KR100610916B1 - Semiconductor package - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체패키지에 관한 것으로, 적어도 하나 이상의 반도체칩을 수직 방향으로 적층한 반도체패키지를 제공하기 위해, 그 반도체패키지의 구조를 설명하면, 수지층을 중심으로 상면에는 다수의 본드핑거를 포함하는 회로패턴이 형성되고, 하면에는 다수의 볼랜드를 포함하는 회로패턴이 형성된 섭스트레이트와; 상기 섭스트레이트의 상면 중앙에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제1반도체칩과; 상기 제1반도체칩의 상면에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제2반도체칩과; 상기 제1반도체칩 및 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 본드핑거를 상호 전기적으로 접속하되, 상기 제1반도체칩과 섭스트레이트 사이에 형성되는 루프 하이트(Loop Height)는 상기 제1반도체칩의 상면 높이와 같은 다수의 도전성와이어와; 상기 제1반도체칩, 제2반도체칩 및 도전성와이어를 봉지재로 봉지하여 형성된 몸체와; 상기 섭스트레이트의 각 볼랜드에 융착된 도전성볼을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 함.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor package. In order to provide a semiconductor package in which at least one semiconductor chip is stacked in a vertical direction, the structure of the semiconductor package includes a plurality of bond fingers on an upper surface of the resin layer. A substrate having a circuit pattern formed thereon, the substrate having a circuit pattern including a plurality of ball lands formed thereon; A first semiconductor chip bonded to the center of the upper surface of the substrate by adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumference of the upper surface; A second semiconductor chip attached to an upper surface of the first semiconductor chip by an adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumferential surface of the first semiconductor chip; The I / O pads of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip and the bond fingers of the substrate are electrically connected to each other, and a loop height formed between the first semiconductor chip and the substrate is a first semiconductor chip. A plurality of conductive wires such as the top height of the wires; A body formed by encapsulating the first semiconductor chip, the second semiconductor chip, and the conductive wire with an encapsulant; It characterized in that it comprises a conductive ball fused to each borland of the substrate.
Description
도1a 및 도1b는 종래 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조를 도시한 단면도이고, 도1c는 종래 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조가 채택된 적층형 반도체패키지를 도시한 단면도이다.1A and 1B are cross-sectional views illustrating a wire bonding structure between a conventional semiconductor chip and a substrate, and FIG. 1C is a cross-sectional view illustrating a stacked semiconductor package employing a wire bonding structure between a semiconductor chip and a substrate.
도2a 내지 도2e는 본 발명에 의한 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조를 도시한 단면도이다.2A through 2E are cross-sectional views illustrating a wire bonding structure between a semiconductor chip and a substrate in accordance with the present invention.
도3a 및 도3b는 본 발명에 의한 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조를 도시한 사시도이다.3A and 3B are perspective views illustrating a wire bonding structure between a semiconductor chip and a substrate in accordance with the present invention.
도4는 본 발명에 의한 반도체패키지를 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing a semiconductor package according to the present invention.
도5는 본 발명에 의한 다른 반도체패키지를 도시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing another semiconductor package according to the present invention.
도6은 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지를 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing another semiconductor package according to the present invention.
도7은 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지를 도시한 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing another semiconductor package according to the present invention.
도8a는 종래의 반도체패키지를 도8b는 개선된 본 발명의 또다른 반도체패키지를 도시한 단면도이다.Figure 8a is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor package of Figure 8b is another semiconductor package of the present invention improved.
도9a 및 도9b는 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지를 도시한 단면도이다.9A and 9B are cross-sectional views showing yet another semiconductor package according to the present invention.
도10은 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지를 도시한 단면도이다.10 is a cross-sectional view showing another semiconductor package according to the present invention.
- 도면중 주요 부호에 대한 설명 --Description of the main symbols in the drawings-
101~106; 본 발명에 의한 반도체패키지101-106; Semiconductor package according to the present invention
1; 섭스트레이트 2; 수지층One; Suprate 2; Resin layer
3; 본드핑거 4; 볼랜드3; Bondfinger 4; Borland
5; 도전성 비아홀 6; 커버코트5; Conductive via
7; 관통구 8; 계단형 단턱7; Through
10; 제1반도체칩 20; 제2반도체칩10; A
30'; 제3반도체칩 10a,20a,30a'; 입출력패드30 ';
30; 도전성와이어 31; 스터드범프30;
40; 도전성볼 50; 접착수단40;
60; 몸체 71; 칩탑재판60;
72; 리드72; lead
본 발명은 반도체패키지에 관한 것으로, 더욱 상세하게 설명하면 적어도 하나 이상의 반도체칩을 수직 방향으로 적층할 수 있는 반도체패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package, and more particularly, to a semiconductor package capable of stacking at least one semiconductor chip in a vertical direction.
통상 적층형 반도체패키지는 인쇄회로기판(Printed Circuit Board), 써킷테이프(Circuit Tape), 써킷필름(Circuit Film) 또는 리드프레임(Lead Frame)과 같은 섭스트레이트(Substrate)에 다수의 반도체칩을 수직방향으로 적층한 후, 상기 적층된 반도체칩끼리 또는 반도체칩과 섭스트레이트를 도전성 와이어(Conductive Wire)와 같은 전기적 접속수단으로 본딩(Bonding)한 것을 지칭한다. 이러한 적층형 반도체패키지는 다수의 반도체칩을 탑재함으로써 고기능화된 성능을 구현할 수 있을 뿐만 아니라, 마더보드(Mother Board)에서의 실장밀도를 높일 수 있기 때문에 최근 대량으로 제조되고 있는 추세이다.In general, a multilayer semiconductor package includes a plurality of semiconductor chips vertically in a substrate such as a printed circuit board, a circuit tape, a circuit film, or a lead frame. After lamination, it refers to bonding the stacked semiconductor chips or the semiconductor chips and the substrate with electrical connection means such as conductive wires. Such stacked semiconductor packages have been recently manufactured in large quantities because they can realize high performance by mounting a plurality of semiconductor chips and can increase the mounting density of the motherboard.
여기서, 종래 반도체칩을 적층하기 위한 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조를 도1a 및 도1b에 도시하였다.Here, a wire bonding structure between a semiconductor chip and a substrate for stacking a conventional semiconductor chip is shown in FIGS. 1A and 1B.
도시된 바와 같이 섭스트레이트(1)의 상면 중앙부에는 접착수단(50)으로 제1반도체칩(10)이 접착되어 있고, 상기 제1반도체칩(10)의 상면에는 또다른 접착수단(50)으로 제2반도체칩(20)이 접착되어 있다. 물론, 상기 제2반도체칩(20) 상면에는 또다른 반도체칩들이 상호 접착수단으로 접착될 수도 있다.As shown, the
한편, 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 상면 둘레에는 다수의 입출력패드(10a,20a)가 형성되어 있으며, 이는 도전성와이어(30)에 의해 섭스트레이트(1)의 소정 영역에 본딩되어 있다.Meanwhile, a plurality of input /
이러한 본딩 구조는 통상 도전성와이어(30)의 일단에 볼(Ball, 도시되지 않음)이 형성된 후, 이 볼이 상기 입출력패드(10a,20a)에 제1본딩된 후, 이어서 타단 이 일정 경로를 그리며 상기 섭스트레이트(1)의 소정 영역에 제2본딩되어 이루어진다. Such a bonding structure is usually formed with a ball (not shown) at one end of the
또한, 상기 본딩 방법은 도시된 바와 같이 일정 높이의 와이어 루프 하이트(LH)를 형성함으로써, 상기 제1반도체칩(10)에 본딩된 도전성와이어(30)와 간섭하지 않토록 대부분의 제2반도체칩(20)이 제1반도체칩(10)보다 크기가 작다.(도1a 참조) 상기 제1반도체칩(10) 또는 제2반도체칩(20)의 표면으로부터 도전성와이어(30)의 루프 하이트는 통상 대략 8mil(1mil=1/1000inch) 정도된다.In addition, the bonding method forms a wire loop height LH of a predetermined height, as shown, so that most of the second semiconductor chips do not interfere with the
또한, 상기 제1반도체칩과 제2반도체칩의 크기가 동일하거나 또는 제2반도체칩의 크기가 더 큰 경우에도 그 와이어 루프 하이트를 고려하여 제2반도체칩을 제1반도체칩에 접착시키는 접착수단의 두께를 충분히 큰 것으로 구비하여 제조 하고 있다.(도1b 참조)Also, in the case where the size of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip is the same or the size of the second semiconductor chip is larger, the adhesive means for adhering the second semiconductor chip to the first semiconductor chip in consideration of the wire loop height. It is manufactured with a sufficiently large thickness. (See Fig. 1b.)
그러나, 상기와 같은 도전성와이어의 루프 하이트 및 두꺼운 접착수단은 전체적인 반도체패키지의 두께를 크게 하는 단점이 있다.However, the loop height and thick bonding means of the conductive wire as described above has the disadvantage of increasing the thickness of the entire semiconductor package.
또한, 상기 접착수단의 두께가 클 경우 그 접착수단의 탄력성도 커지게 되므로, 반도체칩의 입출력패드에 수행되는 도전성와이어의 본딩 상태도 양호하지 않고, 또한 반도체칩을 정확한 위치에 접착시키는 작업도 어렵다.In addition, when the thickness of the bonding means is large, the elasticity of the bonding means also increases, so that the bonding state of the conductive wires performed on the input / output pads of the semiconductor chip is not good, and it is also difficult to bond the semiconductor chip to the correct position. .
이러한 반도체칩과 섭스트레이트의 와이어 본딩 구조를 채택한 종래 적층형 반도체패키지(100')가 도1c에 도시되어 있다.A conventional stacked semiconductor package 100 'employing such a semiconductor chip and substraight wire bonding structure is shown in FIG. 1C.
도시된 바와 같이 먼저 딱딱한 수지층(2)을 중심으로 그 상면에는 다수의 본 드핑거(3)(Bond Finger)를 포함하는 도전성 회로패턴이 형성되어 있고, 하면에는 볼랜드(4)(Ball Land)를 포함하는 회로패턴이 형성되어 있으며, 상기 상,하면의 회로패턴은 도전성 비아홀(5)(Via Hole)로 상호 연결된 섭스트레이트(1)가 구비되어 있다. 여기서, 상기 본드핑거(3) 및 볼랜드(4)를 포함하는 도전성 회로패턴은 통상적인 구리박막(Copper Trace)이다.As shown, first, a conductive circuit pattern including a plurality of bone fingers is formed on the upper surface of the
상기 섭스트레이트(1)의 상면 중앙부에는 접착수단(50)으로 제1반도체칩(10)이 접착되어 있고, 상기 제1반도체칩(10)의 상면에는 접착수단(50)으로 또다른 제2반도체칩(20)이 접착되어 있다.The
상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)는 모두 도전성와이어(30)에 의해 섭스트레이트(1)의 본드핑거(3)에 접속되어 있으며, 상기 섭스트레이트(1)의 하면에 형성된 볼랜드(4)에는 다수의 도전성볼(40)(Conductive Ball)이 융착되어 있다. 이 도전성볼(40)은 차후 마더보드의 소정 패턴에 융착된다.The input /
상기 섭스트레이트(1)의 상면에 위치한 제1반도체칩(10), 제2반도체칩(20) 및 도전성와이어(30) 등은 외부의 충격이나 접촉 등으로부터 보호될 수 있도록 에폭시 몰딩 컴파운드(Epoxy Molding Compound) 또는 글럽탑(Glop Top)과 같은 봉지재로 봉지되어 소정의 몸체(60)를 형성하고 있다.The
도면중 미설명 부호 6은 회로패턴을 외부환경으로부터 보호하기 위해 그 표면에 코팅된 커버코트(Cover Coat)이다.In the figure,
이러한 반도체패키지(100')는 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 전기적 신호가 입출력패드(10a,20a), 도전성와이어(30), 본드핑거(3), 도전성비아홀(5), 볼랜드(4) 및 도전성볼(40)을 통해 도시되지 않은 마더보드와 전기적 신호를 교환한다.In the
그러나 이러한 종래의 반도체패키지는 통상적인 와이어 본딩 방법(반도체칩의 입출력패드에 제1본딩(First Bonding)을 수행하고, 섭스트레이트의 본드핑거에 제2본딩(Second Bonding)을 수행하는 와이어 본딩 방법)을 사용함으로써, 도전성와이어에 의해 형성된 루프 하이트(Loop Height)(도1a에서 LH로 표시)가 그 반도체칩의 상면보다 높게 형성되는 단점이 있다. 즉, 제1본딩 영역에서 그보다 높은 와이어 루프 하이트가 제공됨으로써 제1반도체칩의 상면에 그것과 동일한 크기의 제2반도체칩이 적층되면 상기 도전성와이어와 제2반도체칩의 하면이 서로 간섭되는 문제가 있고, 따라서 제2반도체칩의 크기가 대부분 제1반도체칩의 크기보다 작게 구비된다. 또한, 동일한 크기 및 동일한 기능의 반도체칩(Homogeneous semiconductor chip), 예를 들면 다수의 메모리 반도체칩 등을 적층할 경우에는 상기 루프 하이트에 의한 도전성와이어와의 간섭을 방지하기 위해 충분히 두꺼운 접착수단을 사용하여야 함으로써 와이어 본딩 불량은 물론 정확한 위치에의 반도체칩 접착이 어려운 실정이다.However, such a conventional semiconductor package is a conventional wire bonding method (wire bonding method for performing first bonding to the input / output pad of the semiconductor chip and performing second bonding to the bond finger of the substrate). By using, there is a disadvantage in that the loop height (indicated by LH in FIG. 1A) formed by the conductive wire is formed higher than the upper surface of the semiconductor chip. That is, when the second semiconductor chip of the same size is stacked on the upper surface of the first semiconductor chip because the higher wire loop height is provided in the first bonding region, the lower surface of the conductive wire and the second semiconductor chip interfere with each other. Therefore, the size of the second semiconductor chip is mostly smaller than the size of the first semiconductor chip. In addition, in the case of stacking the same size and the same function of the semiconductor chip (Homogeneous semiconductor chip), for example, a plurality of memory semiconductor chip, a sufficiently thick adhesive means to prevent interference with the conductive wire by the loop height It is difficult to bond the semiconductor chip to the correct position as well as the wire bonding defects.
또한 상기 와이어 루프 하이트 및 두꺼운 접착수단으로 인해 봉지재로 형성되는 몸체의 두께도 두껍게 되고 이는 곧 반도체패키지의 전체적인 두께를 증가시키는 원인이 된다.In addition, the thickness of the body formed of the encapsulant is also thick due to the wire loop height and the thick adhesive means, which causes the overall thickness of the semiconductor package to increase.
한편, 섭스트레이트에 형성된 회로패턴의 구조상 제1반도체칩보다 제2반도체 칩의 크기가 커야만 와이어 본딩이 수월한 경우가 있는데, 종래의 반도체패키지는 이러한 요구에 부응하기가 대단히 까다롭고, 따라서, 섭스트레이트에 형성되는 회로패턴의 설계 자유도가 크게 떨어지는 문제가 있다.On the other hand, wire bonding may be easier when the size of the second semiconductor chip is larger than that of the first semiconductor chip due to the structure of the circuit pattern formed on the substrate. However, the conventional semiconductor package is very difficult to meet such a requirement, and thus, There is a problem that the degree of freedom in designing a circuit pattern formed on a straight line is greatly reduced.
이러한 문제는 상기한 섭스트레이트로서 인쇄회로기판, 써킷테이프, 써킷필름 및 리드프레임을 이용한 반도체패키지에서만 발생하는 문제는 아니며, 예를 들면 UT(Ultra Thin) 반도체패키지, 다층 섭스트레이트에 다수의 반도체칩이 적층된 반도체패키지 등에서도 야기되는 문제이다.This problem is not only a problem of a semiconductor package using a printed circuit board, a circuit tape, a circuit film, and a lead frame as the above-mentioned substrate. For example, a plurality of semiconductor chips in UT (Ultra Thin) semiconductor packages and multilayer substrates are used. This problem is also caused by the stacked semiconductor package.
따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 동일한 크기 또는 동일한 기능의 반도체칩들을 용이하게 적층할 수 있는 반도체패키지를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, to provide a semiconductor package that can be easily stacked semiconductor chips of the same size or the same function.
본 발명의 다른 목적은 섭스트레트에 접착된 반도체칩보다 더 큰 크기의 반도체칩을 그 상면에 적층할 수 있음으로써, 섭스트레이트의 회로패턴 설계에 대한 자유도를 높일 수 있는 반도체패키지의 제공에 있다.Another object of the present invention is to provide a semiconductor package that can increase the degree of freedom for designing the circuit pattern of the substrate by stacking a semiconductor chip of a larger size than the semiconductor chip bonded to the substrate .
본 발명의 또다른 목적은 와이어 루프 하이트(Wire Loop Height)를 최소화함으로써, 그 와이어와 적층되는 반도체칩의 간섭을 억제할 뿐만 아니라, 전체적인 두께를 줄일 수 있는 반도체패키지의 제공에 있다.Another object of the present invention is to provide a semiconductor package that can reduce the overall thickness as well as suppress interference of semiconductor chips stacked with the wire by minimizing wire loop height.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조는 다수의 회로패턴이 형성되어 마더보드에 실장되는 섭스트레이트와; 상기 섭스트레이트의 상면 중앙에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제1반도체칩과; 상기 제1반도체칩 상면에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제2반도체칩과; 상기 제1반도체칩 및 제2반도체칩의 입출력패드와 상기 섭스트레이트의 본드핑거가 상호 전기적으로 접속되어 있되, 상기 반도체칩과 섭스트레이트 사이에 형성되는 루프 하이트(Loop Height)는 상기 각 반도체칩의 상면 높이와 같은 다수의 도전성와이어를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the wire bonding structure between the semiconductor chip and the substrate according to the present invention includes a substrate having a plurality of circuit patterns formed thereon and mounted on the motherboard; A first semiconductor chip bonded to the center of the upper surface of the substrate by adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumference of the upper surface; A second semiconductor chip attached to an upper surface of the first semiconductor chip by an adhesive means and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumference of the upper surface of the first semiconductor chip; I / O pads of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip and bond fingers of the substrate are electrically connected to each other, and a loop height formed between the semiconductor chip and the substrate is a loop height of each semiconductor chip. Characterized by including a plurality of conductive wires, such as the top surface.
여기서, 상기 접착수단은 전기적으로 비전도성이다.Here, the bonding means is electrically nonconductive.
또한, 상기 접착수단은 제1반도체칩에 본딩된 도전성와이어가 제2반도체칩의 하면과 접촉하지 않토록 적어도 상기 도전성와이어의 두께보다 두껍게 형성됨이 바람직하다.In addition, the bonding means is preferably formed thicker than the thickness of the conductive wire so that the conductive wire bonded to the first semiconductor chip does not contact the lower surface of the second semiconductor chip.
상기 제2반도체칩의 상부에는 적어도 한 개 이상의 또다른 반도체칩이 접착수단으로 접착될 수 있다.At least one other semiconductor chip may be bonded to the upper portion of the second semiconductor chip by an adhesive means.
상기 제1반도체칩은 제2반도체칩과 동일하거나, 제2반도체칩의 크기보다 크거나, 또는 제2반도체칩의 크기보다 작을 수 있다.The first semiconductor chip may be the same as the second semiconductor chip, larger than the size of the second semiconductor chip, or smaller than the size of the second semiconductor chip.
상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드에는 스터드범프가 형성되고, 상기 스터드범프상에 도전성와이어의 단부가 접속될 수 있다.A stud bump may be formed on an input / output pad of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip, and an end portion of the conductive wire may be connected to the stud bump.
또한, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드는 도전성와이어와 엣지 또는 리본 본딩법에 의해 접속될 수도 있다.In addition, the input / output pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip may be connected to the conductive wire by an edge or ribbon bonding method.
또한, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드는 도전성와이어와 탭본딩법에 의해 접속될 수 있다.In addition, the input / output pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip may be connected by a conductive wire and a tab bonding method.
상기 제2반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제1반도체칩 상면에 접착될 수 있다.At least one other semiconductor chip may be attached to an upper surface of the first semiconductor chip on the side of the second semiconductor chip.
상기 제1반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제2반도체칩 하면에 접착될 수도 있다.At least one other semiconductor chip may be attached to the lower surface of the second semiconductor chip on the side of the first semiconductor chip.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체패키지는 수지층을 중심으로 상면에는 다수의 본드핑거를 포함하는 회로패턴이 형성되고, 하면에는 다수의 볼랜드를 포함하는 회로패턴이 형성된 섭스트레이트와; 상기 섭스트레이트의 상면 중앙에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제1반도체칩과; 상기 제1반도체칩의 상면에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제2반도체칩과; 상기 제1반도체칩 및 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 본드핑거를 상호 전기적으로 접속하되, 상기 제1반도체칩과 섭스트레이트 사이에 형성되는 루프 하이트(Loop Height)는 상기 제1반도체칩의 상면 높이와 같은 다수의 도전성와이어와; 상기 제1반도체칩, 제2반도체칩 및 도전성와이어를 봉지재로 봉지하여 형성된 몸체와; 상기 섭스트레이트의 각 볼랜드에 융착된 도전성볼을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, the semiconductor package according to the present invention has a circuit pattern including a plurality of bond fingers on an upper surface of the resin layer, and a circuit pattern including a plurality of ball lands on a lower surface thereof. Wow; A first semiconductor chip bonded to the center of the upper surface of the substrate by adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumference of the upper surface; A second semiconductor chip attached to an upper surface of the first semiconductor chip by an adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumferential surface of the first semiconductor chip; The I / O pads of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip and the bond fingers of the substrate are electrically connected to each other, and a loop height formed between the first semiconductor chip and the substrate is a first semiconductor chip. A plurality of conductive wires such as the top height of the wires; A body formed by encapsulating the first semiconductor chip, the second semiconductor chip, and the conductive wire with an encapsulant; It characterized in that it comprises a conductive ball fused to each borland of the substrate.
또한 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체패키지는 중앙에 일정크기의 관통공이 형성된 수지층을 중심으로, 상기 관통공의 외주연인 상면에는 다수의 본드핑거를 포함하는 회로패턴이 형성되고 하면에는 다수의 볼랜드를 포함하는 회로패턴이 형성된 섭스트레이트와; 상기 섭스트레이트의 관통공에 위치되며, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제1반도체칩과; 상기 제1반도체칩의 상면에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제2반도체칩과; 상기 제1반도체칩 및 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 본드핑거를 상호 전기적으로 접속하되, 상기 제2반도체칩과 섭스트레이트 사이에 형성되는 루프 하이트(Loop Height)는 상기 제2반도체칩의 상면 높이와 같은 다수의 도전성와이어와; 상기 섭스트레이트의 관통공, 제1반도체칩, 제2반도체칩 및 도전성와이어를 봉지재로 봉지하여 형성된 몸체와; 상기 섭스트레이트의 각 볼랜드에 융착된 도전성볼을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, the semiconductor package according to the present invention has a circuit pattern including a plurality of bond fingers on the upper surface of the outer circumference of the through hole centered on a resin layer having a predetermined size of through holes at the center. Substrate is formed with a circuit pattern including a plurality of ball land; A first semiconductor chip positioned in the through hole of the substrate and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumference of the upper surface; A second semiconductor chip attached to an upper surface of the first semiconductor chip by an adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumferential surface of the first semiconductor chip; The input / output pads of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip and the bond fingers of the substrate are electrically connected to each other, and a loop height formed between the second semiconductor chip and the substrate is a second semiconductor chip. A plurality of conductive wires such as the top height of the wires; A body formed by encapsulating the through-hole, the first semiconductor chip, the second semiconductor chip, and the conductive wire of the substrate with an encapsulant; It characterized in that it comprises a conductive ball fused to each borland of the substrate.
또한 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체패키지는 대략 평판형의 수지층이 구비되고, 상기 수지층의 상면 중앙에는 서로 마주보는 계단형의 단턱이 형성되어 소정의 개구부를 이루도록 다층의 수지층이 접착되며, 상기 다층의 수지층 상면에는 본드핑거를 포함하는 회로패턴이 형성되며, 상기 평판형의 수지층 하면에는 볼랜드를 포함하는 회로패턴이 형성되어 이루어진 섭스트레이트와; 상기 개구부 내측인 평판형 수지층 상면에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제1반도체칩과; 상기 제1반도체칩의 상면에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에는 다수의 입출력패드가 형성된 제2반도체칩과; 상기 제1반도체칩 및 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 본드핑거를 상호 전기적으로 접속하되, 상기 제1반도체칩 및 제2반도체칩과 섭스트레이트 사이에 형성되는 루프 하이트는 상기 각 반도체칩의 상면 높이와 같은 도전성와이어와; 상기 섭스트레이트의 개구부, 제1반도체칩, 2반도체칩 및 도전성와이어를 봉지재로 봉지하여 형성된 몸체와; 상기 섭스트레이트의 각 볼랜드에 융착된 도전성볼을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, the semiconductor package according to the present invention is provided with a substantially flat resin layer, and in the center of the upper surface of the resin layer, stepped steps are formed to face each other to form a predetermined opening. A ground layer is bonded, a circuit pattern including a bond finger is formed on an upper surface of the multilayer resin layer, and a circuit pattern including a ball land is formed on a lower surface of the flat resin layer; A first semiconductor chip attached to an upper surface of the flat resin layer inside the opening by an adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumference of the upper surface; A second semiconductor chip attached to an upper surface of the first semiconductor chip by an adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumferential surface of the first semiconductor chip; The I / O pads of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip and the bond fingers of the substrate are electrically connected to each other, and a loop height formed between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip and the substrate is each of the semiconductor chips. Conductive wires such as the height of the upper surface thereof; A body formed by sealing the opening of the substrate, the first semiconductor chip, the second semiconductor chip, and the conductive wire with an encapsulant; It characterized in that it comprises a conductive ball fused to each borland of the substrate.
또한 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체패키지는 상면 내주연에 다수의 입출력패드가 형성된 제1반도체칩과; 상기 제1반도체칩의 상면에 접착수단으로 접착되고, 상면 내주연에 다수의 입출력패드가 형성된 제2반도체칩과; 상기 제1반도체칩의 하면에 접착수단으로 접착된 칩탑재판과; 상기 칩탑재판과 일정거리 이격되어 형성된 다수의 리드와; 상기 제1반도체칩 및 제2반도체칩의 입출력패드와 리드를 전기적으로 접속하되, 제1반도체칩과 리드 사이에 형성되는 루프 하이트는 상기 제1반도체칩의 상면 높이와 같은 다수의 도전성와이어와; 상기 제1반도체칩, 제2반도체칩, 칩탑재판, 도전성와이어 및 리드의 일정 영역을 봉지재로 봉지하여 형성된 몸체를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, the semiconductor package according to the present invention comprises a first semiconductor chip having a plurality of input and output pads formed on the inner circumference of the upper surface; A second semiconductor chip adhered to an upper surface of the first semiconductor chip by adhesive means, and having a plurality of input / output pads formed on an inner circumference of the upper surface of the first semiconductor chip; A chip mounting plate adhered to the bottom surface of the first semiconductor chip by an adhesive means; A plurality of leads formed spaced apart from the chip mounting plate by a predetermined distance; An electrically connected input / output pad and a lead of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip, wherein a loop height formed between the first semiconductor chip and the lead includes a plurality of conductive wires such as an upper surface height of the first semiconductor chip; And a body formed by encapsulating a predetermined region of the first semiconductor chip, the second semiconductor chip, the chip mounting plate, the conductive wire, and the lead with an encapsulant.
상기 섭스트레이트는 인쇄회로기판, 써킷테이프 또는 써킷필름중 어느 하나일 수 있다.The substrate may be one of a printed circuit board, a circuit tape, and a circuit film.
상기 제1반도체칩과 제2반도체칩을 상호 접착시키는 접착수단은 전기적으로 비전도성인 물질을 이용함이 바람직하다.The adhesive means for bonding the first semiconductor chip and the second semiconductor chip to each other is preferably made of an electrically nonconductive material.
상기 접착수단은 제1반도체칩에 본딩된 도전성와이어가 제2반도체칩의 하면과 접촉하지 않토록 적어도 상기 도전성와이어의 두께보다 두껍게 형성됨이 바람직 하다.Preferably, the bonding means is formed to be thicker than the thickness of the conductive wires so that the conductive wires bonded to the first semiconductor chip do not come into contact with the lower surface of the second semiconductor chip.
상기 제2반도체칩의 상부에는 적어도 한 개 이상의 또다른 반도체칩(제3반도체칩)이 접착수단으로 접착될 수 있다.At least one other semiconductor chip (third semiconductor chip) may be attached to the upper portion of the second semiconductor chip by an adhesive means.
상기 제1반도체칩은 제2반도체칩과 동일한 크기이거나, 상기 제1반도체칩이 제2반도체칩의 크기보다 크거나 또는 상기 제1반도체칩이 제2반도체칩의 크기보다 작을 수 있다.The first semiconductor chip may be the same size as the second semiconductor chip, the first semiconductor chip may be larger than the size of the second semiconductor chip, or the first semiconductor chip may be smaller than the size of the second semiconductor chip.
상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드에는 스터드범프가 형성되고, 상기 스터드범프상에 도전성와이어의 단부가 접속될 수 있다.A stud bump may be formed on an input / output pad of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip, and an end portion of the conductive wire may be connected to the stud bump.
상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드는 도전성와이어와 ??지 또는 리본 본딩법에 의해 접속될 수도 있다.The input / output pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip may be connected to the conductive wires by a paper or ribbon bonding method.
상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드는 도전성와이어와 탭본딩법에 의해 접속될 수 있다.The input / output pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip may be connected to each other by a conductive wire and a tab bonding method.
상기 섭스트레이트는 수지층 상면의 본드핑거와 수지층 하면의 볼랜드가 도전성 비아홀에 의해 상호 전기적으로 연결될 수 있다.The substrate has a bond finger on the upper surface of the resin layer and a ball land on the lower surface of the resin layer may be electrically connected to each other by conductive via holes.
상기 제2반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제1반도체칩 상면에 접착될 수 있다.At least one other semiconductor chip may be attached to an upper surface of the first semiconductor chip on the side of the second semiconductor chip.
또한, 상기 제1반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제2반도체칩 하면에 위치될 수 있다.In addition, at least one other semiconductor chip may be located on a lower surface of the second semiconductor chip on the side of the first semiconductor chip.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체패키지의 제조 방법은 마더보드에 실장 가능하게 다수의 회로패턴이 형성된 섭스트레이트를 제공하 는 단계와; 상기 섭스트레이트의 일면에 접착수단을 개재하여 다수의 입출력패드를 갖는 제1반도체칩을 접착하는 단계와; 상기 제1반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 일정 영역을 도전성와이어로 본딩하되, 상기 도전성와이어의 루프 하이트가 상기 제1반도체칩의 상면 높이 이하가 되도록 하는 단계와; 상기 제1반도체칩의 상면에 접착수단을 개재하여 제2반도체칩을 접착하는 단계와; 상기 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 일정 영역을 도전성와이어로 본딩하는 단계와; 상기 제1반도체칩, 제2반도체칩, 도전성와이어 등을 봉지재로 봉지하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention to achieve the above object comprises the steps of providing a substrate formed with a plurality of circuit patterns to be mounted on the motherboard; Bonding a first semiconductor chip having a plurality of input / output pads through an adhesive means on one surface of the substrate; Bonding a predetermined region of the input / output pad and the substrate of the first semiconductor chip with a conductive wire, such that the loop height of the conductive wire is equal to or less than an upper surface of the first semiconductor chip; Bonding a second semiconductor chip to an upper surface of the first semiconductor chip through an adhesive means; Bonding a predetermined region of the input / output pad and the substrate of the second semiconductor chip with a conductive wire; And sealing the first semiconductor chip, the second semiconductor chip, and the conductive wire with an encapsulant.
여기서, 상기 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트 사이를 본딩하는 도전성와이어의 루프 하이트는 상기 제2반도체칩의 상면 높이 이하가 되도록 할 수 있다.Here, the loop height of the conductive wire bonding between the input / output pad and the substrate of the second semiconductor chip may be less than or equal to the height of the top surface of the second semiconductor chip.
또한, 상기 제2반도체칩의 상부에는 적어도 한 개 이상의 또다른 반도체칩이 접착될 수도 있다.In addition, at least one other semiconductor chip may be attached to an upper portion of the second semiconductor chip.
또한, 상기 제1반도체칩은 제2반도체칩과 동일하거나, 제2반도체칩의 크기보다 크거나, 제2반도체칩의 크기보다 작게 형성할 수 있다.In addition, the first semiconductor chip may be formed the same as the second semiconductor chip, larger than the size of the second semiconductor chip, or smaller than the size of the second semiconductor chip.
또한, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드에는 스터드범프가 형성되고, 상기 스터드범프상에 도전성와이어의 단부가 접속될 수 있다.In addition, a stud bump may be formed on an input / output pad of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip, and an end portion of the conductive wire may be connected to the stud bump.
또한, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드는 도전성와이어와 엣지 또는 리본 본딩법에 의해 접속될 수도 있다.In addition, the input / output pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip may be connected to the conductive wire by an edge or ribbon bonding method.
더불어, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드는 도전성와이어와 탭본딩법에 의해 접속될 수도 있다.In addition, the input / output pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip may be connected by a conductive wire and a tab bonding method.
상기 제2반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제1반도체칩 상면에 접착될 수 있다.At least one other semiconductor chip may be attached to an upper surface of the first semiconductor chip on the side of the second semiconductor chip.
상기 제1반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제2반도체칩 하면에 접착될 수도 있다.At least one other semiconductor chip may be attached to the lower surface of the second semiconductor chip on the side of the first semiconductor chip.
상기와 같이 하여 본 발명에 의한 반도체패키지는 각 반도체칩의 입출력패드에 접속되어 형성되는 도전성와이어의 루프 하이트가 그 반도체칩의 상면 높이를 초과하지 않토록 형성됨으로써 동일한 또는 서로 다른 크기를 갖는 다수의 반도체칩들을 용이하게 적층할 수 있게 된다. 따라서 종래와 동일한 크기의 반도체패키지임에도 불구하고 그 기능이 더욱 향상된 반도체패키지를 구현하게 된다.As described above, the semiconductor package according to the present invention is formed so that the loop height of the conductive wires connected to the input / output pads of each semiconductor chip is formed so as not to exceed the height of the upper surface of the semiconductor chip. The semiconductor chips can be easily stacked. Therefore, despite the semiconductor package of the same size as the prior art, it is possible to implement a semiconductor package with improved functionality.
또한, 종래와 다르게 하면의 반도체칩보다 더 큰 크기의 반도체칩을 그 상면에 적층할 수 있음으로써, 섭스트레이트에 형성되는 회로패턴의 디자인 자유도가 증가된다. 따라서 전기적으로 가장 효율적인 회로패턴을 디자인할 수 있게 된다.In addition, since the semiconductor chip having a larger size than that of the lower surface semiconductor chip can be stacked on the upper surface, the design freedom of the circuit pattern formed on the substrate is increased. Therefore, the most efficient circuit pattern can be designed.
또한, 도전성와이어의 루프 하이트를 최소화함으로써 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 전기적 저항을 최소화하게 되고, 적층되는 반도체칩과 상기 도전성와이어 사이의 간섭을 효과적으로 억제할 수 있으며, 더불어 봉지재로 봉지되어 형성된 몸체의 두께를 감소시킴으로써 전체적인 반도체패키지의 부피를 작게 할 수 있게 된다.In addition, by minimizing the loop height of the conductive wires to minimize the electrical resistance between the semiconductor chip and the substrate, it is possible to effectively suppress the interference between the stacked semiconductor chip and the conductive wires, the body formed by being sealed with an encapsulant By reducing the thickness of the semiconductor package it is possible to reduce the volume of the overall semiconductor package.
이하 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이 하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings such that those skilled in the art may easily implement the present invention.
도2a 내지 도2e는 본 발명에 의한 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조를 도시한 단면도이고, 도3a 및 도3b는 본 발명에 의한 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조를 도시한 사시도이다.2A through 2E are cross-sectional views illustrating a wire bonding structure between a semiconductor chip and a substrate according to the present invention, and FIGS. 3A and 3B are perspective views illustrating a wire bonding structure between a semiconductor chip and a substrate according to the present invention. to be.
먼저 마더보드에 실장되는 섭스트레이트(인쇄회로기판, 써킷필름, 써킷테이프 또는 리드프레임 등등)가 구비되어 있고, 상기 섭스트레트(1)의 상면 중앙에는 접착수단(50)으로 제1반도체칩(10)이 접착되어 있다. 상기 제1반도체칩(10)의 상면 내주연에는 다수의 입출력패드(10a)가 형성되어 있다.First, a substrate (printed circuit board, circuit film, circuit tape or lead frame, etc.) to be mounted on the motherboard is provided, and the first semiconductor chip (A) is attached to the center of the upper surface of the substrate (1). 10) is glued. A plurality of input /
상기 제1반도체칩(10)의 상면에는 접착수단(50)으로 제2반도체칩(20)이 접착되어 있으며, 상기 제2반도체칩(20)의 상면 내주연에도 다수의 입출력패드(10a)가 형성되어 있다. 상기 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)의 크기는 도시된 바와 같이 동일한 크기를 가질 수 있으며, 이밖에도 다양한 크기로 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)이 구비될 수 있다. 즉, 도2a에서는 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)의 크기가 동일하게 되어 있지만, 도2b에서와 같이 제1반도체칩(10)이 제2반도체칩(20)보다 크게 형성되거나, 또는 도2c에서와 같이 제1반도체칩(10)보다 제2반도체칩(20)의 크기가 더 크게 형성될 수 있다.The
더불어, 상기 제2반도체칩(20)의 상면에는 도시하지는 않았지만 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 더 접착될 수도 있으며, 이는 당업자의 선택적 사항에 불과하다.In addition, although not shown, at least one or more other semiconductor chips may be further bonded to the upper surface of the
한편, 도2d에 도시된 바와 같이 본 발명은 제1반도체칩(10) 상면에 또다른 제2반도체칩(20) 및 제3반도체칩(30')이 더 접착될 수 도 있다. 또한, 도2e에 도시된 바와 같이 본 발명은 섭스트레이트(1)의 중앙부 상면에 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)이 접착되고, 또한 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 상면에 또다른 제3반도체칩(30)이 탑재될 수도 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 2D, another
계속해서, 상기 제1반도체칩(10)을 섭스트레이트(1)에 접착시키는 접착수단(50) 및 제2반도체칩(20)을 제1반도체칩(10)의 상면에 접착시키는 접착수단(50)은 모두 전기적으로 비전도성인 물질을 사용함이 바람직하다. 또한, 상기 접착수단(50)은 액체형 접착제 또는 필름형 접착제, 또는 테이프형 접착제 등이 사용될 수 있다.Subsequently, the adhesion means 50 for adhering the
또한, 상기 접착수단(50)의 두께는 하기 설명할 도전성와이어(30)의 두께보다 두꺼운 것을 사용함이 바람직하다. 더불어, 상기 제1반도체칩(10) 상면에 제2반도체칩(20)을 접착시키기 위한 접착수단(50)은 상기 제1반도체칩(10)의 입출력패드(10a) 영역이 회피되어 부착되도록 함이 바람직하지만, 반드시 그러할 필요는 없다.In addition, the thickness of the adhesive means 50 is preferably used that is thicker than the thickness of the
상기 제1반도체칩(10)의 입출력패드(10a) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(20a)는 섭스트레이트(1)의 상면에 위치한 본드핑거(3)에 도전성와이어(30)로 상호 접속되어 있다. 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)에 접속된 도전성와이어(30)의 루프 하이트(Loop Height)(LH)는 각 반도체칩의 상면 높이와 비슷하거나 동일하게 형성 되어 있다. 더욱 구체적으로 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 표면으로부터 도전성와이어(30)의 루프하이트는 대략 5mil정도가 되도록 함이 바람직하다.The input /
상기와 같이 도전성와이어(30)의 루프 하이트를 각 반도체칩의 상면 높이와 비슷하게 또는 동일하게 형성하는 방법은 제1반도체칩(10) 또는 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)상에 먼저 알루미늄(Al) 또는 골드 와이어(Au Wire)로 스터드범프(31)(Stud Bump)를 형성하고, 상기 스터드범프(31)상에 도전성와이어(30)의 단부를 접속함으로써 구현할 수 있다.(도3a 및 도3b 참조) 즉, 도전성와이어(30)의 단부를 먼저 본드핑거(3)에 접속(First Bonding)하고, 그 타단을 제1반도체칩(10) 또는 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)상에 형성된 스터드범프(31)에 접속(Second Bonding)하는 방법을 이용한 것이다. 이는 종래의 노말 와이어 본딩(Normal Wire Bonding, 도전성와이어(30)의 일단에 볼을 형성한 후, 이 볼을 반도체칩의 입출력패드(10a,20a)에 1차 본딩하고, 타단은 본드핑거(3)에 2차로 스티치(Stitch) 본딩하는 방법) 방법과 다르게 리버스 와이어 본딩(Reverse Wire Bonding, 도전성와이어(30)의 일단을 본드핑거(3)에 1차 본딩하고, 타단을 반도체칩의 입출력패드(10a,20a)에 2차 본딩하는 방법) 방법을 사용한 것이다.As described above, the method of forming the loop height of the
이러한 리버스 와이어 본딩은 종래와 마찬가지로 써모소닉 Au 볼 본딩(Thermosonic Au Ball Bonding, 본딩시 초음파 에너지와 동시에 본딩하고자 하는 영역에 열을 주어 본딩하는 방법)시 사용되는 캐필러리를 이용한다.The reverse wire bonding uses a capillary used during thermosonic Au ball bonding (a method of bonding heat by bonding heat to an area to be bonded simultaneously with ultrasonic energy during bonding).
또한, 상기 리버스 와이어 본딩 대신에 상기 도전성와이어(30)의 단부를 제1반도체칩(10) 또는 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)상에 엣지(Wedge) 또는 리본(Ribbon) 본딩하여 접속하는 방법도 있다. 상기 엣지 또는 리본 본딩 방법은 주지된 바와 같이 종래의 울트라소닉 Al 외드지 본딩(Ultrasonic Al Wedge Bonding, 외드지에 초음파 진동 에너지만을 주어 그 마찰열로 본딩하는 방법으로서 제1,2본딩 영역 모두 엣지 형태로 형성됨)에 사용되는 엣지를 이용한다.In addition, instead of the reverse wire bonding, an end of the
더불어, 상기 도전성와이어(30)를 탭(TAB; Tape Automated Bonding) 본딩 방법에 의해 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)에 본딩하여 그 루프 하이트를 조절할 수도 있다. 상기 탭 본딩 방법은 주지된 바와 같이 다수의 도전성와이어(30), 패턴 또는 리드(72) 등이 일체의 필름 또는 테이프 등으로 감싸여진 채 동시에 본딩되는 방법이다.In addition, the
따라서 본 발명에 의한 반도체칩과 섭스트레이트의 와이어 본딩 구조에 의하면, 제1반도체칩(10)의 상면에 형성되는 도전성와이어(30)의 루프 하이트가 그 제1반도체칩(10)의 상면과 같거나 유사한 위치에 형성됨으로써, 제1반도체칩(10) 상면에 다양한 크기의 제2반도체칩(20)이 위치될 수 있게 된다. 또한, 상기 제2반도체칩(20)의 상면에 형성되는 도전성와이어(30)의 루프하이트도 그 제2반도체칩(20)의 상면과 같은 위치에 형성됨으로써, 그만큼 상기 와이어 본딩 구조를 이용한 반도체패키지는 두께가 작아지게 된다.Therefore, according to the wire bonding structure of the semiconductor chip and the substrate according to the present invention, the loop height of the
도4는 본 발명에 의한 반도체패키지(101)를 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing a
먼저 수지층(2)을 중심으로 상면에는 다수의 본드핑거(3)를 포함하는 회로패턴이 형성되고, 하면에는 다수의 볼랜드(4)를 포함하는 회로패턴이 형성된 섭스트 레이트(1)가 구비되어 있다.First, a circuit pattern including a plurality of
상기 수지층(2) 상면의 본드핑거(3)를 포함하는 회로패턴과 하면의 볼랜드(4)를 포함하는 회로패턴은 도전성 비아홀(5)에 의해 상호 연결되어 있다.The circuit pattern including the
또한, 상기 수지층(2) 및 회로패턴의 표면은 절연성 고분자수지인 커버코트(6)로 코팅되어 있되, 상기 본드핑거(3) 및 볼랜드(4)는 수지층(2) 바깥쪽으로 오픈되어 있다.In addition, the surface of the
여기서 상기 수지층(2)은 일반적인 열경화성수지, 필름 또는 테이프 등이 될 수 있으며, 따라서 섭스트레이트(1)로서는 인쇄회로기판, 써킷필름 또는 써킷테이프 등이 구비될 수 있다. 도면에는 섭스트레이트로서 통상적인 인쇄회로기판이 도시되어 있다.Here, the
계속해서, 상기 섭스트레이트(1)의 상면 중앙에는 접착수단(50)으로 제1반도체칩(10)이 접착되어 있으며, 상기 제1반도체칩(10)의 상면 내주연에는 다수의 입출력패드(10a)가 형성되어 있다.Subsequently, the
또한, 상기 제1반도체칩(10)의 상면에는 접착수단(50)으로 제2반도체칩(20)이 접착되어 있으며, 상기 제2반도체칩(20)의 상면 내주연에도 다수의 입출력패드(10a)가 형성되어 있다. 상기 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)의 크기는 도시된 바와 같이 동일한 크기를 가질 수 있으며, 이밖에도 하기에서 설명하겠지만 다양한 크기로 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)이 구비될 수 있다.In addition, the
더불어, 상기 제2반도체칩(20)의 상면에는 도시하지는 않았지만 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 더 접착될 수도 있으며, 이는 당업자의 선택적 사항에 불 과하다.In addition, although not shown, at least one or more other semiconductor chips may be further bonded to the upper surface of the
상기 제1반도체칩(10)의 입출력패드(10a) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(20a)는 섭스트레이트(1)의 상면에 위치한 본드핑거(3)에 도전성와이어(30)로 상호 접속되어 있다. 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)에 접속된 도전성와이어(30)의 루프 하이트(Loop Height)(도4에서 LH로 표시)는 각 반도체칩의 상면 높이와 비슷하거나 동일하게 형성되어 있다.The input /
계속해서, 상기 제1반도체칩(10), 제2반도체칩(20) 및 도전성와이어(30)는 에폭시몰딩컴파운드(Epoxy Molding Compound) 또는 글럽 탑(Glop Top)과 같은 봉지재로 봉지되어 소정의 몸체(60)를 형성하고 있다. 상기 몸체(60)는 도4에 도시된 바와 같이 섭스트레이트(1)의 둘레면과 동일면을 형성할 수도 있지만, 제1반도체칩(10), 제2반도체칩(20) 및 도전성와이어(30)만을 봉지함으로써 섭스트레이트(1)의 상면 일정 영역만을 봉지할 수도 있으며, 그 봉지 형상은 임의로 결정될 수 있다.Subsequently, the
물론, 상기 봉지재로서 에폭시몰딩컴파운드를 사용할 경우에는 소정 형상의 캐비티(Cavity)를 갖는 상부 금형, 그리고 상기 섭스트레이트(1) 등이 안착되는 하부 금형을 구비하고, 상기 상부 금형에 캐비티로 연통된 게이트(Gate)를 형성함으로써, 상기 게이트를 통하여 고압으로 봉지재를 충진하여 봉지작업을 수행한다.Of course, when the epoxy molding compound is used as the encapsulating material, an upper mold having a cavity having a predetermined shape, and a lower mold on which the
또한, 상기 봉지재로서 글럽 탑을 사용할 경우에는 상기 글럽 탑이 담겨진 디스펜서(Dispenser)를 상기 섭스트레이트(1) 상면의 봉지 영역에 위치시키고 소정 량의 글럽탑을 분사시킴으로써 봉지작업을 수행한다.In addition, when using a glove top as the encapsulating material, a sealing operation is performed by placing a dispenser containing the glove top in the encapsulation area of the
마지막으로, 상기 섭스트레이트(1)의 하면에 형성된 각 볼랜드(4)에는 솔더볼과 같은 도전성볼(40)이 융착되어 있으며, 이는 차후 마더보드의 패턴에 실장되는 부분이다.Finally,
따라서 본 발명에 의한 반도체패키지(101)는 제1반도체칩(10)의 상면에 형성되는 도전성와이어(30)의 루프 하이트가 그 제1반도체칩(10)의 상면과 같거나 유사한 위치에 형성됨으로써, 제1반도체칩(10) 상면에 그 제1반도체칩(10)과 크기가 같은 제2반도체칩(20)이 위치될 수 있게 된다. 또한, 상기 제2반도체칩(20)의 상면에 형성되는 도전성와이어(30)의 루프하이트도 그 제2반도체칩(20)의 상면과 같은 위치에 형성됨으로써, 그만큼 봉지재로 형성되는 몸체(60)의 두께도 작아지게 되고 따라서 전체적인 반도체패키지의 두께도 작아지게 된다.Therefore, in the
한편, 여기서 상기 제2반도체칩(20)을 제1반도체칩(10) 상면에 접착시키는 접착수단(50)의 두께는 전술한 바와 같이 도전성와이어(30)의 두께보다 두껍게 되도록 함으로써 제2반도체칩(20)의 하면이 상기 도전성와이어와 접촉되지 않토록 한다.On the other hand, wherein the thickness of the bonding means 50 for adhering the
도5는 본 발명에 의한 다른 반도체패키지(102)를, 도6은 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지(103)를 도시한 단면도이다. 상기 도5,6에 도시된 반도체패키지(102,103)은 도4의 반도체패키지와 구조가 매우 유사하므로 그 차이점만을 설명하기로 한다.FIG. 5 is a cross-sectional view showing another
먼저 도5에 도시된 반도체패키지(102)는 제1반도체칩(10)의 크기보다 제2반 도체칩(20)의 크기가 작게 형성되어 있다. 이는 종래의 반도체패키지(100')와 유사한 구조를 하고 있으나, 각각의 반도체칩 상면에 형성되는 도전성와이어(30)의 루프 하이트가 그 반도체칩의 상면 높이와 같게 형성되어 있다. 이러한 루프 하이트는 전술한 바와 같이 리버스 와이어 본딩, 외드지 본딩, 리본 본딩 또는 탭 본딩 방법 등을 이용하여 구현된 것들이다. 또한, 제2반도체칩(20)의 입출력패드(20a)에 접속되어 형성되는 도전성와이어(30)의 루프 하이트가 그 제2반도체칩(20)의 상면 높이와 같거나 비슷하게 형성됨으로써 몸체(60)의 두께를 최소화할 수 있게 되고 따라서, 전체적인 반도체패키지의 두께를 최소화할 수 있게 된다.First, the
한편, 도6에 도시된 반도체패키지(103)는 제1반도체칩(10)의 크기보다 제2반도체칩(20)의 크기가 크게 형성되어 있다. 이러한 구조는 종래의 노말 본딩 방법에 의하면 거의 불가능한 구조였다. 그러나 본 발명은 전술한 리버스 와이어 본딩, 외드지 본딩, 리본 본딩 또는 탭 본딩 방법 등을 이용함으로써 구현 가능하다. 따라서, 섭스트레이트(1)에 형성되는 회로패턴의 디자인을 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 목적에 따라 최적화하여 효율적으로 설계할 수 있고, 또한 도전성와이어(30)의 길이를 최대한 짧게하여 전기적 저항을 감소시킬 수 있게 된다. 더불어, 몸체(60)의 두께도 최소화할 수 있는 잇점이 있다.Meanwhile, in the
도7은 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지(104)를 도시한 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing another
먼저 중앙에는 일정크기(반도체칩의 크기보다 큰 크기)의 관통공(7)이 형성된 수지층(2)을 중심으로, 상기 관통공(7)의 외주연인 상면에는 다수의 본드핑거(3)를 포함하는 회로패턴이 형성되고, 하면에는 다수의 볼랜드(4)를 포함 하는 회로패턴이 형성되며, 또한 상기 수지층(2) 상,하면의 회로패턴은 도전성비아홀(5)로 상호 연결된 섭스트레이트(1)가 구비되어 있다. 상기 섭스트레이트(1)의 수지층(2) 및 회로패턴은 그 표면이 고분자수지인 커버코트(6)로 코팅되어 있되, 상기 회로패턴중 본드핑거(3) 및 볼랜드(4)는 커버코트(6) 외측으로 오픈되어 있다.First, a plurality of
한편, 상기 섭스트레이트(1)의 관통공(7)에는 제1반도체칩(10)이 위치되어 있으며, 상기 제1반도체칩(10)의 상면 내주연에는 다수의 입출력패드(10a)가 형성되어 있다. 또한, 상기 제1반도체칩(10)의 상면에는 전기적으로 비전도성인 접착수단(50)이 개재되어 제2반도체칩(20)이 탑재되어 있으며, 상기 제2반도체칩(20)의 상면 내주연에도 다수의 입출력패드(20a)가 형성되어 있다. 더불어, 상기 제2반도체칩(20)의 상면에는 또다른 다수의 반도체칩이 더 적층될 수도 있다.On the other hand, the
상기 제1반도체칩(10)의 입출력패드(10a) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(20a)와 섭스트레이트(1)의 본드핑거(3)는 각각 도전성와이어(30)에 의해 전기적으로 접속되어 있다. 여기서도, 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(10a,20a)에 대한 도전성와이어(30)의 본딩 방법은 리버스 와이어 본딩, 외드지 본딩, 리본 본딩 및 탭 본딩 방법 등이 이용됨으로써, 각 도전성와이어(30)의 루프 하이트는 종래보다 작게 형성된다. 따라서, 도6에 도시된 바와 같이 다수의 반도체칩이 적층가능하게 되며, 또한 몸체(60)의 두께도 최소화되는 잇점이 있다.The input /
여기서, 상기 제2반도체칩(20)을 제1반도체칩(10) 상면에 접착시키는 접착수 단(50)의 두께는 도전성와이어(30)의 두께보다 크게 형성됨으로써 각 도전성와이어(30)가 제2반도체칩(20)의 상면과 쇼트되지 않는다.Here, the thickness of the adhesive means 50 for adhering the
상기 섭스트레이트(1)의 관통공(7), 제1반도체칩(10), 제2반도체칩(20) 및 도전성와이어(30)는 에폭시몰딩컴파운드 또는 글럽 탑과 같은 봉지재로 봉지되어 소정의 몸체(60)를 형성하고 있다. 여기서, 상기 제1반도체칩(10)의 하면과 봉지재 하면 및 섭스트레이트(1)의 하면은 동일면을 형성함으로써 상기 제1반도체칩(10)의 하면은 공기중으로 직접 노출되어 있다. 또한 상기 몸체(60)는 도6에 도시된 바와 같이 측부가 섭스트레이트(1)의 측부와 동일면을 이루지만, 이밖에도 다양한 형상으로 몸체(60)를 형성할 수도 있다.The through hole 7, the
마지막으로 상기 섭스트레이트(1)의 각 볼랜드(4)에는 솔더볼과 같은 도전성볼(40)이 융착됨으로써 차후 마더보드의 소정 패턴에 실장 가능한 형태로 되어 있다.Finally, the
도8a는 종래의 반도체패키지(105')를 도8b는 개선된 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지(105)를 도시한 단면도이다.FIG. 8A is a cross-sectional view of a conventional semiconductor package 105 'and FIG. 8B is another
먼저 도8b를 참조하면, 대략 평판형의 수지층(2)이 최하부에 구비되고, 상기 수지층(2)의 상면 중앙에는 서로 마주보며 하협상광(下狹上廣)형의 계단형 단턱(8)이 형성되어 소정의 개구부를 이루도록 다층의 수지층(2a,2b,2c)이 접착되며, 상기 다층의 수지층(2a,2b,2c) 상면에는 본드핑거(3)를 포함하는 회로패턴이 형성되며, 상기 평판형의 수지층(2) 하면에는 볼랜드(4)를 포함하는 회로패턴이 형성되어 다층 구조의 섭스트레이트(1)를 구성하고 있다. 여기서 각 수지층(2,2a,2b,2c)의 회 로패턴은 도전성 비아홀(5)에 의해 서로 연결되어 있다.First, referring to FIG. 8B, a substantially
상기 개구부 내측인 평판형 수지층(2) 상면에는 접착수단(50)으로 제1반도체칩(10)이 접착되어 있으며, 상기 제1반도체칩(10)의 상면 내주연에는 다수의 입출력패드(10a)가 형성되어 있다. 또한, 상기 제1반도체칩(10)의 상면에는 접착수단(50)으로 제2반도체칩(20)이 접착되어 있으며, 마찬가지로 상기 제2반도체칩(20)의 상면 내주연에도 다수의 입출력패드(20a)가 형성되어 있다. 또한 상기 제2반도체칩(20)의 상면에는 접착수단(50)으로 제3반도체칩(30')이 접착되어 있으며, 상기 제3반도체칩(30')의 상면 내주연에도 다수의 입출력패드(30a')가 형성되어 있다.The
상기 제1,2,3반도체칩(10,20,30')의 입출력패드(10a,20a,30a')와 각 수지층(2,2a,2b,2c)에 형성된 본드핑거(3)는 도전성와이어(30)에 의해 상호 접속되어 있으며, 상기 제1,2,3반도체칩(10,20,30')과 각 수지층(2,2a,2b,2c) 사이에 형성되는 도전성와이어(30)의 루프 하이트는 각 반도체칩의 상면 높이와 동일하거나 비슷하게 형성되어 있다. 이러한 루프 하이트는 전술한 바와 같이 리버스 와이어 본딩, 외드지 본딩, 리본 본딩 또는 탭 본딩 방법 등에 의해 구현된 것들이다. The
계속해서 상기 섭스트레이트(1)의 개구부, 제1반도체칩(10), 제2반도체칩(20) 및 도전성와이어(30)는 에폭시몰딩컴파운드 또는 글럽 탑과 같은 봉지재로 봉지되어 소정의 몸체(60)를 형성하고 있다. Subsequently, the opening of the
또한, 상기 섭스트레이트(1)의 최하단 수지층(2) 하면에 형성된 볼랜드(4)에는 도전성볼(40)이 융착되어 있음으로써, 마더보드에 실장 가능한 형태로 되어 있 다.In addition, since the
이와 같은 반도체패키지(105)는 도8a에 도시된 반도체패키지(105')에 비하여 보다 큰 반도체칩을 효율적으로 탑재할 수 있는 잇점이 있다. 즉, 각 반도체칩에 대한 와이어 루프 하이트가 그 반도체칩의 상면 높이보다 높지 않으므로, 각각의 반도체칩 상면에 보다 큰 반도체칩을 탑재할 수 있다. 또한, 도전성와이어(30)의 길이가 종래 반도체패키지에서보다 짧아지므로 전기적 저항값 역시 작아지는 잇점이 있다. 더불어, 와이어 루프 하이트가 작음으로써 봉지재로 봉지되어 형성된 몸체(60)의 두께가 작아지고 따라서 전체적인 반도체패키지의 두께 역시 작아지게 된다.Such a
도9a 및 도9b는 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지(106a,106b)를 도시한 단면도이다.9A and 9B are cross-sectional views showing
도9a에 도시된 바와 같이 본 발명은 제1반도체칩(10) 상면에 또다른 제2반도체칩(20) 및 제3반도체칩(30')이 더 접착될 수 도 있다. 따라서, 상기 제2반도체칩(20)과 제3반도체칩(30')의 하면은 동일면을 형성한다. 또한, 상기 제1반도체칩(10), 제2반도체칩(20) 및 제3반도체칩(30')은 모두 상면의 내주연에 입출력패드(10a,20a,30a')가 형성되어 있다. 상기 제2반도체칩(20)과 제3반도체칩(30')의 합친 크기는 제1반도체칩(10)과 같거나, 크거나 또는 작을 수 있다. 따라서, 다양한 크기의 반도체칩을 사용 목적에 따라 다양한 모양으로 탑재할 수 있게 된다.As shown in FIG. 9A, another
또한 도9b에 도시된 바와 같이 본 발명은 섭스트레이트(1)의 중앙부 상면에 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)이 접착되고, 또한 상기 제1반도체칩(10) 및 제2반도체칩(20)의 상면에 또다른 제3반도체칩(30)이 탑재될 수도 있다. 여기서, 상기 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)의 하면은 동일면을 이룬다. 상기 제3반도체칩(30')은 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)의 합친 크기와 같거나, 크거나 또는 작을 수 있어 다양한 모양으로 반도체칩을 탑재할 수 있게 된다.In addition, as shown in FIG. 9B, the
상기와 같이 다수의 반도체칩이 동일평면에 위치하는 구조는 본 발명의 모든 실시예에 구현 가능하며, 상기 실시예로서 본원 발명을 한정하는 것은 아니다.As described above, a structure in which a plurality of semiconductor chips are located on the same plane may be implemented in all embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiments.
도10은 본 발명에 의한 또다른 반도체패키지(107)를 도시한 단면도로서, 본 발명이 리드프레임 상에서도 구현됨을 나타낸 것이다.10 is a cross-sectional view showing another
도시된 바와 같이 중앙에 칩탑재판(71)이 구비되어 있고, 상기 칩탑재판(71)과 일정거리 이격되어서는 리드(72)가 위치되어 있다. 상기 칩탑재판(71) 및 리드(72) 등은 모두 구리 또는 구리 합금 등으로 형성된 것이며 이를 리드프레임이라 칭한다.As shown, the
상기 칩탑재판(71)의 상면에는 비전도성 접착수단(50)에 의해 제1반도체칩(10)이 접착되어 있고, 상기 제1반도체칩(10)의 상면 내주연에는 다수의 입출력패드(10a)가 형성되어 있다. 또한 상기 제1반도체칩(10)의 상면에는 역시 비전도성 접착수단(50)에 의해 제2반도체칩(20)이 접착되어 있으며, 상기 제2반도체칩(20)의 상면 내주연에는 다수의 입출력패드(20a)가 형성되어 있다. 도면에서는 제1반도체칩(10)과 제2반도체칩(20)의 크기가 동일하게 도시되어 있으나, 전술한 바와 같이 제1반도체칩(10)이 제2반도체칩(20)의 크기보다 더 크거나 또는 제1반도체칩(10)보다 제2반도체칩(20)의 크기가 더 클 수도 있다. The
상기 제1반도체칩(10)의 입출력패드(10a) 및 제2반도체칩(20)의 입출력패드(20a)와 리드(72)는 도전성와이어(30)에 상호 접속되어 있다.The input /
이때, 상기 제1반도체칩(10)의 입출력패드(10a)에 접속되어 형성되는 도전성와이어(30)의 루프 하이트는 상기 제1반도체칩(10)의 상면 높이와 동일하거나 비슷하게 형성됨으로써, 그 상부의 제2반도체칩(20) 하면과 도전성와이어(30)가 서로 쇼트되지 않게 되어 있다. 이러한 루프 하이트는 전술한 바와 같이 리버스 와이어 본딩, 외드지 본딩, 리본 본딩 또는 탭 본딩 방법 등에 의해 구현된 것들이다. 또한, 상기 제2반도체칩(20)의 입출력패드(20a)에 형성되는 도전성와이어(30)의 루프 하이트도 상기 방법을 이용하여 그 제2반도체칩(20)의 상면 높이와 동일하게 형성시킬 수 있으며, 도면에 도시된 바와 같이 노말 와이어 본딩에 의해 그 루프 하이트를 종래와 같은 형태로 할 수도 있다.In this case, the loop height of the
마지막으로 상기 칩탑재판(71), 제1반도체칩(10), 제2반도체칩(20), 도전성와이어(30) 및 리드(72)는 봉지재로 봉지되어 소정의 몸체(60)를 형성하고 있다. Finally, the
한편, 마더보드에의 실장은 상기 몸체(60) 외측으로 노출된 리드(72)가 마더보드의 소정 패턴에 솔더 등으로 융착됨으로써 수행된다.On the other hand, the mounting on the motherboard is performed by the
이어서, 본 발명에 의한 반도체패키지의 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.Next, the manufacturing method of the semiconductor package by this invention is demonstrated.
1. 섭스트레이트 제공 단계로서, 마더보드에 실장 가능한 인쇄회로기판, 써킷필름, 써킷테이프 또는 리드프레임과 같은 다양한 종류 및 형태의 섭스트레이트를 제공한다.1. Substrate providing step, provides various types and forms of substrate such as printed circuit board, circuit film, circuit tape or lead frame that can be mounted on the motherboard.
2. 제1반도체칩 접착 단계로서, 상기 섭스트레이트의 일면에 구비된 소정 영 역에 비전도성 접착수단을 개재하여 상면에 다수의 입출력패드가 형성된 제1반도체칩을 접착한다.2. Bonding the first semiconductor chip, bonding the first semiconductor chip having a plurality of input / output pads formed on the upper surface of the substrate through non-conductive bonding means.
3. 제1와이어 본딩 단계로서, 상기 제1반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 일정 영역(예를 들면, 인쇄회로기판의 본드핑거 또는 리드프레임의 내부리드)을 도전성와이어로 본딩하되, 상기 도전성와이어의 루프 하이트가 상기 제1반도체칩의 상면 높이 이하가 되도록 한다.3. In the first wire bonding step, bonding an input / output pad of the first semiconductor chip and a predetermined region of the substrate (for example, a bond finger of a printed circuit board or an inner lead of a lead frame) with conductive wires, wherein the conductive wires are bonded. The loop height of the wire is set to be equal to or less than an upper surface height of the first semiconductor chip.
4. 제2반도체칩 접착 단계로서, 상기 제1반도체칩의 상면에 비전도성 접착수단을 개재하여 제2반도체칩을 접착한다. 물론, 상기 제2반도체칩의 상면에는 다수의 입출력패드가 형성되어 있다.4. A second semiconductor chip bonding step, the second semiconductor chip is bonded to the upper surface of the first semiconductor chip through the non-conductive bonding means. Of course, a plurality of input / output pads are formed on the upper surface of the second semiconductor chip.
5. 제2와이어 본딩 단계로서, 상기 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트의 일정 영역을 도전성와이어로 본딩한다.5. As the second wire bonding step, bonding the input / output pad and the substrate of the second semiconductor chip with conductive wires.
여기서, 상기 제2반도체칩의 입출력패드와 섭스트레이트 사이를 본딩하는 도전성와이어의 루프 하이트는 상기 제2반도체칩의 상면 높이 이하가 되도록 할 수도 있다.Here, the loop height of the conductive wire bonding between the input and output pads of the second semiconductor chip and the substrate may be less than or equal to the height of the upper surface of the second semiconductor chip.
더불어, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드에는 스터드범프를 미리 형성한 후, 상기 도전성와이어의 단부를 섭스트레이트에 접속하고, 그 타단을 상기 스터드범프상에 접속하는 방법을 이용할 수 있다.In addition, after the stud bump is formed in advance on the input / output pad of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip, a method of connecting the end of the conductive wire to the substrate and connecting the other end on the stud bump can be used. have.
또한, 상기 도전성와이어의 단부를 섭스트레이트에 접속하고, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드에 도전성와이어의 타단을 엣지 또는 리본 본딩법에 의해 접속할 수도 있다.The end of the conductive wire may be connected to the substrate, and the other end of the conductive wire may be connected to the input / output pad of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip by edge or ribbon bonding.
또한, 상기 제1반도체칩 또는 제2반도체칩의 입출력패드는 도전성와이어와 탭본딩법에 의해 접속될 수도 있다.In addition, the input / output pads of the first semiconductor chip or the second semiconductor chip may be connected by a conductive wire and a tab bonding method.
한편, 상기 제2반도체칩의 상부에는 적어도 한 개 이상의 또다른 반도체칩이 접착될 수도 있다. 또한, 상기 제1반도체칩은 제2반도체칩과 동일한 크기이거나, 제2반도체칩의 크기보다 크거나, 또는 제2반도체칩의 크기보다 작은 것을 이용할 수 있다.On the other hand, at least one other semiconductor chip may be bonded to the upper portion of the second semiconductor chip. The first semiconductor chip may be the same size as the second semiconductor chip, larger than the size of the second semiconductor chip, or smaller than the size of the second semiconductor chip.
마지막으로, 상기 제2반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제1반도체칩 상면에 접착될 수도 있고, 또한, 상기 제1반도체칩의 측부에는 적어도 하나 이상의 다른 반도체칩이 상기 제2반도체칩 하면에 접착될 수도 있다.Finally, at least one other semiconductor chip may be bonded to the upper surface of the first semiconductor chip on the side of the second semiconductor chip, and at least one other semiconductor chip may be attached to the upper surface of the first semiconductor chip. It may be bonded to the lower surface of the semiconductor chip.
6. 봉지 단계로서, 상기 제1반도체칩, 제2반도체칩, 도전성와이어 등을 봉지재로 봉지하여 외부 환경으로부터 보호되도록 한다.6. In the encapsulation step, the first semiconductor chip, the second semiconductor chip, and the conductive wire are encapsulated with an encapsulant so as to be protected from the external environment.
이상에서와 같이 본 발명은 비록 상기의 실시예에 한하여 설명하였지만 여기에만 한정되지 않으며, 본 발명의 범주 및 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지로 변형된 실시예도 가능할 것이다.As described above, although the present invention has been described with reference to the above embodiments, the present invention is not limited thereto, and various modified embodiments may be possible without departing from the scope and spirit of the present invention.
상기와 같이 하여 본 발명에 의한 반도체패키지는 각 반도체칩의 입출력패드에 접속되어 형성되는 도전성와이어의 루푸 하이트가 그 반도체칩의 상면 높이를 초과하지 않토록 형성됨으로써 동일한 또는 서로 다른 크기를 갖는 다수의 반도체칩들을 용이하게 적층할 수 있는 효과가 있다. 따라서 종래와 동일한 크기의 반도체패키지임에도 불구하고 그 기능이 더욱 향상된 반도체패키지를 구현할 수 있는 효과가 있다.As described above, the semiconductor package according to the present invention is formed such that the loop heights of the conductive wires connected to the input / output pads of each semiconductor chip are formed so as not to exceed the height of the upper surface of the semiconductor chip. There is an effect that the semiconductor chips can be easily stacked. Therefore, in spite of being a semiconductor package of the same size as in the prior art, there is an effect of realizing a semiconductor package having an improved function.
또한, 종래와 다르게 하면의 반도체칩보다 더 큰 크기의 반도체칩을 그 상면에 적층할 수 있음으로써, 섭스트레이트에 형성되는 회로패턴의 디자인 자유도가 증가되는 효과가 있다. 따라서 전기적으로 가장 효율적인 회로패턴을 디자인할 수 있는 효과가 있다.In addition, by stacking a semiconductor chip having a larger size than that of the conventional semiconductor chip, the degree of freedom in designing the circuit pattern formed on the substrate is increased. Therefore, the most efficient circuit pattern can be designed.
또한, 도전성와이어의 루프 하이트를 최소화함으로써 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 전기적 저항을 최소화하게 되고, 적층되는 반도체칩과 상기 도전성와이어 사이의 간섭을 효과적으로 억제할 수 있으며, 더불어 봉지재로 봉지되어 형성된 몸체의 두께를 감소시킴으로써 전체적인 반도체패키지의 부피를 작게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, by minimizing the loop height of the conductive wires to minimize the electrical resistance between the semiconductor chip and the substrate, it is possible to effectively suppress the interference between the stacked semiconductor chip and the conductive wires, the body formed by being sealed with an encapsulant By reducing the thickness of the semiconductor package there is an effect that can be reduced in volume.
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1027880A (en) * | 1996-07-09 | 1998-01-27 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Semiconductor device |
KR980012334A (en) * | 1996-07-24 | 1998-04-30 | 김광호 | Multilayer semiconductor chip package and manufacturing method thereof |
KR980012307A (en) * | 1996-07-19 | 1998-04-30 | 김광호 | Lead-on-Chip (LOC) package with metal bumps |
KR19990039617A (en) * | 1997-11-13 | 1999-06-05 | 윤종용 | Semiconductor device with process chamber for ion implantation |
KR100227205B1 (en) * | 1995-04-10 | 1999-10-15 | 아끼구사 나오유끼 | Wire bonding method, semiconductor device wire bonding capillary and ball bump forming method |
KR20000003001A (en) * | 1998-06-25 | 2000-01-15 | 윤종용 | Multi chip package using double sided tape |
KR20010045680A (en) * | 1999-11-06 | 2001-06-05 | 윤종용 | Lead on chip type semiconductor chip package |
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2000
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100227205B1 (en) * | 1995-04-10 | 1999-10-15 | 아끼구사 나오유끼 | Wire bonding method, semiconductor device wire bonding capillary and ball bump forming method |
JPH1027880A (en) * | 1996-07-09 | 1998-01-27 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Semiconductor device |
KR980012307A (en) * | 1996-07-19 | 1998-04-30 | 김광호 | Lead-on-Chip (LOC) package with metal bumps |
KR980012334A (en) * | 1996-07-24 | 1998-04-30 | 김광호 | Multilayer semiconductor chip package and manufacturing method thereof |
KR19990039617A (en) * | 1997-11-13 | 1999-06-05 | 윤종용 | Semiconductor device with process chamber for ion implantation |
KR20000003001A (en) * | 1998-06-25 | 2000-01-15 | 윤종용 | Multi chip package using double sided tape |
KR20010045680A (en) * | 1999-11-06 | 2001-06-05 | 윤종용 | Lead on chip type semiconductor chip package |
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