유닛은 기 설정된 광축을 따라 배열된 제1 렌즈부(116)와 제2 렌즈부(118)를 포함할 수 있다. 상기 반도체 기판(10) 상의 포토레지스트 막에 대한 노광량을 제어하는 노광 제어 시스템(120, exposure control system)은 상기 광원(110)의 광 방출의 시작과 종료 및 출력(진동 주파수(oscillation frequency) 및 펄스 에너지)을 제어하며, 광 감쇠기(114)의 감쇠 비율(dimming ratio)을 연속적으로 또는 단계적으로 조절한다.
상기 빔 형상화 유닛을 통과한 광 빔은 일차 광학 적분기(first stage optical integrator) 또는 균일화 부재(uniformizer or homogenizer)로서 기능하는 제1 플라이 아이 렌즈(122, first fly's eye lens)로 입사된다. 상기 제1 플라이 아이 렌즈로(122)부터 출사된 광 빔은 제3 렌즈부(124)를 통해 광 경로 변환 부재(optical path-bending member)로서 기능하는 제1 반사경(126)으로 입사되며, 상기 제1 반사경(126)에 의해 반사된 광은 제4 렌즈부(128)를 통해 이차 광학 적분기로서 기능하는 제2 플라이 아이 렌즈(130)로 입사된다. 광 집적 광학 유닛(light-collecting optical unit)으로서 기능하는 릴레이 광학 유닛(relay optical unit)은 상기 제3 렌즈부(124) 및 제4 렌즈부(128)에 의해 구현될 수 있다.
상기 제2 플라이 아이 렌즈(130)를 통해 출사된 광 빔은 레티클 패턴의 형상에 따라 선택된 애퍼처 플레이트(132a)를 통과함으로써 특정 형태를 갖는 조명광으로 형성된다. 상기 선택된 애퍼처 플레이트(130a)는 조명광 형성 부재로서 기능하며, 원반 형상을 갖는 지지부재(134)에 의해 지지될 수 있다. 상기 지지부재(134)는 상기 제2 플라이 아이 렌즈(130)의 광 출사면(light-outgoing plane)과 인접하여 제1 회전 구동부(136)에 의해 회전 가능하도록 배치된다. 상기 지지부재(134)는 다수의 수용부들(138a, 138d)을 이용하여 다수의 애퍼처 플레이트들(132a, 132d)을 지지하며, 상기 레티클 패턴의 형상에 따라 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132d) 중에서 하나가 선택된다. 상기 선택된 애퍼처 플레이트(132a)는 상기 지지부재(134)의 회전에 의해 상기 광 경로 상에 위치될 수 있으며, 상기 제1 회전 구동부(136)의 동작은 구동 시스템(140, driving system)에 의해 제어될 수 있다. 상기 선택된 애퍼처 플레이트(132a)는 제2 회전 구동부(142)에 의해 회전 가능하게 배치되며, 상기 선택된 애퍼처 플레이트(132a)의 회전에 의해 조명광의 형태가 결정될 수 있다. 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132d)과 이들을 핸들링하기 위한 회전식 광학 부재 홀더(144)에 관한 상세한 설명은 후술하기로 한다.
상기 선택된 애퍼처 플레이트(132a)를 통과한 조명광은 빔 스플리터(146, beam splitter)로 입사된다. 상기 빔 스플리터(146)에 의해 반사된 조명광은 광 집적 렌즈(148, light-collecting lens)를 통해 광전 검출기(photoelectric detector)로 구성된 적분 센서(150)로 입사되며, 적분 센서(150)의 검출 신호는 노광 제어 시스템(120)으로 제공된다. 상기 노광 제어 시스템(120)은 상기 검출 신호에 따라 상기 조명광의 조도와 그의 적분값을 간접적으로 모니터링한다.
상기 빔 스플리터(146)를 통과한 조명광은 제5 렌즈부(152)와 제6 렌즈부(154)를 순차적으로 통과한 후, 제2 반사경(156)에 의해 이미지 형성 렌즈 유닛(158, image-forming lens unit)으로 입사되며, 상기 이미지 형성 렌즈 유닛(158)을 통과한 조명광은 보조 집광 렌즈 유닛(160)과 주 집광 렌즈 유닛(162)을 순차적으로 통과하여 상기 레티클(20) 상으로 입사된다.
한편, 도시되지는 않았으나, 상기 제2 플라이 아이 렌즈(130)와 제5 렌즈부(152) 및 제6 렌즈부(154)는 상기 조명광의 광속 밀도(flux density), 크기, 위치 등을 조절하기 위하여 구동 시스템(140)에 의해 제어되는 구동부들(미도시)에 의해 상기 조명광의 광축을 따라 이동될 수 있다.
상기 레티클 스테이지(106)는 상기 주 집광 렌즈 유닛(162) 아래에서 레티클 베이스(164) 상에 이동 가능하도록 배치되며 상기 레티클(20)을 지지한다. 상기 레티클 스테이지(106)는 상기 반도체 기판(10)에 대한 노광 공정이 수행되는 동안 도시된 Y축 방향으로 이동한다. 또한, 상기 레티클 스테이지(106)는 미세하게 X축 방향, Y축 방향 및 회전 가능하게 배치된다. 상기 레티클 스테이지(106)의 위치와 회전 각도는 제1 구동 제어 시스템(166)의 레이저 간섭계에 의해 실시간으로 측정될 수 있으며, 측정 결과와 주 제어 시스템(168)으로부터의 제어 정보에 따라 제1 구동 제어 시스템(166)의 구동 모터(예를 들면, 리니어 모터(linear motor) 또는 보이스 코일 모터(voice coil motor))는 레티클 스테이지(106)의 스캐닝 속도와 위치를 제어한다.
상기 레티클(20)을 통과함으로써 이미지 정보를 갖는 조명광은 투영 광학 시스템(104)을 통해 반도체 기판(10) 상으로 조사된다. 상기 반도체 기판(10)을 지지하기 위한 기판 스테이지(108)는 기판 베이스(170) 상에서 이차원적으로 이동 가능하게 배치되며, 상기 노광 공정이 수행되는 동안 상기 레티클 스테이지(106)의 이동 방향에 대하여 반대 방향으로 이동한다. 또한, 상기 반도체 기판(10)의 샷 영역들에 대하여 반복적으로 노광 공정을 수행하기 위하여 X축 방향 및 Y축 방향으로 스텝핑 방식(stepping manner)으로 이동한다. 또한, 기판 스테이지(108)의 레벨링 메커니즘은 자동 포커스 센서의 측정값에 기초하여 구동되며, 이에 따라 포커싱 위 치가 조절될 수 있다.
상기 기판 스테이지(108)의 위치와 회전 각도는 제2 구동 제어 시스템(172)의 레이저 간섭계에 의해 실시간으로 측정될 수 있으며, 측정 결과와 주 제어 시스템(168)으로부터의 제어 정보에 따라 제2 구동 제어 시스템(172)의 구동 모터(예를 들면, 리니어 모터 또는 보이스 코일 모터)는 기판 스테이지(108)의 스캐닝 속도와 위치를 제어한다.
도 2는 도 1에 도시된 회전식 광학 부재 홀더를 설명하기 위한 확대 단면도이고, 도 3은 도 1에 도시된 회전식 광학 부재 홀드를 설명하기 위한 측면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 도시된 회전식 광학 부재 홀더(144)는 조명광 형성 부재들로서 기능하는 다수의 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)을 지지하기 위한 지지부재(134)와 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)을 상기 지지부재(134)의 중심축에 대하여 공전 및 각각의 중심축들에 대하여 자전시키기 위한 회전 구동부를 포함할 수 있다. 상기 회전 구동부는 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f) 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재(134)를 회전시키는 제1 회전 구동부(136)와 상기 선택된 애퍼처 플레이트(132a)를 회전시키기 위한 제2 회전 구동부(142)를 포함할 수 있다.
상기 지지부재(134)는 원반 형상을 가지며 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)은 상기 지지부재(134)의 중심축에 대하여 원주 방향으로 배치된다. 또한, 상기 지지부재(134)는 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)이 삽입되는 다수의 홀들(134a)을 가지며, 상기 홀들(134a)에는 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)을 각각 수용하는 수용부들(138a, 138b, 138c, 138d, 138e, 138f)이 회전 가능하도록 삽입된다.
상세히 도시되지는 않았으나, 상기 수용부들(138a, 138b, 138c, 138d, 138e, 138f)은 환형 링 형상을 가지며 상기 수용부들(138a, 138b, 138c, 138d, 138e, 138f)의 외측면들에는 상기 제2 회전 구동부(142)와의 결합을 위한 기어들이 각각 형성되어 있다. 상기 제2 회전 구동부(142)는 상기 수용부들(138a, 138b, 138c, 138d, 138e, 138f)을 개별적으로 회전시키기 위한 다수의 모터들을 포함하며, 상기 모터들의 회전축들에는 상기 수용부들(138a, 138b, 138c, 138d, 138e, 138f)과의 기어 결합을 위한 구동 기어들이 제공된다.
상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)의 예로는, 마주하는 한 쌍의 폴들을 갖는 이중극 조명광을 형성하기 위한 이중극 애퍼처 플레이트(132a, 132d), 레티클(20) 상의 X축 및 Y축 상에서 서로 마주하여 위치하는 4개의 폴들을 갖는 크로스-폴 조명광을 형성하기 위한 크로스-폴 애퍼처 플레이트(132c), 레티클(20) 상의 X축 및 Y축을 기준으로 서로 마주하는 4개의 폴들을 갖는 사중극 조명광을 형성하기 위한 사중극 애퍼처 플레이트(132b), 레티클(20) 상의 X축 및 Y축을 기준으로 서로 대향하여 배치되는 6개의 폴들을 갖는 육중극 조명광을 형성하기 위한 육중극 애퍼처 플레이트(132e, 132f) 등이 있다.
또한, 도시되지는 않았으나, 상기 지지부재(134)에는 일반적인 원형 조명광 을 형성하기 위한 원형 애퍼처 플레이트(미도시) 및 환형 조명광을 형성하기 위한 환형 애퍼처 플레이트(미도시)가 장착될 수도 있다.
상기와 같이 원형 애퍼처 플레이트, 환형 애퍼처 플레이트 및 다수의 폴들을 갖는 멀티폴 애퍼처 플레이트들(multi-pole apertures)이 함께 상기 지지부재(134)에 장착되는 경우, 상기 원형 애퍼처 플레이트 및 환형 애퍼처 플레이트를 제외한 상기 멀티폴 애퍼처 플레이트들만 상기 제2 회전 구동부(142)와 연결될 수도 있다.
한편, 도시된 바에 의하면, 6개의 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)이 지지부재(134)에 장착되어 있으나, 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)의 수량은 본 발명의 범위를 한정하지 않는다. 또한, 상기 제2 회전 구동부(142)는 상기와는 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 예를 들면, 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)은 영구 자석을 이용한 자기력 또는 전자기력을 이용하여 각각 회전될 수도 있다.
상기 제1 회전 구동부(136) 및 제2 회전 구동부(142)의 동작들은 상기 구동 시스템(140)에 의해 제어될 수 있다. 구체적으로, 상기 구동 시스템(140)은 레티클 패턴의 형상에 따라 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f) 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 제1 회전 구동부(136)의 회전 각도를 제어하며, 상기 선택된 애퍼처 플레이트(132a)에 의해 형성된 조명광의 폴들의 배치 방향을 조절하기 위하여 상기 제2 회전 구동부(142)의 회전 각도를 제어한다.
예를 들면, 상기 레티클(20) 상에서 X축 방향으로 연장하는 라인 앤드 스페이스 형태의 레티클 패턴을 반도체 기판(10) 상으로 전사하는 경우, 상기 제1 회전 구동부(136)는 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f) 중에서 이중극 애퍼처 플레이트(132a 또는 132d)가 상기 광축과 교차하도록 상기 지지부재(134)를 회전시키며, 상기 제2 회전 구동부(142)는 상기 이중극 애퍼처 플레이트(132a 또는 132d)가 형성하는 이중극 조명광의 폴들이 상기 레티클(20) 상에서 Y축 방향으로 배치되도록 상기 이중극 애퍼처 플레이트(132a 또는 132d)의 회전 각도를 조절한다. 이와 대조적으로, 상기 라인 앤드 스페이스 형태의 레티클 패턴이 상기 Y축 방향으로 연장하는 경우, 상기 제2 회전 구동부(142)는 상기 이중극 애퍼처 플레이트(132a 또는 132d)에 의해 형성되는 이중극 조명광의 폴들이 상기 X축 방향으로 배치되도록 상기 이중극 애퍼처 플레이트(132a 또는 132d)의 회전 각도를 조절한다.
상술한 바와 같이, 서로 다른 형태의 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f) 중에서 상기 레티클 패턴의 형상에 따라 하나를 선택하고, 선택된 애퍼처 플레이트(132a)의 회전 각도를 조절함으로서 상기 애퍼처 플레이트들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)의 사용 효율을 크게 향상시킬 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전식 광학 부재 홀더를 설명하기 위한 측면도이다.
도 4에 도시된 바에 의하면, 회전식 광학 부재 홀더(200)는 원반 형상의 지지부재(202)와, 다수의 애퍼처 플레이트들(204a, 204b, 204c, 204d, 204e, 204f)을 각각 수용하기 위한 수용부들(206a, 206b, 206c, 206d, 206e, 206f)과, 상기 지지부재(202)를 회전시키기 위한 제1 회전 구동부(208)와, 상기 애퍼처 플레이트들 (204a, 204b, 204c, 204d, 204e, 204f)을 각각의 중심축들을 기준으로 회전시키기 위한 제2 회전 구동부(210)를 포함할 수 있다.
상기 제2 회전 구동부는 하나의 모터를 이용하여 상기 애퍼처 플레이트들(204a, 204b, 204c, 204d, 204e, 204f)을 동시에 회전시킬 수 있다. 도시된 바와 같이, 상기 수용부들(206a, 206b, 206c, 206d, 206e, 206f)의 외측면들과 치차 결합하는 내접 기어와 같은 동력 전달 부재(212)를 회전시킴으로써 상기 애퍼처 플레이트들(204a, 204b, 204c, 204d, 204e, 204f)을 동시에 회전시킬 수 있다. 이와는 다르게, 상기 수용부들(206a, 206b, 206c, 206d, 206e, 206f)의 외측면들과 결합하는 타이밍 벨트를 이용할 수도 있다.
한편, 상술한 바에 의하면, 서로 다른 형태의 다수의 폴들을 갖는 조명광들은 상기 멀티폴 애퍼처 플레이트들에 의해 형성된다. 그러나, 상기 조명광들은 마이크로 그레이팅 패턴 플레이트와 같은 회절 광학 부재들에 의해 형성될 수도 있다. 각각의 회절 광학 부재들은 임의의 피치와 깊이로 형성된 마이크로 그레이팅 패턴이 형성된 표면을 가지며, 상기 제2 플라이 아이 렌즈(130)를 통과한 광 빔을 회절시킴으로서 목적하는 형태를 갖는 조명광을 형성할 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 상기 제1 플라이 아이 렌즈(122)는 광 빔의 사용 효율을 향상시키기 위해 환형 조명광을 형성하기 위한 회절 광학 부재로 대체될 수도 있다. 이 경우, 상기 환형 조명광은 제3 렌즈부(124)와 제4 렌즈부(128) 및 제2 플라이 아이 렌즈(130)를 통하여 상기 선택된 조명광 형성 부재(애퍼처 플레이트 또는 선택된 회절 광학 부재)로 입사될 수 있으며, 상기 선택된 조명광 형성 부재에 의해 다수의 폴들을 갖는 조명광으로 형성될 수 있다.
도 5는 본 발명의 또 실시예에 따른 광학 부재 홀더를 설명하기 위한 개략도이다.
도 5에 도시된 바에 의하면, 광학 부재 홀더(300)는 수평 또는 수직 방향으로 연장하는 사각 플레이트 형상의 지지부재(302)와, 다수의 애퍼처 플레이트들(304a, 304b, 304c, 304d, 304e, 304f)을 각각 수용하기 위한 수용부들(306a, 306b, 306c, 306d, 306e, 306f)과, 상기 지지부재(302)를 상기 연장 방향을 따라 이동시키기 위한 제1 구동부(308)와, 상기 애퍼처 플레이트들(304a, 304b, 304c, 304d, 304e, 304f)을 각각의 중심축들을 기준으로 회전시키기 위한 제2 구동부(310)를 포함할 수 있다.
상기 제2 구동부(310)는 상기 애퍼처 플레이트들(304a, 304b, 304c, 304d, 304e, 304f)을 개별적으로 회전시키기 위한 다수의 모터들을 포함할 수 있다. 그러나, 상기 제2 구동부(310)는 타이밍 벨트와 같은 동력 전달 부재를 이용하여 상기 애퍼처 플레이트들(304a, 304b, 304c, 304d, 304e, 304f)을 동시에 회전시킬 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 조명광 형성 부재들로서 기능하는 애퍼처 플레이트들 또는 회절 광학 부재와 같은 광학 부재들을 지지부재의 중심축 기준으로 공전시킴으로써 다수의 광학 부재들 중에서 레티클 패턴에 대응하는 하나의 광학 부재를 선택할 수 있으며, 선택된 광학 부재를 자체의 중심축을 기준 으로 회전시킴으로써 폴들의 배치 방향을 조절할 수 있다.
따라서, 상기 광학 부재들의 사용 효율을 크게 향상시킬 수 있으며, 다양한 패턴 형상에 대응하기 위하여 상기 광학 부재들을 교체하는데 소요되는 시간을 절감할 수 있다.
결과적으로, 상기 광학 부재들을 이용하는 투영 노광 장치의 가동율을 크게 향상시킬 수 있으며, 광학 부재들에 대한 설비 투자비를 감소시킬 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (18)

  1. 서로 다른 형태의 조명광들을 형성하기 위한 다수의 광학 부재들이 원주 방향으로 배열되도록 지지하는 지지부재; 및
    상기 광학 부재들이 상기 지지부재의 중심축을 기준으로 공전하면서 각각의 중심축을 기준으로 자전하도록 상기 지지부재와 상기 광학 부재들을 회전시키는 회전 구동부를 포함하는 광학 부재 홀더.
  2. 제1항에 있어서, 상기 지지부재는 원반 형상을 가지며, 상기 광학 부재들이 삽입되는 다수의 홀들이 원주 방향으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 부재 홀더.
  3. 제2항에 있어서, 상기 홀들 내에 회전 가능하도록 각각 삽입되며, 상기 광학 부재들을 각각 수용하기 위한 다수의 수용부들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 홀더.
  4. 제1항에 있어서, 상기 조명광들은 원형 조명광(circular illumination light), 환형 조명광(annular illumination light), 이중극 조명광(dipole illumination light), 사중극 조명광(quadrupole illumination light), 크로스-폴 조명광(cross-pole illumination light) 및 육중극 조명광(hexapole illumination light)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 홀더.
  5. 제4항에 있어서, 상기 회전 구동부는 상기 광학 부재들 중에서 다수의 폴들을 갖는 조명광들을 형성하는 광학 부재들을 자전시키는 것을 특징으로 하는 광학 부재 홀더.
  6. 제1항에 있어서, 상기 회전 구동부는 상기 지지부재를 회전시키기 위한 제1 회전 구동부와 상기 광학 부재들을 각각 회전시키기 위한 제2 회전 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 홀더.
  7. 제6항에 있어서, 상기 광학 부재들은 적어도 하나의 모터에 의해 각각 회전하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 홀더.
  8. 제6항에 있어서, 상기 제2 회전 구동부는 자기력을 이용하여 상기 광학 부재들을 각각 회전시키는 것을 특징으로 하는 광학 부재 홀더.
  9. 서로 다른 형태를 갖는 조명광들을 형성하기 위한 다수의 광학 부재들을 지지하는 지지부재;
    상기 광학 부재들 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재를 이동시키는 제1 구동부; 및
    상기 선택된 광학 부재의 배치 방향을 조절하기 위하여 상기 선택된 광학 부재를 회전시키는 제2 구동부를 포함하는 광학 부재 홀더.
  10. 광 빔을 형성하기 위한 광원;
    상기 광 빔을 서로 다른 형태의 조명광들로 형성하기 위한 다수의 광학 부재들이 원주 방향으로 배열되도록 지지하는 지지부재와, 상기 광학 부재들 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재를 회전시키며 상기 선택된 광학 부재의 배치 방향을 조절하기 위하여 상기 선택된 광학 부재를 회전시키는 회전 구동부를 포함하는 광학 부재 홀더; 및
    기판 상에 레티클의 패턴과 대응하는 포토레지스트 패턴을 형성하기 위하여 상기 선택된 광학 부재 및 상기 레티클을 통과한 조명광을 상기 기판으로 유도하기 위한 투영 광학 시스템을 포함하는 투영 노광 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 지지부재는 원반 형상을 가지며, 상기 광학 부재들이 삽입되는 다수의 홀들이 원주 방향으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 홀들 내에 회전 가능하도록 각각 삽입되며, 상기 광학 부재들을 각각 수용하기 위한 다수의 수용부들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  13. 제10항에 있어서, 상기 광학 부재들은 원형 애퍼처 플레이트, 환형 애퍼처 플레이트, 이중극 애퍼처 플레이트, 사중극 애퍼처 플레이트, 크로스-폴 애퍼처 플레이트 및 육중극 애퍼처 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  14. 제10항에 있어서, 상기 광학 부재들은 원형 조명광, 환형 조명광, 이중극 조명광, 사중극 조명광, 크로스-폴 조명광 및 육중극 조명광을 각각 형성하기 위한 회절 광학 소자들을 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  15. 제10항에 있어서, 상기 회전 구동부는 상기 지지부재를 회전시키기 위한 제1 회전 구동부와 상기 광학 부재들을 각각 회전시키기 위한 제2 회전 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 광학 부재들은 적어도 하나의 모터에 의해 각각 회전하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 제2 회전 구동부는 자기력을 이용하여 상기 광학 부재들을 각각 회전시키는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  18. 광 빔을 형성하기 위한 광원;
    상기 광 빔을 서로 다른 형태를 갖는 조명광들로 형성하기 위한 다수의 광학 부재들을 지지하는 지지부재와, 상기 광학 부재들 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재를 이동시키는 제1 구동부와, 상기 선택된 광학 부재의 배치 방향을 조절하기 위하여 상기 선택된 광학 부재를 회전시키는 제2 구동부를 포함하는 광학 부재 홀더; 및
    기판 상에 레티클의 패턴과 대응하는 포토레지스트 패턴을 형성하기 위하여 상기 선택된 광학 부재 및 상기 레티클을 통과한 조명광을 상기 기판으로 유도하기 위한 투영 광학 시스템을 포함하는 투영 노광 장치.
KR1020050053767A 2005-06-22 2005-06-22 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치 KR100685743B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050053767A KR100685743B1 (ko) 2005-06-22 2005-06-22 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치
US11/451,580 US7457058B2 (en) 2005-06-22 2006-06-13 Optical element holder and projection exposure apparatus having the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050053767A KR100685743B1 (ko) 2005-06-22 2005-06-22 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060134239A KR20060134239A (ko) 2006-12-28
KR100685743B1 true KR100685743B1 (ko) 2007-02-22

Family

ID=37567020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050053767A KR100685743B1 (ko) 2005-06-22 2005-06-22 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7457058B2 (ko)
KR (1) KR100685743B1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7381937B2 (en) * 2005-09-13 2008-06-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Image analysis and enhancement system
US8208127B2 (en) 2007-07-16 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Combination stop for catoptric projection arrangement
CN101931826A (zh) * 2009-06-26 2010-12-29 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 立体成像镜头模组
WO2012089224A1 (en) * 2010-12-28 2012-07-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
US10073354B2 (en) * 2014-10-29 2018-09-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Exposure method of wafer substrate, manufacturing method of semiconductor device, and exposure tool
US11733171B2 (en) * 2018-09-11 2023-08-22 Kla Corporation Light attenuation device for high power UV inspection tool

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000062688A (ko) * 1999-03-12 2000-10-25 칼-자이스- 스티풍 트레이딩 애즈 칼 자이스 광축에 따른 광학엘레멘트의 이동장치
KR20040010091A (ko) * 2002-07-25 2004-01-31 주식회사 솔루션닉스 광학식 마커를 이용한 3차원 측정 데이터 자동 정렬장치및 그 방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003515256A (ja) 1999-11-15 2003-04-22 エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ 変形照明による位相境界マスクを使用する結像方法
TW546699B (en) 2000-02-25 2003-08-11 Nikon Corp Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution
JP4106701B2 (ja) 2001-12-12 2008-06-25 株式会社ニコン 回折光学装置、屈折光学装置、照明光学装置、露光装置および露光方法
TW567406B (en) * 2001-12-12 2003-12-21 Nikon Corp Diffraction optical device, refraction optical device, illuminating optical device, exposure system and exposure method
KR20050002310A (ko) 2003-06-30 2005-01-07 주식회사 하이닉스반도체 변형 조명계 노광장치 및 이를 이용한 감광막 패턴 형성방법
KR100518586B1 (ko) 2003-07-24 2005-10-04 삼성전자주식회사 회절 광학 소자와 이를 포함하는 조명계 및 이를 이용한반도체 소자 제조방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000062688A (ko) * 1999-03-12 2000-10-25 칼-자이스- 스티풍 트레이딩 애즈 칼 자이스 광축에 따른 광학엘레멘트의 이동장치
KR20040010091A (ko) * 2002-07-25 2004-01-31 주식회사 솔루션닉스 광학식 마커를 이용한 3차원 측정 데이터 자동 정렬장치및 그 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US7457058B2 (en) 2008-11-25
US20060291077A1 (en) 2006-12-28
KR20060134239A (ko) 2006-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101547077B1 (ko) 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
EP0969327B1 (en) Multiple exposure apparatus and method
KR100685743B1 (ko) 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치
JP2002324743A (ja) 露光方法及び装置
JP3950732B2 (ja) 照明光学系、照明方法及び露光装置
JPH04225357A (ja) 投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法
JP5688410B2 (ja) 反射要素のアレイの回転マウンティングおよびそれを組み入れたリソグラフィ装置
TW200844672A (en) Exposure apparatus and device fabrication method
JP2007109969A (ja) 露光方法
JP2008091881A (ja) 回折光学素子、露光装置およびデバイス製造方法
KR20010039943A (ko) 노광방법 및 노광장치
KR100781297B1 (ko) 기판 노광 공정에서의 베스트 포커스 결정 방법 및 이의수행이 가능한 기판 노광 장치
KR20070109572A (ko) 기판 파지 장치 및 이를 갖는 노광 장치
JP2002057081A (ja) 照明光学装置並びに露光装置及び露光方法
US8300214B2 (en) System and method for an adjusting optical proximity effect for an exposure apparatus
KR100764057B1 (ko) 애퍼쳐 유닛 및 이를 구비하는 노광 시스템, 그리고 애퍼쳐유닛의 애퍼쳐를 교체하는 방법
JPH05326365A (ja) 投影露光装置
JP2023148840A (ja) 照明光学系、露光装置および物品製造方法
KR20050108516A (ko) 반도체 기판 노광 장치
JP2002353098A (ja) 露光方法及び装置
KR20080026281A (ko) 기판 지지 장치 및 이를 갖는 노광 장치
JP2004207284A (ja) 露光装置および露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130131

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140129

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150202

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200131

Year of fee payment: 14