KR100572529B1 - 반응성 디스아조 염료 - Google Patents

반응성 디스아조 염료 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 I의 염료에 관한 것이다.
화학식 I
Figure 112003042708996-pct00022
상기 화학식에서, 각각의 R은 독립적으로 RA 또는 RB이고,
여기서 RA는
Figure 112003042708996-pct00023
(여기서 각각의 R1, R2, R3 및 R4은 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬기임)기이며,
RB는
Figure 112003042708996-pct00024
{여기서 R5는 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸기이고, R6는 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸기이거나 또는 NR5R7[여기서 R5는 전술한 바와 같고, R7은 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 화학식 COR5 또는 CO2R5(여기서 R5는 전술한 바와 같음)의 기임]의 기이거나 또는 R5 및 R6는 이들이 결합되어 있는 질소 원자와 함께 고리를 형성함}의 기이고,
1 이상의 R은 RA기이며,
각각의 R이 RA인 경우, 각각의 RA는 서로 동일하거나 또는 상이할 수 있고,
각각의 Y는 독립적으로 불안정한 원자 또는 기이며,
각각의 m, n 및 p는 독립적으로 0, 1 또는 2이고,
SO3M은 설폰산기 또는 이의 염이며,
각각의 고리 A 및 B는 독립적으로 임의로 더 치환된다.

Description

반응성 디스아조 염료{REACTIVE DISAZO DYES}
본 발명은 반응성 트리아지닐아미노기를 함유하는 디스아조 염료에 관한 것으로서, 이 디스아조 염료는 중앙에 1-히드록시-8-아미노나프탈렌설폰산 및 말단에 각각 트리아지닐아미노기를 갖는 벤젠핵을 갖는 염료 베이스를 포함한다.
이러한 염료는 예를 들면 GB-A-2162193, US-A-5073631, EP-A-0122423 및 EP-A-0478504호에 개시되어 있다.
US-A-5073631에 개시된 염료는 각각의 트리아지닐기상에 치환된 아미노기를 함유하며, 각각의 아미노기는 임의로 치환된 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 및 아릴기 1 또는 2 개로 치환될 수 있으며, 이때 임의의 치환체는 카르바모일을 비롯한 다양한 범위의 치환체로부터 선택된다. 카르바모일로 치환된 페닐기를 함유하는 다양한 염료가 개시되어 있다. EP-A-0478504에는 다양한 염료가 개시되어 있는데, 이들 염료는 각각의 트리아지닐기상에 치환된 아미노기를 함유하며, 각각의 아미노기는 아실아미노알킬기로 치환될 수 있다. GB-A-2162193 및 EP-A-0122423의 염료에는 각각의 트리아지닐기가 다시 아미노기로 치환되어 있으며, 이는 임의의 광범위한 치환체를 포함할 수 있다.
본 발명자들은 이와 같은 전술한 염료에서, 1 이상의 트리아지닐아미노기가 트리아지닐 핵상에 카르바모일 알킬아미노기를 지닐 경우, 생성되는 염료는 빌드업(build up) 및 견뢰 특성이 우수하며, 관련 색소와의 혼화성이 우수하다는 놀라운 사실을 발견하기에 이르렀다.
따라서, 본 발명에 의하면, 하기 화학식 I의 염료가 제공된다.
Figure 112000009729438-pct00001
상기 화학식에서, 각각의 R은 독립적으로 RA 또는 RB이고,
여기서 RA는
Figure 112003042708996-pct00002
(여기서 각각의 R1, R2, R3 및 R4은 독립적으로 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기임)기이며,
RB는
Figure 112000009729438-pct00003
{여기서 R5는 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸기이고, R6는 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸기이거나 또는 NR5R 7[여기서 R5는 전술한 바와 같고, R7은 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 화학식 COR5 또는 CO2R5(여기서 R5는 전술한 바와 같음)의 기임]의 기이거나 또는 R5 및 R6는 이들이 결합되어 있는 질소 원자와 함께 고리를 형성함}의 기이고,
1 이상의 R은 RA기이며,
각각의 R이 RA인 경우, 각각의 RA는 서로 동일하거나 또는 상이할 수 있고,
각각의 Y는 독립적으로 불안정한 원자 또는 기이며,
각각의 m, n 및 p는 독립적으로 0, 1 또는 2이고,
SO3M은 설폰산기 또는 이의 염이다.
상기 화학식 1에서, 각각의 R은 RA기인 것이 바람직하다.
또한, 염료가 1 개의 기 또는 2 개의 기, RA를 함유할 경우, RA는 -N(R1)CH(R2)CONH(R3)인 것이 바람직하며, 이때 각각의 R1, R2 및 R3은 전술한 바와 같다.
RA의 대표적인 예로는 -NHCH2CONH2, -NR8CH2CONH 2, -NHCH2CONHR8, - NHCH(R8)CONH2, -NR8CH2CONHR9, -NR8CH(R 9)CONH2, -NHCH(R8)CONHR9, -NR8CH(R9)CONHR 10이 바람직하며, -NR8CH2CONHR9이 더욱 바람직하고, -NR8CH2 CONHR8이 더더욱 바람직하며, 여기서 R8, R9, R10은 독립적으로 임의로 치환된 C1-C4 알킬, 특히 메틸 또는 에틸이 다.
특정의 트리아지닐아미노기가 RA기를 포함하지 않을 경우, R은 질소 결합된 기 -NR5R6, 예를 들면 알킬아민, 아릴아민 또는 치환된 히드라진 유도체로부터 유도된 것이 된다. 알킬아민 유도기에서, R5 및 R6은 독립적으로 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 R5 및 R6은 고리의 일부가 된다. 아릴아민 유도기에서, R5는 전술한 바와 같고, R6는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸기가 된다. 히드라진 유도기에서, R5는 전술한 바와 같고, R6는 NR5R7이며, 여기서 R5는 전술한 바와 같고, R7은 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 화학식 -COR5 또는 -CO2R5의 기이며, 여기서 R5는 전술한 바와 같다.
R1-R10의 임의의 알킬기는 C1-C4 알콕시기, 예컨대 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시 또는 부톡시, C2-C4 알카노일아미노기, 예컨대 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 또는 부티릴아미노, C1-C4 알콕시카르보닐기, 예컨대 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐, 1 또는 2 개의 C1-C4 알킬기(들)로 임의로 치환된 아미노기, 예컨대 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노 또는 부틸아미노, C1-C4 알킬설포닐기, 예컨대 메틸설포닐 또는 에틸설포닐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 할로겐, 예컨대 불소, 염소 또는 브롬, 카르바모일, N-(C1-C4 알킬)카르바모일, 예컨대 N-메틸카르바모일 또는 N-에틸카르바모일, 설파모일, N-(C1-C4 알킬)설파모일, 예컨대 N-메틸설파모일, N-에틸설파모일, N-프로필설파모일, N-이소프로필설파모일 또는 N-부틸설파모일, 우레이도, 히드록시, 카르복시, 설포메틸 또는 설포로 임의로 치환될 수 있다. 이러한 치환체 중에서는 특히 메톡시, 에톡시, 아세틸아미노, 염소, 브롬, 우레이도, 히드록시, 카르복시, 설포메틸 및 설포 등이 있다.
불안정한 원자 또는 기라는 것은 트리아진핵에 화학 결합에 의해 결합된 원자 또는 기를 의미하는 것으로서, 이러한 원자 또는 기는 온화한 알칼리성 수성 조건하에서 셀룰로즈의 히드록실기에 의해 치환되어 트리아진핵과 셀룰로즈 사이에 공유 결합을 형성할 수 있다. 이와 같은 원자 또는 기의 예로는 할로겐 원자, 예컨대 F 및 Cl; 설폰산기; 티오시아노기; 4차 암모늄기, 예를 들면 트리알킬암모늄기 및 임의로 치환된 피리디늄기, 예컨대 3-카르복시피리디늄기 및 4-카르복시피리디늄기 등이 있다. 불안정한 원자는 할로겐 원자, 특히 Cl 또는 F가 가장 바람직하다.
발색단에 있어서, 나프탈렌핵은 2 종의 설폰산기를 함유하는 것이 바람직하며, 특히 하나의 설폰산기는 3-위치에 그리고 나머지는 5-위치 또는 6-위치에 있는 것이 더욱 바람직하다.
벤젠핵 A 및 B 각각에 있어서, 1 이상의 설폰산기 또는 이의 염은 각각의 핵 상에 존재하는 것이 바람직하다.
또한, 화학식 I에 도시한 바와 같이, 각각의 벤젠핵 A 및 B는 독립적으로 전술한 바와 같이 치환된 트리아지닐아미노기로 치환된다.
또한, R5 및 R6상의 핵 A, B 및 임의의 페닐 또는 나프틸기 각각은 독립적으로 예를 들면 C1-C4 알킬기, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필 또는 부틸, C1-C4 알콕시기, 예컨대 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시 또는 부톡시, C2-C4 알카노일아미노기, 예컨대 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 또는 부티릴아미노, C1-C4 알콕시카르보닐기, 예컨대 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐, 1 또는 2 개의 C1-C4 알킬기(들)로 임의로 치환된 아미노기, 예컨대 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노 또는 부틸아미노, C1-C4 알킬설포닐기, 예컨대 메틸설포닐 또는 에틸설포닐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 할로겐, 예컨대 불소, 염소 또는 브롬, 카르바모일, N-(C1-C4 알킬)카르바모일, 예컨대 N-메틸카르바모일 또는 N-에틸카르바모일, 설파모일, N-(C1-C4 알킬)설파모일, 예컨대 N-메틸설파모일, N-에틸설파모일, N-프로필설파모일, N-이소프로필설파모일 또는 N-부틸설파모일, 우레이도, 히드록시, 카르복시, 설포메틸 또는 설포로 임의로 치환될 수 있다. 이러한 치환체는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 아세틸아미노, 염소, 브롬, 우레이도, 히드록시, 카르복시, 설포메틸 및 설포가 특히 바람직하다.
염료의 특히 바람직한 범주는 하기 화학식 II를 갖는다.
Figure 112000009729438-pct00004
상기 화학식에서, R1, R2 및 R3은 전술한 바와 같다.
화학식 I에서 각각의 R이 RA기인 염료는 하기 화학식 III의 염료 베이스를 하기 화학식 IV의 트리아진과 반응시켜 하기 화학식 V의 비스-트리아지닐아미노 염료를 형성하며, 그후, 화학식 V의 비스-트리아지닐아미노 염료를 하기 화학식 VI의 카르바모일알킬아민과 반응시키는 것을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.
Figure 112000009729438-pct00005
Figure 112000009729438-pct00006
Figure 112000009729438-pct00007
Figure 112000009729438-pct00008
상기 화학식에서, SO3M, m, n, p, Y, R1, R2, R3 및 R4 은 전술한 바와 같다.
화학식 IV의 트리아진은 염화시아누르산 또는 불소화시아누르산인 것이 특히 바람직하다.
화학식 VI의 카르바모일알킬아민은 글리신아미드, 바람직하게는 이의 염 형태, 특히 염산염, 글리신아미드의 N,N'-디알킬 유도체 및 이의 염산염이 특히 바람직하다.
화학식 III의 염료 베이스 자체는 핵 B를 제공하는 디아조화 아민을 히드록시나프틸아민 화합물과 산 커플링 반응시키고, 그후, 중성 또는 염기성 용액 중에서 핵 A를 제공하는 디아조화된 아민을 생성된 산물과 커플링 반응시켜 제조될 수 있다.
또다른 방법으로서, 화학식 IV의 트리아진 2 몰을 화학식 VI의 카르바모일알킬아민 2 몰과 축합 반응시켜 1차 축합 산물을 얻고, 그후, 이를 화학식 III의 디스아조 염료 베이스 1 몰로 축합시킨다.
또다른 방법으로서, 벤젠핵 A 및 B를 제공하는 페닐렌디아민 화합물 2 몰 및 화학식 IV의 트리아진 2 몰을 서로 축합시켜 1차 축합 산물을 얻고, 그후, 화학식 VI의 카르바모일알킬아미노 화합물을 각각의 트리아지닐아미노기상에 축합시키고, 생성된 2차 축합 산물을 디아조화 처리하고, 우선 산성 용액 중에서, 그후 중성 또는 염기성 용액 중에서 히드록시나프틸아민 화합물과 커플링시킨다.
또다른 방법으로서, 화학식 IV의 트리아진 2 몰을, 핵 A 및 B를 제공하는 페닐렌디아민 화합물 2 몰과 축합시켜 1차 축합 산물을 얻고, 그후, 이를 디아조화 처리한 후, 산성 용액 중에서 우선 커플링시킨 후, 중성 또는 염기성 용액 중에서 히드록시나프틸아민 화합물 1 몰과 커플링시키고 나서, 이 2차 축합 산물을 화학식 VI의 카르바모일 알킬아민 2 몰과 반응시킨다.
화학식 I에서, 각각의 R이 RA이고, 각각의 RA가 서로 상이한 것인 염료는 전술한 방법에서 화학식 VI의 화합물 2 몰 대신에 2 종의 상이한 카르바모일알킬아민 1 몰을 사용하므로써 제조할 수 있다.
화학식 I에서, 하나의 R이 RA이고, 다른 하나의 R이 RB인 염료는 전술한 방법에서 화학식 VI의 화합물 2 몰 대신에 화학식 VI의 화합물 1 몰과 하기 화학식 VII의 화합물 1 몰을 사용하므로써 제조할 수 있다.
Figure 112000009729438-pct00009
상기 화학식에서, R5 및 R6는 전술한 바와 같다.
상기의 반응에서, 화학식 VII로부터의 기가 생성물에 포함되는 경우, 화학식 VII의 화합물의 반응 이후에 화학식 VI의 화합물의 반응을 수행하거나 또는 화학식 VI의 화합물의 반응 이후에 화학식 VII의 화합물의 반응을 수행하거나 또는, 화학식 VI 및 화학식 VII의 화합물의 반응을 동시에 수행할 수도 있다. 그러나, 혼합을 피하기 위해서는, 화학식 VI의 화합물과 화학식 VIII의 화합물을 화학식 IV의 트리아진과, 벤젠핵 A 및 B 각각을 제공하는 페닐렌디아민 화합물(또는 핵 A 및 B 각각을 제공하는 2 종의 페닐렌디아민 화합물) 사이의 반응 생성물과 독립적으로 반응시키며, 2 종의 생성물을 독립적으로 디아조화 처리하고, 이를 나프탈렌 커플링 성분으로 커플링시키는데, 하나는 산성의 조건하에서 커플링시키고, 다른 하나는 중성 또는 염기성 조건하에서 커플링시킨다. 이와 같은 방법에 의해 화학식 I에서의 2 종의 상이한 R 치환체가 명백하게 구분되는 독특한 생성물을 얻게 된다.
화학식 I에서 불안정한 기 Y가 4차 암모늄기인 염료는 Y가 할로겐인 화학식 I의 염료와 유리 아민, 예컨대 1,4-디아자비시클로노난(DABCO) 또는 3-카르복시피리딘, 4-카르복시피리딘, 3-카르본아미도피리딘 또는 4-카르본아미도피리딘과의 추가의 반응 단계에 의해 제조할 수 있다.
이러한 반응에 있어서, 커플링 성분은 1-히드록시-8-아미노나프탈렌-3,6-디설폰산(H-산) 및 1-히드록시-8-아미노나프탈렌-3,5-디설폰산(K-산)이 바람직하다.
사용가능한 디아조화 가능한 화합물의 예로는 1,5-디아미노벤젠-2-설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2-설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2,5-디설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2,6-디설폰산, 1,3-디아미노벤젠-4,6-디설폰산, 1,4-디아미노-2-클로로벤젠-5-설폰산, 1,4-디아미노-2-메틸벤젠-5-설폰산, 1,5-디아미노-6-메틸벤젠-3-설폰산, 1,3-디아미노-6-메틸벤젠-4-설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2-카르복실산, 1,3-디아미노벤젠-4-카르복실산, 1,3-디아미노벤젠-5-카르복실산, 1-아미노-4-메톡시-5-아미노메틸벤젠-6-설폰산, 1-아미노-3-니트로벤젠-6-설폰산, 1-아미노-4-니트로벤젠-6-설폰산, 1,3-디아미노벤젠, 1,4-디아미노벤젠, 1,3-디아미노-4-클로로벤젠, 1,3-디아미노-4-메틸벤젠, 1,3-디아미노-4-에틸벤젠, 1,3-디아미노-4-메톡시벤젠, 1,3-디아미노-4-에톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-메틸벤젠, 1,4-디아미노-2-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-에톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-클로로벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디메틸벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디에틸벤젠, 1,4-디아미노-2-메틸-5-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-메틸-5-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디에톡시벤젠, 1,3-디아미노-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-디아미노-2,3,5,6-테트라메틸벤젠 및 1,3-디아미노-4-니트로벤젠 등이 있다.
본 발명은 유리 설폰산 또는 설포네이트 염 형태, 특히 알칼리 금속, 예컨대 칼륨, 나트륨, 리튬 또는 나트륨/리튬의 혼합염과의 염의 염료 및 이러한 염료를 사용한 방법에 관한 것이다.
이러한 염료는 직물 소재 및, 코팅지를 비롯한 종이의 염색, 인쇄 또는 잉크제트 프린트에 사용될 수 있다.
착색 방법은 바람직하게는 7.1∼13의 pH, 더욱 바람직하게는 10∼12의 pH에서 수행한다. 7 이상의 pH는 산-결합제의 존재하에서의 착색 방법을 수행하여 달성될 수 있다.
기재의 예로는 임의의 직물 소재, 가죽, 종이, 코팅지, 모발 또는 필름 등이 될 수 있으나, 아미노 또는 히드록실기를 함유하는 천연 또는 합성 직물 소재, 예컨대 모, 실크, 폴리아미드 및 개질된 폴리아크릴로니트릴 섬유가 바람직하며, 셀룰로즈, 예를 들면 실켓 가공 처리하거나 또는 처리하지 않은 목면 및 이의 혼방직, 예를 들면 폴리에스테르와의 혼방직 및 Tencel과 같은 시판품 등이 특히 바람직하다. 이를 위해서는 염료는 직물 소재에 7 이상의 pH에서 흡진 염법, 패딩 또는 프린팅에 의해 도포된다. 직물 소재는 짙은 남색 또는 암녹색의 색조로 착색되며, 이는 광 및, 세탁과 같은 수세 처리에 대해서도 우수한 견뢰성을 지닌다.
이와 같은 신규한 염료는 특히 셀룰로스 직물 소재를 착색시키고자 하는 경우에 있어서 특히 중요하다. 이를 위해서는, 염료는 7 이상의 pH에서 셀룰로스 직물 소재에 산 결합제 처리와 병행하여 적용하는 것이 바람직하다.
산 결합제의 예로는 알칼리 금속의 탄산염, 중탄산염, 수산화물, 금속 규산염 및 이의 혼합물, 예를 들면 중탄산나트륨, 탄산나트륨, 메타규산나트륨, 수산화나트륨 및 해당 칼륨염 등이 바람직하다. 이러한 염료는 빌드업이 우수하며 고정율이 높은 잇점을 지닌다.
적어도 셀룰로식 소재의 경우, 염색은 일반적으로 저온에서 염색하는 종래의 흡진 염료를 사용하여 수행한 염색과 비교하여 약 90℃의 다소 높은 고온에서 수행할 수 있다. 이와 같은 방법에서는 특히 이염성이 개선된다.
신규한 염료는 중성 내지는 온화한 알칼리성 염욕으로부터 아민기를 함유하는 직물 소재, 예컨대 모 및 폴리아미드 직물 소재에 사용할 수 있다. 염색 공정은 일정하거나 또는 거의 일정한 pH에서 수행하며, 즉 염욕의 pH는 염색 공정 동안 일정하거나 또는 거의 일정하게 유지되거나 또는 필요할 경우 염욕의 pH는 염색 공정의 임의의 단계에서 변경될 수 있다.
염료는 액상 또는 고형물 형태, 예를 들면 과립상 또는 분말 형태가 될 수 있다.
본 발명자들은 이러한 염료가 80℃, 90℃ 및 100℃에서 우수한 빌드업을 제공하고, 견뢰 특성이 우수하며 관련된 색소, 특히 특정의 적색 및 황색 염료와의 혼화성이 크다는 것을 알아냈다.
이러한 염료는 추가로
a) 염색성이 매우 강하고,
b) 염색 조건, 특히 온도의 변화에 대해서 저항성이 우수하며,
c) 세탁성이 우수하고,
d) 고정율이 우수하며,
e) 수용해도가 우수한 잇점을 제공한다.
본 발명의 실시태양은 이하의 실시예를 참고로 하여 더욱 상세하게 기재될 것이다.
실시예 1
염료 베이스(20)(MI 930.1; 14.0 g, 15 mmol)를 저온수 100 ㎖에 용해시켰다. 별도로 염화시아누르산(21)(Fluka 6.1 g, 0.033 mol)을 아세톤 60 ㎖에 용해시키고, 이를 150 g의 얼음에 Calsolene 오일 3 방울과 함께 부어서 미세한 백색의 현탁액을 형성하였다. 여기에 상기의 염료 베이스 용액을 적가하는데, 이때의 온도는 0℃ 미만으로 그리고, pH는 2 N의 Na2CO3를 적가하여 6∼6.5로 유지한다. 적가를 완료한 후, 교반하면서 온도를 0℃ 미만으로 유지하고, pH를 6∼6.5로 유지한다. 0℃∼5℃에서 교반을 1 시간 동안 유지하고, 미반응 염화시아누르산을 스크리닝으로 제거하여 비스(디클로로트리아지닐아미노)염료(22)를 얻었다. 생성된 혼합물을 실온에서 교반하고, 물 20 ㎖ 중의 글리신아미드 염산염(23)(이전의 Aldrich 시판, 3.7 g, 0.033 mol)의 용액을 적가한 후, 그 혼합물을 30℃∼35℃에서 pH 7.0에서 2 시간 동안 교반하였다. 박층 크로마토그래피(TLC)로부터 pH 변화가 적가 동안 중단되기는 하였지만, 반응이 완료되지 않았음을 알 수 있으며, 그후 추가의 글리신아미드 염산염 1.0 g(8.86 mmol)을 첨가하고, 30℃에서 pH 6.8∼7에서 1 시간 동안 혼합물을 교반한 후, 이를 실온에서 pH 7∼7.5에서 다시 교반하였다. 약간의 최종 생성물은 용해되어 있지 않기 때문에, 혼합물을 물 1,000 ㎖로 희석하고, 이를 pH 6.5∼7.0 및 35℃∼40℃에서 용해될 때까지 교반하였다. TLC에 의해 반응이 완결된 것을 확인한 후, 염화칼륨 5 % w/v 수용액을 첨가하여 반응성 염료를 침강시켰다. 혼합물을 2 시간 동안 교반, 여과시킨 후, 잔류물을 팬 오븐 중에서 40℃에서 건조시켜 짙은 남색의 반응성 염료(1)(λmax=608 ㎚, εmax=49,700, λ1/2=108 ㎚) 15.7 g을 얻었다.
전술한 반응은 하기의 반응식으로 나타낼 수 있다.
Figure 112000009729438-pct00010
실시예 2∼11
각각 상이한 각각의 글리신아미드 유도체를 사용하여 실시예 1의 방법으로 하기 표에 요약한 생성물을 얻었으며, 이때 R1, R2 및 R3은 화학식 II의 치환체이다.
실시예 R1 R2 R3 색조 λmax εmax λ1/2
2 i-Pr H H 짙은 남색 607 53,000 108
3 Me H H 짙은 남색 608 49,000 108
4 Et H H 짙은 남색 608 50,500 108
5 Et Me H 짙은 남색 607 56,000 107
6 Me Me H 짙은 남색 607 53,500 114
7 Me H Me 짙은 남색 607 48,500 108*
8 Me H Et 짙은 남색 607 48,500 107
9 H H Me 짙은 남색 607 44,500 106
10 Et H Et 짙은 남색 609 45,500 110
11 Et H Me 짙은 남색 606 47,000 115
* 매우 바람직함

상기 표에서, Me는 메틸, Et는 에틸, i-Pr은 이소프로필을 나타낸다.
실시예 12
염료 베이스(22) 대신에 염료 베이스(24)를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1의 방법을 반복하여 수행하였다.
Figure 112000009729438-pct00011
생성된 산물은 짙은 남색의 염료(12)(λmax=616 ㎚, ε=53,800, λ1/2=114 ㎚)이었다.
Figure 112000009729438-pct00012
실시예 13
글리신아미드 염산염(23) 대신에 N-에틸글리신아미드 염산염을 사용한 것을 제외하고, 실시예 12의 방법을 반복하여 수행하므로써 짙은 남색의 염료(13)(λmax=612 ㎚, ε=45,000, λ1/2=119 ㎚)을 얻었다.
Figure 112000009729438-pct00013
실시예 14
실시예 1∼13에서 제조한 염료를 80℃, 90℃ 및 100℃에서, 10:1의 염료:물품의 비로 그리고 염 및 소다회의 존재하에 흡진 염법을 수행하여 목면에 적용하였다. 각각의 경우에서, 염료는 빌드업이 우수하고, 견뢰 특성이 우수하다는 것을 알 수 있다.

Claims (12)

  1. 하기 화학식 I의 염료:
    화학식 I
    Figure 112005060291399-pct00014
    상기 화학식에서, 각각의 R은 독립적으로 RA 또는 RB이고,
    여기서 RA는
    Figure 112005060291399-pct00015
    (여기서 각각의 R1, R2, R3 및 R4은 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬기임)기이며,
    RB는
    Figure 112005060291399-pct00016
    {여기서 R5는 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸기이고, R6는 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸기이거나 또는 NR5R7[여기서 R5는 전술한 바와 같고, R7은 수소 원자 또는 임의로 치환된 C1-C4 알킬기이거나 또는 화학식 COR5 또는 CO2R5(여기서 R5는 전술한 바와 같음)의 기임]의 기이거나 또는 R5 및 R6는 이들이 결합되어 있는 질소 원자와 함께 고리를 형성함}의 기이고,
    1 이상의 R은 RA기이며,
    각각의 R이 RA인 경우, 각각의 RA는 서로 동일하거나 또는 상이할 수 있고,
    각각의 Y는 플루오르 또는 염소이며,
    각각의 m, n 및 p는 독립적으로 0, 1 또는 2이고,
    SO3M은 설폰산기 또는 이의 염이며,
    각각의 고리 A 및 B는 독립적으로 임의로 더 치환된다.
  2. 제1항에 있어서, 각각의 R은 RA기인 것인 염료.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, RA기 또는 각각의 RA기는 화학식 -N(R1)CH(R2)CONH(R3)의 기이고, 이때 각각의 R1, R2 및 R3은 제1항에서 정의된 바와 같은 것인 염료.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, p는 2이고, SO3M기의 하나는 3-위치에 위치하며, 다른 하나는 5-위치 또는 6-위치에 위치하는 것인 염료.
  6. 제1항에 있어서, 각각의 m 및 n은 1인 것인 염료.
  7. 하기 화학식 II의 염료:
    화학식 II
    Figure 112005060291399-pct00017
    상기 화학식에서, 각각의 R1, R2 및 R3은 제1항에서 정의된 바와 같다.
  8. 제7항에 있어서, 각각의 R1, R2 및 R3은 하기와 같은 것인 염료:
    R1 R2 R3 H H H i-Pr H H Me H H Et H H Et Me H Me Me H Me H Me Me H Et H H Me Et H Et 또는 Et H Me
    상기에서, Me는 메틸, Et는 에틸, i-Pr은 이소프로필을 나타낸다.
  9. 하기 화학식 III의 염료 베이스를 하기 화학식 IV의 트리아진과 반응시켜 하기 화학식 V의 비스-트리아지닐아미노 염료를 형성시킨 후, 화학식 V의 비스-트리아지닐아미노 염료를 하기 화학식 VI의 카르바모일알킬아민과 반응시키는 것을 포함하는, 제1항에서 정의된 화학식 I의 염료의 제조 방법:
    화학식 III
    Figure 112005060291399-pct00018
    화학식 IV
    Figure 112005060291399-pct00019
    화학식 V
    Figure 112005060291399-pct00020
    화학식 VI
    Figure 112005060291399-pct00021
    상기 화학식에서, SO3M, m, n, p, Y, R1, R2, R3 및 R4은 전술한 바와 같다.
  10. 제1항에 의한 염료를 기재에 적용하는 것을 포함하는 기재의 착색 방법.
  11. 제10항에 있어서, 염료를 흡진 염법, 패딩 또는 프린팅에 의해 기재에 적용하는 것인 착색 방법.
  12. 제11항에 있어서, 염료를 pH 7 이상에서 셀룰로스 소재에 적용하는 것인 착색 방법.
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