KR100573531B1 - 갈바니 욕과, 조직화 경질 크롬층의 형성 방법 - Google Patents

갈바니 욕과, 조직화 경질 크롬층의 형성 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100573531B1
KR100573531B1 KR1020007014501A KR20007014501A KR100573531B1 KR 100573531 B1 KR100573531 B1 KR 100573531B1 KR 1020007014501 A KR1020007014501 A KR 1020007014501A KR 20007014501 A KR20007014501 A KR 20007014501A KR 100573531 B1 KR100573531 B1 KR 100573531B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chromium
sulfate
ions
galvanic
galvanic bath
Prior art date
Application number
KR1020007014501A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20010072627A (ko
Inventor
스짜마이타트클라우스
Original Assignee
크로모텍 오베르플래센테시니크 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 크로모텍 오베르플래센테시니크 게엠베하 filed Critical 크로모텍 오베르플래센테시니크 게엠베하
Publication of KR20010072627A publication Critical patent/KR20010072627A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100573531B1 publication Critical patent/KR100573531B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • C25D3/10—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium characterised by the organic bath constituents used
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N7/00—Shells for rollers of printing machines
    • B41N7/04—Shells for rollers of printing machines for damping rollers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N2207/00—Location or type of the layers in shells for rollers of printing machines
    • B41N2207/02—Top layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N2207/00—Location or type of the layers in shells for rollers of printing machines
    • B41N2207/10—Location or type of the layers in shells for rollers of printing machines characterised by inorganic compounds, e.g. pigments

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Abstract

본 발명은 갈바니 욕, 상기 갈바니 욕을 사용해서 대상물에 크롬을 침착하기 위한 방법 및 이 방법에 따라 조직화 경질 크롬층을 형성한 기계 부품에 대한 사용 방법에 관한 것이다. 갈바니 욕은 수용액 상태로 크롬(Ⅵ) 이온을 제공하는 적어도 하나의 화합물을 포함하고,
a) 100 내지 600 g/ℓ 무수크롬산에 포함되는 크롬의 양과 동일한 양의 크롬에 상응하는 양의 크롬(Ⅵ) 이온,
b) 90:1 내지 120:1의 크롬(Ⅵ) 이온 대 술폰산염 이온(SO4 2-)의 분자 농도 비를 가진 황산과 가용성 황산염 중 어느 하나 또는 양자 형태의 술폰산염 이온, 및
c) 0.01 내지 3.0 g/ℓ의 나트륨 염에 포함되는 양과 동일한 양의 2-히드록시에탄 술폰산염 이온을 포함한다.

Description

갈바니 욕과, 조직화 경질 크롬층의 형성 방법{GALVANIC BATH, METHOD FOR PRODUCING STRUCTURED HARD CHROMIUM LAYERS AND USE THEREOF}
본 발명은 갈바니 욕과, 조직화 경질 크롬층을 형성하기 위한 형성 방법과, 구조 부재 상에 조직화 경질 크롬층을 사용하는 것에 관한 것이다.
갈바니 공정을 이용해서 공업 제품 또는 일반 용품의 표면을 코팅하는 것은 오래 전부터 통용되는 기술이다. 이것은 대상물에 특수한 기능적 및/또는 장식적 표면 특성, 예컨대 경도, 내식성, 금속 외관, 광택 등을 부여하기 위해 필요하다. 갈바니 공정에 의한 표면 코팅을 진행하는 동안, 침착 대상 금속을 용융 상태의 염으로서 포함하는 욕으로부터 음극에 접속된 대상물에 직류에 의해 금속이 침착된다. 코팅 대상물은 일반적으로 금속 재료로 이루어져 있다. 기재 자체가 전도성을 갖지 않는 경우에는, 표면에 얇은 금속층을 형성하여 전도성을 부여할 수 있다. 공업적인 용도로 사용되는 니켈 또는 크롬을 포함한 갈바니 욕은 특히 기계적 강도가 큰 경질층을 형성하기 위해 사용된다.
특정 용례에서는 갈바니 공정에 의해 경질 크롬층이 형성된 대상물이 거친 표면 구조를 가질 필요가 있거나, 또는 거친 표면 구조를 갖는 것이 바람직하다. 장식적 용례의 경우에는, 광택이 없는 외관 또는 쾌적하고 미끄럽지 않은 "접촉"이 이루어져야 한다. 공업 분야에서는 거친 경질 크롬층 또는 조직화 크롬층이 소정의 기능적 특성을 충족시킨다. 예컨대, 피스톤, 실린더, 부싱, 축 베어링 등과 같이 서로 미끄럼 접촉하는 기계 부품에서는 거친 경질 크롬층이 바람직한데, 그 이유는 거친 크롬층 조직이 윤활제 저장부를 형성하여 건조 상태의 주행을 피할 수 있기 때문이다. 인쇄 산업, 예컨대 인쇄기의 급지 드럼, 잉크 롤러 및 가습 실린더에는 특별히 거친 표면이 필요하다. 성형 분야에서는, 가공 대상 공작물에 조직화 표면을 부여하기 위해 크롬 도금된 공구가 사용될 수 있다.
종래 기술에 따르면, 크롬 도금 이전, 크롬 도금 도중 또는 크롬 도금 이후에, 예컨대 연삭, 샌드 블래스팅, 방전 가공 등과 같은 기계적 가공 또는 화학적 에칭 공정에 의해 경질 크롬 코팅 또는 거친 표면 구조를 갖춘 대상물을 얻을 수 있었다. 그러나, 이러한 방법은 다양한 가공 기술이 필요하므로 복잡하고 많은 비용이 든다.
독일 특허 공개 제42 11 881호에는, 예컨대 조직화된 형태의 크롬을 침착시키는 방식으로 기계 부품의 표면을 갈바니 공정으로 코팅하는 방법이 공지되어 있다. 이 경우, 전압 또는 전류 중 하나 이상의 초기 펄스 및 하나 이상의 후속 펄스를 가하고 전압 또는 전류를 일정하게 조절하여, 먼저 기계 부품의 표면에 침착 재료의 핵을 형성한 다음, 그 핵을 성장시킨다. 이 때, 크롬은 통계적으로 균일하게 분포된 나뭇가지 모양 또는 대략 반구형 융기부 형태로 침착된다.
유럽 특허 제0 722 515호는 전술한 독일 특허 제42 11 881호에 따른 방법을 개선한 것으로, 전압 또는 전류 밀도의 증가가 단계적으로 이루어진다.
이 방법에서는 공지되어 있는 통상의 갈바니 욕을 사용한다.
독일 특허 제34 02 554 C2호에는, 크롬산 및 황산을 함유하는 비침식성 전해질 수용액으로부터 강 또는 알루미늄 합금으로 이루어진 공작물에 경질 크롬을 갈바니 공정으로 침착시킬 때의 전류 효율을 증가시키기 위해 최대 2개의 탄소 원자 및 최대 6개의 술폰산기를 갖는 지방족 포화 술폰산 및 그것의 염 또는 할로겐산 유도체를 사용하는 것이 공지되어 있다.
미국 특허 제5 176 813호에는, 모노술폰산을 포함하지 않고 납 함유 양극을 구비한 갈바니 욕으로부터 크롬을 갈바니 공정으로 침착시키는 방법이 공지되어 있다. 상기 갈바니 욕은 크롬산, 황산 이온 및 경우에 따라 할로겐화되는, 적어도 하나의 알킬폴리술폰산 또는 1개 내지 3개의 탄소 원자를 포함하는 알킬폴리술폰산염을 포함한다.
그러나, 조직화된 크롬층을 갈바니 공정으로 형성하는 공지된 방법에는 단점이 있다. 이 방법은 복잡한 다층 구성을 필요로 한다. 즉, 고유의 조직화 크롬층을 코팅하기 전에, 먼저 니켈 스트라이크(strike)층을 코팅하고, 그 다음에 두꺼운 황산 니켈 층을 코팅하고, 그 다음에 균열이 없는 크롬층을 구조 부재의 기재 상에 코팅하고, 최후에 조직화 크롬층을 균열 없는 경질 크롬층으로 코팅해야 한다. 이렇게 여러 층으로 구성하기 위해서는, 조성이 상이한 특유의 갈바니 욕 및 이것에 알맞는 상이한 침착 조건을 필요로 한다. 따라서, 프로세스 제어가 복잡하고, 필요한 공정들로 인해 많은 비용이 필요하다. 또한, 상기 방법에 의해서는 약 10 ㎛ 미만의 조도(Rz)를 갖는 층만이 얻어질 수 있다. 또한, 반구형 융기부의 분포 및 구성의 균일성에 대한 개선이 필요하다.
본 발명의 목적은 조직화된 경질 크롬층의 형성을 현저히 간소화하고, 균일한 표면 토포그래피 및 현저히 높은 표면 조도를 갖는 조직화 층을 형성하는 것이다.
크롬(Ⅵ) 이온을 공급하는 적어도 하나의 화합물을 수용액 중에 포함하는 갈바니 욕으로서,
a) 100 내지 600 g/ℓ의 무수크롬산에 상응하는 양의 크롬(Ⅵ)이온과,
b) 크롬(Ⅵ) 이온 대 황산 이온(SO4 2-)의 몰 농도비가 90:1 내지 120:1인 황산 및/또는 가용성 황산염 형태의 황산 이온과,
c) 0.01 내지 3.0 g/ℓ의 나트륨염에 상응하는 양의 2-히드록시에탄술폰산 이온을 포함하는 것을 특징으로 하는 갈바니 욕으로부터 상기 요구에 상응하는 조직화 경질 크롬층을 얻을 수 있는 것으로 판명되었다.
본 발명에 따른 황산염과 2-히드록시에탄술폰산염의 조합은 크롬 욕의 특히 바람직한 특성을 야기시키는 것으로 나타났다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 갈바니 욕은 200 내지 250 g/ℓ의 무수크롬산에 상응하는 양의 크롬(Ⅵ) 이온을 포함한다. 크롬(Ⅵ) 이온을 공급하는 화합물은, 바람직하게는 무수크롬산(CrO3) 및/또는 Na2Cr2O7 및 K2Cr2O7와 같은 알칼리 중크롬산염 중에서 선택된다. 알칼리 중크롬산염 중에서는 K2Cr2O7이 바람직하다. 특히 바람직한 실시예에서, 크롬(Ⅵ) 이온을 공급하는 화합물은 무수크롬산이다. 다른 실시예에서, 크롬(Ⅵ) 이온을 공급하는 화합물 중 일부는 하나 또는 다수의 알칼리 중크롬산염, 바람직하게는 중크롬산 칼륨이다. 이 실시예에서는 크롬(Ⅵ) 이온의 30% 미만이, 바람직하게는 15% 미만이 알칼리 중크롬산염으로 공급된다.
갈바니 욕에서 크롬(Ⅵ) 이온 대 황산 이온의 몰 농도의 비는 바람직하게는 100:1 내지 105:1 이다. 사용 가능한 가용성 황산 염은 바람직하게는 황산 나트륨, 황산 칼륨, 황산 리튬, 황산 암모늄, 황산 마그네슘, 황산 스트론튬, 황산 알루미늄 및 황산 칼륨 알루미늄 중에서 선택된다. 황산 스트론튬이 특히 바람직하다.
바람직한 실시예에서, 욕은 0.07 내지 1.5 g/ℓ의 나트륨염에 상응하는 양의 2-히드록시에탄술폰산 이온을 포함한다. 본 발명에 따른 갈바니 욕에 포함된 2-히드록시에탄술폰산 이온은 2-히드록시에탄술폰산 자체 또는 2-히드록시에탄술폰산염, 바람직하게는 나트륨염으로부터 제공될 수 있다.
본 발명에 따른 갈바니 크롬 욕은 해당 기술 분야에서 통상적으로 사용되는 갈바니 설비에, 통상의 방식으로, 통상의 기재에 대한 통상의 코팅 목적을 위해 사용될 수 있다. 상기 기재는 예컨대 금속, 특히 강과 같은 전도체로 이루어진 대상물 및 금속층을 구비한 부도체일 수 있다.
본 발명에 따른 갈바니 욕은 바람직하게는 30 내지 70℃의 온도에서 사용된다.
상기 욕으로부터 갈바니 침착을 온도 ≤ 50℃에서 실시하면, 매우 균일한 반구형 미세구조 및 약 40 ㎛ 이하의 조도(Rz)를 갖는 크롬층을 형성할 수 있다. 상기 침착은 40 내지 50℃, 바람직하게는 42 내지 48℃, 더욱 바람직하게는 44 내지 46℃의 온도 범위에서 이루어진다.
상기 욕으로부터 갈바니 침착을 온도 > 50℃에서 실시하면, 균열 없는 매끄러운 크롬층을 형성할 수 있다. 이러한 침착은 51 내지 61℃, 바람직하게는 53 내지 59℃, 더욱 바람직하게는 55 내지 57℃의 온도 범위에서 이루어진다.
본 발명의 방법에 따르면, 하나의 동일한 크롬 욕으로부터 갈바니 침착동안 욕 온도의 변동에 의해서만 기재 상에 3층 구조를 형성하는 것이 가능하다. 바람직하게는, 제1 층으로서 균열 없는 매끄러운 기초층이, 그 다음에 조직화 크롬층이, 마지막으로 균열 없는 매끄러운 기능층이 형성될 수 있다. 본 발명에 따른 크롬 욕에 의해 강과 같은 기재 상에 직접 침착을 행할 수 있다. 특히 니켈에 의한 갈바니 예비 코팅은 불필요하다.
대상물 상에 조직화 경질 크롬층을 침착시키기 위해, 상기 대상물을 음극(cathode)에 접속하여 본 발명에 따른 갈바니 욕 중에 도입한다. 이 경우, 상기 대상물을 적절히 연삭하는 것으로 충분하다. 추가의 표면 처리, 특히 갈바니 예비 코팅은 필요 없다. 특히 균일한 코팅을 위해, 욕을 연속적으로 순환시키는 것 및/또는 코팅 대상물을 욕 중에서 회전시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 방법은 하기와 같이 수행될 수 있다:
도 1은 본 발명에 따른 크롬 욕 및 본 발명에 따른 방법에 의해 조직화 크롬이 도금된 압연 실린더 표면을 배율 30:1로 촬영한 REM 사진으로, 반구형 융기부의 치밀하고 균일한 분포가 명확히 나타나 있다.
도 2는 도 1의 부분을 배율 400:1로 촬영하여 구조의 토포그래피를 나타내는 사진이다.
도 3은 상기 층단면을 배율 400:1로 촬영한 REM 사진이다.
제1 공정에서는, 균열이 없고 매끄러운 크롬층 형태의 기초층을 50 내지 70℃, 바람직하게는 51 내지 61℃, 더욱 바람직하게는 53 내지 59℃, 가장 바람직하게는 55 내지 57℃ 범위의 온도에서 침착시킨다. 이 경우, 전류 밀도는 50 A/dm2 이하일 수 있다. 침착 시간(TP)이 10분 내지 15분이면, 6-9 ㎛의 기초층을 얻을 수 있다. 바람직하게는, 침착 시작 전에 욕의 온도까지 대상물을 승온시키는 데 걸리는 대기 시간(TW)을 설정한다. 이 시간은 대상물의 크기 및 온도차에 따라 1분 내지 10분일 수 있다. 침착 전에, 대상물에 양의 극성을 부여하는 활성화 공정을 설정하는 것이 바람직하다. 전류 밀도는 30 A/d㎡ 이하일 수 있다. 침착 시간(TP)으로는 1분 내지 2분이면 충분하다. 얻어진 기초층은 일반적으로 800 내지 950 HV 0.1의 미소 경도를 갖는다.
제2 공정에서는, 동일한 욕으로부터 조직화 크롬층을 침착시킨다. 이를 위한 욕의 온도는 30 내지 50℃, 바람직하게는 40 내지 50℃, 더욱 바람직하게는 42 내지 48℃, 가장 바람직하게는 44 내지 46℃의 범위로 설정한다. 이 공정에서도 침착 시작 전에 전술한 파라미터의 대기 시간(TW) 및 활성화 단계를 설정하는 것이 바람직하다. 침착은 바람직하게는 75 내지 90 A/d㎡의 전류 밀도에서 수행한다. 침착 시간(TP)이 10분 내지 30분이면, 14 내지 40 ㎛의 조직화된 층 두께를 얻을 수 있다. 얻어진 조직층은 통상적으로 850 내지 900 HV 0.1의 미소 경도를 갖는다. 조직층은 약 40 ㎛ 이하의 조도(Rz)를 갖는다.
제3 공정에서는, 조직화 크롬층을 다시 동일한 욕으로부터 얇고 매끄러운 경질 크롬층, 즉 기능층으로 코팅한다. 이를 위해, 상기 욕을 50 내지 70℃, 바람직하게는 51 내지 61℃, 더욱 바람직하게는 53 내지 59℃, 가장 바람직하게는 55 내지 57℃ 범위의 온도로 설정하고, 50 A/d㎡ 이하의 전류 밀도로 침착을 행한다. 침착 시간(TP)이 5분 내지 15분이면, 3 내지 9 ㎛의 기능층 두께를 얻을 수 있다. 기능층은 통상적으로 1000 내지 1050 HV 0.1의 미소 경도를 갖는다. 얇은 경질의 크롬층에 의해 구조층의 조도는 실질적으로 변동이 없다. 이 공정에서도 침착 시작 전에 전술한 파라미터의 대기 시간(TW) 및 활성화 단계를 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 모든 침착 공정에서 침착 시간 전에 전류 밀도를 설정값으로 조정하는 조정 시간(TR)을 설정하는 것이 바람직하다. 상기 조정 시간(TR)은 1분 내지 5분일 수 있다.
본 발명에 따른 방법은 선행 기술에 따른 방법과는 달리 매우 간단한 전류 밀도 제어를 특징으로 한다. 즉, 얇고 균일하며 양호하게 조직화된 경질 크롬 조직화 코팅을 형성하기 위해, 각 공정에서 전류 밀도를 설정값으로 상승시키거나 저하시키도록 선형으로 조정하는 것으로 충분하다. 이로 인해, 다른 경우에 필요한 기술적으로 복잡하고 많은 비용이 소요되는 전류 및 전압 제어 유닛과, 복잡한 제어 프로그래밍은 필요 없다. 그러나, 특별한 경우에는 전류 밀도를 단계적으로 최대값으로 상승시키거나 저하시키는 것이 바람직할 수 있다.
전술한 처리에 따라, 매우 양호하게 형성된 반구형 융기부의 매우 치밀하고 균일한 분포를 특징으로 하는 조직화 경질 크롬층이 대상물의 표면에 얻어진다. 75/㎝ 내지 100/㎝의 피크수를 갖는 층을 얻을 수 있다. 특히 조직층 코팅 공정에서 침착 조건의 선택에 따라 40 ㎛ 이하의 조도(Rz)를 얻을 수 있다.
본 발명에 따른 방법은 부품, 특히 기계 부품 상에 크롬층을 형성하기 위해 사용될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 상기 방법은 서로 미끄럼 접촉되는 기계 부품, 특히 피스톤, 실린더, 부싱 및 축 베어링 상에, 인쇄 산업의 롤러, 드럼 또는 실린더, 특히 잉크 롤러 및 가습 실린더 및 공구 상에 조직화 경질 크롬층을 형성하기 위해 사용된다.
본 발명의 실시예에 있어서, 100 ℓ의 욕은 20.450 kg의 무수크롬산, 2.500 kg의 칼륨 중크롬산염, 0.550 kg의 황산 스트론튬 및 3.5 g의 2-히드록시에탄술폰산 나트륨을 포함한다. 욕 중의 농도값으로는 222 g/ℓ의 무수크롬산, 2.2 g/ℓ의 유리 황산 및 0.035 g/ℓ의 2-히드록시에탄술폰산 나트륨이 주어진다. 예컨대, 기재로서 DIN 규격의 강 St 52(ISO 규격의 Fe 510 C와 등가물임)로 이루어진 압연 실린더를 조직화 크롬으로 도금하기 위해 하기 공정 파라미터를 선택한다:
기초층 침착(욕 온도 55 내지 57℃):
TW 5.0 분
활성화(30 A/d㎡) TR 1.0 분
TP 0.5 분
침착(50 A/d㎡) TR 2.0 분
TP 10.0 분
조직층 침착(욕 온도 44 내지 46℃):
TW 0.5 분
활성화(30 A/d㎡) TR 1.0 분
TP 0.5 분
침착(75 A/d㎡) TR 3.0 분
TP 10.0 분
TW 3.0 분
침착(80/Ad㎡) TR 1.0 분
TP 10.0 분
TW 3.0 분
침착(90 A/d㎡) TR 1.0 분
TP 10.0 분
기능층 침착(욕 온도 55 내지 57℃):
TW 3.0 분
활성화(30 A/d㎡) TR 1.0 분
TP 0.5 분
침착(50 A/d㎡) TR 2.0 분
TP 10.0 분
얻어진 조직 크롬층에는 매우 양호하게 형성된 반구형 융기부가 극도로 균일하게 분포되어 있고 더불어 35 내지 40 ㎛의 조도(Rz) 및 75/㎝ - 100/㎝의 피크수를 갖는다.

Claims (17)

  1. a) 100 내지 600 g/ℓ의 무수크롬산에 포함되는 크롬 이온의 양과 동일한 양의 크롬(Ⅵ) 이온을 공급하는 화합물과,
    b) 크롬(Ⅵ) 이온 대 황산 이온(SO4 2-)의 몰 농도비가 90:1 내지 120:1인 황산과 가용성 황산염 형태 중 어느 하나 또는 양자 모두의 형태의 황산 이온과,
    c) 0.01 내지 3.0 g/ℓ의 나트륨염에 포함되는 2-히드록시에탄술폰산 이온의 양과 동일한 양의 2-히드록시에탄술폰산 이온
    을 포함하는 것인 갈바니 욕.
  2. 제1항에 있어서, 200 내지 250 g/ℓ의 무수크롬산에 포함되는 크롬의 양과 동일한 양의 크롬(Ⅵ) 이온을 포함하는 것인 갈바니 욕.
  3. 제1항에 있어서, 상기 크롬(Ⅵ) 이온을 공급하는 화합물은 무수크롬산 및 알칼리 중크롬산염으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 갈바니 욕.
  4. 제1항에 있어서, 상기 크롬(Ⅵ) 이온 대 황산 이온의 몰 농도비가 100:1 내지 105:1인 것인 갈바니 욕.
  5. 제1항에 있어서, 상기 황산 이온은 황산, 황산 나트륨, 황산 칼륨, 황산 리튬, 황산 암모늄, 황산 마그네슘, 황산 스트론튬, 황산 알루미늄 및 황산 칼륨 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택된 화합물의 형태로 존재하는 것인 갈바니 욕.
  6. 제5항에 있어서, 상기 황산 이온은 황산 스트론튬의 형태로 존재하는 것인 갈바니 욕.
  7. 제1항에 있어서, 나트륨 염으로 계산하여 0.07 내지 1.5 g/ℓ의 히드록시에탄 술폰산염을 포함하는 것인 갈바니 욕.
  8. 대상물에 코팅을 형성하는 방법으로, 제1항에 기재되어 있는 갈바니 욕으로부터 크롬 함유 코팅을 상기 대상물에 침착하는 공정을 포함하는 크롬 코팅 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    a) 온도 ≥50℃에서 기초 크롬층을 침착하는 공정과,
    b) 온도 ≤50℃에서 조직화된 크롬층을 침착하는 공정과,
    c) 온도 ≥50℃에서 기능 크롬층을 침착하는 공정
    을 포함하는 크롬 코팅 방법.
  10. 제9항에 있어서, 공정 a)를 51 내지 61℃ 범위의 온도에서, 공정 b)를 40 내지 50℃ 범위의 온도에서, 공정 c)를 51 내지 61℃ 범위의 온도에서 서로 독립적으로 실행하는 것인 크롬 코팅 방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 공정 a)에서 50 A/d㎡ 이하의 전류 밀도로 기초 크롬층을 침착시키고, 상기 공정 b)에서 75 내지 90 A/d㎡의 전류 밀도로 조직화 크롬층을 침착시키고, 상기 공정 c)에서 50 A/d㎡ 이하의 전류 밀도로 기능 크롬층을 침착시키는 것을 서로 독립적으로 행하는 것인 크롬 코팅 방법.
  12. 제9항에 있어서, 상기 공정 a), b) 또는 c) 중 하나 이상에서 출발값으로부터 최종값으로의 전류 밀도의 상승과 그 반대로의 저하 중 어느 하나 또는 양자 모두는 선형으로 이루어지는 것인 크롬 코팅 방법.
  13. 제9항에 있어서, 상기 공정 a), b) 및 c) 중 하나 이상에서 출발값으로부터 최종값으로의 전류 밀도의 상승과 그 반대로의 저하 중 하나 이상은 단계적으로 이루어지는 것인 크롬 코팅 방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 공정 a), b) 및 c) 중 하나 이상의 전에 30 A/d㎡ 이하의 전류 밀도로 활성화시키는 것과, 대상물이 양의 극성을 갖게 하는 것이 서로 독립적으로 실행되는 것인 크롬 코팅 방법.
  15. 제9항에 있어서, 상기 대상물은 기계 부품인 것인 크롬 코팅 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 기계 부품은 인쇄 산업에 있어서 급지 실린더 및 드럼으로 이루어지는 군에서 선택되는 것인 크롬 코팅 방법.
  17. 제9항에 있어서, 상기 대상물은 인쇄 산업에 있어서의 롤러, 피스톤, 실린더, 부싱 및 축 베어링으로 이루어지는 군에서 선택되는 것인 크롬 코팅 방법.
KR1020007014501A 1998-06-26 1999-06-24 갈바니 욕과, 조직화 경질 크롬층의 형성 방법 KR100573531B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19828545.0 1998-06-26
DE19828545A DE19828545C1 (de) 1998-06-26 1998-06-26 Galvanisches Bad, Verfahren zur Erzeugung strukturierter Hartchromschichten und Verwendung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010072627A KR20010072627A (ko) 2001-07-31
KR100573531B1 true KR100573531B1 (ko) 2006-04-26

Family

ID=7872131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020007014501A KR100573531B1 (ko) 1998-06-26 1999-06-24 갈바니 욕과, 조직화 경질 크롬층의 형성 방법

Country Status (12)

Country Link
US (1) US6447666B1 (ko)
EP (1) EP1097261B1 (ko)
JP (1) JP2002519514A (ko)
KR (1) KR100573531B1 (ko)
CN (1) CN1191392C (ko)
AT (1) ATE231933T1 (ko)
BR (1) BR9912214A (ko)
CA (1) CA2334708A1 (ko)
CZ (1) CZ299000B6 (ko)
DE (2) DE19828545C1 (ko)
RU (1) RU2202005C2 (ko)
WO (1) WO2000000672A2 (ko)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT4737U1 (de) * 2001-01-15 2001-11-26 Plansee Ag Pulvermetallurgisches verfahren zur herstellung hochdichter formteile
US6736954B2 (en) * 2001-10-02 2004-05-18 Shipley Company, L.L.C. Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate
DE10255853A1 (de) 2002-11-29 2004-06-17 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Herstellung strukturierter Hartchromschichten
DE10302107A1 (de) * 2003-01-21 2004-07-29 Fuchs Technology Ag Zylinderoberfläche
CN1788112B (zh) * 2003-05-12 2012-01-11 阿科玛股份有限公司 高纯度的电解磺酸溶液
DE102004019370B3 (de) 2004-04-21 2005-09-01 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Herstellung einer strukturierten Hartchromschicht und Herstellung einer Beschichtung
CN100359048C (zh) * 2004-12-27 2008-01-02 西安建筑科技大学 一种导电辊修复方法
DE102005022692A1 (de) * 2005-05-18 2006-11-23 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Herstellung beschichteter Oberflächen und Verwendung derselben
CH698493B1 (de) * 2006-06-01 2009-08-31 Hartchrom Ag Bauteil aus zwei kraftschlüssig verbundenen Werkstücken.
DE102006025847A1 (de) * 2006-06-02 2007-12-06 Merck Patent Gmbh Verwendung von Phosphinsäure in der Galvanotechnik
DE102006042076A1 (de) * 2006-09-05 2008-03-20 Goldschmidt Tib Gmbh Ein neues Additiv für Chromelektrolyte
DE102006055251A1 (de) * 2006-11-23 2008-05-29 Mahle International Gmbh Zweiteiliger Kolben für einen Verbrennungsmotor
DE102008017270B3 (de) 2008-04-04 2009-06-04 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Strukturierte Chrom-Feststoffpartikel-Schicht und Verfahren zu deren Herstellung sowie beschichtetes Maschinenelement
EP2149447A1 (de) 2008-07-29 2010-02-03 Alcan Technology & Management Ltd. Verfahren zur Herstellung einer Materialbahn mit Oberflächenstruktur
CN101372756B (zh) * 2008-09-28 2010-06-09 武汉船用机械有限责任公司 一种大直径球冠工件球冠面的镀铬方法
EA201792049A1 (ru) * 2009-06-08 2018-05-31 Модьюметал, Инк. Электроосажденные наноламинатные покрытия и оболочки для защиты от коррозии
DE102009028223A1 (de) 2009-08-04 2011-02-24 Koenig & Bauer Aktiengesellschaft Verfahren und Herstellung strukturierter Chromschichten
AT507785B1 (de) 2009-08-04 2010-08-15 Univ Wien Tech Verfahren zur herstellung strukturierter chromschichten
CN101812708B (zh) * 2010-04-20 2011-08-24 安徽华东光电技术研究所 一种钼芯杆镀铬的方法
CN103952731B (zh) * 2014-04-29 2016-05-04 上海交通大学 凸包状仿生织构化铬镀层的电沉积制备方法及其用途
DE102014113000A1 (de) * 2014-09-10 2016-03-10 Rieter Ingolstadt Gmbh Beschichtung für einen Drehteller
RU2603935C1 (ru) * 2015-06-04 2016-12-10 Закрытое акционерное общество "Поволжский Центр Гальваники" Способ беспористого твёрдого хромирования деталей из чугунов и сталей
JP6650112B2 (ja) * 2016-04-08 2020-02-19 トヨタ紡織株式会社 成形型の製造方法
CN110257883A (zh) * 2019-07-22 2019-09-20 嘉兴怀莲贸易有限公司 一种高耐磨磁悬浮轴承
EP4012074A1 (de) * 2020-12-14 2022-06-15 topocrom systems AG Oberflächenbeschichtung und verfahren zu ihrer herstellung
CN114875466B (zh) * 2022-06-07 2024-03-22 中国航发航空科技股份有限公司 一种不可分解轴承零件的尺寸修复工装夹具及修复方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3506548A (en) 1966-09-23 1970-04-14 Allied Res Prod Inc Electrodeposition of nickel
DE3402554A1 (de) * 1984-01-26 1985-08-08 LPW-Chemie GmbH, 4040 Neuss Abscheidung von hartchrom auf einer metallegierung aus einem waessrigen, chromsaeure und schwefelsaeure enthaltenden elektrolyten
DE3424528A1 (de) 1984-07-04 1986-01-09 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zum gleichzeitigen aufrauhen und verchromen von stahlplatten als traeger fuer lithographische anwendungen
US4588481A (en) 1985-03-26 1986-05-13 M&T Chemicals Inc. Chromium plating bath for producing non-iridescent, adherent, bright chromium deposits at high efficiencies and substantially free of cathodic low current density etching
US5176813A (en) * 1989-11-06 1993-01-05 Elf Atochem North America, Inc. Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating
DE4211881C2 (de) 1992-04-09 1994-07-28 Wmv Ag Verfahren zum elektrochemischen Aufbringen einer strukturierten Oberflächenbeschichtung
AU7784794A (en) * 1993-10-07 1995-05-01 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Process for the galvanic application of a surface coating
DE4432512C2 (de) 1994-09-13 1998-12-17 Lpw Chemie Gmbh Verwendung eines Verfahrens zur elektrolytischen Abscheidung von Chromschichten

Also Published As

Publication number Publication date
EP1097261A2 (de) 2001-05-09
DE59904174D1 (de) 2003-03-06
CN1307652A (zh) 2001-08-08
CZ299000B6 (cs) 2008-04-02
KR20010072627A (ko) 2001-07-31
US6447666B1 (en) 2002-09-10
BR9912214A (pt) 2001-04-10
CZ20004789A3 (cs) 2001-12-12
RU2202005C2 (ru) 2003-04-10
ATE231933T1 (de) 2003-02-15
WO2000000672A3 (de) 2000-06-29
CA2334708A1 (en) 2000-01-06
JP2002519514A (ja) 2002-07-02
WO2000000672A2 (de) 2000-01-06
CN1191392C (zh) 2005-03-02
DE19828545C1 (de) 1999-08-12
EP1097261B1 (de) 2003-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100573531B1 (ko) 갈바니 욕과, 조직화 경질 크롬층의 형성 방법
US5415761A (en) Process for applying a structured surface coating on a component
ES2144789T3 (es) Procedimiento para la deposicion electrolitica de capas metalicas.
US8277953B2 (en) Production of structured hard chrome layers
US20150197080A1 (en) High wear durabilitly aluminum gravure cylinder with environmentally safe, thermally sprayed pre-coat layer
CN1034522C (zh) 等离子体增强电化学表面陶瓷化方法及其制得的产品
US6368467B1 (en) Electro-plating plasma arc deposition process
US6355154B1 (en) Article plated with boron carbide in a nickel-phosphorus matrix, and process and bath for its preparation
WO2004038070A2 (en) Pulse reverse electrolysis of acidic copper electroplating solutions
US20090223827A1 (en) Pulse Reverse Electrolysis of Acidic Copper Electroplating Solutions
US7097754B2 (en) Continuous electroforming process to form a strip for battery electrodes and a mandrel to be used in said electroforming process
JP3081567B2 (ja) クロムめっき用不溶性電極
WO1991013762A1 (en) Screen roller with a pattern layer in an electroplated top layer, and roller body for such a roller
KR20050075441A (ko) 폴리머를 포함하는 아연 또는 아연합금 층으로 도금된 강판또는 아연도금 강판 및 전기도금에 의해 이를 제조하는방법
US5344552A (en) Process for electroplating a metal strip
EP1484433B1 (de) Zinkbeschichtung von elektrisch nicht leitenden Oberflächen
JPH06240490A (ja) 耐食性クロムめっき
JPS6349310A (ja) 圧延ロ−ル
KR920000533B1 (ko) 도료밀착성이 우수한 스테인레스 도장강판의 제조방법
KR960009197B1 (ko) 인산염처리성이 우수한 냉간압연 강판 및 그 제조방법
JP2024006186A (ja) 電気Ｚｎ－Ｎｉ合金めっき鋼板の製造方法
KR20040059079A (ko) 내저온 칩핑성이 우수한 Ｚｎ-Ｎｉ 전기 합금도금 강판의제조방법
CZ20001044A3 (cs) Způsob elektrolytického pokovování

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090413

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee