KR100565104B1 - 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents

리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100565104B1
KR100565104B1 KR1020030037093A KR20030037093A KR100565104B1 KR 100565104 B1 KR100565104 B1 KR 100565104B1 KR 1020030037093 A KR1020030037093 A KR 1020030037093A KR 20030037093 A KR20030037093 A KR 20030037093A KR 100565104 B1 KR100565104 B1 KR 100565104B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coil
sheet material
winding axis
radiation
substrate
Prior art date
Application number
KR1020030037093A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030096008A (ko
Inventor
프리센페트루스카롤루스마리아
콤프터요한코르넬리스
타보르로브
Original Assignee
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. filed Critical 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Publication of KR20030096008A publication Critical patent/KR20030096008A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100565104B1 publication Critical patent/KR100565104B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K3/00—Details of windings
    • H02K3/04—Windings characterised by the conductor shape, form or construction, e.g. with bar conductors
    • H02K3/18—Windings for salient poles
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
    • H02K41/031—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors of the permanent magnet type
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K2201/00—Specific aspects not provided for in the other groups of this subclass relating to the magnetic circuits
    • H02K2201/18—Machines moving with multiple degrees of freedom
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K3/00—Details of windings
    • H02K3/32—Windings characterised by the shape, form or construction of the insulation
    • H02K3/325—Windings characterised by the shape, form or construction of the insulation for windings on salient poles, such as claw-shaped poles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Windings For Motors And Generators (AREA)
  • Reciprocating, Oscillating Or Vibrating Motors (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Electromagnets (AREA)

Abstract

본 발명은 리소그래피투영장치내의 액추에이터에 사용하기 위한 코일(20)에 관한 것이다. 상기 코일(20)은 권선축선(22)을 중심으로 감겨 있는 도전성 시트재의 스트립(21)으로 형성된다. 시트재의 스트립(21)의 각 턴(turn)들은 비도전성 층(25)에 의하여 분리되어 있다.

Description

리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 {Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피투영장치를 나타낸 도,
도 2는 종래 코일의 단면도,
도 3은 본 발명에 따른 코일의 사시도,
도 4는 본 발명에 따른 코일의 평면도,
도 5는 도 4의, 단면 AA에 따라 취한 코일을 나타낸 도,
도 6은 본 발명에 따른 상이한 코일 유닛의 배열을 개략적으로 나타낸 도이다.
도면에서, 동일한 참조부호는 동일한 부분을 나타낸다.
본 발명은,
- 방사선의 투영빔을 공급하는 방사선시스템;
- 투영 빔을 소정 패턴에 따라 패터닝하는 역할을 하는 패터닝 수단을 지지하는 지지구조체;
- 기관을 잡아주는 기판테이블;
- 패터닝된 투영 빔을 기판의 타겟부상으로 투영하는 투영 시스템; 및
- 상기 지지구조체 및 상기 기판테이블 중 적어도 하나를 위치설정시키기 위한 위치설정장치를 포함하는 리소그래피투영장치에 관한 것이다.
"패터닝수단(patterning means)"이라는 용어는 기판의 타겟부에 형성되어야 할 패턴에 대응하는 패터닝된 단면을 입사하는 방사빔에 부여하도록 사용될 수 있는 수단을 의미하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 하며, 본 명세서에서는 "광 밸브(light valve)"라는 용어로도 사용된다. 일반적으로, 상기 패턴은 집적회로 또는 기타 디바이스와 같이 타겟부에 형성될 디바이스 내의 특정기능층에 해당할 것이다(이하 참조). 그러한 패터닝수단의 예로는 다음과 같은 것들이 포함된다.
- 마스크. 이 마스크의 개념은 리소그래피분야에서 이미 잘 알려져 있고, 바이너리(binary)형, 교번위상-시프트(alternating phase-shift)형 및 감쇠위상-시프트형과 같은 마스크형식과 다양한 하이브리드 마스크형식을 포함한다. 방사빔내에 이러한 마스크가 놓이면, 마스크의 패턴에 따라 마스크로 입사되는 방사선의 선택적인 투과(투과형 마스크의 경우) 또는 반사(반사형 마스크의 경우)가 이루어진다. 마스크의 경우에는, 일반적으로 마스크테이블이 지지구조체가 되고, 상기 마스크테이블은 입사되는 투영빔내의 소정위치에 마스크가 고정될 수 있게 하며, 필요한 경우에는 마스크를 상기 빔에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있도록 한다.
- 프로그램가능한 거울배열. 이러한 장치의 예로는, 점탄성 제어층 (viscoelastic control layer)과 반사면을 구비한 매트릭스-어드레서블 표면이 있 다. 이러한 장치의 기본원리는, (예를 들어) 반사면의 어드레스된 영역(addressed area)에서는 입사광이 회절광으로 반사되는 반면, 어드레스되지 않은 영역에서는 입사광이 비회절광으로 반사되는 것이다. 적절한 필터를 사용하면, 상기 비회절광을 필터링하여 회절광만 남게 할 수 있다. 이러한 방식으로, 상기 빔은 상기 매트릭스-어드레서블 표면의 어드레싱 패턴에 따라 패터닝된다. 프로그램가능한 거울배열의 대안적인 실시예는 작은 거울의 매트릭스 배치를 채택하는 것인데, 상기 각각의 작은 거울은 적당하게 국부적으로 치우친 전기장을 가하거나 또는 압전작동수단(piezoelectric actuation means)을 채택하여 축에 대하여 개별적으로 기울어질 수 있다. 또한, 상기 거울은 매트릭스-어드레서블이고, 이러한 어드레싱된 거울은 입사하는 방사빔을 어드레싱되지 않은 거울에 대하여 다른 방향으로 반사할 것이다. 이러한 방식으로, 반사된 빔은 매트릭스-어드레서블 거울의 어드레싱 패턴에 따라 패터닝된다. 이때 요구되는 매트릭스 어드레싱은 적당한 전자수단을 사용하여 수행될 수 있다. 상술된 두가지 상황 모두에 있어서, 패터닝수단은 1이상의 프로그램가능한 거울배열로 이루어질 수 있다. 이러한 거울배열에 관한 보다 상세한 정보는, 예를 들어 본 명세서에서 참고자료로 채택되고 있는 미국특허 US 5,296,891호 및 US 5,523,193호와 PCT 특허출원 WO 98/38597호 및 WO 98/33096호로부터 얻을 수 있다. 프로그램가능한 거울배열의 경우에, 상기 지지구조체는 필요에 따라 고정되거나 또는 이동할 수 있는, 예를 들어, 프레임 또는 테이블로 구현될 수 있다.
- 프로그램가능한 LCD 배열. 이러한 구조의 일례는 본 명세서에서 참고자료 로 채택되고 있는 미국특허 US 5,229,872호에 개시되어 있다. 상술된 바와 같이, 이러한 경우에서의 지지구조체는 필요에 따라 고정되거나 또는 이동할 수 있는, 예를 들어, 프레임 또는 테이블로 구현될 수 있다.
설명을 간단히 하기 위하여, 본 명세서의 나머지 부분 중 어느 곳에서는 그 자체가 마스크와 마스크테이블을 포함하는 예시적인 용어로서 특정적으로 지칭될 수도 있다. 하지만, 그러한 예시에서 논의된 일반적인 원리는 상술한 바와 같은 패터닝수단의 광의의 개념으로 이해되어야 한다.
예를 들어, 리소그래피 투영장치는 집적회로(IC)의 제조에 사용될 수 있다.이 경우에, 패터닝수단은 IC의 각각의 층에 대응되는 회로패턴을 형성할 수 있으며, 이 패턴은 이후에 방사선 감응재(레지스트)층으로 도포된 기판(실리콘 웨이퍼)상의 타겟부(예를 들어, 1이상의 다이로 구성되는)상으로 묘화될 수 있다. 일반적으로, 단일 웨이퍼는 인접해 있는 타겟부들의 전체적인 네트워크를 포함하고, 이들 타겟부는 투영시스템에 의하여 한번에 하나씩 연속적으로 조사된다. 현재 통용되는 장치에서, 마스크테이블상의 마스크에 의한 패터닝을 채택하는 데에는, 두 가지 상이한 형식의 기계로 구분될 수 있다. 어느 한 형식의 리소그래피 투영장치에서는 타겟부상으로 전체 마스크 패턴을 한번에 노광함으로써 각 타겟부가 조사되는데, 이러한 장치를 통상적으로 웨이퍼 스테퍼(wafer stepper)라고 한다. 통상, 스텝-앤드-스캔 장치(step-and-scan apparatus)라고 불리워지는 대체 장치에서는 소정의 기준 방향("스캐닝 방향")으로 투영빔 하의 마스크 패턴을 점진적으로 스캐닝하는 한편, 상기 스캐닝 방향과 같은 방향 또는 반대 방향으로 기판테이블을 동기적으로 스캐닝함으로써 각 타겟부가 조사된다. 일반적으로, 투영시스템은 배율인자 M(일반적으로 < 1)을 가지므로 기판테이블이 스캐닝되는 속도 V는 마스크테이블이 스캐닝되는 속도의 인자 M배가 된다. 본 명세서에 참고자료로 채택되고, 여기서 서술된 리소그래피 장치에 관한 보다 상세한 정보는, 예를 들어 미국특허 US 6,046,792호에서 찾을 수 있다.
리소그래피 투영장치를 사용하는 제조공정에서, (예를 들어, 마스크의) 패턴은 방사선 감응재(레지스트)층에 의하여 적어도 부분적으로 도포되는 기판상으로 묘화된다. 이 묘화 단계에 앞서, 기판은 전처리(priming), 레지스트 코팅 및 소프트 베이크와 같은 여러가지 과정을 거칠 수 있다. 노광 후에는, 노광후 베이크(PEB), 현상, 하드 베이크 및 묘화된 형상의 측정/검사와 같은 또 다른 과정을 거치게 된다. 이러한 일련의 과정은, 예를 들어 IC의 각각의 층을 패터닝하는 기초로서 사용된다. 이렇게 패터닝된 층은 에칭, 이온주입(도핑), 금속화, 산화, 화학-기계적 폴리싱 등과 같은, 각각의 층을 가공하기 위한 여러 공정을 거친다. 여러 개의 층이 요구된다면, 새로운 층마다 전체공정 또는 그것의 변형된 공정이 반복되어져야만 할 것이다. 그 결과로, 기판(웨이퍼)상에는 집적회로 디바이스의 배열이 존재하게 될 것이다. 이들 집적회로 디바이스는 다이싱 또는 소잉 등의 기술에 의하여 서로 분리되고, 이들 각각의 집적회로 디바이스는 캐리어에 장착되고 핀 등에 접속될 수 있다. 본 명세서에서 참고자료로 채택되고 있는 이와 같은 공정에 관한 추가정보는 예를 들어, "Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Processing (3판, Peter van Zant 저, McGraw Hill출판사, 1997, ISBN 0-07-067250-4)"으로부터 얻을 수 있다.
설명을 간단히 하기 위하여, 상기 투영시스템은 이후에 "렌즈"라고 언급 될 것이다. 하지만 이 용어는 예를 들어, 굴절광학기, 반사광학기, 카타디옵트릭 (catadioptric) 시스템을 포함하는 다양한 형태의 투영시스템을 내포하는 것으로서 폭 넓게 해석되어야 한다. 또한 상기 방사선시스템은 방사선투영빔의 지향, 성형 또는 제어하는 이들 설계형식 중의 어느 하나에 따라 동작하는 구성요소를 포함할 수 있고, 이후에 설명에서는 이러한 구성요소들을 집합적으로 또는 개별적으로 "렌즈"라고 언급할 것이다. 나아가, 상기 리소그래피 장치는 2이상의 기판테이블 (및/또는 2이상의 마스크테이블)을 구비하는 형태가 될 수도 있다. 이러한 "다수 스테이지" 장치에서, 추가테이블이 병행으로 사용될 수 있으며, 1이상의 스테이지가 노광에 사용되고 있는 동안, 1이상의 다른 스테이지에서는 준비작업단계가 수행될 수 있다. 본 명세서에서 참고자료로 채택되는 듀얼스테이지 리소그래피 장치는, 예를 들어, 미국특허 US 5,969,441호 및 국제특허출원 WO 98/40791호에 개시되어 있다.
마스크테이블(MT) 및 기판테이블(WT)이 이동되도록 힘을 가하기 위하여 종래 리소그래피장치에 사용되는 위치설정장치는 통상, 복수의 액추에이터를 포함한다. 액추에이터는 상기 장치의 일부분에 부착되는 구리코일 및 상기 장치의 다른 부분에 부착되는 자석조립체로 구성된다. 상기 코일을 통해 전류가 지나게 되면, 코일을 지나는 전류와 자석에 의하여 발생되는 자기장의 상호작용에 의해 상기 장치의 두 부분간에 소정의 힘이 발생한다. 종래 액추에이터의 코일들은 직교사이클 형태로 감겨있는 절연된 와이어로 형성된다. 첨부도면 도 2는 이러한 코일의 단면을 도 시하고 있다. 코일(10)은 권선축선(12)을 중심으로 감겨있는 구리와이어(11)로 형성된다. 구리와이어(11)의 매 턴(turn)간의 단락을 방지하기 위하여, 상기 와이어는 전기절연재(12)로 싸여있다.
리소그래피장치안의 온도변화 및 온도변화도(temperature gradients)는 상기 장치의 성능의 정확도를 떨어뜨리고 열변형은 상기 장치안의 구성요소 또는 상기 장치에 의하여 처리되고 있는 기판에 손상을 줄 수도 있다. 따라서, 상기 장치내에서 발생되는 열을 최소화하거나, 그것이 가능하지 않을 경우 발생된 열을 제거하는 것이 바람직하다. 액추에이터에 의하여 발생된 소정의 힘에 대하여 코일에서 발생되는 열은 보다 큰 코일일 사용함으로써 줄일 수도 있다. 하지만, 이는 액추에이터의 질량을 증가시켜 더욱 큰 힘을 필요로하게 되며 보다 높은 열을 발생시키게 된다. 따라서, 액추에이터의 코일(10)에는 와이어(11)를 지나는 전류에 의하여 발생되는 열을 제거하는 냉각요소(14)가 제공된다.
하지만, 직교사이클로 감겨있는 와이어로 구성된 종래의 코일디자인에서는, 코일을 통한 열전달률이 떨어진다. 각각 절연된 와이어의 피스는 인접한 와이어피스들과 단지 선접촉상태를 이루고 있어 열이 전도될 면적이 제한되어 있다. 또한, 와이어(11)를 또 다른 와이어로부터 전기적으로 절연시키기 위해 사용되는 재료(13)는 대체적으로 코일을 지나는 열전달특성을 더욱 저하시키는 불량한 열전도체로 이루어지는 경향이 있다. 결과적으로, 코일 저부측(10b)에서 발생되는 열의 상당부분은 코일을 통해 냉각요소(14)로 전달되기 보다는 코일을 둘어싸고 있는 주변부(environment:15)로 방산된다.
본 발명의 목적은 열전달특성을 향상시킨 리소그래피투영장치에 사용하기 위한 액추에이터 또는 위치설정장치용 코일을 제공하는 것이다.
상기 및 여타 목적은 서문에 언급한 바와 같은 본 발명에 따른 리소그래피장치에 의하여 달성되며, 이는, 상기 위치설정장치가 스테이터 및 트랜스레이터를 갖는 평면모터를 포함하고, 상기 스테이터와 상기 트랜스레이터 중 하나는 주기적 자기구조체(periodic magnet structure)를 포함하며, 그 다른 하나는 전류를 전달할 수 있는 복수의 코일을 포함하고, 상기 코일은 도전성 시트재로 된 스트립을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이는 도전성 시트재로 된 스트립의 폭에 걸쳐 열이 전달되기 때문에, 향상된 열전달특성을 갖는 코일을 제공한다. 이는 도전성재료가 종래 코일디자인에서 사용되는 절연재료보다 높은 열전도성을 갖기 때문에 유리하다.
도전성 시트재 자체가 전류를 전달하는 코일을 형성하는 것이 바람직하다. 상기 코일은 종래 코일보다 양호한 공간충전률(space filling factor)을 갖는다. 예를 들면, 본 구성에 따른 코일의 공간충전률은 종래의 직교사이클로 감긴 구리코일에 대한 공간충전률이 0.7인데 반해 대략 0.8에 이른다. 이는 소요되는 크기를 줄여줌으로써 소정 액추에이터에 필요한 코일의 무게를 줄여준다.
바람직한 실시예에서, 코일은 알루미늄 시트재로부터 형성된다. 알루미늄으로 만들어진 코일의 부가적인 이점은, 비록 그 전도성이 종래에 사용되던 구리보다 는 낮지만, 그를 상쇄하고도 남는 낮은 밀도로 인해 보다 가벼운 코일을 제작할 수 있다는 점이다. 이러한 이점은 알루미늄을 와이어로 뽑아내기가 매우 어렵기 때문에 종래의 와이어로는 실현될 수 없었다. 이는 코일이 평면모터의 트랜스레이터상에 배치되고 상기 모터가 수평방향의 힘과 수직방향의 힘 둘 모두를 제공하기 위해 사용되는 경우에 특히 유리하다. 이러한 구성에 있어서, 트랜스레이터를 자석판으로부터 부양시키기 위한 수직방향의 힘이 가해질 수 있기 때문에 상기 모터는 진공에서의 적용분야에 용이하게 사용되어, 예를 들어, 공기베어링을 필요로 하지 않고도 수평면에 대해 상기 트랜스레이터를 마찰없이 이동할 수 있도록 한다. 자석판의 표면위로 부양될 수 있도록 모터가 수직방향의 힘을 발생시키는 경우에, 수직방향의 힘은 작동시, 100%의 듀티사이클로 제공되어야 하기 때문에 이동체의 중량은 가능한 가볍게 유지된다. 경량의 알루미늄 포일 코일의 사용은 이러한 적용분야들에 대하여 유리한 것으로 판명되었다.
상기 코일의 연속적인 턴들은 시트재의 표면과 일체를 이루는 비도전성 재료에 의하여 서로로부터 분리되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 코일이 알루미늄으로 형성될 경우에, Al2O3의 비도전성 표면층이 상기 표면상에 쉽게 형성될 수 있다. 이는 도전성재료의 턴들사이에 별도의 절연층을 제공하는 것에 비해 코일의 제작을 단순화시킨다. 또한, 별도의 절연재료를 이용할 경우, 절연체가 제작시의 손상으로 인해 코일의 각 턴들 사이에 전기적 단락을 야기할 우려가 있기 때문에, 상기한 제작이 더욱 신뢰성을 준다. Al2O3는 적어도 5㎛의 두께로 되어 있어 Al2O 3층에 어느정 도의 물리적 손상이 있는 경우에도 적정한 전기적 절연성을 확보하는 것이 이상적이다.
시트재의 스트립은 폭 방향, 즉 권선축선에 대하여 실질적으로 평행한 방향에서 보다 두께방향, 즉 권선축선에 대하여 실질적으로 수직한 방향에서 현저히 더 좁게 구성될 수도 있다. 이는 코일을, 시트재의 다수의 턴들이 부피가 커지지 않게끔 형성될 수 있도록 하는 동시에, 코일 폭에 걸쳐 양호한 열 전도성을 제공할 수 있도록 한다.
대안적인 구성에서는, 전류전달코일이 와이어로부터 형성되고, 도전성 시트재의 스트립이 와이어 코일내에 매입(embed)된다. 상기 시트재는 코일의 공간충전률을 현저히 떨어뜨리지 않고 코일로부터의 열을 효율적으로 전달한다. 상기 시트재는 권선축선에 대하여 수직 또는 평행하게 배치될 수 있다. 앞에서와 같이, 알루미늄이 도전성 시트재로서 적용되는 경우에는, 시트재 표면상의 Al2O3층이 코일의 단락을 방지하기 위한, 일체의 전기적 절연층을 형성한다.
시트재의 에지가 냉각요소와 열접촉하도록 권선축선에 대해 직각인 평면을 형성하는 코일의 일 측에 냉각요소가 부착될 수도 있다. 따라서, 코일내의 전류에 의하여 발생되는 열은 낮은 열전도성의 경로를 통해 냉각요소까지 전달되어 코일을 둘러싼 주변부로 방사되거나 전달되는 열량을 최소화한다.
충격방지부재는 권선축선에 대하여 수직한 평면을 형성하는 코일의 일 측, 예를 들어 냉각요소가 부착되는 측에 대하여 상기 코일의 반대측에 부착되는 것이 바람직하다. 이는 여하한 이유로 코일이 평면모터의 스테이터와 충돌하는 경우 충격방지부재가 코일에 대한 손상을 최소화시켜주기 때문에, 상기 코일이 평면모터에서 사용될 경우에 특히 유용하다. 또한, 상기 충격방지부재는 상기 코일을 상기 장치의 나머지부분으로부터 분리시킬 수도 있다. 액추에이터는 배기된 시스템내에 놓여질 수도 있다. 따라서, 코일이 진공으로부터 분리되지 않는다면, Al2O3층은 이미 그 안에 흡수되어 있는 가스들을 방출하게될 것이다.
본 발명의 또 다른 변형례에서는, 강자성 코어를 중심으로 코일이 감겨져 있다. 이는 소정 힘에 비해 작은 체적을 갖는 액추에이터의 구조를 제공하며, 그에 따라 모터 효율이 향상될 수 있다.
본 발명의 추가 형태에 따르면,
- 적어도 부분적으로는 방사선감응재의 층으로 덮인 기판을 제공하는 단계;
- 방사선시스템을 사용하여 방사선의 투영빔을 제공하는 단계;
- 패턴닝 수단을 사용하여 투영빔의 단면에 패턴을 부여하는 단계;
- 방사선감응재층의 타겟부상에 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계를 포함하며, 액추에이터의 도전성 시트재의 스트립을 포함하고 있는 코일을 통해 전류가 지나도록 하여 디바이스 제조장치내의 두 구성요소간에 소정의 힘을 발생시키는 것을 특징으로 하는 디바이스제조방법이 제공된다.
본 명세서에서는 IC의 제조에 있어서의 본 발명에 따른 장치의 사용례에 대하여 언급하였으나, 이러한 장치가 다른 여러 가능한 응용례를 가지고 있음이 명백 히 이해되어야 할 것이다. 예를 들어, 상기 장치는 집적 광학시스템, 자기영역메모리용 유도 및 검출패턴, 액정표시패널, 박막자기헤드 등의 제조에도 이용될 수 있다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용례와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "레티클", "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 용어가 각각 "마스크", "기판" 및 "타겟부" 등과 같은 좀 더 일반적인 용어로 대체되고 있음을 이해할 수 있다.
본 명세서에서, "방사선" 및 "빔"이란 용어는 (예를 들어, 파장이 365, 248, 193, 157 또는 126㎚ 인) 자외선과 EUV(예를 들어, 파장이 5 내지 20㎚ 범위인 극자외선) 및 이온빔 또는 전자빔과 같은 입자빔을 포함하는 모든 형태의 전자기방사선을 포괄하여 사용된다.
제1실시예
도 1은 본 발명의 특정 실시예에 따른 리소그래피 투영장치를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는,
· 방사선(예를 들어, EUV방사선)의 투영빔(PB)을 공급하는 방사선시스템(Ex,IL), (이 경우에는 특별히 방사원(LA)도 포함한다);
· 마스크(MA)(예를 들어, 레티클)를 잡아주는 마스크홀더가 마련되어 있고, 아이템(PL)에 대하여 마스크를 정확히 위치시키는 제1위치설정수단에 연결된 제1대물테이블(마스크테이블)(MT);
· 기판(W)(예를 들어, 레지스트 코팅된 실리콘 웨이퍼)을 잡아주는 기판홀더가 마련되어 있고, 아이템(PL)에 대하여 기판을 정확히 위치시키는 제2위치설정수단에 연결된 제2대물테이블(기판테이블)(WT);
· 기판(W)의 (예를 들어, 1이상의 다이를 포함하는)타겟부(C)에 마스크(MA)의 조사된 부분을 묘화하는 투영시스템 ("렌즈")(PL)(예를 들어, 굴절렌즈 그룹)을 포함하여 이루어진다.
도시된 바와 같이, 상기 장치는 (투과마스크를 구비한) 투과형이다. 하지만, 일반적으로는, 예를 들어 (반사마스크를 구비한) 반사형일 수도 있다. 대안적으로, 상기 장치는 상술된 바와 같은 형식의 프로그램가능한 거울배열과 같은 그 밖의 다른 종류의 패터닝수단을 채택할 수도 있다.
방사원(LA)(예를 들어, 엑시머레이저)은 방사선의 빔을 생성한다. 상기 빔은 맞바로 조명시스템(일루미네이터)(IL)에 들어 가거나, 예를 들어 빔 익스펜더(Ex)와 같은 컨디셔닝 수단을 거친 다음에 조명시스템으로 들어간다. 상기 일루미네이터(IL)는 빔내의 세기 분포의 외반경 및/또는 내반경 크기(통상 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)를 설정하는 조정수단(AM)을 포함하여 이루어진다. 또한 이것은 일반적으로 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같은 여타의 다양한 구성요소들을 포함하고 있다. 이러한 방식으로, 마스크(MA)에 도달하는 빔(PB)은 그 단면에 소정의 균일성과 세기 분포를 갖게 된다.
도 1과 관련하여, 상기 방사원(LA)은 리소그패피 투영장치의 하우징내에 놓이지만(흔히 예를 들어, 방사원(LA)이 수은램프인 경우에서 처럼), 그것이 리소그래피 투영장치로부터 멀리 떨어져 있어서 그것이 만들어 낸 방사선빔이 (가령, 적절한 지향 거울에 의해) 장치 내부로 들어오게 할 수도 있다. 후자의 시나리오는 방사원(LA)이 대개 엑시머레이저인 경우이다. 본 발명과 청구 범위는 이들 시나리 오를 모두 포함하고 있다.
이후, 상기 빔(PB)은 마스크테이블(MT)상에 잡혀 있는 마스크(MA)를 통과한다. 마스크(MA)에 의하여 선택적으로 반사된 빔(PB)은 렌즈(PL)를 통과하여 기판(W)의 타겟부(C)위에 빔(PB)을 포커싱한다. 제2위치설정수단(및 간섭계측정수단(IF))에 의하여, 기판테이블(WT)은, 예를 들어 빔(PB)의 경로내에 상이한 타겟부(C)를 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제1위치설정수단은 예를 들어, 마스크 라이브러리로부터 마스크(MA)를 기계적으로 회수한 후에, 또는 스캔하는 동안에, 빔(PB)의 경로에 대하여 마스크(MA)를 정확히 위치시키도록 사용될 수 있다. 일반적으로 대물테이블(MT, WT)의 이동은, 도 1에 명확히 도시되지는 않았지만, 장행정모듈(long-stroke module)(개략 위치설정) 및 단행정모듈(미세 위치설정)의 도움을 받아 실현될 것이다. 하지만, (스텝-앤드-스캔 장치와는 대조적으로) 웨이퍼스테퍼의 경우에 마스크테이블(MT)이 단행정액추에이터에만 연결되거나 또는 고정될 수도 있다.
도시된 장치는 두가지 상이한 모드로 사용될 수 있다.
1. 스텝 모드에서는, 마스크테이블(MT)은 기본적으로 정지상태로 유지되며, 전체 마스크 이미지는 한번에(즉, 단일 "섬광"으로) 타겟부(C)에 투영된다. 그 후 기판테이블(WT)이 x 및/또는 y 방향으로 쉬프트되어 다른 타겟부(C)가 빔(PB)에 의하여 조사될 수 있다.
2. 스캔 모드에서는, 소정 타겟부(C)가 단일 "섬광"으로 노광되지 않는 것을 제외하고는 기본적으로 동일한 시나리오가 적용된다. 그 대신에, 마스크테이블(MT) 이 v의 속도로 소정 방향(소위 "스캔방향", 예를 들어 y 방향)으로 이동 가능해서, 투영빔(PB)이 마스크 이미지의 모든 부분을 스캐닝하도록 되고, 이와 함께 기판테이블(WT)은 속도 V=Mv로, 동일한 방향 또는 그 반대 방향으로 동시에 이동하는데, 이 때 M은 렌즈(PL)의 배율(통상 M=1/4 또는 M=1/5)이다. 이러한 방식으로, 해상도를 떨어뜨리지 않고도 비교적 넓은 타겟부(C)가 노광될 수 있다.
도 3은 본 발명에 따른 코일(20)의 사시도이다. 코일(20)은 권선축선(22)을 중심으로 하여 감겨있는 도전성 시트재의 세장형 스트립(21) 또는 포일로부터 형성된다.
도 4는 상기 코일의 평면도이다. 도면에서 알 수 있듯이, 코일은 그 형상이 세장형일 수 있다. 대안적으로, 코일은 그것의 용도에 따라 직사각형 또는 정사각형의 형상일 수 있다. 코일의 최대 외측 폭(D2)에 배열될 수 있는 턴의 수를 최대로하기 위하여 시트재의 두께(D1)가 최소화된다. 이는 리소그래피장치내의 액추에이터의 가용공간에 의하여 결정된다. 그 후, 코일(20)이 형성될 스트립(21)의 폭은 소요되는 코일의 전기저항으로부터 상기 소요되는 단면적이 결정되는 소요되는 스트립의 단면적으로부터 결정된다.
코일은, 50 내지 150㎛의 두께(D1)를 갖는 알루미늄 스트립으로부터 형성되는 것이 바람직하다. 바람직한 구성에 있어서, 스트립은 대략 60㎛의 두께로 되어 있다. 스트립 재료의 폭(D3)은 대략 3mm 내지 20mm가 바람직하다. 바람직한 구성에 있어서, 알루미늄 스트립의 폭은 대략 10mm이다. 각각의 코일은 100 내지 300개의 턴을 포함하며 대략 40mm의 최대 외측 폭(D2) 및 대략 350mm의 최대 외측 길이(D4) 를 가질 수 있다. 또한, 코일은 구리와 같은, 소정 형상으로 형성될 수 있는 여타의 도전성재료로부터 형성될 수도 있다.
코일의 각 턴들간의 전기적 단락을 방지하기 위해서는, 상기 턴들 사이에 비도전성 재료가 제공되어야 한다. 이것은 스트립이 코일형상으로 감기기전에, 도전성재료의 상기 스트립(21)에 결합되는 별도의 절연층 형태로 이루어질 수도 있다. 하지만, 도 4에 나타낸 바와 같이, 도전성재료의 스트립(21)은 비도전성재료로 된 스트립상에 일체로 형성된 표면(25)을 가지는 것이 바람직하다. 스트립(21)이 코일형상으로 감길 경우, 비도전성 표면(25)이 코일의 각 턴들간의 전기적 단락을 방지한다. 코일이 알루미늄으로 형성되는 경우, 일체로 된 표면(25)은 Al2O3로 형성될 수도 있다. 이는 알루미늄을 양극산화처리(anodizing)하거나 대안적으로는 화학처리 또는 표면을 산소에 노출시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다. 양극산화처리는 알루미늄 스트립(21)의 표면상에 균일한 두께의 Al2O3를 생성시킬수 있도록 제어되는 것이 바람직하다. Al2O3층의 두께는 적어도 대략 5㎛는 되어야 한다. 코일의 제조 또는 기계가공시에 상기 코일의 상이한 턴들간의 단락의 위험은, 예를 들어 구리 포일 코일에 비해 알루미늄 포일 코일의 경우가 훨씬 더 낮다는 것이 판명되었다.
도 5는 도 4에 표시된 AA 단면을 나타낸 것이다. 냉각요소(30)(도 3 및 도 4에서는 도시 안됨)는 코일(20)의 상측에 부착된다. 냉각제의 흐름이 입구(31)로 제공되어 출구(32)로 빠져나가면서 냉각요소(30)에 의하여 흡수된 열을 제거한다. 냉 각요소(30)는 코일재료를 형성하는 시트재 스트립(21)의 최상부 에지(21a)와 직접적으로 열 접촉하도록 되어 있다. 따라서, 전류가 지남으로써 코일(20)에서 발생되는 열은 절연재의 상당부에 걸쳐 전달되지 않고 시트재의 스트립에서 냉각요소(30)로 직접적으로 전달될 수 있다(코일의 각 턴들간의 단락을 방지하기 위하여 시트재 스트립의 최상부 에지(21a)와 냉각요소(30) 사이에는 얇은 절연재료층이 필요할 수도 있다).
여하한 충격으로부터 코일이 손상되는 것을 방지하기 위하여 시트재 스트립(21)의 하부 에지(21b)에 스테인리스 강판(35)이 부착될 수도 있다. 이는 코일이 평면모터의 일부로 사용될 수도 있기 때문에 특히 유용하며, 상기 경우에 있어, 코일은 예를 들어, 평면모터의 스테이터와의 충돌에 의하여 야기되는 손상으로부터 보호되어야 한다. 액추에이터 또는 모터가 1개보다 많은 코일을 포함할 경우, 각 코일에 대하여 개별적인 판을 구비하기 보다는 1장의 판이 모든 코일을 덮는 것이 바람직하다. 예를 들어, 평면모터는 상이한 코일 유닛을 포함하는 이동체 및 자석판으로 이루어질 수도 있으며, 상기 각각의 코일 유닛은 복수의 코일들을 포함한다. 도 6은 상기 평면모터의 가능한 레이아웃을 개략적으로 나타내고 있다. 모터(40)의 자석판은 정사각의 패턴을 형성하는 대각선들에 의하여 개략적으로 도시되어 있다. 평면모터의 이동체 또는 트랜스레이터는 4개의 코일 유닛(50,60,70,80)으로 배열된 12개의 코일들에 의하여 개략적으로 도시되어 있으며, 각 코일 유닛들은 3개의 코일(50.1,50.2,50.3)을 포함하고 있다. 이러한 평면모터의 배열은 모터가 가속 및 감속을 위한 수평방향의 힘뿐 아니라 이동체가 수평 면에서 마찰없이 이동할 수 있도록 자석판으로부터 상기 이동체를 부양시키기 위한 수직방향의 힘을 발생시킬 수 있기 때문에, 진공의 적용분야에서 사용하기에 매우 적합하다. 따라서, 별도의 베어링을 필요로 하지 않는다. 모터가 자석판의 표면 위로 부양시키기 위한 수직방향의 힘을 발생시킬 경우에, 작동시, 상기 수직방향의 힘이 100%의 듀티사이클로 제공되어야 하기 때문에, 이동체의 중량은 가능한 가볍게 유지되어야 한다. 경량의 알루미늄 포일 코일의 사용은 이러한 적용분야들에 있어 유리한 것으로 판명되었다. 이러한 평면모터의 추가적인 정보는 본 명세서에서 참조하고 있는 WO 01/18944A에서 찾을 수 있다. 대안적으로, 상기 판(35)은 여타의 재료들로부터 형성될 수도 있다.
액추에이터에 의하여 제공되는 힘 및/또는 모터의 효율을 향상시키기 위하여, 코일에 강자성 코어를 첨가할 수도 있다. 가령, 상기 코일을 상기 코어를 중심으로 감을 수 있으며, 이 경우에 상기 코어는 코일 권선축선의 중앙에 자리하게 된다. 상기 코어는 적층, 분말, 또는 중실의 철 또는 강자성 합금으로 형성될 수도 있다. 1개 보다 많은 코일이 제공되는 경우(예를 들어, 액추에이터가 1개 이상의 위상을 가질 경우), 각각의 코일은 개별적인 코어를 가지거나 코어들이 연결될 수도 있다.
본 발명의 변형례에서는, 종래의 코일에 사용되던 것과 같은 와이어 코일들이 사용되지만, 그 내부에 시트재가 매입된다. 시트재는 코일의 공간충전률에 거의 영향을 주지 않지만 코일을 통한 직접적인 열의 경로를 제공하여 내부에서 발생되는 열을 제거한다. 바람직한 실시예에서는, 양호한 열전도특성을 가지며 그 표면에 산화층이 쉽게 형성될 수 있어 코일로부터의 전기적 절연을 제공하기 때문에, 시트재로는 알루미늄이 사용된다. 알루미늄 산화물에 의하여 형성되는 기계적으로 강한 절연층은 절연 손상의 위험을 줄여준다. 와이어가 감겨져 코일을 형성할 때 상기 코일에 시트재가 첨가될 수도 있다. 시트재가 코일의 권선축선에 대하여 직각이 되도록 코일의 턴의 층들간에 1이상의 시트재 층이 배치될 수도 있다. 대안적 및/또는 부가적으로는, 각 스트립이 그 자신의 권선축선에 대해 수직한 평면에 대하여 직각을 이루도록 시트재의 스트립들이 권선축선에 대하여 평행하게 제공될 수도 있다. 상기 스트립들은 예를 들어, 시트재보다 권선축선에 가까운 코일의 일부 턴(내측 턴)과 권선축선에서 보다 먼 코일의 일부 턴(외측 턴) 사이에 위치한다. 스트립들은 시트재의 실질적으로 직선인 부분 또는 코일과 함께 곡선을 이루는 부분들을 포함할 수도 있다. 앞에서와 같이, 시트재의 스트립들은 냉각요소에 연결될 수도 있다. 시트재의 스트립들이 코일의 권선축선과 평행하게 제공되는 경우에는, 이것이 와전류에 대하여 개선된 거동을 가져온다. 와전류의 감소는 액추에이터 또는 모터에 향상된 동적인 거동을 가져올 수도 있다.
본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였으나, 본 발명은 상술된 바 이외의 형태로 실행될 수 있다는 점을 명백히 이해해야 한다. 상기 설명은 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다.
본 발명에 따르면, 열전달특성을 향상시키기 위한 위치설정장치 또는 액추에이터용 코일을 리소그래피투영장치에 제공할 수 있게 된다.

Claims (20)

  1. - 방사선의 투영빔을 제공하는 방사선시스템;
    - 투영 빔을 소정 패턴에 따라 패터닝하는 역할을 하는 패터닝 수단을 지지하는 지지구조체;
    - 기판을 잡아주는 기판테이블;
    - 패터닝된 투영 빔을 기판의 타겟부상으로 투영하는 투영 시스템; 및
    - 상기 지지구조체 및 상기 기판테이블 중 적어도 하나를 위치설정시키기 위한 위치설정장치를 포함하는 리소그래피투영장치에 있어서,
    상기 위치설정장치가 스테이터 및 트랜스레이터를 구비한 평면모터를 포함하고, 상기 스테이터 및 트랜스레이터 중 하나가 주기적인 자석구조체(periodic magnet structure)를 포함하고, 상기 스테이터 및 트랜스레이터 중 나머지 하나가 전류를 전달할 수 있는 복수의 코일을 포함하며, 상기 코일은 도전성 시트재의 스트립을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 도전성 시트재의 스트립은 권선축선을 중심을 감겨져 상기 전류를 전달하는 코일을 형성하는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 도전성 시트재는 알루미늄인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 코일의 연속적인 턴(turn)은 상기 시트재의 표면과 일체로 되어 있는 비도전성 Al2O3의 층에 의하여 서로 분리되는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 Al2O3층의 두께는 적어도 5㎛인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 시트재의 스트립은 상기 권선축선에 대하여 실질적으로 평행한 폭방향 보다는 상기 권선축선에 대하여 실질적으로 직각인 두께방향으로 현저히 더 좁게 되어 있는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 시트재는 상기 권선축선에 대하여 실질적으로 직각인 두께방향으로 대략 50 내지 150㎛의 두께인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 시트재는 상기 권선축선에 대하여 실질적으로 직각인 두께방향으로 대략 60㎛의 두께인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 도전성 시트재의 스트립의 폭은 상기 권선축선에 대하여 실질적으로 평행한 방향으로 대략 3mm 내지 20mm 사이인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 평면모터는 상기 도전성 시트재에 부착되고 열접촉하는 냉각요소를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 평면모터는 상기 권선축선에 대하여 직각인 평면을 형성하는 코일의 일 측에 부착된 충격방지부재를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  12. - 방사선의 투영빔을 제공하는 방사선시스템;
    - 투영 빔을 소정 패턴에 따라 패터닝하는 역할을 하는 패터닝 수단을 지지하는 지지구조체;
    - 기판을 잡아주는 기판테이블;
    - 패터닝된 투영 빔을 기판의 타겟부상으로 투영하는 투영 시스템; 및
    - 전류가 액추에이터의 코일을 통과할 때 장치내의 두개의 구성요소들 사이에 소정의 힘을 발생시키는 상기 액추에이터를 포함하는 리소그래피투영장치에 있어서,
    상기 코일은 권선축선을 중심으로 감겨 있는 와이어 코일이고 상기 코일의 권선축선에 대하여 실질적으로 평행을 이루도록 도전성 시트재의 스트립이 상기 와이어 코일내에 매입되는(embed) 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  13. - 방사선의 투영빔을 제공하는 방사선시스템;
    - 투영 빔을 소정 패턴에 따라 패터닝하는 역할을 하는 패터닝 수단을 지지하는 지지구조체;
    - 기판을 잡아주는 기판테이블;
    - 패터닝된 투영 빔을 기판의 타겟부상으로 투영하는 투영 시스템; 및
    - 전류가 액추에이터의 코일을 통과할 때 장치내의 두 구성요소들 사이에 소정의 힘을 발생시키는 상기 액추에이터를 포함하는 리소그래피투영장치에 있어서,
    상기 코일은 권선축선에 대하여 감겨져 있는 와이어 코일이고 알루미늄 시트재의 스트립이 상기 와이어 코일내에 매입되는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    알루미늄 시트재의 표면과 일체로 되어 있는 비도전성 Al2O3의 층이 그것의 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 Al2O3층의 두께는 적어도 5㎛ 두께인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  16. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액추에이터는 도전성 시트재에 부착되고 열접촉하는 냉각요소를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  17. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시트재는 대략 50 내지 150㎛의 두께인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  18. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시트재는 대략 60㎛의 두께인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  19. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 도전성 시트재의 폭은, 권선축선과 실질적으로 평행한 방향으로 대략 3 내지 20mm인 것을 특징으로 하는 리소그래피투영장치.
  20. - 적어도 부분적으로는 방사선감응재의 층으로 덮인 기판을 제공하는 단계;
    - 방사선시스템을 사용하여 방사선의 투영빔을 제공하는 단계;
    - 패턴닝 수단을 사용하여 투영빔의 단면에 소정 패턴을 갖는 투영빔을 부여하는 단계;
    - 방사선감응재층의 타겟부상에 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계를 포함하는 디바이스 제조방법에 있어서,
    액추에이터의 도전성 시트재의 스트립을 포함하는 코일을 통하여 전류를 통과시켜, 디바이스제조장치내의 구성요소들 사이에 소정의 힘을 발생시키는 것을 특징으로 하는 디바이스제조방법.
KR1020030037093A 2002-06-12 2003-06-10 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 KR100565104B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP02254101.5 2002-06-12
EP02254101 2002-06-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030096008A KR20030096008A (ko) 2003-12-24
KR100565104B1 true KR100565104B1 (ko) 2006-03-30

Family

ID=31725490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030037093A KR100565104B1 (ko) 2002-06-12 2003-06-10 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6891600B2 (ko)
EP (1) EP1372035A3 (ko)
JP (2) JP4022181B2 (ko)
KR (1) KR100565104B1 (ko)
CN (1) CN100351703C (ko)
SG (1) SG121780A1 (ko)
TW (1) TWI248559B (ko)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7557470B2 (en) * 2005-01-18 2009-07-07 Massachusetts Institute Of Technology 6-axis electromagnetically-actuated meso-scale nanopositioner
KR100726711B1 (ko) * 2005-12-30 2007-06-12 한국전기연구원 자기부상방식의 대면적 스테이지 장치
US7502096B2 (en) * 2006-02-07 2009-03-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, calibration method, device manufacturing method and computer program product
US20100259768A1 (en) * 2007-10-19 2010-10-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. Displacement device with precision measurement
DE102008059813A1 (de) * 2008-07-17 2010-01-21 Lss Laser Scribing Systems Ag Laser-Scribing-System zum Strukturieren von Substraten für Dünnschichtsolarmodule
JP5426877B2 (ja) * 2008-12-26 2014-02-26 パナソニック株式会社 トルク伝達装置
NL2004752A (en) 2009-06-19 2010-12-20 Asml Netherlands Bv Coil, positioning device, actuator, and lithographic apparatus.
NL2005236A (en) * 2009-09-16 2011-03-17 Asml Netherlands Bv Actuator, lithographic apparatus, and actuator constructing method.
JP5508362B2 (ja) * 2011-08-24 2014-05-28 東芝機械株式会社 リニアモータ及びリニアモータ用コイルの製造方法
WO2013160123A1 (en) * 2012-04-27 2013-10-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus comprising an actuator, and method for protecting such actuator
JP6466333B2 (ja) * 2012-10-15 2019-02-06 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 作動機構、光学装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
CN103904804A (zh) * 2012-12-28 2014-07-02 上海微电子装备有限公司 用于电机绕组的线圈单元及应用该线圈单元的平面电机
JP6511444B2 (ja) * 2013-08-02 2019-05-15 ボーグワーナー インコーポレーテッド 電気的に駆動するコンプレッサー用コイル、及びその製造方法
JPWO2015034005A1 (ja) * 2013-09-04 2017-03-02 Ckd株式会社 電磁アクチュエータ用電機子コイル、電磁アクチュエータ、露光装置、及びデバイス製造方法
JP6360288B2 (ja) * 2013-09-04 2018-07-18 Ckd株式会社 電磁コイルの冷却構造、及び電磁アクチュエータ
DE102014212667A1 (de) * 2014-07-01 2016-01-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Elektrische Spule
JP6352791B2 (ja) 2014-12-11 2018-07-04 Ckd株式会社 コイル用シート、コイル、及びコイルの製造方法
JP6247630B2 (ja) * 2014-12-11 2017-12-13 Ckd株式会社 コイルの冷却構造
JP6247629B2 (ja) 2014-12-11 2017-12-13 Ckd株式会社 コイル用シートの製造方法、及びコイルの製造方法
GB2539169B (en) * 2015-03-19 2018-06-27 Nidec Sr Drives Ltd Windings for electrical machines
DE102015217119A1 (de) * 2015-09-08 2017-03-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Elektromagnetischer Antrieb mit einem Stator und einem Statorhalter
US20200381153A1 (en) * 2017-11-06 2020-12-03 Asml Holding N.V. Truncated Flat Wire Coil
CN113497536B (zh) * 2020-04-01 2022-10-18 中芯集成电路（宁波）有限公司 致动器及其形成方法、驱动方法、电子设备和成像模组
WO2024050085A1 (en) * 2022-09-01 2024-03-07 Conifer Systems, Inc. Axial flux electric machine pole piece with conductive ribbons

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4760294A (en) * 1982-09-13 1988-07-26 Hansen Thomas C Linear motor with independently controlled coils
JPH02197249A (ja) * 1989-01-26 1990-08-03 Sony Chem Corp リニアモータ
JP3082397B2 (ja) * 1992-02-26 2000-08-28 三菱電機株式会社 超電導装置
JP2894080B2 (ja) * 1992-04-14 1999-05-24 松下電器産業株式会社 小型モータ用の薄膜コイルおよびその製造方法
FR2726948B1 (fr) * 1994-11-16 1996-12-20 Wavre Nicolas Moteur synchrone a aimants permanents
EP0880816B1 (de) * 1996-02-12 2000-10-25 Thyssen Transrapid System GmbH Verfahren zur herstellung einer elektromagnetischen baugruppe für eine magnetschwebebahn
JPH10223527A (ja) * 1996-12-06 1998-08-21 Nikon Corp 露光装置
JP4164905B2 (ja) * 1997-09-25 2008-10-15 株式会社ニコン 電磁力モータ、ステージ装置および露光装置
JP3337200B2 (ja) * 1998-04-15 2002-10-21 株式会社富士電機総合研究所 リニア電磁型マイクロアクチュエータ
US6252234B1 (en) * 1998-08-14 2001-06-26 Nikon Corporation Reaction force isolation system for a planar motor
JP3907357B2 (ja) * 1998-11-12 2007-04-18 キヤノン株式会社 段差付きコイル製造方法
JP4134406B2 (ja) * 1998-12-04 2008-08-20 株式会社ニコン 平面モータ装置及び露光装置
JP2000228860A (ja) * 1999-02-08 2000-08-15 Yaskawa Electric Corp リニアモータの冷却装置
JP2001037201A (ja) * 1999-07-21 2001-02-09 Nikon Corp モータ装置、ステージ装置及び露光装置
TW465165B (en) * 2000-03-03 2001-11-21 Hiwin Mikrosystem Corp A motor with heat pipe
DE10142489A1 (de) 2000-09-15 2002-04-04 Leica Microsys Lithography Ltd Sechsachsiges Positioniersystem mit magnetfeldfreiem Raum
JP2002176761A (ja) 2000-12-08 2002-06-21 Canon Inc リニアモータ及び該リニアモータを用いた露光装置
US6570273B2 (en) * 2001-01-08 2003-05-27 Nikon Corporation Electric linear motor
EP1356570A1 (en) 2001-01-25 2003-10-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. Coil with cooling means

Also Published As

Publication number Publication date
EP1372035A2 (en) 2003-12-17
TW200411334A (en) 2004-07-01
US20040036848A1 (en) 2004-02-26
EP1372035A3 (en) 2006-08-02
CN1477449A (zh) 2004-02-25
JP4022181B2 (ja) 2007-12-12
SG121780A1 (en) 2006-05-26
TWI248559B (en) 2006-02-01
CN100351703C (zh) 2007-11-28
JP2005285790A (ja) 2005-10-13
US6891600B2 (en) 2005-05-10
JP2008061493A (ja) 2008-03-13
KR20030096008A (ko) 2003-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100565104B1 (ko) 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법
KR100548714B1 (ko) 리소그래피장치 및 상기 장치용 모터
KR100609106B1 (ko) 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그 제조된 디바이스
KR101243171B1 (ko) 코일, 위치설정 디바이스, 액추에이터, 및 리소그래피 장치
KR100632878B1 (ko) 리소그래피장치, 디바이스 제조방법 및 이에 따라 제조된디바이스
KR100631098B1 (ko) 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법
JP2005057289A (ja) リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法
EP3043361A1 (en) Armature coil for electromagnetic actuator, electromagnetic actuator, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR100632885B1 (ko) 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그 제조된 디바이스
EP1457833B1 (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP2005012996A (ja) リトグラフ装置、素子製造方法およびこの方法で製造される素子
EP1465014B1 (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufacturated thereby
EP1465013B1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee