JP2003086919A - Pattern inspection device - Google Patents

Pattern inspection device

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JP2003086919A
JP2003086919A JP2001271559A JP2001271559A JP2003086919A JP 2003086919 A JP2003086919 A JP 2003086919A JP 2001271559 A JP2001271559 A JP 2001271559A JP 2001271559 A JP2001271559 A JP 2001271559A JP 2003086919 A JP2003086919 A JP 2003086919A
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Japan
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pattern
inspection
area
pixels
memory
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Application number
JP2001271559A
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Japanese (ja)
Inventor
Masamichi Miyoshi
正倫 三好
Shinji Takahashi
伸治 高橋
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Suntech Co
Original Assignee
Suntech Co
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Publication date
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To inspect a pattern on a printed board, etc., when the pattern, a solder resist and silk print are overprinted on the board. SOLUTION: The printed board 1 is read by a camera 3 and the image thereof is stored in an image memory 5. Images of the silk print, the solder resist, and the wiring pattern are extracted respectively at binarization circuits 6A-6C by binarizing with different threshold values, respectively. Then, detected patterns are aligned by aligning circuits 9A-9C respectively. Then, defects are detected in the regions held in region memories 10A-10C. Thus, defects of the pattern can be detected with accuracy in accordance with the type of printing.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はICパッケージやプ
リント基板等の配線パターンや配線パッドを精密に検査
するためのパターン検査装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern inspection device for precisely inspecting wiring patterns and wiring pads of IC packages, printed circuit boards and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICパッケージやプリント基板等では、
種々の配線パターンが印刷メッキ等の方法で形成され、
その上部に絶縁保護用ソルダレジスト、更に部品配置等
を示すシルク印刷等が重ねて印字されて構成されてい
る。そして電子部品の小型化に伴い配線や印刷も微細化
されている。これらのパターンが正確に形成、印刷され
ているかどうかを製品の製造後に何らかの方法で検査す
る必要がある。
2. Description of the Related Art In IC packages and printed circuit boards,
Various wiring patterns are formed by methods such as print plating,
An insulation protection solder resist, and silk printing or the like indicating the arrangement of parts and the like are superimposed and printed on the upper part thereof. Wiring and printing are also becoming finer with the miniaturization of electronic components. It is necessary to inspect whether or not these patterns are accurately formed and printed by some method after manufacturing the product.

【0003】しかしこの配線パターン,ソルダレジス
ト,シルク印刷は夫々、検査の許容度が異なっている。
シルク印刷については部品や形状を表示するものであ
り、配線パターンの露出部(パッド)にかからない限り
は、多少のずれは許容される。又ソルダレジストについ
ても開口部分から銅箔パターンが露出していればよく、
多少のずれは許容されることとなる。しかし配線パター
ンについては、そのパターンの一部が欠損していたり、
一部が余分に膨らんでいたりすると、正確に動作しなか
ったり動作が不安定となることがあるため、パターンの
精密な検査が必要となる。通常プリント基板の配線パタ
ーンの検査では、配線パターンのショートや断線を導通
チェッカーと呼ばれる導通検査で検査している。又製造
不良による突起部が大きく、絶縁間隔が不十分なもの
や、パターンの配線部が設計値より細く強度が不足する
ような欠陥は、導通検査では検査できないが、品質に重
大な影響を及ぼす欠陥である。このためショートや断線
していないが、これらの欠陥を光学的に検出することが
必要となっている。
However, the wiring patterns, the solder resist, and the silk printing have different inspection tolerances.
With regard to silk printing, the parts and shapes are displayed, and some deviation is allowed as long as the exposed parts (pads) of the wiring pattern are not covered. Also for the solder resist, it is sufficient if the copper foil pattern is exposed from the opening,
Some deviation will be allowed. However, with regard to the wiring pattern, a part of the pattern is missing,
If a part of the pattern bulges excessively, it may not operate accurately or may become unstable, so that a precise inspection of the pattern is required. Normally, in the inspection of the wiring pattern of the printed circuit board, a short circuit or a disconnection of the wiring pattern is inspected by a continuity check called a continuity checker. In addition, defects such as large protrusions due to manufacturing defects and insufficient insulation spacing, and defects in which the wiring part of the pattern is thinner than the design value and lacking strength cannot be inspected by the continuity inspection, but have a serious impact on quality. It is a defect. Therefore, it is necessary to optically detect these defects although they are not short-circuited or disconnected.

【0004】従来の検査方法には以下のものが提案され
ている。まず検査パターンを読取り、領域を区別せずに
その位置や幅を基準となるパターンと比較して検査する
完全比較法と呼ばれる検査方法がある。
The following conventional inspection methods have been proposed. First, there is an inspection method called a complete comparison method in which an inspection pattern is read, and the position and width of the area are compared with a reference pattern without indiscriminating the area.

【0005】又検査パターンの数や検査パターンの夫々
の面積と位置を調べるクラスタ比較と呼ばれる方法が提
案されている。クラスタ比較では長い配線のショートや
断線の検出感度を高くすることができる。
A method called cluster comparison for checking the number of inspection patterns and the area and position of each inspection pattern has been proposed. In the cluster comparison, it is possible to increase the detection sensitivity for short-circuiting or disconnection of long wiring.

【0006】更に検出した検査パターンを二値化して、
二値化画像に対して特徴抽出用の演算子を用いて演算
し、不良領域を算出する特徴抽出方法が知られている。
特徴抽出用の演算子は検出した画像より小さい所定の大
きさの画像パターンであり、欠陥の特徴を有するよう
に、所定の画素が検出又は非検出レベルとなるようにあ
らかじめ定められたパターンである。この演算子を検査
パターンの全面に渡って走査し、特徴抽出演算子と一致
するか否かによって、幅方向の欠けや突起等を検出する
ものである。この方法によれば、パターンの位置ずれや
パターンを形成している基材の収縮による相対的なずれ
があっても、効果的に欠陥を検出することができる。
Further, the detected inspection pattern is binarized,
A feature extraction method is known in which a defective region is calculated by operating a binary image with an operator for feature extraction.
The operator for feature extraction is an image pattern of a predetermined size smaller than the detected image, and is a predetermined pattern such that a predetermined pixel has a detection or non-detection level so as to have a defect feature. . This operator is scanned over the entire surface of the inspection pattern, and a defect such as a protrusion or a protrusion in the width direction is detected depending on whether or not it coincides with the feature extraction operator. According to this method, the defect can be effectively detected even if there is a relative displacement due to the positional displacement of the pattern or the contraction of the base material forming the pattern.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】このような検査方法を
配線パターン上にソルダレジストが形成され、更にシル
ク印刷されたプリント基板に適用しようとした場合に
は、夫々のパターン,シルク,レジストに応じた許容範
囲を設定することができない。
When applying such an inspection method to a printed circuit board on which a solder resist is formed on a wiring pattern and further silk-printed, it is possible to apply the inspection method according to each pattern, silk and resist. The allowable range cannot be set.

【0008】シルクの位置は配線パターンに対してずれ
が大きくなることがある。シルク印刷は許容範囲が広い
ため、シルク印刷と配線パターンとを同時に検査する
と、シルク印刷に対しては不具合の許容量が厳しすぎ、
配線パターンに対しては検査が甘すぎるという問題点が
生じることがあった。又夫々のパターンは独立してずれ
るので、同時にこれらを検査することは難しいという欠
点があった。従来の外観検査装置では、最も許容誤差の
大きい状態で一律に検査するため。配線パターンの欠陥
を見逃してしまうという欠点があった。
The position of the silk may be largely displaced from the wiring pattern. Since the silk printing has a wide tolerance, when the silk printing and the wiring pattern are inspected at the same time, the tolerance of defects is too strict for the silk printing.
There was a problem that the inspection was too unsatisfactory for the wiring pattern. Further, since the respective patterns are shifted independently, it is difficult to inspect them at the same time. In the conventional appearance inspection device, the inspection is performed uniformly with the maximum allowable error. There is a drawback that defects in the wiring pattern are overlooked.

【0009】本発明はこのような従来のパターン検査に
よる問題点に鑑みてなされたものであって、配線パター
ンや配線パッド,ソルダレジスト,シルク印刷がなされ
たプリント基板などの独立した位置ずれを起こし易い検
査対象に対して、夫々のパターンにあった精度で独立し
て検査することで、誤報を少なくして欠陥を検出するよ
うにすることを目的とする。
The present invention has been made in view of the problems caused by the conventional pattern inspection, and causes an independent displacement of the wiring pattern, the wiring pad, the solder resist, the silk-printed printed circuit board, or the like. An object of the present invention is to detect a defect by reducing an erroneous false alarm by independently inspecting an easily inspected object with an accuracy suitable for each pattern.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願の請求項1の発明
は、プリント基板の配線パターン上にソルダレジスト及
びシルク印刷が形成されたプリント基板のパターン検査
装置であって、検査パターンを撮像する撮像装置と、前
記撮像装置によって撮像した画像を夫々異なるレベルの
閾値で二値化することによりシルク印刷、ソルダレジス
ト及び配線パターンを抽出する第1,第2,第3の二値
化部と、シルク印刷に対する検査領域を保持する第1の
領域メモリと、ソルダレジストに対する検査領域を保持
する第2の領域メモリと、配線パターンに対する検査領
域を保持する第3の領域メモリと、第1の領域メモリ内
で前記第1の二値化部より検出された画素を第1の所定
画素数膨張させ、次いで第2の画素数だけ膨張した画像
を収縮する第1の膨張収縮部と、第2の領域メモリ内で
前記第2の二値化部より検出された画素を第1の所定画
素数膨張させ、次いで第2の画素数だけ膨張した画像を
収縮する第2の膨張収縮部と、前記第3の領域メモリに
示される領域において、前記第3の二値化部より得られ
る配線パターンの二値化画像に対して所定の特徴抽出パ
ターンを走査し、一致する画像の位置を検出することに
よって欠陥画素を検出する特徴抽出部と、前記第1,第
2の膨張収縮部より得られるシルク印刷パターン,ソル
ダレジストのパターンの面積を前記第1,第2の領域メ
モリの検査領域内でクラスタ検査により集計する第1,
第2の集計部と、前記特徴抽出部で得られた欠陥画素を
前記第3の領域メモリ内の検査領域内で集計する第3の
集計部と、前記第1〜第3の集計部の集計結果に基づい
てプリント基板のパターンの良否を判別する判別部と、
を具備することを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a pattern inspection apparatus for a printed circuit board, wherein a solder resist and silk printing are formed on a wiring pattern of the printed circuit board. An apparatus, a first, a second and a third binarization unit for extracting a silk pattern, a solder resist and a wiring pattern by binarizing the images picked up by the image pickup apparatus with thresholds of different levels; A first area memory that holds an inspection area for printing, a second area memory that holds an inspection area for solder resist, a third area memory that holds an inspection area for a wiring pattern, and a first area memory The first expansion for expanding the pixels detected by the first binarization unit by the first predetermined number of pixels and then contracting the image expanded by the second number of pixels. A contraction section and a second area memory that expands the pixels detected by the second binarization section by a first predetermined number of pixels and then contracts the image expanded by the second number of pixels. In the expansion / contraction part and the area shown in the third area memory, a predetermined feature extraction pattern is scanned with respect to the binarized image of the wiring pattern obtained by the third binarization portion, and the matching image The area of the silk-printing pattern and the solder resist pattern obtained from the first and second expansion / contraction parts by detecting the defective pixel by detecting the position of the first and second area memories. First to collect by cluster inspection in the inspection area of
A second tallying unit, a third tallying unit that tallies the defective pixels obtained by the feature extracting unit in an inspection region in the third region memory, and tallies of the first to third tallying units. A discriminating unit for discriminating the quality of the pattern on the printed circuit board based on the result,
It is characterized by including.

【0011】本願の請求項2の発明は、請求項1のパタ
ーン検査装置において、前記特徴抽出部により検出され
た欠陥を第1の所定画素数膨張させ、次いで第2の画素
数だけ膨張した画像を縮小する第3の膨張収縮部を更に
有することを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the pattern inspection apparatus according to the first aspect, the defect detected by the feature extracting unit is expanded by a first predetermined number of pixels and then expanded by a second number of pixels. Is further provided with a third expansion / contraction part for reducing.

【0012】本願の請求項3の発明は、請求項1又は2
のパターン検査装置において、前記第3の領域メモリに
設定された検査位置又は領域毎に異なった特徴抽出パタ
ーンを含む欠陥検出情報を保持する検査情報メモリと、
を更に具備し、検査領域毎にその領域に設定された特徴
抽出パターンを走査することによって欠陥画素を検出す
ることを特徴とするものである。
The invention of claim 3 of the present application is the same as claim 1 or 2.
In the pattern inspection apparatus described above, an inspection information memory that holds defect detection information including a feature extraction pattern different for each inspection position or area set in the third area memory,
Further, the present invention is characterized by detecting defective pixels by scanning the feature extraction pattern set in each inspection region.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)図1は本発
明の第1の実施の形態によるパターン検査装置の構成を
示すブロック図である。本図においてプリント基板1を
検査対象とすると、照明2によって照明された状態でカ
メラ3によりその検査パターンが撮像される。カメラ3
は2次元CCDカメラやライン駆動型CCDカメラ等の
高解像度で画像データを取り込むことができるカメラと
し、例えば4000×4000や7500×7500の
解像度を有するものを用いる。このカメラ3からの信号
は、前処理回路4を介して画像メモリ5に一旦保持され
る。画像メモリ5には二値化回路6A,6B,6Cが接
続され、夫々膨張収縮回路7A,7B、特徴抽出回路8
が縦続接続されている。二値化回路6A,6B,6C
は、夫々シルク印刷のパターン、ソルダレジストのパタ
ーン及び配線パターンのみを、画像メモリ5に保持され
ている画像から抽出して二値化する二値化回路である。
又位置合わせ回路9A〜9Cは後述するように二値化さ
れた出力の画像データと基準パターンとから位置合わせ
のテンプレート領域に基づいて位置合わせを行う回路で
ある。又各位置合わせ回路9A〜9Cには、シルクを検
出する領域を保持する領域メモリ10A、ソルダレジス
トの領域を保持する領域メモリ10B、配線パターンの
検査領域を保持する領域メモリ10Cが接続される。膨
張収縮回路7A,7Bは夫々二値化回路6A,6Bによ
って分離されたシルク印刷パターン及びソルダレジスト
のパターンを一旦膨張させ、その後に収縮させるもので
ある。集計回路11A〜11Cはクラスタの数と面積の
表とを作成するものである。判定回路12A〜12Cは
こうしてデータに基づいてパターンの良否を判別するも
のである。判定回路12A〜12Cの出力は良否の判定
を示す信号として制御用のCPU13を介して出力部1
4より外部に出力されるように構成されている。制御用
CPU13はこれらの各処理を行うためのCPUであ
り、必要な領域設定や動作を進めるための操作部15が
接続されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) FIG. 1 is a block diagram showing the structure of a pattern inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention. In the figure, when the printed circuit board 1 is an inspection target, the inspection pattern is imaged by the camera 3 while being illuminated by the illumination 2. Camera 3
Is a camera capable of capturing image data with high resolution, such as a two-dimensional CCD camera or a line drive type CCD camera, and has a resolution of 4000 × 4000 or 7500 × 7500, for example. The signal from the camera 3 is temporarily held in the image memory 5 via the preprocessing circuit 4. Binarization circuits 6A, 6B, 6C are connected to the image memory 5, and expansion / contraction circuits 7A, 7B and a feature extraction circuit 8 are respectively provided.
Are cascaded. Binarization circuits 6A, 6B, 6C
Is a binarization circuit that extracts only the silk printing pattern, the solder resist pattern, and the wiring pattern from the image stored in the image memory 5 and binarizes them.
Further, the alignment circuits 9A to 9C are circuits that perform alignment based on a template region for alignment from binarized output image data and a reference pattern as described later. An area memory 10A for holding an area for detecting silk, an area memory 10B for holding an area of solder resist, and an area memory 10C for holding an inspection area of a wiring pattern are connected to each of the alignment circuits 9A to 9C. The expansion / contraction circuits 7A and 7B are for expanding the silk printing pattern and the solder resist pattern separated by the binarizing circuits 6A and 6B, respectively, and then contracting them. The aggregating circuits 11A to 11C create a table of the number of clusters and the area. The determination circuits 12A to 12C thus determine the quality of the pattern based on the data. The outputs of the determination circuits 12A to 12C are output to the output unit 1 via the control CPU 13 as signals indicating the quality determination.
4 is output to the outside. The control CPU 13 is a CPU for performing each of these processes, and is connected with an operation unit 15 for setting necessary areas and advancing operations.

【0014】次に各ブロックについて更に詳細に説明す
る。二値化回路6A,6B,6Cは、画像メモリ5で保
持された1画面の画像データに対して検査パターンの画
像データを夫々異なる閾値で二値化するものである。例
えばシルクパターンはプリント基板上に白色で描かれる
ので、閾値レベルを高くすることによってシルクパター
ンのみを抽出できる。ソルダレジスト及び銅箔がある配
線パターンでもその有無によって輝度レベルの頻度が異
なるため、その中間に閾値を設定することによって、夫
々のパターンを分離して検出することができる。膨張収
縮回路7A,7Bは、ここで得られた画素に対して全方
向に例えば3画素膨張させる。こうすれば例えば1画素
の孤立した画像に対してX軸,Y軸共に7画素分の正方
形状の画像が得られることとなる。又収縮時にはこの膨
張した画素に対して所定数、例えば4画素分欠陥画像の
内向きに収縮させる。こうすれば膨張によって複数の画
像が合体した場合、収縮しても画像は消滅しなくなるた
め、画像部分を抽出することができる。縮小画素数は膨
張画素数以上でもよく、膨張画素数以下であってもよ
い。
Next, each block will be described in more detail. The binarization circuits 6A, 6B, and 6C binarize the image data of the inspection pattern with respect to the image data of one screen held in the image memory 5 with different threshold values. For example, since the silk pattern is drawn in white on the printed circuit board, only the silk pattern can be extracted by increasing the threshold level. Even with a wiring pattern having a solder resist and a copper foil, the frequency of the brightness level varies depending on the presence or absence of the wiring pattern. Therefore, by setting a threshold value in the middle, the respective patterns can be detected separately. The expansion / contraction circuits 7A and 7B expand the pixels obtained here by, for example, 3 pixels in all directions. In this way, for example, a square image of 7 pixels is obtained for both the X axis and the Y axis for an isolated image of 1 pixel. At the time of contraction, the expanded pixel is contracted inward by a predetermined number, for example, four pixels. In this way, when a plurality of images are united by expansion, the images do not disappear even if they contract, so that the image portion can be extracted. The number of reduced pixels may be greater than or equal to the number of expanded pixels or less than or equal to the number of expanded pixels.

【0015】図2(a)はシルクの基準パターンと位置
合わせ用のテンプレート領域を示す図である。図示のよ
うに図2(a)の左上及び右下に破線で示す領域がテン
プレートであり、これに一致するように画像を位置合わ
せする。図2(b)はレジスト用の基準パターンを示し
ており、破線は位置合わせテンプレート領域を示してい
る。同様に図3(c)は配線の基準パターンと位置合わ
せテンプレートを示している。
FIG. 2A is a diagram showing a reference pattern of silk and a template region for alignment. As shown in the figure, the regions indicated by broken lines in the upper left and lower right of FIG. 2A are templates, and the images are aligned so as to match them. FIG. 2B shows the reference pattern for resist, and the broken line shows the alignment template region. Similarly, FIG. 3C shows a wiring reference pattern and an alignment template.

【0016】位置合わせ回路9A〜9Cは、その回路内
にあらかじめ登録している基準パターンと二値化回路で
抽出されるパターンとの相関関数の最大値によって、位
置合わせテンプレートに一致するようにパターンを抽出
して位置合わせを行う。
The alignment circuits 9A to 9C are designed to match the alignment template with the maximum value of the correlation function between the reference pattern registered in advance in the circuit and the pattern extracted by the binarization circuit. Is extracted and alignment is performed.

【0017】さて領域メモリ10Aはシルクのパターン
に対してあらかじめ検査すべき検査領域を設定しておく
ためのメモリである。図3(a)はこのメモリに保持さ
れているシルクパターンの検査領域を示す。同様に領域
メモリ10Bは図3(b)に示すソルダレジストの検査
をするための領域を保持しており、図2(b)に示すレ
ジストのパターンよりやや大きい領域の外側部分が検査
対象となる。又領域メモリ10Cは図3(c)に示す配
線パターンの検査をするための領域を保持しており、図
2(c)の基準パターンを拡大した領域が検査領域とな
る。
The area memory 10A is a memory for setting an inspection area to be inspected in advance for a silk pattern. FIG. 3A shows the inspection area of the silk pattern held in this memory. Similarly, the area memory 10B holds an area for inspecting the solder resist shown in FIG. 3B, and an outside portion of an area slightly larger than the resist pattern shown in FIG. 2B is an inspection target. . The area memory 10C holds an area for inspecting the wiring pattern shown in FIG. 3C, and an area obtained by enlarging the reference pattern in FIG. 2C is the inspection area.

【0018】集計回路11Aは領域メモリ10Aに保持
されている領域に対して膨張収縮回路7Aで膨張収縮を
行った画像に対してクラスタ検査を行い、各クラスタの
面積を算出する。例えば図3(a)に示す略長方形のシ
ルクパターンS1の検査領域内で実際にシルクとなって
いる画素数を計数する。この画素数が所定値を基準とし
て例えば±10%以内であれば正常とし、シルク印刷が
かすれていれば白い面積の画素数が減少するため不良品
と判別できることとなる。このようにシルク印刷パター
ンの領域について集計回路11Aで集計が行われる。同
様にして集計回路11Bでも領域メモリ11Bの検出領
域のうち膨張収縮回路7Bで膨張、収縮を行った画像に
対してクラスタ検査を行い、各クラスタの面積を算出す
る。こうすればソルダレジストについての欠陥があれば
クラスタの面積,数の集計数が変化するため不良品が判
別できる。
The summing circuit 11A performs a cluster inspection on the image expanded and contracted by the expansion and contraction circuit 7A for the area held in the area memory 10A, and calculates the area of each cluster. For example, the number of pixels that are actually silk within the inspection area of the substantially rectangular silk pattern S1 shown in FIG. 3A is counted. If the number of pixels is within ± 10% with reference to a predetermined value, it is considered normal, and if the silk screen is faint, the number of pixels in the white area is reduced and it can be determined as a defective product. In this way, the totaling circuit 11A totals the areas of the silk print pattern. Similarly, in the totaling circuit 11B, the cluster inspection is performed on the image expanded and contracted by the expansion / contraction circuit 7B in the detection area of the area memory 11B, and the area of each cluster is calculated. In this way, if there is a defect in the solder resist, the area and number of clusters will change, so defective products can be identified.

【0019】又特徴抽出回路8は、こうして二値化され
た配線パターンに対して、特徴抽出演算子によって検査
パターンの不良部分を抽出するものである。特徴抽出回
路8で用いられる特徴抽出演算子は、例えばプリント基
板1の配線基板の銅箔パターンの端子部分を検出するも
のとすると、その検査パターンの欠陥に合わせた特徴抽
出パターンとする。図4(a)はその一例を示すもの
で、33×33画素から成り、そのうちの白丸で示す所
定画素の位置で銅箔パターンが検出され、黒丸で示す所
定画素の位置で銅箔パターンが検出されないものに合致
したパターンを抽出するものである。このような特徴演
算子はプリント基板1に形成されている種々のパターン
に基づいて所望数だけあらかじめ設定しておくものとす
る。例えば水平及び垂直のパターンのみから構成される
配線パターンに対しては、図4(a)のものを基本とし
て、これを90°,180°,270°回転させたもの
だけでよい。
The feature extraction circuit 8 extracts a defective portion of the inspection pattern from the thus binarized wiring pattern by a feature extraction operator. Assuming that the terminal portion of the copper foil pattern of the wiring board of the printed circuit board 1 is detected, the characteristic extraction operator used in the characteristic extraction circuit 8 has a characteristic extraction pattern that matches the defect of the inspection pattern. FIG. 4A shows an example thereof, which is composed of 33 × 33 pixels, of which a copper foil pattern is detected at a predetermined pixel position indicated by a white circle and a copper foil pattern is detected at a predetermined pixel position indicated by a black circle. This is to extract the pattern that matches the one that is not executed. It is assumed that a desired number of such characteristic operators are preset based on various patterns formed on the printed board 1. For example, for a wiring pattern composed of only horizontal and vertical patterns, it is only necessary to rotate the wiring pattern by 90 °, 180 °, 270 ° based on the one shown in FIG.

【0020】次に本実施の形態の動作について、検査パ
ターン及びフローチャートを参照しつつ説明する。図5
はこの動作を示すフローチャートである。まずステップ
21において照明2によりプリント基板1を照射し、カ
メラ3を用いてプリント基板1を撮像する。撮像された
画像は前処理回路4によって前処理され、画像メモリ5
に書込まれる(ステップ22)。二値化回路6A〜6C
ではあらかじめ定めた輝度の閾値によって、二値化処理
を行う(ステップ23〜25)。
Next, the operation of the present embodiment will be described with reference to the inspection pattern and flow chart. Figure 5
Is a flowchart showing this operation. First, in step 21, the printed board 1 is illuminated by the illumination 2 and the printed board 1 is imaged using the camera 3. The captured image is pre-processed by the pre-processing circuit 4, and the image memory 5
(Step 22). Binarization circuits 6A to 6C
Then, the binarization process is performed according to the threshold value of brightness determined in advance (steps 23 to 25).

【0021】次いで膨張処理ステップ26,27では、
膨張収縮回路7A,7Bによりこの画素を例えば3画素
膨張させる。膨張は縦方向及び横方向に同時に順次1画
素ずつ3画素膨張させるため、1画素のパターンがあっ
ても、膨張の終了時点では7×7画素の形状となる。又
6画素以内に近接した画素があれば、膨張によって検出
画素が合体することとなる。次いで膨張した画像を内向
きに収縮させる。ここでは収縮は膨張した画素分以上と
し、膨張が3画素の場合は、例えば4画素分又は5画素
分収縮させる。こうすれば元は一画素分の検出点であっ
ても膨張によって合体した場合には、収縮によっても検
出点が残存する。これに対し1画素分のみの孤立した画
像であれば、一旦所定画素数だけ膨張させても、膨張さ
せた画素以上の画素分収縮させるため、連結していなけ
れば検出点は消滅することとなる。このように孤立した
検出点を消滅させることによって誤報を防ぎ、全体の形
状を把握できる。
Next, in the expansion processing steps 26 and 27,
This pixel is expanded by, for example, 3 pixels by the expansion / contraction circuits 7A and 7B. The expansion is performed by sequentially expanding 3 pixels one pixel at a time in the vertical and horizontal directions at the same time, so that even if there is a pattern of 1 pixel, the shape becomes 7 × 7 pixels at the end of the expansion. If there are adjacent pixels within 6 pixels, the detected pixels are united due to expansion. The expanded image is then contracted inward. Here, the contraction is equal to or larger than the expanded pixel, and when the expansion is 3 pixels, the contraction is contracted by, for example, 4 pixels or 5 pixels. In this way, even if the original detection points for one pixel are merged by expansion, the detection points remain due to contraction. On the other hand, in the case of an isolated image of only one pixel, even if the image is once expanded by a predetermined number of pixels, it is contracted by more pixels than the expanded pixel, so that the detection points disappear if they are not connected. . By eliminating the isolated detection points in this way, false alarms can be prevented and the overall shape can be grasped.

【0022】こうして検出した画像については集計回路
11A,11Bによってクラスタ比較を同時に行う(ス
テップ28,29)。クラスタ比較では、検査パターン
の数やパターンの夫々の面積をシルクとソルダレジスト
の夫々に対して行うことによって欠陥を検出する。そし
て夫々独立して欠陥面積を集計して判定回路12A,1
2Bに出力する。
For the images detected in this way, cluster comparison is simultaneously performed by the summing circuits 11A and 11B (steps 28 and 29). In the cluster comparison, defects are detected by performing the number of inspection patterns and the area of each pattern for silk and solder resist, respectively. Then, the defect areas are independently aggregated and the judgment circuits 12A, 1
Output to 2B.

【0023】一方ステップ30において特徴抽出処理を
行う。この特徴抽出処理は配線パターンの各部について
夫々異なった特徴抽出パターンを用いて特徴抽出を行
う。例えば図4(a)に示すパターンを持った特徴抽出
演算子を用いる。この33×33画素特徴抽出パターン
のうち、いずれかが欠けていれば出力するように図4
(b)に示すように検査領域Aの一端に合わせる。そし
てX軸方向,Y軸方向に順次1画素づつずらせて必要な
画素の全ての領域を連続して走査する。そして検査画像
がこの特徴抽出パターンと一致する位置では、一致画素
を示す出力を得る。これを新たに欠陥画像として保持す
る。
On the other hand, in step 30, feature extraction processing is performed. In this feature extraction processing, feature extraction is performed using different feature extraction patterns for each part of the wiring pattern. For example, the feature extraction operator having the pattern shown in FIG. If any one of the 33 × 33 pixel feature extraction patterns is missing, it is output as shown in FIG.
It is aligned with one end of the inspection area A as shown in (b). Then, all the regions of necessary pixels are continuously scanned by shifting the pixels one by one in the X-axis direction and the Y-axis direction. Then, at the position where the inspection image matches this feature extraction pattern, an output indicating the matching pixel is obtained. This is newly held as a defect image.

【0024】又ステップ31では集計回路11Cにおい
て検出された欠陥画像を集計し、その面積に対応した表
を作成する。そして集計結果を判定回路12Cに出力す
る。
In step 31, the defect images detected by the totalizing circuit 11C are totaled and a table corresponding to the area is created. Then, the totalized result is output to the determination circuit 12C.

【0025】次いでステップ32,33において、判定
回路12A,12Bでは得られたクラスタの数とその面
積に応じて欠陥を検出する。クラスタ数が所定数より多
ければ本来は1つの形状が何らかの形に分断されている
ため、面積が大幅に減少することとなり、このような欠
陥が容易に検出できる。又判定回路12Cでは残存した
欠陥の面積から所定画素数以上の大きな欠陥のみを検出
する。こうすれば膨張率や収縮率、良否判定の画素数を
任意に選択することができるため、使用用途に合わせた
柔軟な検出感度を設定することができる。
Next, in steps 32 and 33, the decision circuits 12A and 12B detect defects according to the number of obtained clusters and the area thereof. If the number of clusters is larger than the predetermined number, one shape is originally divided into some shape, so that the area is greatly reduced, and such a defect can be easily detected. The determination circuit 12C detects only large defects having a predetermined number of pixels or more from the area of the remaining defects. In this way, the expansion rate, the contraction rate, and the number of pixels for quality judgment can be arbitrarily selected, so that flexible detection sensitivity can be set according to the intended use.

【0026】このように判定回路では各パターンについ
て夫々異なった良否判定のクラスタ数、面積の変化割合
を選択することができる。従ってシルク印刷の良否判定
を緩くし、配線パターンの良否判定を最も厳しくするこ
とによってそのパターンに適した良否判定ができ、これ
を総合して欠陥の有無を判別することができる。こうす
れば使用用途に合わせて柔軟な検出感度が設定できるこ
ととなる。
As described above, the determination circuit can select different pass / fail cluster numbers and area change rates for each pattern. Therefore, by making the quality judgment of silk printing loose and making the quality judgment of the wiring pattern the strictest, the quality judgment suitable for the pattern can be performed, and the presence or absence of a defect can be collectively judged. In this way, flexible detection sensitivity can be set according to the intended use.

【0027】この実施の形態では特徴抽出回路8の出力
を集計回路11Cに与えて集計するようにしているが、
抽出された欠陥を膨張させ、次いで収縮させることによ
って小さい欠陥を消去し、近接する小さい欠陥を合体さ
せて欠陥として容易に検出できるようしてもよい。
In this embodiment, the output of the feature extraction circuit 8 is given to the totalizing circuit 11C to perform totalization.
Small defects may be erased by expanding and then shrinking the extracted defects, and adjacent small defects may be combined so that they can be easily detected as defects.

【0028】(第2の実施の形態)次に本発明の第2の
実施の形態について図6を用いて説明する。図6におい
て前述した第1の実施の形態と同一部分は同一符号を付
して詳細な説明を省略する。この実施の形態では第2の
実施の形態に検査情報メモリ16を加えている。又同一
の検索項目であっても特徴抽出パターンなどの検査基準
を異ならせて特徴を抽出する特徴抽出回路17を設け
る。検査情報メモリ16は画像メモリ5から検出した二
値化画像のうち、検出の対象となる検査領域毎又はその
領域内の画素毎に、検査条件や使用する特徴抽出回路を
変化させるものである。これにより同一の検査項目であ
っても、異なった領域でその程度を変化させることがで
きる。例えば欠け欠陥の検出について、ある領域では浅
い欠けの欠陥、他の領域では深い欠け欠陥を検出するよ
う特徴抽出パターンを変化させる。又検出領域毎に各特
徴抽出回路17で指定された線間のものや指定されたパ
ターン欠け,断線パターン,ショート等のパターンを検
出する。こうすれば検査基準となるルールを、検出対象
である配線パターンの場所に応じて変化させることがで
きる。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 6, the same parts as those in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In this embodiment, the inspection information memory 16 is added to the second embodiment. Further, even for the same search item, a feature extraction circuit 17 is provided for extracting features by changing inspection criteria such as feature extraction patterns. The inspection information memory 16 changes the inspection condition and the feature extraction circuit to be used for each inspection region to be detected or each pixel in the region in the binarized image detected from the image memory 5. Thereby, even for the same inspection item, the degree can be changed in different areas. For example, regarding the detection of a chipping defect, the feature extraction pattern is changed so as to detect a shallow chipping defect in a certain region and a deep chipping defect in another region. Further, a pattern such as a space between lines designated by each feature extraction circuit 17 or a designated pattern missing, disconnection pattern, short circuit or the like is detected for each detection region. In this way, the rule serving as the inspection standard can be changed according to the location of the wiring pattern to be detected.

【0029】(第3の実施の形態)次に本発明の第3の
実施の形態について図7を用いて説明する。図7におい
て前述した第1の実施の形態と同一部分は同一符号を付
して詳細な説明を省略する。この実施の形態では画像メ
モリ5の出力が各領域メモリ10A〜10Cに接続さ
れ、更にCPU13にも接続される。CPU13にはメ
モリ18及び操作部15が接続されている。メモリ18
はCPU13の動作プログラムを保持するメモリであ
る。この実施例では前述した図5に示すフローチャート
の実行をソフトウェアによって行うものであり、その動
作は前述した第1の実施の形態と同様である。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 7, the same parts as those in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In this embodiment, the output of the image memory 5 is connected to each of the area memories 10A to 10C, and further connected to the CPU 13. A memory 18 and an operation unit 15 are connected to the CPU 13. Memory 18
Is a memory for holding the operation program of the CPU 13. In this embodiment, the flowchart shown in FIG. 5 described above is executed by software, and its operation is the same as that of the first embodiment described above.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、配線パターンや配線パッドとソルダレジスト及びシ
ルク印刷が施されたプリント基板に対して、夫々のパタ
ーンの特性に応じて正確に印刷形成されているかを製品
の製造後に検査することができるという効果が得られ
る。又これらのパターンは夫々独立して位置合わせが成
され、夫々精度を設定することができるため、配線パタ
ーンの許容誤差を最適に設定することができ、配線パタ
ーンの欠陥を見逃すことなく検査を行えるという効果が
得られる。
As described in detail above, according to the present invention, a wiring pattern, a wiring pad, a solder resist, and a printed circuit board on which silk printing is performed can be printed accurately according to the characteristics of each pattern. The effect that it can be inspected after the product is manufactured is obtained. Further, since these patterns are independently aligned and the accuracy can be set respectively, the tolerance of the wiring pattern can be optimally set, and the inspection can be performed without overlooking the defects of the wiring pattern. The effect is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態によるパターン検査
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a pattern inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本実施の形態による基準パターンと位置合わせ
テンプレート領域を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a reference pattern and an alignment template region according to the present embodiment.

【図3】本実施の形態における各領域メモリに保持され
ている検査領域を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing inspection areas held in each area memory according to the present embodiment.

【図4】特徴抽出回路で用いられる特徴抽出演算子の一
例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a feature extraction operator used in a feature extraction circuit.

【図5】本実施の形態によるパターン検査装置の動作を
示すフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart showing the operation of the pattern inspection apparatus according to the present embodiment.

【図6】本発明の第2の実施の形態によるパターン検査
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a pattern inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施の形態によるパターン検査
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a pattern inspection apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プリント基板 2 照明 3 カメラ 4 前処理回路 5 画像メモリ 6A,6B,6C 二値化回路 7A,7B 膨張収縮回路 8,17 特徴抽出回路 9A,9B,9C 位置合わせ回路 10A,10B,10C 領域メモリ 11A,11B,11C 集計回路 12A,12B,12C 判定回路 13 CPU 14 出力部 15 操作部 16 検査情報メモリ 18 メモリ 1 printed circuit board 2 lighting 3 cameras 4 Pre-processing circuit 5 image memory 6A, 6B, 6C binarization circuit 7A, 7B expansion and contraction circuit 8,17 Feature extraction circuit 9A, 9B, 9C alignment circuit 10A, 10B, 10C area memory 11A, 11B, 11C Totaling circuit 12A, 12B, 12C determination circuit 13 CPU 14 Output section 15 Operation part 16 Inspection information memory 18 memory

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA49 BB02 CC01 FF04 JJ03 JJ26 QQ04 QQ24 QQ31 QQ39 SS04 2G051 AA65 AB02 CA04 EA11 EA14 ED05 ED15 ED21 5B057 AA03 BA02 BA29 BA30 CA02 CA08 CA12 CA16 CB02 CB06 CB12 CB16 CC01 CE12 CE20 CH01 CH11 DA03 DB02 DB05 DB09 DC01 DC32 DC36    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2F065 AA49 BB02 CC01 FF04 JJ03                       JJ26 QQ04 QQ24 QQ31 QQ39                       SS04                 2G051 AA65 AB02 CA04 EA11 EA14                       ED05 ED15 ED21                 5B057 AA03 BA02 BA29 BA30 CA02                       CA08 CA12 CA16 CB02 CB06                       CB12 CB16 CC01 CE12 CE20                       CH01 CH11 DA03 DB02 DB05                       DB09 DC01 DC32 DC36

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリント基板の配線パターン上にソルダ
レジスト及びシルク印刷が形成されたプリント基板のパ
ターン検査装置であって、 検査パターンを撮像する撮像装置と、 前記撮像装置によって撮像した画像を夫々異なるレベル
の閾値で二値化することによりシルク印刷、ソルダレジ
スト及び配線パターンを抽出する第1,第2,第3の二
値化部と、 シルク印刷に対する検査領域を保持する第1の領域メモ
リと、 ソルダレジストに対する検査領域を保持する第2の領域
メモリと、 配線パターンに対する検査領域を保持する第3の領域メ
モリと、 第1の領域メモリ内で前記第1の二値化部より検出され
た画素を第1の所定画素数膨張させ、次いで第2の画素
数だけ膨張した画像を収縮する第1の膨張収縮部と、 第2の領域メモリ内で前記第2の二値化部より検出され
た画素を第1の所定画素数膨張させ、次いで第2の画素
数だけ膨張した画像を収縮する第2の膨張収縮部と、 前記第3の領域メモリに示される領域において、前記第
3の二値化部より得られる配線パターンの二値化画像に
対して所定の特徴抽出パターンを走査し、一致する画像
の位置を検出することによって欠陥画素を検出する特徴
抽出部と、 前記第1,第2の膨張収縮部より得られるシルク印刷パ
ターン,ソルダレジストのパターンの面積を前記第1,
第2の領域メモリの検査領域内でクラスタ検査により集
計する第1,第2の集計部と、 前記特徴抽出部で得られた欠陥画素を前記第3の領域メ
モリ内の検査領域内で集計する第3の集計部と、 前記第1〜第3の集計部の集計結果に基づいてプリント
基板のパターンの良否を判別する判別部と、を具備する
ことを特徴とするパターン検査装置。
1. A pattern inspection device for a printed circuit board, wherein a solder resist and silk printing are formed on a wiring pattern of the printed circuit board, wherein an image pickup device for picking up the inspection pattern and an image picked up by the image pickup device are different from each other. First, second, and third binarization units that extract silk printing, solder resist, and wiring patterns by binarizing with a level threshold, and a first region memory that holds an inspection region for silk printing A second area memory holding an inspection area for the solder resist; a third area memory holding an inspection area for the wiring pattern; and a first binarization unit detected in the first area memory. A first expansion / contraction unit for expanding the pixels by a first predetermined number of pixels and then contracting the image expanded by the second number of pixels; A second expansion / contraction unit that expands the pixels detected by the second binarization unit by a first predetermined number of pixels and then contracts the image expanded by the second number of pixels; and the third region memory. In the indicated area, the binary image of the wiring pattern obtained by the third binarization unit is scanned with a predetermined feature extraction pattern, and the defective pixel is detected by detecting the position of the matching image. The area of the feature extraction unit, the silk printing pattern and the solder resist pattern obtained from the first and second expansion / contraction units is defined as the first and second areas.
The first and second totaling units that perform cluster inspection within the inspection region of the second region memory, and the defective pixels obtained by the feature extraction unit are aggregated within the inspection region of the third region memory. A pattern inspection apparatus comprising: a third totaling unit; and a determination unit that determines whether the pattern of the printed circuit board is good or bad based on the totaling results of the first to third totaling units.
【請求項2】 前記特徴抽出部により検出された欠陥を
第1の所定画素数膨張させ、次いで第2の画素数だけ膨
張した画像を縮小する第3の膨張収縮部を更に有するこ
とを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
2. A third expansion / contraction unit for expanding the defect detected by the feature extraction unit by a first predetermined number of pixels and then reducing the image expanded by the second number of pixels. The pattern inspection apparatus according to claim 1.
【請求項3】 前記第3の領域メモリに設定された検査
位置又は領域毎に異なった特徴抽出パターンを含む欠陥
検出情報を保持する検査情報メモリと、を更に具備し、 検査領域毎にその領域に設定された特徴抽出パターンを
走査することによって欠陥画素を検出するものであるこ
とを特徴とする請求項1又は2記載のパターン検査装
置。
3. An inspection information memory that holds defect detection information including a feature extraction pattern that is different for each inspection position or area set in the third area memory, and the area is provided for each inspection area. The pattern inspection apparatus according to claim 1 or 2, wherein the defective pixel is detected by scanning the feature extraction pattern set in (4).
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