KR100575039B1 - Method for manufacturing flexible printed wiring board - Google Patents

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KR100575039B1
KR100575039B1 KR1020040046491A KR20040046491A KR100575039B1 KR 100575039 B1 KR100575039 B1 KR 100575039B1 KR 1020040046491 A KR1020040046491 A KR 1020040046491A KR 20040046491 A KR20040046491 A KR 20040046491A KR 100575039 B1 KR100575039 B1 KR 100575039B1
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하세가와히로시
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미츠이 긴조쿠 고교 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법을 제공한다. A manufacturing method of a flexible printed wiring board capable of improving the inspection property of a pattern defect.

(해결 수단) 절연층(11)의 표면에 설치된 도체층으로 이루어진 도체 패턴(13) 위에 도금층을 2층 이상 형성함과 동시에, 어느 도중의 단계에 가열 처리하는 공정을 구비한 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있어서, 도체 패턴(13) 위에 기초 도금층(101)을 형성한 후에 또한 가열 처리하는 공정 전에, 기초 도금층(101)이 표면에 형성된 도체 패턴(13)을 화상 인식하여 패턴의 결함을 검사하는 패턴 검사 공정을 실시하는 것에 의해, 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있다. A manufacturing method of a flexible printed wiring board having a step of forming two or more layers of plating layers on a conductor pattern 13 made of a conductor layer provided on a surface of an insulating layer 11 and a step of performing heat treatment in any step The conductor pattern 13 formed on the surface of the base plating layer 101 is recognized by recognizing the defects of the pattern before the base plating layer 101 is formed on the conductor pattern 13 and then the heating process is performed By performing the pattern inspecting process, the inspectability of pattern defects can be improved.

배선판, 절연층, 도금층, 배선 패턴, 스프로켓 홀, 포토 레지스트 재료, 포토 마스크, Wiring board, insulating layer, plating layer, wiring pattern, sprocket hole, photoresist material, photomask,

Description

플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE PRINTED WIRING BOARD}METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE PRINTED WIRING BOARD BACKGROUND OF THE INVENTION [0001]

도 1 은 본 발명의 실시 형태 1에 관한 플렉시블 프린트 배선판을 나타내는 개략도로서 (a)는 평면도이고, (b)는 단면도이다. 1 is a schematic view showing a flexible printed wiring board according to Embodiment 1 of the present invention, wherein (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view.

도 2 는 본 발명의 실시 형태 1에 관한 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법의 일례를 설명하는 단면도이다. 2 is a cross-sectional view for explaining an example of a manufacturing method of a flexible printed wiring board according to Embodiment 1 of the present invention.

도 3 은 본 발명의 실시 형태 1에 관한 패턴 검사 공정을 설명하는 개략도이다. 3 is a schematic view for explaining a pattern inspection process according to Embodiment 1 of the present invention.

도 4 는 본 발명의 실시 형태 1에 관한 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법의 일례를 설명하는 단면도이다. 4 is a cross-sectional view for explaining an example of a manufacturing method of a flexible printed wiring board according to Embodiment 1 of the present invention.

도면 부호의 설명Explanation of reference numerals

10 플렉시블 프린트 배선판 11 절연층 10 Flexible printed wiring board 11 Insulating layer

12 도체층 13 도체 패턴12 conductor layer 13 conductor pattern

14 배선 패턴 15 스프로켓 홀14 Wiring pattern 15 Sprocket hole

16 솔더레지스트 층 20 COF용 적층 필름16 solder resist layer 20 laminated film for COF

21 포토 레지스트 재료 도포층 22 포토 마스크21 Photoresist material Coating layer 22 Photomask

23 배선 패턴용 레지스트 패턴 100 도금층 23 Resist pattern for wiring pattern 100 Plating layer

101 기초 도금층 102 메인 도금층 101 base plating layer 102 main plating layer

200 자동 외관 검사 장치 201 받침대 200 automatic appearance inspection device 201 pedestal

202 오목부 203 CCD 카메라202 concave portion 203 CCD camera

204 광원 204 light source

본 발명은, IC 또는 LSI 등의 전자부품을 실장하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a flexible printed wiring board on which electronic components such as ICs or LSIs are mounted.

일렉트로닉스 산업의 발달에 수반하여, IC(집적회로), LSI(대규모 집적회로)등의 전자부품을 실장하는 프린트 배선판의 수요가 급격하게 증가하고 있지만, 전자기기의 소형화, 경량화, 고기능화가 요망되고, 이들 전자부품의 실장 방법으로서, 최근에는 TAB(Tape Automated Bonding), T-BGA(Ball Grid Array)테이프, ASIC 테이프, 양면 배선 테이프, 다층 배선판용 테이프, FPC(플렉시블 프린트 회로)등의 플렉시블 프린트 배선판을 이용한 실장 방식이 채용되고 있다. 특히, 휴대폰, 퍼스널컴퓨터(PC), 휴대용 노트형 PC 등과 같이, 고정밀화, 박형화, 액정화면의 액자 면적의 협소화가 요망되고 있는 액정 표시 소자(LCD)를 사용하는 전자 산업에 있어서, 그 중요성이 높아지고 있다.Along with the development of the electronics industry, demand for printed wiring boards for mounting electronic components such as ICs (integrated circuits) and LSIs (large-scale integrated circuits) is rapidly increasing. However, there is a demand for miniaturization, As a mounting method of these electronic components, a flexible printed wiring board (hereinafter, referred to as " flexible printed wiring board ") such as TAB (Tape Automated Bonding), T-BGA (Ball Grid Array) tape, ASIC tape, A mounting method using a mounting method is adopted. Particularly, in the electronic industry using a liquid crystal display device (LCD) in which high definition, thinness, and a small frame area of a liquid crystal screen are required, such as a mobile phone, a personal computer (PC) It is getting higher.

또, 보다 작은 스페이스에서, 보다 고밀도의 실장을 행하는 실장 방법으로서, IC 칩을 플렉시블 프린트 배선판 위에 직접 탑재하는 COF(Chip On Film) 테이 프 등이 실용화되고 있다. As a mounting method for mounting a higher density in a smaller space, a COF (Chip On Film) tape for directly mounting an IC chip on a flexible printed wiring board has been put to practical use.

여기에서, 이 플렉시블 프린트 배선판은, 다음과 같이 제조된다. 예를 들면, 먼저, 폴리이미드로 이루어진 절연층의 폭방향 양측에 반송용의 스프로켓 홀 등을 형성하고, 이 스프로켓 홀을 이용하여 절연층을 반송하면서 절연층의 한쪽면에 설치된 동박 위에 포토 레지스터 층을 형성한다. 다음에, 감광성 수지 층을 노광·현상하는 것으로 패터닝 하고, 이 패터닝하여 소정 형상으로 한 감광성 수지 층을 마스크로 하여 동박을 에칭에 의해 제거한 후, 감광성 수지 층을 제거함으로써 도체 패턴을 형성한다. 다음에, 도체 패턴 위에 솔더레지스트 층을 형성한 후에, 주석 도금층을 형성한다. 또는, 도체 패턴 위에 주석 도금층을 형성하는 것으로 배선 패턴을 형성한 후에, 이너 리드나 아우터 리드 등의 단자부를 제외한 각 배선 패턴 위에 솔더레지스트 층을 형성하고, 또한, 이러한 솔더레지스트 층으로 피복되지 않은 단자부 위에 주석 도금층을 형성한다. 또한, 후자의 경우에는, 일반적으로 솔더레지스트 층을 형성할 때에 가열 처리를 행하고, Cu-Sn 합금층을 형성하고 의사 호이스카의 발생을 방지하고 있다. Here, this flexible printed wiring board is manufactured as follows. For example, first, a sprocket hole or the like for transportation is formed on both sides in the width direction of the insulating layer made of polyimide, and a photoresist layer is formed on a copper foil provided on one side of the insulating layer while carrying the insulating layer using the sprocket holes. . Next, the photosensitive resin layer is patterned by exposure and development, the copper foil is removed by etching using the photosensitive resin layer formed into a predetermined shape by patterning, and the photosensitive resin layer is removed to form a conductor pattern. Next, after a solder resist layer is formed on the conductor pattern, a tin plating layer is formed. Alternatively, after a wiring pattern is formed by forming a tin plating layer on the conductor pattern, a solder resist layer is formed on each wiring pattern except the terminal portions such as an inner lead and an outer lead. Further, A tin plating layer is formed thereon. In the latter case, generally, a heat treatment is performed to form a solder resist layer to form a Cu-Sn alloy layer and to prevent the occurrence of a false defect.

또한, 이와 같은 플렉시블 프린트 배선판은, 도체 패턴에 패턴의 결함이 있으면 제품 불량이 되어 중대한 문제가 되기 때문에, 종래에는, 도체 패턴 형성후의 공정에 불량을 반입하지 않도록, 도체 패턴을 형성한 후에, 사람의 육안에 의해, 또는 자동 외관 검사 장치(AOI)에 의해, 도체 패턴의 결함을 검사하는 패턴 검사 공정을 실시하는 것이 일반적이다. AOI는, 예를 들면, 화상 판독 카메라로 도체 패턴을 광학적으로 판독, 대조 확인용 데이터(기준 샘플)와 비교함으로써, 도체 패 턴의 결함을 검사하도록 되어 있다(일본 특개2001-356099호 공보 참조). Further, in such a flexible printed wiring board, if a defective pattern is present in a conductor pattern, a product becomes defective and becomes a serious problem. Conventionally, after a conductor pattern is formed so as not to bring a defect into a process after the formation of a conductor pattern, It is common to carry out a pattern inspecting process for inspecting defects of a conductor pattern by visual inspection of the conductor pattern or automatic appearance inspection apparatus (AOI). The AOI is designed to inspect the defect of the conductor pattern by optically reading the conductor pattern with an image reading camera and comparing it with data (reference sample) for verification confirmation (see Japanese Patent Laid-Open No. 2001-356099) .

그렇지만, 근래, 상술한 플렉시블 프린트 배선판은, 도체 패턴의 배선 피치가 40㎛ 이하(선폭 20㎛ 이하)와 파인 피치화가 점점 진행되고 있고, 패턴의 결함을 사람의 육안에 의한 외관 검사 또는 AOI로 식별하는 것이 곤란하게 되어지고 있다. In recent years, however, in the above-mentioned flexible printed wiring board, the wiring pitch of the conductor pattern is gradually increasing to 40 占 퐉 or less (line width of 20 占 퐉 or less) and fine pitch, and defects of the pattern are visually recognized by human eyes or identified by AOI It becomes difficult to do.

예를 들면, 도체 패턴의 형성후에는, 동박 표면이 산화하여 변색되어 있는 부분이 있고, 이와 같은 변색 부분이 의사 패턴 결함으로 잘못 인식되고, 제품의 수율이 저하된다는 문제가 있다. 한편, 주석 도금층의 형성후에는, 호이스카 발생이 배선 패턴의 쇼트의 원인이 되기 때문에, 일반적으로 주석 도금 직후에 가열 처리를 행하고 있지만, 이것에 수반하고 플렉시블 프린트 배선판에 파상의 변형, 특히, 스프로켓 홀이 설치된 테이프 폭방향 양측에 있어서 길이 방향에 걸쳐 파상의 변형이 발생하고, AOI의 경우, 대조 확인용 데이터와 비교할 때, 위치 어긋남이 발생하여 잘못 인식되어 버리는 경우가 있다. 또한, 이와 같은 테이프의 변형은, 상술한 COF 테이프 등의 비교적 얇은 타입의 플렉시블 프린트 배선판의 제조에 있어서 현저하게 나타난다. For example, after the formation of the conductor pattern, there is a portion where the surface of the copper foil is oxidized and discolored, and such a discolored portion is erroneously recognized as a defect in a pseudo-pattern, thereby lowering the yield of the product. On the other hand, after the formation of the tin plating layer, the occurrence of the foil causes a short circuit of the wiring pattern. Therefore, the heat treatment is generally performed immediately after the tin plating. In addition to this, the flexible printed wiring board is subjected to wave deformation, Wavy distortion occurs in the longitudinal direction on both sides in the tape width direction in which the holes are provided. In the case of AOI, positional shifts occur and are erroneously recognized when compared with the verification confirmation data. Such deformation of the tape is remarkable in the production of a relatively thin type flexible printed wiring board such as the COF tape described above.

즉, 종래의 패턴 검사 공정에서는, AOI가 정상적인 도체 패턴을 결함으로서 잘못 인식해 버리는 경우가 있고, AOI의 검출 결함 부위를 사람이 다시 시간을 소비하여 재검사하지 않으면 안되고, 패턴 결함의 검사성이 나쁘다는 문제가 있다. That is, in the conventional pattern inspecting process, the AOI may erroneously recognize a normal conductor pattern as a defect, and the detected defective portion of the AOI must be re-inspected again by consuming time, and the inspectability of the pattern defect is poor There is a problem.

본 발명은, 이와 같은 사정을 감안하고, 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a manufacturing method of a flexible printed wiring board capable of improving the inspection property of a pattern defect in view of such circumstances.

상기 과제를 해결한 본 발명의 제 1 형태는, 절연층의 표면에 설치된 도체층으로 이루어진 도체 패턴 위에 도금층을 2층 이상 형성함과 동시에, 어느 도중의 단계에 가열 처리하는 공정을 구비하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있어서, 상기 도체 패턴 위에 기초 도금층을 형성한 후에 또한 상기 가열 처리하는 공정 전에, 상기 기초 도금층이 표면에 형성된 도체 패턴을 화상 인식하고 패턴의 결함을 검사하는 패턴 검사 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있다. A first aspect of the present invention which solves the above problems is a flexible printed circuit board including a step of forming two or more layers of plating layers on a conductor pattern formed of a conductor layer provided on a surface of an insulating layer, And a pattern inspecting step of inspecting a conductor pattern formed on the surface of the base plating layer and defect of the pattern after the base plating layer is formed on the conductor pattern and before the heating treatment is performed And the like.

이런 제 1의 형태에서는, 도체 패턴의 표면에 산화에 의한 변색 부분이 발생하는 것을 기초 도금층에 의해 방지할 수 있고, 변색 부분이 의사 패턴 결함으로서 잘못 인식되는 것을 절감할 수 있다. 따라서, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. 또, 가열 처리전에 패턴 검사 공정을 실시함으로써, 필름 캐리어 테이프의 파상(波狀)의 변형에 의한 영향이 없고, 테이프를 양호하게 위치 결정 반송할 수 있다,  In this first embodiment, it is possible to prevent the occurrence of discolored portions due to oxidation on the surface of the conductor pattern by the underlying plating layer, and to prevent the discolored portion from being erroneously recognized as a defective pseudo pattern. Therefore, the inspection of pattern defects and the yield of products can be improved. In addition, by performing the pattern inspection step before the heat treatment, the tape can be favorably positioned and conveyed without being affected by the wave form of the film carrier tape,

본 발명의 제 2의 형태는, 제 1의 형태에 있어서, 상기 기초 도금층을 상기 도체 패턴보다 높은 표면휘도로 하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있다, A second aspect of the present invention is the method of manufacturing a flexible printed wiring board according to the first aspect, wherein the base plating layer has a higher surface luminance than the conductor pattern.

이런 제 2의 형태에서는, 패턴 검사 공정시, 도체 패턴의 표면휘도가 기초 도금층에 의해 높아지고, 화상 인식 가능한 범위가 실질적으로 커진다.  In the second embodiment, the surface brightness of the conductor pattern is increased by the underlying plating layer in the pattern inspecting step, and the image recognizable range is substantially increased.

본 발명의 제 3의 형태는, 제 1의 형태에 있어서, 상기 기초 도금층을 두께 0.01∼0.5㎛로 형성하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있다. A third aspect of the present invention is the method of manufacturing a flexible printed wiring board according to the first aspect, wherein the base plating layer is formed to a thickness of 0.01 to 0.5 m.

이런 제 3의 형태에서는, 도체 패턴 위에 소정 두께의 기초 도금층을 형성함으로써, 도체 패턴에 원하는 표면휘도가 얻어지고, 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있다.  In this third embodiment, a desired surface brightness can be obtained in the conductor pattern by forming a base plating layer having a predetermined thickness on the conductor pattern, and the inspection of pattern defects can be improved.

본 발명의 제 4의 형태는, 제 2의 형태에 있어서, 상기 기초 도금층을 두께 0.01∼0.5㎛로 형성하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있다. A fourth aspect of the present invention is the method of manufacturing a flexible printed wiring board according to the second aspect, wherein the base plating layer is formed to a thickness of 0.01 to 0.5 m.

이런 제 4의 형태에서는, 도체 패턴 위에 소정 두께의 기초 도금층을 형성함으로써, 도체 패턴에 원하는 표면휘도가 얻어지고, 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있다.  In the fourth embodiment, a base plating layer of a predetermined thickness is formed on the conductor pattern, whereby desired surface brightness can be obtained in the conductor pattern, and the inspection of pattern defects can be improved.

본 발명의 제 5의 형태는, 제 1∼4의 어느 형태에 있어서, 상기 기초 도금층으로서 기초 주석 도금층을 형성한 후에 상기 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 상기 기초 주석 도금층 위에 이것 보다 두터운 주석 도금층을 형성한 후에 상기 가열 처리하는 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있다. In a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the pattern inspecting step is performed after the base tin plating layer is formed as the base plating layer, and then the tin plating layer is thicker And a step of performing the heat treatment after forming the plating layer is carried out on the surface of the flexible printed wiring board.

이런 제 5의 형태에서는, 가열 처리전에 패턴 검사 공정을 실시함으로써, 필름 캐리어 테이프의 파상의 변형에 의한 영향이 없고, 테이프를 양호하게 위치 결정 반송할 수 있고, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. 또, 호이스카의 발생이 방지되고, 배선 패턴이 쇼트되는 것을 방지할 수 있다.  In the fifth embodiment, the pattern inspecting process is carried out before the heating process, so that the tape can be favorably positioned and transported without being affected by the wave deformation of the film carrier tape, and the inspectability of the pattern defect and the yield Can be improved. In addition, the occurrence of a fused capacitor can be prevented, and the wiring pattern can be prevented from being short-circuited.

본 발명의 제 6의 형태는, 제 1∼4의 어느 형태에 있어서, 상기 기초 도금층으로서 기초 주석 도금층을 형성한 후에 상기 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 상기 도체 패턴의 적어도 단자부를 제외한 표면을 피복하는 솔더레지스트 층을 형성할 때에 상기 가열 처리하는 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있다. In a sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the pattern inspecting step is performed after the base tin plating layer is formed as the base plating layer, and then the surface of the conductor pattern excluding at least the terminal portions In the step of forming the solder resist layer which covers the solder resist layer.

이런 제 6의 형태에서는, 가열 처리전에 패턴 검사 공정을 실시함으로써, 필름 캐리어 테이프의 파상의 변형에 의한 영향이 없고, 테이프를 양호하게 위치 결정 반송할 수 있고, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.  In the sixth embodiment, the pattern inspecting process is carried out before the heat treatment, so that the tape can be favorably positioned and transported without the influence of the wave deformation of the film carrier tape, and the inspectability of the pattern defect and the yield Can be improved.

본 발명의 제 7의 형태는, 제 1∼4의 어느 형태에 있어서, 상기 기초 도금층으로서 니켈 도금층을 형성한 후에 상기 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 상기 도체 패턴의 적어도 단자부를 제외한 표면을 피복하는 솔더레지스트 층을 형성할 때에 상기 가열 처리하는 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있다. In a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the pattern inspection step is performed after the nickel plating layer is formed as the base plating layer, and then the surface excluding at least the terminal portion of the conductor pattern And the step of performing the heat treatment is carried out when forming the solder resist layer to be coated.

이런 제 7의 형태에서, 가열 처리전에 패턴 검사 공정을 실시함으로써, 필름 캐리어 테이프의 파상의 변형에 의한 영향이 없고, 테이프를 양호하게 위치 결정 반송할 수 있고, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다,  In the seventh aspect, by performing the pattern inspecting process before the heat treatment, the tape can be favorably positioned and conveyed without being affected by the wave deformation of the film carrier tape, and the inspectability of the pattern defect and the yield , ≪ / RTI >

이하, 본 발명을 실시 형태에 근거하여 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

(실시 형태 1) (Embodiment 1)

도 1은, 본 발명의 실시 형태 1에 관계된 플렉시블 프린트 배선판을 도시하 는 개략도이고, (a)는 평면도이고, (b)는 단면도이다. 1 is a schematic view showing a flexible printed wiring board according to a first embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view and (b) is a cross-sectional view.

도시된 바와 같이, 본 실시 형태의 플렉시블 프린트 배선판(10)은, COF 필름 캐리어 테이프이고, 테이프 형상의 절연층(11)의 한쪽면측에 설치된 도체층(12)을 패터닝 하는 것에 의해 형성된 도체 패턴(13)과 후술하는 2 층의 도금인 도금층(100)으로 이루어진 배선 패턴(14)과, 배선 패턴(14)의 폭방향 양측에 설치된 복수의 스프로켓 홀(15)을 구비한다. As shown in the figure, the flexible printed wiring board 10 of the present embodiment is a COF film carrier tape, and is formed by patterning a conductive layer 12 provided on one side of a tape-shaped insulating layer 11 13 and a plurality of sprocket holes 15 provided on both sides of the wiring pattern 14 in the width direction.

여기에서, 절연층(11)의 재료로서는, 예를 들면, 폴리이미드 이외에 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리 에테르 술폰, 액정 폴리머 등을 이용할 수 있지만, 특히, 피로메릿산 2무수물과 방향족 디아민으로부터 합성되는 전방향족 폴리이미드를 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 절연층(11)의 두께는, 일반적으로는, 12.5∼125㎛이고, 바람직하게는 12.5∼75㎛, 더욱 바람직하게는 25∼50㎛이다. Here, as the material of the insulating layer 11, for example, polyesters, polyamides, polyether sulfone, liquid crystal polymers and the like can be used in addition to polyimide. Particularly, it is possible to use a mixture of pyromellitic acid dianhydride and aromatic diamine It is preferable to use a wholly aromatic polyimide. The thickness of the insulating layer 11 is generally 12.5 to 125 占 퐉, preferably 12.5 to 75 占 퐉, and more preferably 25 to 50 占 퐉.

한편, 도체층(12)의 재료로서는, 동 이외에 예를 들면, 알루미늄, 금, 은 등을 사용하는 것도 가능지만, 동이 일반적이다. 또, 동층(銅層)으로서는, 증착이나 도금으로 형성한 동층, 전기 분해 동박, 압연 동박 등 어느 것이나 사용할 수 있다. 도체층(12)의 두께는, 일반적으로는, 1∼7O㎛이고, 바람직하게는 5∼35㎛이다. On the other hand, as the material of the conductor layer 12, other than copper, for example, aluminum, gold, silver or the like may be used, but copper is common. As the copper layer, copper layer formed by vapor deposition or plating, electrolytic copper foil, rolled copper foil, or the like can be used. The thickness of the conductor layer 12 is generally 1 to 70 占 퐉, preferably 5 to 35 占 퐉.

배선 패턴(14)은, 절연층(11)의 표면에 연속적으로 설치되어 있다. 또, 이 배선 패턴(14)은, 절연층(11)의 표면에 설치된 도체층(12)을 패터닝 하는 것에 의해 형성된 도체 패턴(13)과, 이 도체 패턴(13) 위에 형성된 2층 이상으로 이루어진 도금층(100)으로 구성되어 있다. 예를 들면, 본 실시 형태에서는, 도금층(100)은, 도체 패턴(13) 위의 전체면에 기초 도금층(101), 메인 도금층(102)을 적층하여 형성된다. 또한, 도금층(100)의 두께는, 예를 들면, 0.3∼1.0㎛이고, 바람직하게는 O.4∼O.7㎛이다.The wiring pattern 14 is continuously provided on the surface of the insulating layer 11. The wiring pattern 14 includes a conductor pattern 13 formed by patterning a conductor layer 12 provided on the surface of the insulating layer 11 and two or more layers formed on the conductor pattern 13 And a plating layer (100). For example, in the present embodiment, the plating layer 100 is formed by laminating the base plating layer 101 and the main plating layer 102 on the entire surface on the conductor pattern 13. [ The thickness of the plating layer 100 is, for example, 0.3 to 1.0 占 퐉, and preferably 0.4 to 0.7 占 퐉.

또한, 이와 같이 도금층(100)을 갖는 배선 패턴(14) 위에는, 스크린 인쇄 기술에 의해 필요한 영역에만 솔더레지스트 재료 도포 용액이 도포되고, 그 후, 가열 경화함으로써 솔더레지스트 층(16)이 형성된다. 물론, 솔더레지스트 층은, 포토 리소그래피법을 이용하여 형성해도 좋다. On the wiring pattern 14 having the plating layer 100 as described above, the solder resist material coating solution is applied only to the area required by the screen printing technique, and then the solder resist layer 16 is formed by heating and curing. Of course, the solder resist layer may be formed by photolithography.

그리고, 이와 같은 솔더레지스트 층(16)으로 피복되지 않은 배선 패턴(14)의 일부는, 접속용 단자부가 된다. 즉, 배선 패턴(14)의 중앙부의 단부는, 이너 리드(14a)가 되고, 이 이너 리드(14a)와 반대측의 솔더레지스트 층(16)의 외측의 단부는, 아우터 리드(14b)가 된다. A portion of the wiring pattern 14 which is not covered with the solder resist layer 16 becomes a connection terminal portion. That is, the end of the central portion of the wiring pattern 14 becomes the inner lead 14a, and the outer end of the solder resist layer 16 on the side opposite to the inner lead 14a becomes the outer lead 14b.

여기에서, 도 2∼도 4를 참조하여, 상술한 플렉시블 프린트 배선판(10)의 일례인 COF 필름 캐리어 테이프의 제조 방법의 일례를 설명한다. 또한, 도 2 및 도 4는, COF 필름 캐리어 테이프의 제조 방법의 일례를 나타내는 단면도이고, 도 3은, 패턴 검사 공정을 설명하는 개략도이다. Here, an example of a method of manufacturing a COF film carrier tape which is an example of the above-described flexible printed wiring board 10 will be described with reference to Figs. 2 to 4. Fig. 2 and 4 are sectional views showing an example of a method for producing a COF film carrier tape, and Fig. 3 is a schematic view for explaining a pattern inspection process.

우선, 도 2(a)에 도시된 바와 같이, 절연층(11) 위에 도체층(12)을 형성한 COF용 적층 필름(20)을 준비한다. 여기에서, COF용 적층 필름(20)은, 예를 들면, 동박으로 이루어진 도체층(12) 위에, 폴리이미드 전구체나 니스를 포함하는 폴리이미드 전구체 수지 조성물을 도포하여 도포층을 형성하고, 용제를 건조시켜 권취하고, 뒤이어, 큐어 로내에서 열처리하고, 이미드화하여 절연층(11)으로 하는 것에 의해 형성되지만, 물론, 이것으로 한정되는 것은 아니다. First, as shown in Fig. 2 (a), a laminated film 20 for COF in which a conductor layer 12 is formed on an insulating layer 11 is prepared. Here, the COF-use laminated film 20 is obtained by applying a polyimide precursor resin composition containing a polyimide precursor or varnish, for example, onto a conductor layer 12 made of a copper foil to form a coating layer, Followed by drying and winding, followed by heat treatment in a curing furnace, and imidization to form an insulating layer 11. However, the present invention is not limited thereto.

다음에, 도 2(b)에 도시된 바와 같이, 펀칭 등에 의해, 절연층(11) 및 도체층(12)을 관통시켜 스프로켓 홀(15)을 형성한다. 이 스프로켓 홀(15)은, 절연층(11)의 표면 위로부터 형성해도 좋고, 또, 절연층(11)의 배면으로부터 형성해도 좋다, Next, as shown in Fig. 2 (b), the sprocket holes 15 are formed by penetrating the insulating layer 11 and the conductor layer 12 by punching or the like. The sprocket holes 15 may be formed from the surface of the insulating layer 11 or from the back surface of the insulating layer 11,

다음에, 도 2(c)에 도시된 바와 같이, 일반적인 포토 리소그래피법을 이용하여, 도체층(12) 위의 도체 패턴(13)이 형성되는 영역에 걸쳐 포토 레지스트 재료 도포 용액을 도포 하여 포토 레지스트 재료 도포층(21)을 형성한다. 또한, 스프로켓 홀(15) 안에 위치 결정 핀(도시 생략)을 삽입하고 절연층(11)의 위치 결정을 행한 후, 포토 마스크(22)를 이용하여 노광하고, 그 후 현상함으로써, 포토 레지스트 재료 도포층(21)을 패터닝 하여, 도 2(d)에 도시된 바와 같은 도체 패턴용 레지스트 패턴(23)을 형성하다, Next, as shown in Fig. 2 (c), a photoresist material coating solution is applied over a region where the conductor pattern 13 is formed on the conductor layer 12 by using a general photolithography method, Thereby forming a material coated layer 21. A positioning pin (not shown) is inserted into the sprocket hole 15 to position the insulating layer 11 and then exposed using a photomask 22. Thereafter, the photoresist material is applied The resist pattern 23 for a conductor pattern as shown in Fig. 2 (d) is formed by patterning the layer 21,

다음에, 도체 패턴용 레지스트 패턴(23)을 마스크 패턴으로서 도체층(12)을 에칭액으로 용해하여 제거하고, 또한 도체 패턴용 레지스트 패턴(23)을 알칼리 용액 등으로 용해 제거하는 것에 의해, 도 2(e)에 도시된 바와 같은 도체 패턴(13)을 형성한다. Next, the conductor pattern 12 is dissolved and removed as an etching solution by using the resist pattern 23 for a conductor pattern as a mask pattern, and the resist pattern 23 for a conductor pattern is dissolved and removed with an alkali solution, thereby forming a conductor pattern 13 as shown in Fig.

이상이 도체 패턴(13)을 형성하는 제조 프로세스이다. 다음에, 본 실시 형태에서는, 도체 패턴(13) 위에 기초 도금층(101)을 형성한 후, 패턴 검사 공정을 실시한다. This is the manufacturing process for forming the conductor pattern 13. Next, in this embodiment, after the base plating layer 101 is formed on the conductor pattern 13, the pattern inspection step is performed.

구체적으로는, 먼저, 도 2(f)에 도시된 바와 같이, 도체 패턴(13)의 면 위 에, 그 도체 패턴(13) 보다 표면휘도가 높고, 또한 후공정의 전자부품 등과의 본딩에 지장이 없고, 도체 패턴(13) 보다 산화에 의한 변색이 생기기 어려운 금속으로 이루어진 기초 도금층(101)을 형성한다. Specifically, first, as shown in Fig. 2 (f), on the surface of the conductor pattern 13, the surface brightness is higher than that of the conductor pattern 13, and the bonding with the electronic parts and the like in the subsequent step And the underlying plating layer 101 made of a metal less likely to cause discoloration due to oxidation than the conductor pattern 13 is formed.

또, 이와 같은 기초 도금층(101)의 두께는, 0.01∼0.5㎛로 하는 것이 바람직하다. 기초 도금층(101)으로서는, 예를 들면, 본 실시 형태에서는, 무전해 도금 등에 의해, 기초 주석 도금층을 형성했다. 이와 같이, 호이스카 문제를 갖는 주석 도금을 행할 경우, 호이스카 방지를 위해서는 가열 처리를 행할 필요가 있는데, 본 실시 형태에서는, 단기간에는 호이스카가 발생하지 않는 정도 즉, 가열 처리를 행할 필요가 없는 정도의 기초 주석 도금층을 형성함으로써 표면휘도를 높이고 있다. 그러므로, 가열 처리를 행할 필요는 없고, 필름 캐리어 테이프에 파상의 변형이 발생하는 일도 없다. 따라서, 후술하는 패턴 검사 공정에 악영향을 주는 일도 없다. 이와 같이, 도체 패턴(13) 위에 기초 도금층(101)을 형성하여, 그 표면휘도를 도체 패턴(13)의 표면과 비교해서 1O∼50%정도 높일 수 있기 때문에, 자세한 것은 후술하지만, 패턴 검사 공정에서 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있다. It is preferable that the base plating layer 101 has a thickness of 0.01 to 0.5 mu m. As the base plating layer 101, for example, in this embodiment, a base tin plating layer is formed by electroless plating or the like. As described above, in the case of performing tin plating with a foaming problem, it is necessary to perform a heat treatment in order to prevent foaming. In the present embodiment, the degree of foaming does not occur in a short period of time, Of the surface tin plating layer to increase the surface luminance. Therefore, it is not necessary to perform the heat treatment, and the film carrier tape is not deformed. Therefore, there is no adverse effect on the pattern inspection process to be described later. As described above, since the base plating layer 101 is formed on the conductor pattern 13 and its surface luminance can be increased by about 10% to about 50% as compared with the surface of the conductor pattern 13, The inspection of pattern defects can be improved.

또, 본 실시 형태에서는, 패턴 검사 공정시에, 산화에 의한 변색 부분이 의사 패턴 결함으로서 잘못 인식 되는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 이것은, 패턴 검사 공정 전에, 가열 처리의 필요가 없는 정도의 두께이며 또한 도체 패턴(13) 보다 산화에 의한 변색이 생기기 어려운 기초 도금층(1O1)에 의해, 도체 패턴(13) 전체를 실질적으로 피복하고 있기 때문이다. In addition, in the present embodiment, it is possible to reliably prevent erroneous recognition of a discolored portion due to oxidation as a pseudo-pattern defect in the pattern inspecting step. This is because, before the pattern inspecting process, the whole of the conductor pattern 13 is substantially covered with the base plating layer 101 which is thick enough not to require heat treatment and which is less prone to discoloration due to oxidation than the conductor pattern 13 It is because.

또한, 기초 도금층(101)은, 도체 패턴(13)의 표면을 보호하는 역할도 있다. 즉, 기초 도금층(1O1)은, 도체 패턴(13)의 표면이 산화하는 것을 방지하고 있다. 따라서, 기초 도금층(101)은, 도체 패턴(13) 형성 후, 곧바로 형성하는 것이 바람직하다. 이것은, 도체 패턴(13)의 표면에 산화한 변색 부분이 존재하면, 후술하는 패턴 검사 공정에서의 검사성에 악영향을 미칠 우려가 있기 때문이다.  The base plating layer 101 also serves to protect the surface of the conductor pattern 13. That is, the base plating layer 101 prevents the surface of the conductor pattern 13 from being oxidized. Therefore, it is preferable that the base plating layer 101 is formed immediately after the conductor pattern 13 is formed. This is because, when the oxidized discolored portion exists on the surface of the conductor pattern 13, there is a possibility that the inspection property in the pattern inspection step described later is adversely affected.

다음에, 이전 공정에서 표면에 기초 도금층(101)을 형성한 도체 패턴(13)을 화상 인식하여 패턴의 결함을 검사하는 패턴 검사 공정을 실시한다. 예를 들면, 본 실시 형태에서는, 도 3(a)에 도시된 바와 같이, 절연층(11)의 도체 패턴(13)측으로부터 빛을 조사하고 그 반사광을 화상 인식하여 패턴의 결함을 검사하는 것이 가능한 자동 외관 검사 장치(200)를 이용하여 패턴 검사 공정을 실시했다. Next, in the previous step, a pattern inspection process for inspecting the defects of the pattern by recognizing the conductor pattern 13 on which the base plating layer 101 is formed on the surface is performed. For example, in the present embodiment, as shown in Fig. 3A, it is possible to irradiate light from the side of the conductor pattern 13 of the insulating layer 11 and to recognize the reflected light to inspect the defects of the pattern A pattern inspection process was performed using the automatic appearance inspection apparatus 200 as much as possible.

구체적으로는, 자동 외관 검사 장치(200)에서는, 먼저, 검사 대상이 되는 필름 캐리어 테이프를 반송 기어(도시 생략) 등에 의해 반송하고, 반송 방향의 상류측 및 하류측을 향하여 소정의 장력으로 인장하고, 그 상태로, 받침대(201)의 오목부(202)에 고정한다(도 3(a) 참조). 또는, 도시하지 않았지만, 상류측 및 하류측에서 테이프 위쪽으로부터 고무 롤러로 받침대에 대하여 압박하여 테이프를 일시적으로 고정하는 방법도 있다. 다음에, 그 테이프의 위쪽, 즉 도체 패턴(13)측에 CCD(Charge coupled device) 카메라(203)를 둘러싸도록 배치된 광원(204)에 의해, 도체 패턴(13) 전체를 조사한다. 뒤이어, 광원(204)과 같은 도체 패턴(13)측에 배치된 CCD 카메라(203)에 의해, 상술한 기초 도금층(101)이 표면에 설치된 각 도체 패턴(13)을 광학적으로 판독한다. 그리고, 도시하지 않은 화상 처리부에 의해, 예를 들면, 기준 샘플(대조 확인용 데이터)을 중첩하여 대조 확인함으로써, 단선 등 의 패턴결함을 검사한다. 또한, 실제로는, 도체 패턴(13)의 결함을 검출한 경우에는, 오퍼레이터가, 화면 표시된 결함 정보에 대하여 정상적인 도체 패턴(13)을 패턴결함으로 검출한 것인지 아닌지(검증)의 확인을 행하는 것이 보통이다. Specifically, in the automatic visual inspection apparatus 200, the film carrier tape to be inspected is first conveyed by a conveyance gear (not shown), and tensioned with a predetermined tension toward the upstream side and the downstream side in the conveyance direction , And is fixed to the concave portion 202 of the pedestal 201 in this state (see Fig. 3 (a)). Alternatively, although not shown, there is also a method of temporarily pressing the tape against the pedestal with a rubber roller from the upper side of the tape on the upstream side and the downstream side. Next, the whole of the conductor pattern 13 is irradiated by the light source 204 disposed above the tape, that is, on the conductor pattern 13 side so as to surround the CCD (Charge Coupled Device) camera 203. Subsequently, each of the conductor patterns 13 provided on the surface of the base plating layer 101 described above is optically read by the CCD camera 203 disposed on the side of the conductor pattern 13 such as the light source 204. Then, a pattern defect such as disconnection is inspected by superimposing, for example, a reference sample (verification confirmation data) by an image processing unit (not shown) and verifying the verification. Actually, in the case where a defect of the conductor pattern 13 is detected, it is preferable that the operator confirms whether or not the normal conductor pattern 13 is detected as a pattern defect with respect to the displayed defect information (verification) to be.

여기에서, 이와 같은 자동 외관 검사 장치(200)에 의해 패턴 결함의 검사를 할 때, 본 실시 형태에서는, 도체 패턴(13)의 표면에 기초 도금층(101)을 형성함으로써, 그 표면휘도가 도체 패턴(13)의 표면과 비교하여 10∼50%정도 높아지고 있기 때문에, 도체 패턴(13) 전체의 형상을 실물대로 판독할 수 있다. Here, when the pattern defect is inspected by the automatic visual inspection apparatus 200 as described above, in the present embodiment, the base plating layer 101 is formed on the surface of the conductor pattern 13, Is about 10 to 50% higher than that of the surface of the conductive pattern 13, the shape of the whole conductor pattern 13 can be actually read.

구체적으로는, 도체층(12)을 에칭 하여 도체 패턴(13)을 형성하면, 통상, 도체 패턴(13)의 각 배선의 단면 형상은, 도 3(b)에 도시된 바와 같이, 사다리꼴이다. 그리고, 도체 패턴(13)만의 구성에서는, 충분한 표면휘도를 갖고 있지 않기 때문에, 도체 패턴(13)의 각 배선의 선폭은 윗면(A)의 폭으로 인식되어 버린다. 이에 대하여, 본 실시 형태에서는, 도 3(c)에 도시된 바와 같이, 도체 패턴(13) 위에 기초 도금층(101)을 형성함으로써, 도체 패턴(13)보다도 표면휘도가 높아지고, 배선 패턴(14)의 각 배선의 선폭은 전체면(B)에서 인식된다. 즉, 화상 인식되는 범위(표면적)가 실질적으로 커지고, 배선 패턴(14) 전체의 형상을 크게 판독할 수 있다. 이것에 의해, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. More specifically, when the conductor layer 12 is etched to form the conductor pattern 13, the cross-sectional shape of each conductor of the conductor pattern 13 is generally trapezoidal as shown in Fig. 3 (b). In the configuration of only the conductor pattern 13, the line width of each wiring of the conductor pattern 13 is recognized as the width of the top surface A because it does not have a sufficient surface luminance. 3C, by forming the base plating layer 101 on the conductor pattern 13, the surface luminance is higher than that of the conductor pattern 13, The line widths of the respective wirings are recognized on the whole surface (B). That is, the range (surface area) in which the image is recognized is substantially increased, and the shape of the entire wiring pattern 14 can be largely read. This makes it possible to improve the inspection performance of pattern defects and the yield of products.

또, 본 실시 형태에서는, 화상 인식되는 범위를 크게 할 수 있기 때문에, 화상 인식한 도체 패턴(13)과 기준 샘플을 중첩하여 양자를 대조 확인할 때, 허용 범위(면적)도 커지고, 검사시의 작업성을 향상시킬 수 있다. Further, in the present embodiment, since the range of recognizing the image can be enlarged, the permissible range (area) becomes large when the image pattern of the conductor pattern 13 recognized with the image and the reference sample are superimposed on each other, It is possible to improve the property.

또한, 도체 패턴(13)의 표면에 기초 도금층(101)을 형성함으로써, 산화에 의한 변색 부분의 발생을 방지할 수 있기 때문에, 패턴 검사 공정시, 산화에 의한 변색 부분이 의사 패턴 결함으로 잘못 인식 되는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 따라서, 오퍼레이터에 의한 검증의 확인작업 부담을 대폭적으로 경감할 수 있다.  Since the formation of the discolored portion due to oxidation can be prevented by forming the base plating layer 101 on the surface of the conductor pattern 13, the discolored portion due to oxidation is erroneously recognized as a pseudo-pattern defect Can be reliably prevented. Therefore, it is possible to significantly reduce burden of confirmation work of verification by the operator.

이와 같이 하여 패턴 검사 공정을 실시한 후에는, 본 실시 형태에서는, 도 4(a)에 도시된 바와 같이, 기초 도금층(101) 위에 메인 도금층(1O2)을 형성한다. 예를 들면, 본 실시 형태에서, 메인 도금층(102)으로서, 무전해 도금 등에 의해, 기초 도금층(101)보다도 두터운 메인 주석 도금층을 형성했다. 메인 도금층(102)의 두께로서는, 예를 들면, O.3∼O.7㎛가 바람직하다. 이것은, 이너 리드(14a) 및 아우터 리드(14b)의 각 단자부에 있어서, 외부와의 전기적 접속에 필요한 두께를 확보하기 위해서이다. 그 후, 약100∼200℃에서 호이스카 발생 방지를 위한 가열(큐어)처리를 지나는 것에 의해, 기초 도금층(101) 및 메인 도금층(102)으로 이루어진 도금층(100)이 형성된다(도 4(b) 참조). 이것에 의해, 이 도금층(100)의 기초 도금층(101)과 도체 패턴(13)과의 적어도 경계부분은 합금 도금층이 된다. After the pattern inspecting process is performed as described above, the main plating layer 102 is formed on the base plating layer 101 in this embodiment, as shown in Fig. 4 (a). For example, in the present embodiment, a main tin plating layer thicker than the base plating layer 101 is formed as the main plating layer 102 by electroless plating or the like. The thickness of the main plating layer 102 is preferably 0.3 to 0.7 mu m, for example. This is for ensuring the thickness necessary for electrical connection with the outside at each terminal portion of the inner lead 14a and the outer lead 14b. Thereafter, a heating (curing) treatment is performed at about 100 to 200 DEG C to prevent foaming, thereby forming a plating layer 100 composed of a base plating layer 101 and a main plating layer 102 ) Reference). As a result, at least the boundary portion between the base plating layer 101 and the conductor pattern 13 of the plating layer 100 becomes an alloy plating layer.

다음에, 도 4(b)에 도시된 바와 같이, 예를 들면, 스크린 인쇄법을 이용하여, 배선 패턴(14)(실제는 도금층) 위에, 솔더레지스트 재료 도포액을 도포하고, 소정의 가열 처리를 행함으로써, 솔더레지스트 층(16)을 형성하는 것으로, 도 1에 도시된 바와 같은 플렉시블 프린트 배선판(1O)이 완성된다. Next, as shown in Fig. 4 (b), a solder resist material coating liquid is coated on the wiring pattern 14 (actually, the plating layer) by, for example, a screen printing method, The solder resist layer 16 is formed to complete the flexible printed wiring board 10 as shown in Fig.

이와 같이, 본 실시 형태에서는, 기초 도금층(101) 위에 메인 도금층(102)을 형성 후, 솔더레지스트 재료 도포액을 도포하고 가열 처리를 행함으로써, 호이스카의 발생을 방지할 수 있고, 배선 패턴(14)이 쇼트되는 것을 방지할 수 있다. As described above, in the present embodiment, occurrence of fogging can be prevented by forming the main plating layer 102 on the base plating layer 101, applying the solder resist material coating liquid, and performing the heat treatment, 14 can be prevented from being short-circuited.

또, 본 실시 형태에서는, 패턴 검사 공정의 후에 가열 처리를 행하도록 했기 때문에, 패턴 검사 공정시, 필름 캐리어 테이프에는 파상의 변형이 생기지 않는다. 즉, 패턴 검사 공정시, 필름 캐리어 테이프를 양호하게 위치 결정하고 반송할 수 있기 때문에, 기준 샘플과의 대조 확인시, 위치 어긋남이 발생하여 잘못 인식되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. In this embodiment, since the heating process is performed after the pattern inspecting process, the film carrier tape is not deformed in the pattern inspection process. That is, in the pattern inspecting process, the film carrier tape can be properly positioned and transported. Therefore, misalignment can be prevented from occurring due to positional deviation when checking the reference sample against the reference sample. Therefore, the inspection of pattern defects and the yield of products can be improved.

또, 본 실시 형태에서는, 솔더레지스트 층(16)을 형성하는 공정에 있어서 가열 처리를 행하도록 했지만, 물론, 솔더레지스트 재료 도포액을 도포하기 전에 가열 처리를 행하도록 해도 좋다. 이 경우에도, 가열 처리는, 패턴 검사 공정 후이기 때문에, 그 패턴 검사 공정에는 영향을 주지 않고, 테이프를 양호하게 위치 결정하고 반송할 수 있기 때문에, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. In the present embodiment, the heat treatment is performed in the step of forming the solder resist layer 16, but of course, the heat treatment may be performed before applying the solder resist material coating liquid. Even in this case, since the heat treatment is performed after the pattern inspecting step, the tape can be favorably positioned and transported without affecting the pattern inspecting step, so that the inspection performance of the pattern defect and the yield of the product can be improved .

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 도체 패턴(13) 위에 그 도체 패턴(13) 보다 높은 표면휘도를 갖는 기초 도금층(1O1)을 형성한 후에 또한 가열 처리하는 공정 전에, 기초 도금층(101)이 표면에 형성된 도체 패턴(13)을 화상 인식하고 패턴의 결함을 검사하는 패턴 검사 공정을 실시하도록 했기 때문에, 패턴 검사 공정시, 도체 패턴(13)의 표면휘도를 기초 도금층(1O1)에 의해 높일 수 있고, 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있다. 예를 들면, 도체 패턴(13)의 피치 폭이 40㎛ 이하(선폭 20㎛ 이하), 즉, 파인 피치화한 도체 패턴(13)만의 구성에서는, 충분한 표면휘도가 얻어지지 않고 화상 인식도가 실질적으로 저하되어 버리지만, 본 실시 형태의 제조 방법에서는, 이와 같은 도체 패턴(13)의 면 위에 기초 도금층(101)을 설치한 후에 패턴 검사 공정을 실시하도록 했기 때문에, 검사시, 충분한 표면휘도가 얻어지고, 화상 인식도를 높일 수 있다는 점에서 특히 유효하다, As described above, in this embodiment, after the base plating layer 101 having a surface luminance higher than that of the conductor pattern 13 is formed on the conductor pattern 13, the base plating layer 101 It is possible to increase the surface brightness of the conductor pattern 13 by the underlying plating layer 101 in the pattern inspecting step because the pattern inspection step of inspecting the conductor pattern 13 formed on the surface and inspecting the defects of the pattern is performed. And the inspection of pattern defects can be improved. For example, in the configuration in which the pitch of the conductor pattern 13 is 40 占 퐉 or less (line width is 20 占 퐉 or less), that is, only the conductor pattern 13 obtained by making the pitch of the conductor pattern 13 satisfies a sufficient surface luminance, However, in the manufacturing method of the present embodiment, since the pattern inspecting step is performed after the base plating layer 101 is provided on the surface of such a conductive pattern 13, a sufficient surface brightness is obtained at the time of inspection , It is particularly effective in that the degree of image recognition can be increased,

또, 본 실시 형태에서는, 호이스카 문제를 갖는 주석 도금을 행하는 경우, 호이스카가 발생하지 않는 정도의 기초 주석 도금층을 기초 도금층으로 하고, 이 단계에서 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후, 메인 도금층으로서 메인 주석 도금층을 두텁게 형성하고, 그 직후에 가열 처리를 행함으로써, 패턴 검사 공정의 검사성을 향상시키면서, 호이스카를 확실하게 방지할 수 있다는 효과를 나타낸다. In the present embodiment, in the case of performing tin plating with a Huiska problem, a base tin plating layer of such a degree as not causing hysteresis is used as a base plating layer, a pattern inspection process is performed at this tin, The main tin plating layer is thickly formed and the heat treatment is performed immediately thereafter to improve the inspection property of the pattern inspecting process and to reliably prevent the fischer.

또, 상술한 플렉시블 프린트 배선판(1O)는, 테이프의 두께가 비교적 얇은 타입의 COF 필름 캐리어 테이프이기 때문에, 가열 처리에 의한 파상의 변형이 발생하기 쉽다. 그렇지만, 본 실시 형태에서는, 이와 같은 가열 처리전에 패턴 검사 공정을 실시하도록 했기 때문에, 기준 샘플과 비교할 때, 위치 어긋남이 생기는 일은 없고, 확실하게 위치 결정 반송하여 패턴의 검사를 할 수가 있다. In addition, since the above-described flexible printed wiring board 10 is a type of COF film carrier tape having a relatively thin tape thickness, deformation of the wavy pattern due to heat treatment is likely to occur. However, in the present embodiment, since the pattern inspecting step is performed before the heating process as described above, there is no positional deviation when compared with the reference sample, and pattern inspection can be carried out reliably.

여기에서, 실시예 1 및 비교예 1, 2에 근거하여, 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Example 1 and Comparative Examples 1 and 2.

(실시예 1) (Example 1)

두께 38㎛의 폴리이미드로 이루어진 절연층(상품명 : 에스파후렉스; 스미토모킨조쿠코산제) 위에 두께 8㎛의 도체층이 형성된 COF용 적층 필름을 준비하였다. 그리고, 먼저, 도체층을 에칭 하여 형성한 도체 패턴 위에, 두께 O.05㎛의 기초 주석 도금층을 형성하였다. 이것에 의해, 기초 주석 도금층의 표면휘도를, 도체 패 턴의 표면과 비교하여 약 35% 높일 수 있었다. 다음에, 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후, 솔더레지스트 재료 도포액을 도포하여 솔더레지스트용 도포층을 형성하고, 큐어링한다. 다음에, 이 솔더레지스트 재료 도포액의 비도포 면 위에, 두께 O.45㎛의 메인 주석 도금층을 형성하고, 호이스카 발생 방지를 위해, 125℃로 가열 처리하는 제조 방법을 실시예 1이라고 하였다. A laminate film for COF having a conductor layer having a thickness of 8 mu m formed on an insulating layer (trade name: Esfaflex; made by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 38 mu m was prepared. First, a base tin plating layer having a thickness of 0.05 mu m was formed on the conductor pattern formed by etching the conductor layer. As a result, the surface luminance of the base tin plating layer can be increased by about 35% as compared with the surface of the conductor pattern. Next, a pattern inspecting step is performed, and then a solder resist material coating liquid is applied to form a coating layer for solder resist, and curing is performed. Next, a main tin plating layer having a thickness of 0.45 占 퐉 is formed on the uncoated surface of the solder resist material coating liquid, and a manufacturing method of heating treatment at 125 占 폚 is described as Example 1 to prevent foaming.

(실시예 2) (Example 2)

실시예 1과 동일하게 하여 도체 패턴 위에 두께 0.05㎛의 기초 주석 도금층을 형성한 후, 패턴 검사 공정을 실시하고, 다음에, 검사후의 기초 주석 도금층 위에 두께 0.45㎛의 메인 주석 도금층을 형성한 후, 솔더레지스트 재료 도포층을 형성하고, 호이스카 발생 방지를 위해, 125℃에서 가열 처리하는 제조 방법을 실시 예 2라고 하였다. A base tin plating layer having a thickness of 0.05 탆 was formed on the conductor pattern in the same manner as in Example 1 and then subjected to a pattern inspecting step and then a main tin plating layer having a thickness of 0.45 탆 was formed on the base tin plating layer after the inspection, A manufacturing method in which a solder resist material coating layer is formed and heat treatment is performed at 125 占 폚 in order to prevent foaming, is referred to as Example 2.

(비교예 1) (Comparative Example 1)

도체 패턴 형성후에, 기초 주석 도금층을 형성하지 않고 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후, 두께 O.5㎛의 주석 도금층을 형성한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 제조 방법을 비교예 1이라고 하였다. The same manufacturing method as in Example 1 was referred to as Comparative Example 1, except that after the conductor pattern formation, the pattern inspecting step was performed without forming the base tin plating layer, and thereafter a tin plating layer having a thickness of 0.5 占 퐉 was formed.

(비교예 2) (Comparative Example 2)

도체 패턴 형성후에, 두께 O.5㎛의 주석 도금층을 형성하고, 125℃에서 가열 처리하고, 그 후, 패턴 검사 공정을 실시한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 제조 방법을 비교예 2라고 하였다. The same manufacturing method as in Example 1 was referred to as Comparative Example 2, except that a tin plating layer having a thickness of 0.5 mu m was formed after formation of a conductor pattern, heat treatment was performed at 125 DEG C, and then pattern inspection was performed.

(시험예 1) (Test Example 1)

상술한 자동 외관 검사 장치(AOI)를 이용하여 실시예 1, 2 및 비교예 1, 2의 제조 방법에 의해 얻어진 각각의 필름 캐리어 테이프의 패턴 검사를 실시했다. 그리고, 도체 패턴의 변색 부분을 의사 패턴 결함으로서 검출한 수와, 테이프의 파상의 변형에 의해 기준 샘플과의 대조 확인시에 위치 어긋남이 원인으로 패턴 결함으로서 검출한 수와, 실제의 불량수를 포함하여 불량 후보수라고 하였다. The pattern inspection of the film carrier tapes obtained by the manufacturing methods of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 was carried out by using the automatic appearance inspection apparatus (AOI) described above. The number of detected defective parts of the conductor pattern as pseudo-pattern defects and the number of detected defective parts due to the positional deviation at the time of checking the reference sample against the deformation of the tape due to the deformation of the tape, Including the number of bad candidates.

또, 이와 같이 AOI로 검사한 테이프에 대하여, 사람의 육안에 의한 외관 검사를 통상적인 것보다 시간을 소비하며 정성들여 실시하고, 검사 결과로서 얻어진 도체 패턴의 불량수를, 진정한 불량수라고 하였다. In addition, with respect to the tape inspected with the AOI, the visual inspection by the naked eye of a human being was performed in a time-consuming and deliberate manner, and the defective number of the conductor pattern obtained as the inspection result was called a true defective number.

이상의 결과, 실시예1 및 2에서는, 비교예 1과 비교하여 불량 후보수가 1/4이 되고, 비교예 2와 비교하여 불량 후보수가 1/6이 되었다. As a result, in Examples 1 and 2, the number of defective candidates was 1/4 as compared with that in Comparative Example 1, and the number of defective candidates was 1/6 as compared with Comparative Example 2.

즉, 비교예 1에서는, 패턴 검사 공정시, 도체 패턴의 표면이 산화하여 변색 부분이 발생하고, 이 변색 부분을 의사 패턴 결함으로서 검출한 수가 많았지만, 실시예 1 및 2에서는, 도체 패턴 위에 기초 도금층을 형성함으로써 변색 부분의 발생이 억제되고, 불량 후보수를 절감할 수 있었던 것이라고 생각된다. That is, in Comparative Example 1, in the pattern inspecting step, the surface of the conductor pattern was oxidized to generate a discolored portion, and this discolored portion was detected as a pseudo-pattern defect. In Examples 1 and 2, The formation of the discolored portion is suppressed by forming the plating layer, and the number of defective candidates can be reduced.

한편, 비교예 2에서는, 패턴 검사 공정시, 가열 처리에 기인하여 필름 캐리어 테이프에 파상의 변형이 생기고 있기 때문에, 기준 샘플과 위치 어긋남이 생기고, 그것을 패턴 불량으로서 검출한 수가 많았지만, 실시예 1 및 2에서는, 패턴 검사 공정 후, 메인 도금층을 형성할 때에 가열 처리를 실시했기 때문에, 불량 후보수를 절감할 수 있었던 것이라고 생각된다. On the other hand, in Comparative Example 2, in the pattern inspecting step, the film carrier tape was deformed in wave form due to the heat treatment, so that the positional deviation from the reference sample occurred and it was detected many times as a pattern defect. And 2, since the heat treatment was performed at the time of forming the main plating layer after the pattern inspection step, it is considered that the number of defective candidates could be reduced.

이상의 내용으로부터, 실시예 1 및 2와 같이, 도체 패턴 위에 기초 도금층을 형성한 후에 또한 가열 처리전에 패턴 검사 공정을 실시함으로써, 비교예 1 및 2와 비교하여, 진정한 불량수에 가까운 불량 후보수를 검출할 수 있다. 따라서, 실시예 1 및 2의 제조 방법에 의하면, 패턴 결함의 검사성을 향상시킬 수 있고, 또, 오퍼레이터에 의한 검증의 확인작업 부담을 대폭적으로 경감할 수 있는 것은 분명하다. From the above-described results, it is found that, as in Examples 1 and 2, the pattern inspection process is carried out after the foundation plating layer is formed on the conductor pattern and before the heat treatment, whereby the number of defective candidates close to the true defective number Can be detected. Therefore, according to the manufacturing methods of Embodiments 1 and 2, it is obvious that the inspection of pattern defects can be improved and the burden of verification work by the operator can be greatly reduced.

(다른 실시 형태) (Other Embodiments)

이상, 본 발명의 한 실시 형태를 설명했지만, 물론, 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법은 상술한 것으로 한정되는 것은 아니다. As described above, an embodiment of the present invention has been described. Of course, the manufacturing method of the flexible printed wiring board is not limited to the above.

예를 들면, 상술한 실시 형태 1에서는, 도금층(1O0)으로서 주석 도금층을 형성했지만, 이것으로 한정되지 않으며, 예를 들면, 도금층으로서 니켈-금의 2층 구조로 하여도 좋다. 이 경우에는, 니켈 도금층을 형성한 후, 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 솔더레지스트 층을 형성하고, 이 솔더레지스트 층으로 피복되지 않은 단자부의 니켈 도금층 위에 금 도금층을 형성한다. 이와 같이, 패턴 검사 공정이, 가열 처리가 필요한 솔더레지스트 층을 형성하는 공정의 앞이므로, 검사에 영향을 주지 않고, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. 또, 이와 같은 니켈 도금층의 하층으로서, 상술한 기초 주석 도금층을 더 형성해도 좋다. 이 경우에는, 기초 주석 도금층을 형성한 후에, 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 니켈 도금층 또는 솔더레지스트 층을 형성하면, 상술한 것과 동일한 효과를 얻을 수 있다. 물론, 니켈 도금층을 형성한 후에, 패턴 검사 공정을 실시해도 좋다. 또한, 니켈 도금층은, 상술한 주석 도금층과 마찬가지로, 도체 패턴의 표면 보다도 표면휘도가 높고, 또한 산화되어도 변색되기 어렵다. For example, in Embodiment 1 described above, the tin plating layer is formed as the plating layer 100, but the present invention is not limited thereto. For example, a nickel-gold two-layer structure may be used as the plating layer. In this case, after a nickel plating layer is formed, a pattern inspecting step is performed, and thereafter, a solder resist layer is formed, and a gold plating layer is formed on the nickel plating layer of the terminal portion not covered with the solder resist layer. As described above, since the pattern inspecting step precedes the step of forming the solder resist layer requiring heat treatment, the inspectability of the pattern defect and the yield of the product can be improved without affecting the inspection. Further, the base tin plating layer described above may be further formed as a lower layer of such a nickel plating layer. In this case, when the pattern inspecting step is performed after the base tin plating layer is formed and then the nickel plating layer or the solder resist layer is formed, the same effects as those described above can be obtained. Of course, the pattern inspecting step may be performed after the nickel plating layer is formed. Further, the nickel plating layer has a surface luminance higher than that of the surface of the conductor pattern similarly to the tin plating layer described above, and is not easily discolored even when oxidized.

또, 상술한 실시 형태 1에서는, 배선 패턴(14)이 스프로켓 홀(15) 등으로 이루어진 캐리어 패턴을 1열 설치한 플렉시블 프린트 배선판(10)을 예시하고 설명했지만, 이것으로 한정되지 않으며, 예를 들면, 캐리어 패턴을 복수열 병렬 설치한 플렉시블 프린트 배선판이라도 좋다. In the first embodiment described above, the flexible printed wiring board 10 in which the wiring pattern 14 is provided with one row of the carrier pattern formed of the sprocket holes 15 or the like is described and explained. However, the present invention is not limited to this example, A flexible printed wiring board in which a plurality of carrier patterns are arranged in parallel may be used.

또, 상술한 실시 형태 1의 COF 필름 캐리어 테이프에서는, 스프로켓 홀(15)의 주위에 어떤 것도 설치하지 않았지만, 스프로켓 홀의 주위에 금속층을 설치하도록 하여도 좋다. 이 금속층은, 스프로켓 홀의 병렬 설치 방향에 연속적 또는 간헐적으로 설치하면 좋고, 특별히 한정되는 것이 아니다. 또한, 이와 같은 금속층을 설치하면, 비교적 얇은 타입의 COF 테이프라도, 원하는 테이프 반송 강도를 확보할 수 있다는 효과를 나타낸다. In the COF film carrier tape according to the first embodiment described above, nothing is provided around the sprocket holes 15, but a metal layer may be provided around the sprocket holes. This metal layer may be provided continuously or intermittently in the direction in which the sprocket holes are arranged in parallel, and is not particularly limited. Further, by providing such a metal layer, even a comparatively thin type of COF tape can exhibit the effect of securing a desired tape conveyance strength.

또한, 상술한 실시 형태 1에서는, COF 필름 캐리어 테이프인 플렉시블 프린트 배선판(10)을 예시했지만, 그 이외의 플렉시블 프린트 배선판, 예를 들면, TAB, CSP, BGA, μ-BGA, FC, QFP 타입, 양면 배선 테이프, 다층 배선판용 테이프, FPC 등이라도 좋고, 그 구성 등도 한정되는 것은 아니다.  However, the flexible printed wiring board 10 may be a flexible printed wiring board other than the flexible printed wiring board such as TAB, CSP, BGA, μ-BGA, FC, QFP type, A double-sided wiring tape, a tape for a multilayer wiring board, an FPC, or the like, and the configuration and the like are not limited either.

여기에서, 상술한 실시 형태 1에서는, 비교적 얇은 도체층을 이용하여 제조된 COF 필름 캐리어 테이프를 예시했지만, 예를 들면, 비교적 두터운 도체층을 이용하여 제조되고 또한 그 도체층과 절연층과의 사이에 접착제 층을 갖는 3층 테이프인 TAB 등의 필름 캐리어 테이프의 경우, 도체 패턴의 각 배선의 선폭은, 윗면과 바닥면과의 선폭의 차이(도 3(b), (c) 참조)가 크게 되기 때문에, 이와 같은 도체 패턴 위에 기초 도금층을 형성함으로써, 화상 인식할 수 있는 범위가 더욱 커진다. 이것에 의해, 패턴 결함의 검사성을 더욱 향상시킬 수 있다. 또, 화상 인식한 도체 패턴과 기준 샘플을 중첩하여 대조 확인할 때, 허용 범위도 더욱 커지고, 검사시의 작업성을 더욱 향상시킬 수 있다. Here, in the above-described Embodiment 1, a COF film carrier tape manufactured using a relatively thin conductor layer is exemplified. However, for example, a COF film carrier tape manufactured using a relatively thick conductor layer, In the case of a film carrier tape such as TAB, which is a three-layer tape having an adhesive layer, the line width of each wiring of the conductor pattern is set such that the difference in linewidth between the top surface and the bottom surface (see Figs. 3B and 3C) Therefore, by forming the base plating layer on such a conductor pattern, the range of image recognition is further increased. This makes it possible to further improve the inspection of pattern defects. In addition, when checking and checking the conductor pattern superimposed on the conductor pattern obtained by image recognition, the allowable range is further increased, and workability at the time of inspection can be further improved.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 도체 패턴 위에 기초 도금층을 형성한 후에 또한 가열 처리하는 공정 전에, 기초 도금층이 표면에 형성된 도체 패턴을 화상 인식하여 패턴의 결함을 검사하는 패턴 검사 공정을 실시하도록 했기 때문에, 도체 패턴의 표면에 산화에 의한 변색 부분이 발생하는 것을 기초 도금층에 의해 방지할 수 있고, 변색 부분이 의사 패턴 결함으로서 잘못 인식 되는 것을 절감할 수 있다. 따라서, 패턴 결함의 검사성 및 제품의 수율을 향상시킬 수 있다. 또, 가열 처리전에 패턴 검사 공정을 실시함으로써, 필름 캐리어 테이프의 파상의 변형에 의한 영향은 없고, 테이프를 양호하게 위치 결정하고 반송할 수 있다.As described above, according to the present invention, before the step of forming the base plating layer on the conductor pattern and further performing the heat treatment, a pattern inspection process for inspecting defects of the pattern by recognizing the conductor pattern formed on the surface of the base plating layer is performed It is possible to prevent the occurrence of a discolored portion due to oxidation on the surface of the conductor pattern by the underlying plating layer and to prevent the discolored portion from being erroneously recognized as a defective pseudo pattern. Therefore, the inspection of pattern defects and the yield of products can be improved. Further, by performing the pattern inspection process before the heat treatment, the tape can be favorably positioned and transported without being affected by the deformation of the film carrier tape.

Claims (7)

절연층의 표면에 설치된 도체층으로 이루어진 도체 패턴 위에 도금층을 2층 이상 형성함과 동시에, 어느 도중의 단계에 가열 처리하는 공정을 구비한 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법에 있어서, A step of forming two or more layers of plating layers on a conductor pattern made of a conductor layer provided on a surface of an insulating layer and a step of performing heat treatment in any step, 상기 도체 패턴 위에 기초 도금층을 형성한 후에 또한 상기 가열 처리하는 공정 전에, 상기 기초 도금층이 표면에 형성된 도체 패턴을 화상 인식하여 패턴의 결함을 검사하는 패턴 검사 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법.And a pattern inspecting step of inspecting defects of the pattern by recognizing the conductor pattern formed on the surface of the base plating layer after the base plating layer is formed on the conductor pattern and before the heating processing, ≪ / RTI > 제 1 항에 있어서, 상기 기초 도금층을 상기 도체 패턴보다 높은 표면휘도로 하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법.The manufacturing method of a flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the base plating layer has a higher surface luminance than the conductor pattern. 제 1 항에 있어서, 상기 기초 도금층을 두께 0.01∼0.5㎛로 형성하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법. The manufacturing method of a flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the base plating layer is formed to a thickness of 0.01 to 0.5 mu m. 제 2 항에 있어서, 상기 기초 도금층을 두께 0.01∼0.5㎛로 형성하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법. The manufacturing method of a flexible printed wiring board according to claim 2, wherein the base plating layer has a thickness of 0.01 to 0.5 占 퐉. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한항에 있어서, 상기 기초 도금층으로서 기초 주석 도금층을 형성한 후에 상기 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 상기 기초 주석 도금층 위에 이것 보다 두터운 주석 도금층을 형성한 후에 상기 가열 처리하는 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법. The method according to any one of claims 1 to 4, wherein after the base tin plating layer is formed as the base plating layer, the pattern inspection step is performed, and thereafter, a thicker tin plating layer is formed on the base tin plating layer, Wherein the step of forming the flexible printed wiring board is carried out. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한항에 있어서, 상기 기초 도금층으로서 기초 주석 도금층을 형성한 후에 상기 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 상기 도체 패턴의 적어도 단자부를 제외한 표면을 피복하는 솔더레지스트 층을 형성할 때에 상기 가열 처리하는 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법. The method for manufacturing a semiconductor device according to any one of claims 1 to 4, wherein the pattern inspecting step is performed after forming the base tin plating layer as the base plating layer, and thereafter a solder resist layer for covering the surface of the conductor pattern, Wherein the step of performing the heat treatment is performed at the time of formation of the flexible printed wiring board. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한항에 있어서, 상기 기초 도금층으로서 니켈 도금층을 형성한 후에 상기 패턴 검사 공정을 실시하고, 그 후에, 상기 도체 패턴의 적어도 단자부를 제외한 표면을 피복하는 솔더레지스트 층을 형성할 때에 상기 가열 처리하는 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 플렉시블 프린트 배선판의 제조 방법. The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the pattern inspection step is performed after the nickel plating layer is formed as the base plating layer, and then a solder resist layer is formed to cover the surface of the conductor pattern excluding at least the terminal portions Wherein the step of performing the heat treatment is performed at the time of forming the flexible printed wiring board.
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