KR100567083B1

KR100567083B1 - 성형 경면 연삭방법 및 장치

Info

Publication number: KR100567083B1
Application number: KR1019990006315A
Authority: KR
Inventors: 오모리히토시; 아라이나오키; 노구치키요타케; 데구치타카히사; 토에다타모쯔; 오구마히로유끼; 신도히사요시; 나가이유타카
Original assignee: 리까가쿠 켄큐쇼
Priority date: 1998-02-26
Filing date: 1999-02-25
Publication date: 2006-03-31
Also published as: SG70675A1; DE69901636T2; JPH11239969A; JP4104199B2; US6149504A; DE69901636D1; EP0938948A1; TW431936B; EP0938948B1; KR19990072939A

Abstract

전도성 지석(1)과 성형용 전극(4) 사이에 전압을 인가하고, 또한 전도성 지석에 성형용 전극을 접촉시키고, 접촉점에 스파크를 발생시켜 전도성 지석을 성형하고, 동시에 전도성 지석과 이에 비접촉적으로 대향하는 드레싱용(dressing) 전극(2) 사이에 전압을 인가하고, 또한 그 사이에 전도성 연삭액을 공급하여 전도성 지석을 전해 드레싱하여 지석의 날세움을 실시한다. 이에 의해 고정밀도의 성형가공과 고품질의 경면가공을 고능률적으로 동시에 실시할 수 있다.

전도성 지석, 성형용 전극, 드레싱용 전극, 전도성 연삭액, 전해 드레싱

Description

성형 경면 연삭방법 및 장치{Method and apparatus for shaping and mirror surface grinding}

도 1은 본 발명의 성형 경면 연삭장치의 전체 정면도이고,

도 2는 도 1의 주요부의 모식적 구성도이며,

도 3은 도 2의 A-A선을 따라 화살표방향에서 본 단면도이고,

도 4는 본 발명의 실시예를 나타내는 설명도이며,

도 5는 본 발명의 실시예를 나타내는 실험결과이고,

도 6은 본 발명의 실시예를 나타내는 다른 설명도이다.

본 발명은 초경재료(ultra-hard material)의 고정밀도의 성형가공과 고품질의 경면가공을 고능률적으로 동시에 실시할 수 있는 성형 경면 연삭방법 및 장치에 관한 것이다.

집적회로(IC)가 설치된 반도체 리드 플레임(lead frame)과 같은 복잡 또는 고정밀도의 부품제조에 있어서는, 동일하게 복잡 또는 고정밀도로 가공된 천공용 펀치가 불가결하게 된다. 이러한 천공용 펀치는 초경재료를 연삭하여 제작할 필요 가 있고, 성형의 고정밀도화 뿐만아니라 펀치공구로서의 성능(날카로움, 수명 등)을 결정하는 표면품질의 고도화를 겨냥한 경면가공을 고능률적으로 실시하는 것이 요구된다. 그러나, 종래의 연삭기술에 있어서는 고정밀도의 성형가공과 고품질의 경면가공을 고능률적으로 동시에 실현하는 것이 어렵다.

종래부터 복잡한 성형연삭가공에는, 홀딩강도(holding strength)가 높은 메탈본드지석(metal bond grindstone)이 사용되고 있는데, 이러한 성형 연삭가공에서는 성형가공을 고정밀도로 실시할 수는 있지만, 그 가공면을 고품질의 경면으로 마무리할 수는 없었다. 이 때문에 성형가공과 경면가공을 별도의 공정으로 실시할 필요가 있었다. 또한 리드 플레임과 같이 폭이 좁은 패턴(pattern)의 펀칭공구 (punching tool)를 연삭하는 얇고 예리한 지석을 성형하기 위해서는, 지석의 변형등에 의한 정밀도의 변화를 고려할 필요가 있고, 기계적인 트루잉(truing)법의 적용은 어려웠다.

바꾸어 말하면, 종래기술에 있어서, 성형가공과 경면가공을 분리하여 실시해 온 배경에는, (1)복잡한 성형연삭가공에 이용하는 지석 형상이 선단부(가공부)가 뾰족하게 솟아있고, 이 선단부가 마모 등으로 쉽게 둔화되며, 또한 마모후에 다시 고정밀도로 성형하는 것이 곤란한 점, 또는 (2)선단부의 마모후, 재성형해도, 지석의 날세움을 실시할 수 없기 때문에, 성형연삭에 있어서의 지석의 날카로움을 유지할 수 없다는 점 등이 있다.

한편, 종래의 연삭기술에서는 불가능하였던 고능률·초정밀한 경면 연삭을 실현하는 연삭수단으로서, 본 출원인등에 의해, 전해 인-프로세스 드레싱 연삭법 (electrolytic in-process dressing grinding method, 이하 ELID 연삭법)이 개발되고, 발표되었다. 이 ELID 연삭법은 메탈본드지석의 전도성 결합부를 전해 드레싱으로 용해시켜 날세움을 실시하면서 연삭하는 것이다. 본 연삭법에 의해, 미세한 지석입자를 갖는 메탈본드지석으로 초경재료에 대해 효율적인 경면가공이 가능하고, 특히 메탈본드지석의 날세움작업의 실시에 의해, 고능률화·초정밀화가 이루어지는 의의는 상당히 크다.

그러나, 특히 리드 플레임과 같은 폭이 좁은 패턴의 펀치공구의 성형연삭에서는, 지석을 얇게 하고, 선단형상을 뾰족하게 성형하는 것이 필요하기 때문에, ELID 연삭법을 적용하면, 고능률·초정밀한 경면 연삭은 가능하지만, 뾰족하게 솟은 지석의 선단부(가공부)가 집중적으로 전해 드레싱되기 때문에 선단부의 형상 유지가 어렵고, 고정밀도의 성형이 어려운 문제점이 있었다.

따라서, 고정밀도의 성형가공과 고품질의 경면가공을 고능률적으로 동시에 실시하게 위해, ELID 연삭수단으로 메탈본드지석의 성형기능을 부가하는 것이 요구되고 있다.

본 발명은 이러한 요구를 만족시키기 위해 창안된 것이다. 즉, 본 발명의 목적은 고정밀도의 성형가공과 고품질의 경면가공을 고능률적으로 동시에 실시할 수 있는 성형 경면 연삭방법 및 장치를 제공하는데 있다.

본 발명에 따르면, 전도성 지석(1)과 성형용 전극(4) 사이에 전압을 인가하고, 또한 전도성 지석에 성형용 전극을 접촉시켜, 접촉점에 스파크(spark)를 발생 시켜 전도성 지석을 성형하고, 동시에 전도성 지석과 이에 비접촉적으로 대향하는 드레싱 전극(2) 사이에 전압을 인가하고, 또한 그 사이에 전도성 연삭액을 공급하여 전도성 지석을 전해 드레싱하여 지석의 날세움을 실시하는 것을 특징으로 하는 성형 경면 연삭방법이 제공된다.

상기 방법에 따르면, 전도성 지석과 성형용 전극이 접촉하고, 그 접촉점에서 스파크를 발생시켜 전도성 지석을 성형하는 것(이하, 스파크 트루잉(spark truing)이라 함)에 의해, 전도성 지석을 원하는 형상으로 고정밀도로 성형가공할 수 있다. 또한, 이 방법에 따르면, 동시에 전도성 지석과 이에 비접촉적으로 대향하는 드레싱용 전극(2) 사이에 전압을 인가하고, 또한 그 사이에 전도성 연삭액을 공급하여, 전도성 지석을 전해 드레싱하여 지석의 날세움을 하는 (ELID 연삭)에 의해, 성형한 전도성 지석에 날세움을 실시할 수 있고, 고품질의 경면가공을 고능률적으로 실시할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 회전하는 전도성 지석(1)을 양극으로 하고 그 지석표면에 비접촉하면서 대향하여 설치·고정된 드레싱용 전극(2)을 음극으로 하며 또한 상기 전도성 지석과는 독립적으로 회전구동되는 원반상 성형용 전극(4)을 상기 전도성 지석표면에 접촉시키면서 음극으로 하는 전압인가수단(9), 상기 전도성 지석과 상기 드레싱용 전극 및 상기 원반상 성형용 전극 사이에 전도성 연삭액을 흘리는 공급수단(10, 11, 12), 상기 원반상 전극을 상기 전도성 지석의 표면을 따라 구동시키는 이동수단(20), 및 상기 전도성 지석과 피가공물(22)을 상대적으로 운동시키는 구동수단(24)을 갖고, 상기 전도성 지석(1)의 날세움과 성형을 전기적으로 동시에 실시하면서, 상기 피가공물(22)의 경면가공과 성형가공을 동시에 실시하는 것을 특징으로 하는 성형 경면 연삭장치가 제공된다.

본 발명에 있어서는, 성형 연삭용의 전도성 지석에 대하여, 지석성형을 전기적으로 실시하는 것에 의해, 기계적 성형법에 의해 발생되는 성형시의 부하를 억제하고, 고정밀도이며 능률적인 성형을 가능하게 하고, 또한 동시에 ELID 연삭법에 의해 미세한 지석입자를 갖는 메탈본드지석의 날세움도 실시하며, 성형연삭과 경면 연삭을 능률적으로 동시에 실현함으로써 반도체 리드 플레임의 제조에 제공되는 복잡 또한 초정밀한 펀칭공구의 연삭가공을 실현하는 것이다.

또한, 본 발명의 구성에 따르면, 지석의 성형과 날세움은 독립적으로, 또한 동시에 실시할 수 있기 때문에, 원하는 지석형상의 설정과 날세움을 고능률적으로 실현할 수 있다. 또한, 지석의 날카로움의 지속성에 대해서도 ELID 연삭의 효과에 의해 안정화가 가능하고, 또한 지석형상의 지속성에 대해서도 필요에 따라 지석형상의 성형이 가공중에 가능하기 때문에, 성형연삭작업의 공정수의 단축 뿐만아니라, 절차에 요구되는 시간단축도 가능하다.

본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 상기 전도성 지석(1)은 다이아몬드 또는 CBN으로 이루어진 지석입자와, 이를 고정하는 전도성 결합부로 이루어진다. 이 구성에 의해, 스파크 트루잉 및 ELID 연삭에 의해 전도성 결합부를 효율적으로 제거하고, 지석형상의 성형과 지석의 날세움을 실시할 수 있다.

또한, 상기 원반상 성형용 전극(4)은, 중앙의 전도부와 그 주변의 반전도부로 이루어진다. 이 구성에 의해, 반전도부의 전도성(전기저항)을 스파크 트루잉에 적합한 값으로 설정할 수 있다.

또한, 상기 원반상 성형용 전극의 반전도부는, 다이아몬드 지석입자를 포함하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의해, 스파크 트루잉과 다이아몬드 지석입자에 의한 연삭을 병용할 수 있다.

본 발명의 그 외의 목적 및 유리한 특징은 첨부한 도면을 참조한 이하의 설명에서 명백해질 것이다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 각 도에 있어서 공통하는 부분에는 동일한 부호를 붙이고, 중복되는 설명은 생략한다.

도 1은 본 발명의 성형 경면 연삭장치의 전체 정면도이다. 이 도에 나타난 바와 같이, 본 발명의 성형 경면 연삭장치는 회전하는 전도성 지석(1)을 양극으로 하고 그 지석표면에 비접촉하며 대향하여 설치·고정된 드레싱용 전극(2)을 음극으로 하고 또한 전도성 지석(1)과는 독립적으로 회전구동되는 원반상 성형용 전극(4)을 전도성 지석(1)의 표면에 접촉시키면서 음극으로 하는 전압인가수단(9), 전도성 지석(1)과 드레싱용 전극(2) 및 원반상 성형용 전극(4) 사이에 전도성 연삭액을 흘리는 공급수단(10, 11, 12), 원반상 전극(4)을 전극성 지석(1)의 표면을 따라 구동시키는 이동수단(20), 및 전도성 지석(1)과 피가공물(22)를 상대적으로 운동시키는 구동수단(24)을 갖고 있다.

즉, 도 1에 있어서, 성형 경면 연삭장치의 전도성 지석(1)에 비접촉하며 대향하게 설치하여, 드레싱용 전극(2)을 설치한다. 또한, 원반상 성형용 전극(4)을 회전구동장치(5)를 끼워서 피가공물 설치대(3)상에 설치한다. 이 원반상 성형용 전극(4)은 전도성 지석(1)과는 독립적으로 회전구동된다. 또한, 드레싱용 전극 (2) 및 원반상 성형용 전극(4)은 플라스틱판 등의 절연체(6)를 사이에 두어 성형 경면 연삭장치 본체에 설치하여, 성형 경면 연삭장치 본체와 전기적으로 절연되어 있다.

도 2는 도 1의 주요부의 모식적 구성도이고, 도 3은 도 2의 A-A선을 따라 화살표방향에서 본 단면도이다. 도 2 및 도 3에 나타난 바와 같이, 피가공물 설치대 (3)상에는 피가공물(22) 및 전도성 지석(1)의 형상을 전사하기 위한 박판(21)이 설치되어 있다. 또한, 도 2에 나타난 바와 같이, 전도성 지석(1)이 양극, 드레싱용 전극(2) 및 원반상 성형용 전극(4)이 음극이 되도록, 전압인가수단으로 하여 전원장치(9)로부터 전압을 인가시키도록 되어 있다. 또한, 전도성 지석(1)과 드레싱용 전극(2)의 극간, 및 전도성 지석(1)과 원반상 성형용 전극(4)의 접촉점, 및 전도성 지석(1)과 피가공물의 접촉점에 전도성 연삭액을 흘리는 공급수단으로서, 연삭액 공급장치(10), 노즐(11, 12) 및 그 사이를 연통하는 연삭액 라인(11a, 12a)이 설치되고, 이것들을 통해 전도성 연삭액을 공급하도록 되어 있다.

또한, 성형 경면 연삭장치의 상부에는 맺힌 영상을 스크린상에 표시하도록 투영기(8)가 설치되어 있다. 이 투영기(8)로부터 전도성 지석(1)과 피가공물(22) 및 원반상 성형용 전극(4)과의 상대위치를 항상 확인할 수 있다. 또한, 전도성 지석(1)의 형상에 대해서는, 투영기(8)에 의해 직접 확인하는 것외에, 피가공물 설치대(3)상에 설치된 박판(21)에 전도성 지석(1)을 접촉시키는 것으로 전도성 지석(1) 의 형상을 박판(21)으로 전사함으로써 확인할 수 있다.

또한, 전도성 지석(1)을 제어장치(7)로부터의 명령에 의해 도 3의 전후방향 (16) 및 좌우방향(17)으로 독립적으로 또는 동시에 이동시킬 수 있는 이동수단 (24)(예를 들어, NC에 의한 X-Y테이블)을 갖고, 전도성 지석(1)과 피가공물(22) 및 원반상 성형용 전극(4)과의 상대위치를 2차원상에서 자유롭게 제어할 수 있다.

상술한 구성의 성형 경면 연삭장치에 의해, 도 3에 나타난 바와 같이, 전도성 지석(1)과 원반상 성형용 전극(4)을 접촉시키고, 전도성 지석(1)과 원반상 성형용 전극(4)과의 접촉점에 전도성 연삭액을 공급하고, 스파크를 발생시키면서, 전도성 지석(1)을 제어장치(7)로부터의 명령에 의해 전후방향(16) 및 좌우방향(17)으로 독립적으로 또는 동시에 이동시켜, 원반상 성형용 전극(4)을 전도성 지석(1)의 표면 및 원하는 지석형상을 따라 상대이동시킨다. 따라서, 이러한 지석 성형수단은 ELID 연삭법에 의한 지석 날세움수단과, 독립적으로 또는 동시에 가동가능하고, 원하는 지석형상의 성형과 날세움을 고능률적으로 실시할 수 있다.

본 발명의 방법에 따르면, 상술한 성형 경면 연삭장치를 이용하고, 전도성 지석(1)과 성형용 전극(4) 사이에 전압을 인가하고, 또한, 전도성 지석(1)에 성형용 전극(4)을 접촉시키고, 접촉점에 스파크를 발생시켜서 전도성 지석(1)을 성형하고, 동시에 전도성 지석(1)과 이에 비접촉적으로 대향하는 드레싱용 전극(2) 사이에 전압을 인가하고, 또한 그 사이에 전도성 연삭액을 공급하여 전도성 지석을 전해 드레싱하여 지석의 날세움을 실시한다.

즉, 투영기(8)에 의해 전도성 지석(1)과 피가공물의 상대위치를 확인하면서, 전도성 지석(1)을 제어장치(7)로부터의 명령에 의해 전후방향(16) 및 좌우방향(17)으로 독립적으로 또는 동시에 이동시킬 수 있는 이동수단(24)에 의해, 전도성 지석(1)을 원하는 피가공물 형상을 따라 이동시킨다. 이 피가공물 성형수단은 ELID 연삭법에 의한 수단과, 독립적으로 또는 동시에 가동할 수 있고, 상기 피가공물의 성형가공과 경면가공을 동시에 실시할 수 있다.

상술한 방법에 따르면, 전도성 지석(1)과 성형용 전극(4)이 접촉하여, 그 접촉점에 스파크를 발생시켜 전도성 지석(1)을 성형하는 것(스파크 트루잉)에 의해, 전도성 지석(1)을 원하는 형상으로 고정밀도로 성형가공할 수 있다. 또한, 이 방법에 따르면, 동시에 전도성 지석(1)과 이에 비접촉적으로 대향하는 드레싱용 전극 (2) 사이의 ELID 연삭에 의해 성형한 전도성 지석(1)에 날세움을 할 수 있고, 고품질의 경면가공을 고능률적으로 실시할 수 있다.

또한, 상술한 구성의 성형 경면 장치로부터 성형 연삭용의 전도성 지석에 대하여, 지석성형을 전기적으로 실시하는 것에 의해, 기계적 성형법에 의해 발생하는 성형시의 부하를 억제하고, 고정밀도의 또한 능률적인 성형을 가능하게 하고, 또한 동시에 ELID 연삭법에 의해 미세 지석입자를 갖는 메탈본드지석의 날세움도 실시하며, 성형연삭과 경면 연삭을 능률적으로 동시에 실현하는 것에 의해, 반도체 리드 플레임의 제조에 제공되는 복잡 또는 초정밀한 펀치공구의 연삭가공을 실현할 수 있다.

또한, 본 발명의 구성에 따르면, 지석의 성형과 날세움은 독립적으로, 또는 동시에 실시할 수 있기 때문에, 원하는 지석형상의 세팅과 날세움을 고능률적으로 실현할 수 있다. 또한, 지석의 날카로움의 지속성에 대해서도 ELID 연삭의 효과에 의해 안정화가 가능하고, 또한 연삭형상의 지속성에 대해서도 필요에 따라 지석형상의 성형을 가공중에 할 수 있기 때문에, 성형연삭작업의 공정수의 단축 뿐만아니라, 절차에 요구되는 시간단축도 가능하다.

또한, 전도성 지석(1)은 다이아몬드 또는 CBN으로 이루어진 지석입자와, 이를 고정하는 전도성 결합부로 이루어지는 것이 바람직하다. 이 구성에 의해, 스파크 트루잉 및 ELID 연삭에 의해 전도성 결합부를 효율적으로 제거하고, 지석형상의 성형과 지석의 날세움을 실시할 수 있다.

또한, 원방상 성형용 전극(4)은 중앙의 전도부와 그 주변의 반전도부로 이루어지는 것이 바람직하다. 이 구성에 의해, 반전도부의 전도성(전기저항)을 스파크 트루잉에 적합한 값으로 고정할 수 있다.

또한, 원반상 성형용 전극(4)의 반전도부는 다이아몬드 지석입자를 포함하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의해, 스파크 트루잉과 다이아몬드 지석입자에 의한 연삭을 병용할 수 있다.

실시예

이하, 본 발명의 실시예를 설명한다.

우선 도 4a에 나타난 수단으로 스파크 트루잉을 실시한 후, 극히 단시간에 절삭깊이와 동일한 정도의 제거량이 얻어졌다. 이에 비하여, 트루잉 지석으로서 종래의 WA지석(γ-알루미나를 지석입자의 주성분으로 하는 이른바 화이트·알런덤 지석(white·alundum grindstone))으로는 절삭깊이에 대하여 대부분 제거할 수 없 었다. 이러한 절삭깊이와 반경감소량의 관계를 도 3에 나타내었다. 이 결과로부터 종래의 WA지석으로는 ELID연삭에 이용하는 주철메탈본드지석과 같은 상당히 딱딱한 지석의 기계적 트루잉이 상당히 어렵고, 비능률적인 것을 알 수 있다.

이어, 도 4b에 나타난 수단으로, 편 V 지석(one-side V grindstone)(전도성 지석(1))의 스파크 트루잉을 실시하였다. 스파크 트루잉의 조건은 부가전압 110V, 최대전류 10A, 펄스폭 ON/OFF 모두 2μsec에서 실시하였다. 또한, 스파크 트루잉이 최적으로 실시되도록 원반상 성형용 전극(4)을, 중앙의 전도부와 그 주변의 반전도부로 구성하고, 이 반전도부의 전도성(전기저항)을 스파크 트루잉에 적합한 값으로 조정하였다. 이 결과, 트루잉전의 지석의 거침(roughness)은 기준면이 약 100㎛, 경사면(15˚)가 약 40㎛였지만, 약 3시간에 5㎛까지 감소시킬 수 있었다.

상술한 편 V 지석(전도성 지석(1))을 사용하여, 스파크 트루잉을 병용하면서 ELID 연삭에 의해 도 6에 나타난 피가공물의 테이퍼 부분(tapered part)을 연삭하고, 표면거칠기를 측정하였다. 또한, 이 피가공물은 초경합금(JIS에 의한 V10)이고, 연삭전의 표면거칠기는 1.31㎛Ry였다. 또한, ELID연삭의 조건은 부가전압 30V, 최대전류 2A, 펄스폭, ON 2μsec/OFF 4μsec에서 실시하였다.

이 결과, 마무리후의 표면거칠기로서 0.069㎛Ra, 0.24㎛Ry의 값이 얻어지고, 종래의 프로파일 연삭면(profile-grinding surface)에 비하여, 극히 양호한 표면품질을 실현할 수 있었다.

또한, 본 발명을 몇개의 바람직한 실시예에 의해 설명하였지만, 본 발명에 포함된 권리범위는 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 권리범위는 첨부한 청구의 범위에 포함된 모든 개량, 수정 및 균등물을 포함하는 것이다.

본 발명에 따르면, 전도성 지석의 날세움과 성형을 전기적으로 독립적으로 또는 동시에 실시하는 것에 의해, 고능률적인 성형연삭조건에 있어서 지석형상 및 날카로움을 유지시킬 수 있게 되고, 종래 어려웠던 리드 플레임용 펀치등의 복잡한 형상을 갖는 피가공물의 경면가공과 성형가공을 고능률적으로 실시할 수 있게 된다. 본 발명에 의해, 성형가공의 고정밀도화가 가능해지고, 결과적으로 리드 플레임용 펀치의 높은 가공정밀도화에 의한 리드 플레임의 고정밀도화를 실현할 수 있다. 또한, 리드 플레임용 펀치의 경우에는 표면이 경면으로 되어 종래보다도 성능(날카로움, 수명 등)을 향상시킬 수 있다.

즉, 본 발명의 성형경면 연삭방법과 장치는 고정밀도의 성형가공과 고품질의 경면가공을 고능률적으로 동시에 실시할 수 있는 우수한 효과를 갖는다.

Claims

전도성 지석(1)과 성형용 전극(4) 사이에 전압을 인가하고, 또한 전도성 지석에 성형용 전극을 접촉시키고, 접촉점에 스파크를 발생시켜 전도성 지석을 성형하고,

상기 성형을 행하면서, 전도성 지석과 이에 비접촉적으로 대향하는 드레싱용 전극(2) 사이에 전압을 인가하고, 또한 그 사이에 전도성 연삭액을 공급하여 전도성 지석을 전해 드레싱하여 지석의 날세움을 실시하며,

이것에 의해, 전도성 지석의 날을 세워, 성형을 전기적으로 동시에 행하면서 전도성 지석과 피가공물(22)을 상대운동시켜, 피가공물의 경면가공과 성형가공을 동시에 행하는 것을 특징으로 하는 성형 경면 연삭방법.
회전하는 전도성 지석(1)을 양극으로 하고 그 지석표면에 비접촉하며 대향하여 설치·고정된 드레싱용 전극(2)을 음극으로 하고 또한 상기 전도성 지석과는 독립적으로 회전구동되는 원반상 성형용 전극(4)을 상기 전도성 지석표면에 접촉시키면서 음극으로 하는 전압인가수단(9), 상기 전도성 지석과 상기 드레싱용 전극 및 상기 원반상 성형용 전극 사이에 전도성 연삭액을 흘리는 공급수단(10, 11, 12), 상기 원반상 전극을 상기 전도성 지석의 표면을 따라 구동시키는 이동수단(20), 상기 전도성 지석과 피가공물(22)을 상대적으로 운동시키는 구동수단(24)을 갖고, 상기 전도성 지석(1)의 날세움과 성형을 전기적으로 동시에 실시하면서, 상기 피가공물(22)의 경면가공과 성형가공을 동시에 실시하는 것을 특징으로 하는 성형 경면 연삭장치.
제 2항에 있어서, 상기 전도성 지석(1)은 다이아몬드 또는 CBN으로 이루어진 지석입자와, 이를 고정하는 전도성 결합부로 이루어진 것을 특징으로 하는 성형 경면 연삭장치.
제 2항에 있어서, 상기 원반상 성형용 전극(4)은 중앙의 전도부와 그 주변의 반전도부로 이루어진 것을 특징으로 하는 성형 경면 연삭장치.
제 2항에 있어서, 상기 원반상 성형용 전극의 반전도부는 다이아몬드 지석입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 성형 경면 연삭장치.