KR100599703B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이로부터제조되는 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이로부터제조되는 플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 유전층 상부 및 격벽 측면상에 반사층을 형성하고, 상기 반사층 위에 B2O3, PbO, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재가 포함된 형광층을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 B2O3, PbO, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재를 포함하는 형광층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 유전층 상부의 형광층의 두께는 얇아지고 격벽 측면의 형광층의 두께는 두꺼워져 휘도가 높고 방전특성이 균일하고 우수하다.
플라즈마 디스플레이 패널, 형광층, 반사층, 글래스재

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 플라즈마 디스플레이 패널{PREPARATION METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL AND PLASMA DISPLAY PANEL PREPARED THEREFROM}
도 1은 종래기술에 따른 비교예 1의 반사층 위에 형광층이 도포된 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1의 반사층 위에 저융점의 글래스재를 포함하는 형광층이 도포된 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도이다.
*도면의 부호에 대한 설명*
1, 10 : 배면기판
2, 20 : 어드레스 전극
3, 30 : 유전층
4, 40 : 격벽
5, 50 : 반사층
6, 60 : 형광층
[산업상 이용 분야]
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유전층 상부의 형광층의 두께는 얇아지고 격벽 측면의 형광층의 두께는 두꺼워져 휘도가 높고 방전특성이 균일하고 우수한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
[종래 기술]
플라즈마 디스플레이 패널은 플라즈마로부터 형성된 자외선 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 화상을 구현하는 표시장치이며, 현재에는 반사형 교류구동 플라즈마 디스플레이 패널이 널리 사용된다.
종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 도 1을 참조하여 설명한다.
배면기판(1) 위에 스트라이프 패턴으로 다수의 어드레스 전극(2)을 형성하고, 이 어드레스 전극(2)과 배면기판(1) 전면에 유전층(3)을 형성하고, 상기 유전층(3) 위에 각각의 어드레스 전극(2)에 대응하여 라인 형태의 방전 공간을 구획하는 다수의 격벽(4)을 형성하고, 상기 유전층(3) 상부 및 격벽(4)의 측면 상부에 반사층(5)을 형성하고, 이 반사층(5) 상부에 형광층(6)을 형성한다. 그 다음 형광층(6)을 소성한 뒤 패널의 상, 하판을 조립, 밀봉, 배기, 가스주입 및 에이징(aging)하여 플라즈마 디스플레이 패널이 제조된다.
그러나 시간이 지남에 따라 유전층 상부의 형광층의 두께와 격벽 측면의 형광층의 두께가 서로 달라져 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도가 저하되고 방전특성 이 불균일해져 방전특성이 열화되는 문제점이 있다.
패널의 반사율을 향상시켜 상기한 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도 저하를 방지하기 위하여 배면기판 상부에 방전광을 반사하여 차단할 수 있는 유전층을 형성하는 방법이 널리 사용되고 있다.
일본특개 평 10-173382호 및 대한민국특허공개 제 1998-0033096호에는 티타니아 등의 백색재료가 포함된 미립자 상의 반사층을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 대하여 기재되어 있다.
그러나 상기 특허에서와 같이, 미립자들로 형성된 반사층은 공극이 크고 표면이 거친 격벽부와 달리 매끄러운 표면을 가지게 된다. 따라서 그 미립자상의 반사층 위에 형광체 페이스트를 도포하면 형광체 페이스트가 격벽을 타고 흘러 내려 격벽 측면의 형광층은 얇아지고 유전층 상부의 형광층은 상대적으로 두꺼워지게 된다.
따라서 방전셀 내의 방전공간이 감소하고 어드레스 전극의 전계가 감소하여 방전세기가 저하되는 문제점이 있다. 또한 이로 인하여 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도가 저하되고 방전얼룩이 생겨 색순도도 저하되는 문제점이 있다.
또한 대한민국특허공개 제 1999-0000314호에는 B2O3· PbO, B2O3·ZnO·PbO 등의 글래스재를 형광체 페이스트 제조시에 첨가하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널에 관하여 기재되어 있다. 그러나 상기 B2O3· PbO, B2O3·ZnO·PbO 등의 글래스재는 연화점이 480 ℃ 이상으로 형광체의 소성온도보다 높아 상기 B2O3· PbO, B2 O3 ·ZnO·PbO 등의 글래스재와 형광체를 동시에 소성할 수 없다는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 목적을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 유전층 상부의 형광층의 두께는 얇아지고 격벽 측면의 형광층의 두께는 두꺼워져 휘도가 높고 방전특성이 균일하고 우수한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 또한 유전층 상부의 형광층의 두께는 얇아지고 격벽 측면의 형광층의 두께는 두꺼워져 휘도가 높고 방전특성이 균일하고 우수한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 유전층 상부 및 격벽 측면에 반사층을 형성하고, 상기 반사층 위에 B2O3, PbO, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재가 포함된 형광층을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 또한 B2O3, PbO, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재를 포함하는 형광층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
이하 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
도 2를 참조하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명한 다.
배면기판(10) 위에 스트라이프 패턴으로 다수의 어드레스 전극(20)을 형성하고 상기 어드레스 전극(20) 및 배면기판(10) 전면의 상부에 유전층(30)을 형성하고 상기 유전층(30) 위에 각 어드레스 전극(20)에 대응하여 라인 형태의 방전 공간을 구획하는 다수의 격벽(40)을 형성한다.
그 다음 상기 유전층(30) 상부 및 격벽(40)의 측면에 티타니아(TiO2)와 같은 금속 산화물을 유기용매와 혼합하여 제조된 페이스트를 도포, 건조하여 반사층(50)을 형성한다. 이 반사층(50)은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도를 높이고, 방전특성을 우수하게 하는 역할을 한다. 이 반사층 제조에 사용되는 유기용매로는 에틸 셀룰로스, 부틸 카비톨 아세테이트, α-터피네올 등이 바람직하다.
그 다음 상기 반사층(50)을 형성한 다음 공지의 방법에 따라 상기 격벽(40)들의 상부를 제외하고 나머지 부분에 형광체 페이스트를 인쇄하여 형광층(60)을 형성한다.
그 다음 형광층(60)을 소성하고 패널의 상, 하판을 조립, 밀봉, 배기, 가스주입 및 에이징하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조한다.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 유전층 상부 및 격벽 측면에 반사층을 형성하고, 상기 반사층 위에 저융점 글래스재가 포함된 형광층을 형성하는 것을 특징으로 한다.
이와 같이, 백색미립자로 이루어진 반사층 위에 형광층을 형성시키는 공정에 서 형광체 페이스트 제조시 저융점 글래스재를 첨가하면 형광체 소성공정시 글래스재와 형광체가 서로 고착하여 형광체의 격벽에 대한 부착력이 증가한다. 따라서 격벽측면에 도포된 형광체 페이스트가 흘러내리지 않아 균일한 두께의 형광층을 형성할 수 있다.
도 2에 나타난 바와 같이, 본발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 측면 및 유전층 상부의 형광층의 두께가 종래기술에 따라 제조된 도 1에 비하여 상대적으로 균일함을 알 수 있다.
상기 저융점 글래스재로는 B2O3, PbO, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다.
또한 상기 형광체 페이스트에 첨가되는 B2O3, PbO, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재의 함량은 형광체 페이스트에 대하여 1 내지 15 중량%가 바람직하다. 상기 저융점 글래스재의 함량이 1 중량% 미만이면 형광층의 격벽에 대한 부착력 상승효과가 없고, 15 중량%를 초과하면 형광체 페이스트 중의 형광체의 체적이 상대적으로 감소하여 플라즈마 디스플레이 패널의 발광 휘도가 저하되고 또한 글래스재의 외광반사효과로 인하여 색좌표가 변경되어 화질구현이 어려워진다는 문제점이 있다.
본 발명은 또한, B2O3, PbO, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재를 포함하는 형광층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 하기 실시예 및 비 교예는 본 발명을 보다 명확히 표현하기 위한 목적으로 기재될 뿐 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 비교예에 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
저융점 글래스재인 B2O3를 첨가하여 형광체 페이스트를 제조하고 이 페이스트를 반사층 상부에 인쇄하여 형광층을 형성한 뒤 패널의 상, 하판을 조립, 밀봉, 배기, 가스주입 및 에이징하여 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하였다.
(실시예 2)
저융점 글래스재로 B2O3 이외에 SiO2를 더욱 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
(비교예 1)
저융점 글래스재를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
하기 표 1에 상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1의 형광체 페이스트 조성물의 각 성분비를 나타내었다.
(단위 : 중량%)
성분 실시예 1 실시예 2 비교예 1
B2O3 10 5 0
SiO2 0 5 0
Zn2-xSiO4:Mnx (단, x는 0.1 내지 0.5이다.) 30 30 40
에틸 셀룰로스 6 6 6
부틸 카비톨 아세테이트 16 16 16
α- 터피네올 38 38 38
또한, 하기 표 2에는 상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1에서 제조한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전층 상부 및 격벽 측면의 형광층의 두께와 휘도를 측정하여 그 결과를 나타내었다.
실시예 1 실시예 2 비교예 1
격벽 측면의 형광층 두께(㎛) 39 38 32
유전층 상부의 형광층 두께(㎛) 15 16 20
휘도(㏅/㎡) 535 507 464
상기 표 2에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 2에서 제조한 플라즈마 디스플레이 패널의 경우 비교예 1의 플라즈마 디스플레이 패널에 비하여 격벽 측면의 형광층의 두께는 더 두꺼워지고, 유전층 상부의 형광층의 두께가 더 얇아져 발광휘도가 증가함을 알 수 있다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 유전층 상부의 형광층의 두께는 얇아지고 격벽 측면의 형광층의 두께는 두꺼워져 휘도가 높고 방전특성이 균일하고 우수하다.

Claims (3)

  1. 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서,
    유전층 상부 및 격벽 측면상에 반사층을 형성하고, 상기 반사층 위에 B2O3, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재가 포함된 형광층을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 형광층은 형광체 페이스트에 B2O3, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재를 1 내지 15 중량% 포함하는 형광체 페이스트를 인쇄하여 형성된 것인 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  3. 기판;
    상기 기판 위에 형성된 어드레스 전극;
    상기 어드레스 전극을 덮으며 형성된 유전층;
    상기 유전층 위 어드레스 전극에 대응하여 형성되며 방전 공간을 구획하는 격벽;
    상기 유전층 상부 및 격벽 측면상에 형성된 반사층; 및
    상기 반사층 위에 형성되며 B2O3, ZnO 및 SiO2로 이루어진 군에서 선택되는 저융점 글래스재를 포함하는 형광층을 포함하며, 제1항의 제조방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널.
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