KR100525287B1 - 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그에 따라 제조된디바이스 - Google Patents

리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그에 따라 제조된디바이스 Download PDF

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KR100525287B1 KR10-2003-0021581A KR20030021581A KR100525287B1 KR 100525287 B1 KR100525287 B1 KR 100525287B1 KR 20030021581 A KR20030021581 A KR 20030021581A KR 100525287 B1 KR100525287 B1 KR 100525287B1
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에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
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Abstract

적어도 2개의 기판홀더(WT1, WT2)를 구비한 본 발명에 따른 리소그래피 투영장치(1)는 상기 2개의 기판홀더간의 차이로 인하여 발생된 이미지의 차이 영향을 줄이기 위한 수단을 포함한다. 상기 장치(1)는 기판을 식별하고 상기 기판을 기판홀더의 각각의 하나와 연관시키는 내부 또는 외부수단을 포함한다. 이는 기판이 적절한 홀더상에서 처리되든가 또는 묘화공정에 보정이 적용되든가 중의 어느 하나를 보장한다. 대안적인 실시예에서, 상기 기판은 추가의 식별단계없이도, 기판홀더 중의 각각의 하나와 연관되고, 상기 기판홀더를 사용하여 일관되게 처리된다.

Description

리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그에 따라 제조된 디바이스 {Lithographic Apparatus, Device Manufacturing Method, and Device Manufactured Thereby}
본 발명은,
- 방사선투영빔을 공급하는 방사선시스템;
- 소정의 패턴에 따라 투영빔을 패터닝시키는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체;
- 기판을 잡아주는 기판홀더; 및
- 기판의 타겟부상으로 패터닝된 투영빔을 투영시키는 투영시스템을 포함하는 리소그래피 투영장치에 관한 것이다.
"패터닝수단(patterning means)"이라는 용어는 기판의 타겟부에 형성되어야 할 패턴에 대응하는 패터닝된 단면을 입사하는 방사빔에 부여하도록 사용될 수 있는 수단을 의미하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 하며, 본 명세서에서는 "광 밸브(light valve)"라는 용어로도 사용된다. 일반적으로, 상기 패턴은 집적회로 또는 기타 디바이스와 같이 타겟부에 형성될 디바이스 내의 특정기능층에 해당할 것이다(이하 참조). 그러한 패터닝수단의 예로는 다음과 같은 것들이 포함된다.
- 마스크. 이 마스크의 개념은 리소그래피분야에서 이미 잘 알려져 있고, 바이너리(binary)형, 교번위상-시프트(alternating phase-shift)형 및 감쇠위상-시프트형과 같은 마스크형식과 다양한 하이브리드 마스크형식을 포함한다. 방사빔내에 이러한 마스크가 놓이면, 마스크의 패턴에 따라 마스크로 입사되는 방사선의 선택적인 투과(투과형 마스크의 경우) 또는 반사(반사형 마스크의 경우)가 이루어진다. 마스크의 경우에는, 일반적으로 마스크테이블이 지지구조체가 되고, 상기 마스크테이블은 입사되는 투영빔내의 소정위치에 마스크가 고정될 수 있게 하며, 필요한 경우에는 마스크를 상기 빔에 대하여 상대적으로 이동시킬 수 있도록 한다.
- 프로그램가능한 거울배열. 이러한 장치의 예로는, 점탄성 제어층 (viscoelastic control layer)과 반사면을 구비한 매트릭스-어드레서블 표면이 있다. 이러한 장치의 기본원리는, (예를 들어)반사면의 어드레스된 영역(addressed area)에서는 입사광이 회절광으로 반사되는 반면, 어드레스되지 않은 영역에서는 입사광이 비회절광으로 반사되는 것이다. 적절한 필터를 사용하면, 상기 비회절광을 필터링하여 회절광만 남게 할 수 있다. 이러한 방식으로, 상기 빔은 상기 매트릭스-어드레서블 표면의 어드레싱 패턴에 따라 패터닝된다. 프로그램가능한 거울배열의 대안적인 실시예는 작은 거울의 매트릭스 배치를 채택하는 것인데, 상기 각각의 작은 거울은 적당하게 국부적으로 치우친 전기장을 가하거나 또는 압전작동수단(piezoelectric actuation means)을 채택하여 축에 대하여 개별적으로 기울어질 수 있다. 또한, 상기 거울은 매트릭스-어드레서블이고, 이러한 어드레싱된 거울은 입사하는 방사빔을 어드레싱되지 않은 거울에 대하여 다른 방향으로 반사할 것이다. 이러한 방식으로, 반사된 빔은 매트릭스-어드레서블 거울의 어드레싱 패턴에 따라 패터닝된다. 이때 요구되는 매트릭스 어드레싱은 적당한 전자수단을 사용하여 수행될 수 있다. 상술된 두가지 상황 모두에 있어서, 패터닝수단은 1이상의 프로그램가능한 거울배열로 이루어질 수 있다. 이러한 거울배열에 관한 보다 상세한 정보는, 예를 들어 본 명세서에서 참고자료로 채택되고 있는 미국특허 US 5,296,891호 및 US 5,523,193호와 PCT 특허출원 WO 98/38597호 및 WO 98/33096호로부터 얻을 수 있다. 프로그램가능한 거울배열의 경우에, 상기 지지구조체는 필요에 따라 고정되거나 또는 이동할 수 있는, 예를 들어, 프레임 또는 테이블로 구현될 수 있다.
- 프로그램가능한 LCD 배열. 이러한 구조의 일례는 본 명세서에서 참고자료로 채택되고 있는 미국특허 US 5,229,872호에 개시되어 있다. 상술된 바와 같이, 이러한 경우에서의 지지구조체는 필요에 따라 고정되거나 또는 이동할 수 있는, 예를 들어, 프레임 또는 테이블로 구현될 수 있다.
설명을 간단히 하기 위하여, 본 명세서의 나머지 부분 중 어느 곳에서는 그 자체가 마스크와 마스크테이블을 포함하는 예시적인 용어로서 특정적으로 지칭될 수도 있다. 하지만, 그러한 예시에서 논의된 일반적인 원리는 상술한 바와 같은 패터닝수단의 광의의 개념으로 이해되어야 한다.
예를 들어, 리소그래피 투영장치는 집적회로(IC)의 제조에 사용될 수 있다.이 경우에, 패터닝수단은 IC의 각각의 층에 대응되는 회로패턴을 형성할 수 있으며, 이 패턴은 이후에 방사선 감응재(레지스트)층으로 도포된 기판(실리콘 웨이퍼)상의 타겟부(예를 들어, 1이상의 다이로 구성되는)상으로 묘화될 수 있다. 일반적으로, 단일 웨이퍼는 인접해 있는 타겟부들의 전체적인 네트워크를 포함하고, 이들 타겟부는 투영시스템에 의하여 한번에 하나씩 연속적으로 조사된다. 현재 통용되는 장치에서, 마스크테이블상의 마스크에 의한 패터닝을 채택하는 데에는, 두 가지 상이한 형식의 기계로 구분될 수 있다. 어느 한 형식의 리소그래피 투영장치에서는 타겟부상으로 전체 마스크 패턴을 한번에 노광함으로써 각 타겟부가 조사되는데, 이러한 장치를 통상적으로 웨이퍼 스테퍼(wafer stepper)라고 한다. 통상, 스텝-앤드-스캔 장치(step-and-scan apparatus)라고 불리워지는 대체 장치에서는 소정의 기준 방향("스캐닝 방향")으로 투영빔 하의 마스크 패턴을 점진적으로 스캐닝하는 한편, 상기 스캐닝 방향과 같은 방향 또는 반대 방향으로 기판테이블을 동기적으로 스캐닝함으로써 각 타겟부가 조사된다. 일반적으로, 투영시스템은 배율인자 M(일반적으로 < 1)을 가지므로 기판테이블이 스캐닝되는 속도 V는 마스크테이블이 스캐닝되는 속도의 인자 M배가 된다. 본 명세서에 참고자료로 채택되고, 여기서 서술된 리소그래피장치에 관한 보다 상세한 정보는, 예를 들어 미국특허 US 6,046,792호에서 찾을 수 있다.
리소그래피 투영장치를 사용하는 제조공정에서, (예를 들어, 마스크의) 패턴은 방사선 감응재(레지스트)층에 의하여 적어도 부분적으로 도포되는 기판상으로 묘화된다. 이 묘화 단계에 앞서, 기판은 전처리(priming), 레지스트 코팅 및 소프트 베이크와 같은 여러가지 과정을 거칠 수 있다. 노광 후에는, 노광후 베이크(PEB), 현상, 하드 베이크 및 묘화된 형상의 측정/검사와 같은 또 다른 과정을 거치게 된다. 이러한 일련의 과정은, 예를 들어 IC의 각각의 층을 패터닝하는 기초로서 사용된다. 이렇게 패터닝된 층은 에칭, 이온주입(도핑), 금속화, 산화, 화학-기계적 폴리싱 등과 같은, 각각의 층을 가공하기 위한 여러 공정을 거친다. 여러 개의 층이 요구된다면, 새로운 층마다 전체공정 또는 그것의 변형된 공정이 반복되어져야만 할 것이다. 그 결과로, 기판(웨이퍼)상에는 집적회로 디바이스의 배열이 존재하게 될 것이다. 이들 집적회로 디바이스는 다이싱 또는 소잉 등의 기술에 의하여 서로 분리되고, 이들 각각의 집적회로 디바이스는 캐리어에 장착되고 핀 등에 접속될 수 있다. 본 명세서에서 참고자료로 채택되고 있는 이와 같은 공정에 관한 추가정보는 예를 들어, "Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Processing (3판, Peter van Zant 저, McGraw Hill출판사, 1997, ISBN 0-07-067250-4)"으로부터 얻을 수 있다.
설명을 간단히 하기 위하여, 상기 투영시스템은 이후에 "렌즈"라고 언급 될 것이다. 하지만 이 용어는 예를 들어, 굴절광학기, 반사광학기, 카타디옵트릭 시스템을 포함하는 다양한 형태의 투영시스템을 내포하는 것으로서 폭 넓게 해석되어야 한다. 또한 상기 방사선시스템은 방사선투영빔의 지향, 성형 또는 제어하는 이들 설계형식 중의 어느 하나에 따라 동작하는 구성요소를 포함할 수 있고, 이후에 설명에서는 이러한 구성요소들을 집합적으로 또는 개별적으로 "렌즈"라고 언급할 것이다. 나아가, 상기 리소그래피장치는 2이상의 기판테이블 (및/또는 2이상의 마스크테이블)을 구비하는 형태가 될 수도 있다. 이러한 "다수 스테이지" 장치에서, 추가테이블이 병행으로 사용될 수 있으며, 1이상의 스테이지가 노광에 사용되고 있는 동안, 1이상의 다른 스테이지에서는 준비작업단계가 수행될 수 있다. 본 명세서에서 참고자료로 채택되는 듀얼스테이지 리소그래피장치는, 예를 들어, 미국특허 US 5,969,441호 및 국제특허출원 WO 98/40791호에 개시되어 있다.
발명자들은 듀얼스테이지 리소그래피 장치의 성능을 조사한 결과, 동일한 머신내의 상이한 스테이지상에서 수행되는 단계들에서 하나의 기판을 묘화하는 것에 의한 성능 문제들이 있을 수 있는 것으로 판단했다. 예를 들어, 발명자들은 오버레이 오차의 한 요소가 스테이지들간의 오차임을 알아냈다. 실험적으로, 상기 오차 요소는 매우 정밀하게 매칭된 스테이지에서도 1 ~ 10nm 정도에 있는 것으로 판단되었다. 오버레이 성능에 대한 요건이 증가함에 따라, 수 나노미터의 오차마저도 없애는 것이 대단히 가치있는 것일 수 있다.
본 발명의 목적은 듀얼스테이지 리소그래피 장치를 사용하여 리소그래피 공정의 이미지 성능을 개선하는데 있다.
상기 및 기타 목적들은 서두에 언급한 바와 같은 본 발명에 따른 리소그래피 장치에 의해 달성되는데, 상기 장치는, 그 위에 묘화된 제1패턴을 갖는 기판상으로 제2패턴을 묘화할 때, 2개의 기판홀더간의 차이의 영향이 감소되도록 묘화를 제어하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
기판홀더간의 차이를 고려함으로써, 본 발명에 따른 장치는 개선된 묘화 성능을 얻을 수 있다. 발명자들은 수 나노미터의 오버레이 성능 개선을 달성할 수 있었다. 이러한 레벨의 스테이지 대 스테이지 오버레이 성능을 부여하는 스테이지들의 제조는 가능하다 할지라도 매우 고가일 것이다. 따라서, 본 발명은 엔지니어링 및 제조비용이 추가로 더 들지 않고도 성능을 개선할 수 있다.
묘화를 제어하는 수단은, 예를 들어 제1패턴이 묘화된 기판이 2개의 기판홀더 가운데 동일한 것을 사용하여 제2패턴으로 묘화되는 것을 보장하는 수단을 포함할 수 있다. 즉, 각 기판에 대하여, 극히 중요한 처리 단계들이 동일한 스테이지상에서 수행될 것이다.
대안적으로, 묘화를 제어하는 수단은, 예를 들어 2개의 기판홀더간의 차이를 고려하도록 묘화를 조정하는 수단을 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 형태에 따르면,
- 적어도 부분적으로는 방사선감응재의 층으로 덮인 기판을 제공하는 단계;
- 방사선시스템을 사용하여, 방사선의 투영빔을 제공하는 단계;
- 패터닝수단을 사용하여 투영빔의 단면에 패턴을 부여하는 단계;
- 방사선감응재층의 타겟부상에 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계;
- 묘화시 기판을 잡아주도록 제1 및 제2기판홀더를 제공하는 단계를 포함하는 디바이스 제조방법이 제공되며, 상기 2개의 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이기 위하여 제1패턴을 가지고 있는 기판상으로의 제2패턴의 묘화를 제어하는 것을 특징으로 한다.
묘화를 제어하는 단계는, 예를 들어 제1패턴의 묘화시에 기판이 그 위에 유지된 2개의 기판홀더 중의 어느 하나상에 유지되는 동안, 제2패턴이 상기 기판상으로 묘화되는 것을 보장하는 단계를 포함할 수 있다.
본 명세서에서는 IC의 제조에 있어서의 본 발명에 따른 장치의 사용례에 대하여 언급하였으나, 이러한 장치가 다른 여러 가능한 응용례를 가지고 있음이 명백히 이해되어야 할 것이다. 예를 들어, 상기 장치는 집적 광학시스템, 자기영역메모리용 유도 및 검출패턴, 액정표시패널, 박막자기헤드 등의 제조에도 이용될 수 있다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용례와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "레티클", "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 용어가 각각 "마스크", "기판" 및 "타겟부" 등과 같은 좀 더 일반적인 용어로 대체되고 있음을 이해할 수 있다.
본 명세서에서, "방사선" 및 "빔"이란 용어는 (예를 들어, 파장이 365, 248, 193, 157 또는 126㎚ 인) 자외선과 EUV(예를 들어, 파장이 5 내지 20㎚ 범위인 극자외선) 및 이온빔 또는 전자빔과 같은 입자빔을 포함하는 모든 형태의 전자기방사선을 포괄하여 사용된다.
본 발명의 실시예
도 1은 본 발명의 특정 실시예에 따른 리소그래피 투영장치(1)를 개략적으로 도시한다. 상기 장치는,
· 방사선(예를 들어, UV, DUV, EUV 방사선, 전자 또는 이온)의 투영빔(PB)을 공급하는 방사선시스템(Ex, IL)(특정 경우에는, 방사선시스템도 방사원(LA)을 포함함);
· 마스크(MA)(예를 들어, 레티클)를 잡아주는 마스크홀더가 마련된, 아이템(PL)에 대하여 마스크를 정확히 위치시키는 제1위치설정수단에 연결된 제1대물테이블(마스크테이블)(MT)(상기 제1대물테이블은 프레임(BF)에 의해 지지됨);
· 기판(W)(예를 들어, 레지스트 코팅된 실리콘 웨이퍼)을 잡아주는 기판홀더가 마련된, 아이템(PL)에 대하여 기판을 정확히 위치시키는 제2위치설정수단에 연결된 제2대물테이블(기판테이블)(WT);
· 기판(W)의 타겟부(C)(예를 들면, 1이상의 다이를 포함함)에 마스크(MA)의 조사된 부분을 묘화하는 투영시스템 ("렌즈")(PL)(예를 들어, 카타디옵트릭 또는 굴절형 시스템과 같은 광학 시스템, 거울 어레이 또는 한 세트의 필드 디플렉터)을 포함하여 이루어진다.
도시된 바와 같이, 상기 장치는 (투과마스크를 구비한) 투과형이다. 하지만, 일반적으로는, 예를 들어 (반사마스크를 구비한) 반사형일 수도 있다. 대안적으로, 상기 장치는 상술된 바와 같은 형식의 프로그램가능한 거울배열과 같은 그 밖의 다른 종류의 패터닝수단을 채택할 수도 있다. 상기 장치는 전체로서 베이스판(BP)에 의해 지지된다.
방사원(LA)(예를 들어, 램프나 레이저, 전자 가속기의 경로에 제공되는 언듈레이터, 플라즈마원, 또는 전자빔원이나 이온빔원)은 방사선의 빔을 생성한다. 상기 빔은 막바로 조명시스템(일루미네이터)(IL)에 들어 가거나, 예를 들어 빔 익스펜더(Ex)와 같은 컨디셔닝 수단을 거친 다음에 조명시스템으로 들어간다. 상기 일루미네이터(IL)는 빔내의 세기 분포의 외반경 및/또는 내반경 크기(통상 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)를 설정하는 조정수단(AM)을 포함하여 이루어진다. 또한 이것은 일반적으로 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같은 여타의 다양한 구성요소들을 포함하고 있다. 이러한 방식으로, 마스크(MA)에 도달하는 빔(PB)은 그 단면에 소정의 균일성과 세기 분포를 갖게 된다.
도 1과 관련하여, 상기 방사원(LA)은 리소그패피 투영장치의 하우징내에 놓이지만(흔히 예를 들어, 방사원(LA)이 수은램프인 경우에서 처럼), 그것이 리소그래피 투영장치로부터 멀리 떨어져 있어서 그것이 만들어 낸 방사선빔이 (가령, 적절한 지향 거울에 의해) 장치 내부로 들어오게 할 수도 있다. 후자의 시나리오는 방사원(LA)이 대개 엑시머레이저인 경우이다. 본 발명과 청구 범위는 이들 시나리오를 모두 포함하고 있다.
이후, 상기 빔(PB)은 마스크테이블(MT)상에 잡혀 있는 마스크(MA)를 통과한다. 마스크(MA)에 의해 선택적으로 반사된 빔(PB)은 렌즈(PL)를 통과하여 기판(W)의 타겟부(C)위에 빔(PB)을 포커싱한다. 제2위치설정수단(및 간섭계측정수단(IF))에 의하여, 기판테이블(WT)은, 예를 들어 빔(PB)의 경로내에 상이한 타겟부(C)를 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제1위치설정수단은 예를 들어, 마스크 라이브러리로부터 마스크(MA)를 기계적으로 회수한 후에, 또는 스캔하는 동안에, 빔(PB)의 경로에 대하여 마스크(MA)를 정확히 위치시키도록 사용될 수 있다. 일반적으로 대물테이블(MT, WT)의 이동은, 도 1에 명확히 도시되지는 않았지만, 장행정모듈(long-stroke module)(개략 위치설정) 및 단행정모듈(미세 위치설정)의 도움을 받아 실현될 것이다. 하지만, (스텝-앤드-스캔 장치와는 대조적으로) 웨이퍼스테퍼의 경우에 마스크테이블(MT)이 단행정액추에이터에만 연결되거나 또는 고정될 수도 있다. 묘화시, 레티클 및 기판은 레티클정렬마크(M1, M2) 및 기판정렬마크(P1, P2)를 사용하여 정렬될 수 있다.
도시된 상기 장치는 2가지 상이한 모드로 사용될 수 있다.
1. 스텝모드에서는, 마스크테이블(MT)은 기본적으로 정지상태로 유지되며, 전체 마스크이미지는 한번에(즉, 단일 "섬광"으로) 타겟부(C)에 투영된다. 이후 기판테이블(WT)이 x 및/또는 y 방향으로 시프트되어 다른 타겟부(C)가 빔(PB)에 의하여 조사될 수 있다.
2. 스캔모드에서는, 소정타겟부(C)가 단일 "섬광"으로 노광되지 않는 것을 제외하고는 기본적으로 동일한 시나리오가 적용된다. 그 대신에, 마스크테이블(MT)이 v의 속도로 소정 방향(소위 "스캔방향", 예를 들어 y 방향)으로 이동가능해서, 투영빔(PB)이 마스크 이미지의 모든 부분을 스캐닝하도록 되고, 이와 함께 기판테이블(WT)은 속도 V=Mv로, 동일한 방향 또는 그 반대방향으로 동시에 이동하는 데, 이 때 M은 렌즈(PL)의 배율(통상 M = 1/4 또는 1/5)이다. 이러한 방식으로, 해상도를 떨어뜨리지 않고도 비교적 넓은 타겟부(C)가 노광될 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 2개의 기판홀더를 구비한 리소그래피 투영장치(1')의 특정 실시예를 예시한다. 어떤 시스템들은 도 1에 비해 단순화된 반면, 여타의 부분들은 추가로 상세히 도시되어 있음을 알 수 있다. 도 1의 장치(1)의 것과 유사한 2개의 기판홀더시스템의 부분들은 동일한 도면기호로 나타내었다. 도 2에 도시된 장치는 2개의 기판홀더 및 2개의 기판을 포함하기 때문에, 아래첨자를 사용하여 WT1, WT2, W1, W2로 각각 나타내었다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제1대물테이블(MT)은 상술된 바와 같이 스캐닝을 위하여 이동가능하게 구성된다. 하지만, 도 1의 단일 스테이지 장치에서와 같이, 도 2의 듀얼스테이지 장치는 스텝모드 또는 스텝-앤드-스캔모드 가운데 어느 하나로 작동될 수 있음을 유의한다.
도 2의 장치는 하나의 기판(W1)이 묘화위치(14)에 있는 한편, 특성화위치(12)에서 다른 하나의 기판(W2)의 특성화를 제공하는데 사용될 수 있는 특성화유닛(10)을 더욱 포함한다. 상기 특성화유닛(10)은, 예를 들어 국부적인 비평탄 및 다이 위치와 같은 기판(W2)의 다양한 특성들을 측정하고, 그 각각의 기판홀더에 기판을 정렬하는데 사용된다. 다른 기판(W2)을 특성화하면서, 기판(W1)상의 묘화를 수행함으로써, 전체 스루풋이 향상될 수 있다.
상기 장치의 작동시, 기판홀더를 이동시키는 각각의 엑추에이터(16, 18)를 구비한 각각의 기판홀더(WT1, WT2)가 도시되어 있다. 일 실시예에서, 2개의 엑추에이터(16, 18)는 묘화위치 및 특성화위치내에서 테이블을 이동시키고, 어느 하나에서 다른 것으로 기판홀더를 주고 받도록(hand-off)하도록 상호작용한다. 상기 기판은, 특성화 정보가 묘화시에 유효하게 남아있도록, 특성화 및 묘화시에 모두 각각의 기판홀더상에 남아있다.
배치(batch) 공정에서는, 수 개의 기판들이 일렬로 상기 장치내에 도입된다. 제1기판(W1)은, 특성화위치(12)에서 특성화된 후, 묘화를 위하여 묘화위치(14)로 이동된다. 제1기판(W1)의 묘화동안, 제2기판(W2)은 특성화위치(12)에서 특성화된다. 이들 일련의 동작은 임의의 개수의 기판(Wn)(도시안됨)에 대해 계속된다.
전체 배치가 묘화된 후, 통상적으로 계속 처리된다. 예를 들어, 레지스트가 현상 및 에칭된 후, 예컨대 금속화 또는 절연 층들이 웨이퍼에 제공된다. 다음으로, 레지스트의 새로운 층이 제공되고, 제2(또는 후속)패턴이 기판상에 묘화된다. 특별한 작업이 이루어지지 않는다면, 제1기판(W1)은 상기 장치로 들어가 제2기판홀더(WT2)상에 탑재될 수 있다. 마찬가지로, 제1기판(W1)이 묘화위치(14)로 이동하면, 제2기판은 상기 장치로 들어가 상기 제1기판홀더(WT1)상에 탑재될 것이다. 따라서, 각 기판은 결국, 제1묘화공정시 그들이 지지되는 것과 다른 테이블에 의해 지지되면서 특성화 및 묘화된다.
2개의 기판홀더는 똑같지 않을 수 있기 때문에, 어느 정도의 오차가 각각의 특성화 및 묘화 공정에 도입될 수 있다. 전반적으로, 이들 오차는 제1 및 제2(또는 후속)묘화공정 사이의 이미지 오버레이의 오차를 발생시킬 수 있다. 나아가, 통상적인 칩제조공정에서는, 20개 이상의 묘화된 층들이 있을 수 있다. 이들 층들 중의 어떤 것들은 하나의 테이블상에 묘화되고, 여타의 어떤 층들은 다른 테이블상에 묘화될 수 있다. 따라서, 어떤 특정 층들이 여타의 특정 층들에 비해 최적의 오버레이를 가진다는 어떠한 보장도 없다.
본 발명의 실시예에 따르면, 투영장치(1')는 2개의 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이는 수단을 포함한다. 특정 실시예에서, 상기 장치는 각각의 리소그래피 처리단계에 있어 각각의 기판홀더(W1 또는 W2)상에서 각각의 기판(Wn)이 처리되는 것을 확보하는 수단을 포함한다. 대안적으로, 모든 층들간의 오버레이가 매우 중요하지 않은 경우, 상기 공정은 최상의 성능이 요구되는 "크리티컬(critical)" 층으로 판단되는 각 층에 대하여 각각의 기판홀더상에서 각각의 기판(Wn)이 처리되는 것을 보장하도록 제어될 수 있다.
상기 장치가 특정 기판이 특정 기판홀더상에서 처리되는 것을 보장할 수 있는 한가지 방법은 처리를 위하여 복수의 기판을 저장할 수 있는 도 3에 도시된 기판카세트(30) 또는 기타의 저장구조체를 포함하는 것이다. 상기 기판카세트(30)는, 소정의 순서대로, 예를 들어 제1기판(W1)은 항상 첫번째로 처리되고, 제2기판(W2)은 항상 두번째로 처리되며, n번째 기판(Wn)은 항상 n번째로 처리되는 등의 순서로 기판들을 간직한다. 기판의 순서가 파악되는 방식으로 유지되는 한, 각각의 기판은 처리를 위하여 각각의 기판홀더에 언제나 매칭될 수 있음을 이해할 수 있다. 예시하자면, 카세트는 처리될 일련의 기판(W1, W2, W3, W4, W5 ..., Wn)을 포함할 수 있다. 그 다음, 홀수번호의 각 기판은 제1기판홀더(WT1)상에서 처리되고, 짝수번호의 각 기판은 제2기판홀더(WT2)상에서 처리된다. 후속 묘화공정에서는, 짝수 및 홀수 기판들이 교대되는 한, 적절한 기판이 그 각각의 홀더에 매칭될 수 있다. 분명한 것은, 특정 저장구조체의 사용이 필요하지 않고, 오히려 파악된 순서의 기판들을 유지하는 다양한 방법들이 채택될 수 있다.
기판을 물리적으로 교대시키는 대신에, 홀더 및 기판간의 관계를 유지하는데 필요한 어떤 순서로 저장위치로부터 적절한 기판을 선택하기 위하여, 리소그래피 장치의 핸들링 아암(들)이 프로그래밍될 수 있다. 이 경우, 사용자로 하여금 각각의 기판을 처리하는데 어떤 기판홀더가 사용되는지를 미리 식별하도록 하는 것이 바람직할 수 있다. 이는 예컨대, 트랙 및 열적 처리 장치와 함께 1이상의 리소그래피 투영장치를 포함하는 제조설비용 컴퓨터제어시스템일 수 있는 관리시스템을 통한 셋업 절차의 부분으로서 또는 배치 형성의 부분으로서 수행될 수 있다.
노광에 이어, 기판의 처리가 순차적으로 되는 경우가 보통이다. 다시 말해, 각각의 처리단계는 선입선출 방식으로 작동되어, 처리공정에 이어 기판들이 노광 직후의 순서였던 W1, W2, W3, W4, W5..., Wn 과 같은 순서로 있다. 기판의 배치에 적용되는 처리단계가 순차적이라고 파악되는 경우에는, 상술된 저장구조체가 필요하지 않을 수도 있다. 기판의 순서는 순차적인 처리공정의 직접적인 결과로서 원래대로 남아있다. 기판들은 저장되어 유지되지 않고(즉, 처리공정 직후) 리소그래피 투영장치로 복귀될 수 있거나, 또는 (기판들의 순서가 저장구조체에 의해 변경되지 않는다면) 종래의 저장구조체에 유지될 수도 있다. 기판들이 리소그래피 투영장치로 복귀하면, 제1기판이 정확한 기판홀더(WT)로 보내지는 것이 요구된다. 이것이 행해지면, 모든 후속 기판들이 정확한 기판홀더(WT)로 보내질 것이다. 정확한 기판홀더가 제1기판에 일치할 수 있는 몇 가지 방법이 있다. 예를 들어, 리소그래피 투영장치는, 모든 배치의 제1기판이 제1기판홀더(WT1)상에서 처리되도록 구성될 수 있다. 이것은 소정의 배치가 리소그래피 투영장치로 복귀할 때마다, 상기 배치의 제1기판이 다시 상기 제1기판홀더(WT1)상에서 처리되는 것을 의미한다. 대안적인 방법으로, 각 배치에 관한 정보는 노광에 이어 유지된 후, 배치가 리소그래피 투영장치로 복귀될 때 검색될 수 있다. 상기 정보는 배치에 사용된 제1기판홀더의 기록과 함께 배치 식별자를 포함할 수 있고, 예를 들어 리소그래피 투영장치에서 유지될 수도 있다. 이것이 행해지는 경우, 관리시스템은, 리소그래피 투영장치로 복귀될 때, 배치의 위치를 추적하고, 리소그래피 투영장치에 상기 배치의 동일성(identity)을 알려준다. 상기 배치의 동일성이 리소그래피 투영장치가 보유한 정보와 함께 사용되어, 배치의 제1기판이 전해져야 하는 기판홀더를 결정할 수 있게 된다. 또 다른 대안적인 방법에서는, 배치에 사용되는 제1기판홀더의 기록과 함께 배치 식별자가 관리시스템에 의해 보유될 수 있고, 상기 배치가 리소그래피 투영장치로 복귀할 때, 관리시스템이 이를 사용하여, 제1기판이 정확한 기판홀더로 전해지도록 리소그래피 투영장치에 지시하게 된다.
상술된 본 발명의 실시예에서는, 리소그래피 투영장치로 진행하는 기판들이 변경되지 않는 시퀀스에 일부 의존한다. 예를 들어 기판 검사시에 결함있는 기판이 인식되면, 시퀀스가 변경될 수 있는 얼마간의 경우가 있을 수 있다. 종래의 리소그래피 처리공정에서는 결함있는 기판이 제거됨으로써, 상기 시퀀스를 수정하여 본 발명의 실시예가 정확히 기능하는 것을 막는다. 이러한 문제는 몇가지 방법으로 해결될 수 있다. 예를 들어, 결함있는 기판은 배치내의 그 위치에 유지될 수 있고; 즉 기판은 정상적으로 처리되고 일단 모든 리소그래피 공정들이 완료되면(즉, 모든 층들이 노광되면) 제거된다. 대안적으로, 결함있는 기판을 꺼내 모조(dummy) 기판에 의해 교체될 수 있다. 제3의 대안적인 방법에서는, 종래의 방식으로 기판이 제거될 수 있으나, 어느 기판이 시퀀스로부터 제거되었는지의 기억이 보존된다. 이 기록은 관리시스템으로부터의 명령을 통해 또는 직접 리소그래피 투영장치에 의해 사용되어, 적절하게 기판홀더가 사용되는 시퀀스를 수정할 수 있다. 또 다른 대안적인 방법에서는, 배치로부터의 기판이 시퀀스로부터 제거될 때, 남아있는 기판들이 재정렬되어 기판과 기판홀더간의 적절한 관계를 유지시킬 수 있다.
대안적인 실시예에서, 각각의 기판은 그 위에 식별마크를 가진다. 도 4는 기판을 식별하는데 사용될 수 있는 몇가지 대안적인 마킹을 예시한다. 예시된 마킹은 포괄적인 것은 아니고, 다양한 식별 마킹이 채택될 수 있다. 바코드 또는 여타의 기계판독형 코드(40)가 도 4에 도시된 바와 같이 기판상에 인쇄될 수 있다. 예시된 예시에서, 코드(40)는 사용되지 않는 다이(41)상에 인쇄되는데, 그 이유는 그것이 완전히 묘화되지 않기 때문이다. 완전한 다이가 사용될 수도 있지만, 이는 기판 낭비로 인하여 바람직하지 않을 수 있다. 상기 코드(40)는 단순히 어떤 기판홀더에 상기 기판이 할당되는지를 나타내는 정보를 포함할 수도 있고, 또는 기계 식별자, 배치번호, 프로세스 타입 또는 기판과 관련하여 요구될 수 있는 여타의 정보와 같은 추가 정보를 포함할 수도 있다.
상기 코드는 적절한 검출기 및 광학 문자인식 소프트웨어를 사용하여 인식할 수 있는 일련의 문자로 씌어진 기판식별코드일 수 있다. 상기 검출기는 리소그래피 투영장치의 외부에, 예를 들어 기판식별코드가 결정된 후에 리소그래피 투영장치로 진행되어, 상기 장치가 상기 기판을 위한 적절한 기판홀더를 선택할 수 있도록 하면서, 상기 장치에 인접한 트랙에 위치할 수 있다. 리소그래피 투영장치는, 상기 장치가 보유한 어떤 기판홀더가 이전에 상기 기판에 사용되었는지를 나타내는 기록을 이용하여 적절한 기판홀더를 선택한다. 대안적으로, 소요 기록들은, 기판식별코드의 수신시, 적절한 기판홀더를 결정하고 이에 따라 리소그래피 투영장치에 명령을 내리는 시스템 관리자가 보유할 수 있다.
대안적인 코드의 한 위치는 2개의 다이(42, 44) 사이의 공간에 있다. 통상적인 리소그래피 공정에서, 다이들은 스크라이브 라인(scribe line)이라 하는 라인에 의해 분리되며, 상기 라인들은 패터닝되는 칩의 일부분을 포함하지 않는다. 스크라이브 라인들의 공간내에서는, 리소그래피 공정을 제어하는데 사용하기 위하여 다양한 정렬마크(46)들이 묘화되곤 한다. 상기 공간은 앞서 기술된 바와 같은 코드(40)를 삽입하는데 사용될 수 있음을 유의한다.
리소그래피 투영장치의 정렬검출기를 사용하여 판독될 수 있는 코드는, 예를 들어 트랙 또는 시스템 관리자로부터의 외부 입력에 의존하는 대신에, 기판에 관한 정보가 리소그래피 투영장치내에서 내부적으로 결정되도록 할 수 있기 때문에 장점을 가진다. 리소그래피 투영장치내에 적절한 전용 검출기가 제공될 수 있다는 것을 이해할 수 있다(후술내용 참고).
또 다른 실시예에서, 정렬마크(P1, P2)가 식별정보로 인코딩된다. 예를 들어, 마크들간의 거리(d)는 적절한 기판홀더가 식별될 수 있도록 변경될 수 있다. 따라서, 거리(d1)에 대하여, 상기 장치가 기판이 제1기판홀더(WT1)상에서 처리되어야 하는지를 결정할 수 있는 한편, 상이한 거리(d2)에 대해서는, 상기 장치가 기판이 제2기판홀더(WT2)상에서 처리되어야 하는지를 결정할 수 있다. 정렬마크의 위치에 대한 변화량은 어떤 경우에는 기계의 요건에 의해 제한될 것이라는 점이 발명가들에 의해 고려되었다. 예를 들어, 어떤 기계에서, 정렬시스템은 그 안에서 마크를 검출하는 제한된 "캡처 범위"를 가진다. 따라서, 이러한 시스템에 있어서는, 마크들이 캡처 범위보다 적게 시프트되어야 한다. 더욱이, 정렬마크들은 일반적으로 위치에 있어 그 어떤 변동을 가지고, 종종 검출된 위치의 그 어떤 변동이 있기 때문에, 상기 마크들은 정렬측정치의 예측되는 불확실성보다 많이 시프트되어야 한다. 예시로서, 상기 시프트는 수 미크론(예를 들면, 1~2㎛)의 범위내에 있을 수 있다.
부가적으로, 여타의 정렬 피처들이 웨이퍼를 식별하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 단일 정렬마크의 부분들간의 거리 또는 하나의 정렬 마크의 특정 부분과 또 다른 정렬마크의 대응하는 부분간의 거리가 사용될 수 있다. 예시로서, 정렬마크가 격자모양을 포함하는 경우, 상기 격자 간격은 복수의 기판홀더로부터 선택된 특정 기판홀더와 기판이 연관되도록 변경될 수 있다.
기판상에 인코딩된 식별정보를 이용하는 상기 실시예들을 위하여, 리소그래피 장치(1)는 적절한 검출수단을 포함할 수 있다. 몇가지 예로서 별도의 바코드판독시스템, 비디오카메라, 현미경 또는 정렬시스템을 포함한다. 검출시스템은 묘화시스템(예를 들면, 조명 및/또는 투영시스템), 특성화유닛(10)(예를 들면, 정렬시스템) 또는 기판이 리소그래피 장치에 들어가기에 앞서 기판을 검사하는 또 다른 시스템과 같은 장치의 기타 부분들에 포함될 수 있다. 사용된 식별정보의 타입에 따라 여타의 검출수단이 사용될 수 있다.
기판의 시퀀스가 처리 또는 저장시에 변경되지 않았음이 파악된다면, 다만 배치의 제1기판을 식별하는 것만이 필요하고, 후속 기판은 자동으로 적절한 웨이퍼홀더를 사용하여 처리될 것이라는 것을 알 수 있다. 이와 유사하게, 기판의 시퀀스가 알고 있는 방식으로 수정되었다면, 단지 배치의 제1기판을 식별하는 것만이 다시 요구된다. 기판의 시퀀스가 전체적으로 파악되지 않고 있다면, 각 기판은 개별적으로 식별되어야 한다.
'식별된'이란 용어는 각 기판에 대한 독특한 동일성이 결정된 것을 의미하거나 또는 단순히 각 기판에 대한 적절한 기판홀더가 결정된 것을 의미할 수도 있음을 이해할 수 있다.
특정 실시예의 동작에 있어서는, 처리를 위하여 임의의 기판(Wn)이 선택된다. 선택된 기판은 어느 것이 적절한 기판홀더인지를 결정하도록 식별된다. 다음으로, 식별된 기판은 적절한 기판홀더로 이동되어 처리될 수 있다. 기판이 이미 홀더상에 장착되어 있는 동안, 식별이 이루어지는 경우, 특성화유닛이 기판을 식별하는데 사용되는 경우와 같이, 기판은 이미 올바른 홀더상에 있을 수 있다. 이 경우에는, 기판이 이동하지 않고, 바로 처리된다.
대안적으로, 식별된 기판은 또 다른 기판홀더, 즉 과거에 기판을 처리하지 않았던 홀더상에서 처리될 수 있다. 이 경우에는, 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이기 위하여, 묘화공정에 묘화보정이 적용된다.
묘화보정은 당업계에서 일상적인 기술의 하나로 여겨지는 여러가지 기술들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 주어진 쌍들의 기판홀더 사이에서 관측된 오버레이 문제들을 특성화하는 것이 가능할 수 있다. 즉, 한 세트의 위치벡터가 하나의 기판홀더상에서 만들어지는 이미지에 적용되는 경우, 그것이 또 다른 기판홀더 위에 동일한 이미지를 생성할 수 있는 한 세트의 위치벡터를 결정하는 것이 가능하다. 상기 관계가 결정될 수 있는 경우, 차이의 영향을 줄이기 위하여 묘화공정이 수정될 수 있다. 일 실시예에서, 벡터 맵 또는 여타 특성의 차이정보가 리소그래피 장치의 메모리에 저장되고, 기판상의 후속 층들의 처리시에 사용될 수 있다.
어떤 경우에는, 기판홀더의 간섭계거울과 그 위에 놓인 기판간의 위치관계가 기판홀더들간에 상이하다. 이는 거울의 위치설정의 오차, 홀더(핌플테이블 등)의 그리퍼 부분의 위치설정의 오차 등을 초래할 수 있다. 이 경우, 위치 또는 회전차이는, 주어진 기판이 2개의 상이한 기판홀더상에 유지되는 경우에 감지될 것이다. 이것은 비교적 일관된 물리적 오차를 반영하기 때문에, 적절한 보정이 적용될 수 있다. 이와 유사하게, 2개의 기판홀더간의 상대적인 비평탄도 또는 기울기가 있다면, 묘화작업의 적절한 프로그래밍이 성공적으로 오버레이 오차를 줄일 수 있다.
비록 본 발명은 2개의 기판홀더를 구비한 리소그래피 장치에 관하여 기술되었지만, 본 발명은 임의의 개수(즉, 1개가 아닌 임의의 개수)의 기판홀더를 구비한 리소그래피 장치에도 적용할 수 있음을 알 수 있다.
지금까지 본 발명의 특정 실시예를 상술하였지만, 본 발명은 기술된 방법과 달리 실행될 수 있음을 이해할 수 있다. 상기 기술은 본 발명을 제한하지 않는다.
본 발명에 따르면, 듀얼스테이지 리소그래피 장치를 사용하여 리소그래피 공정의 이미지 성능을 개선할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 투영장치의 도면;
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 듀얼스테이지 리소그래피 투영장치의 개략도;
도 3은 본 발명의 실시예에 의해 사용되는 정렬된 기판 배치(batch)를 도시한 개략도; 및
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 식별 마킹을 갖는 웨이퍼를 예시한 개략도이다.
도면에서, 동일한 참조 부호는 동일한 부분을 나타낸다.

Claims (35)

  1. - 방사선투영빔을 공급하는 방사선시스템;
    - 소정의 패턴에 따라 투영빔을 패터닝시키는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체;
    - 기판을 잡아주는 제1기판홀더;
    - 기판을 잡아주는 제2기판홀더;
    - 기판의 타겟부상으로 패터닝된 투영빔을 투영시키는 투영시스템을 포함하는 리소그래피 투영장치에 있어서,
    상기 장치는, 그 위에 제1패턴이 묘화된 기판상에 제2패턴을 묘화할 때, 상기 2개의 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이도록, 묘화를 제어하기 위한 수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  2. 제1항에 있어서,
    사용시, 묘화되는 복수의 기판들 가운데 하나의 기판은 제1기판홀더에 의하여 유지되는 한편, 복수의 기판들 가운데 또 다른 기판은 제2기판홀더에 의하여 유지되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 묘화를 제어하는 수단은, 상기 2개의 기판홀더 중의 동일한 하나를 사용하여, 제1패턴이 묘화되는 기판이 제2패턴으로 묘화되는 것을 보장하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 묘화를 제어하는 수단은 상기 기판홀더간의 차이를 고려하도록 묘화를 조정하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    묘화에 앞서 기판식별정보를 판정하기 위하여 기판을 검사하는 식별수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 식별수단은 상기 장치의 정렬시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 식별수단은 바코드판독기, 기계비전시스템, 비디오카메라, 현미경 및 그들의 조합 가운데 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 리소그래피 투영장치의 외부에 있는 소스로부터 기판식별정보를 수신하는 수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    관련된 기판홀더정보와 함께 기판식별정보를 저장하도록 구성된 저장수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  10. 제5항에 있어서,
    상기 기판식별정보는 기판 배치(batch)의 제1기판에 관한 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 기판에 제2패턴을 묘화할 때, 어떤 기판홀더가 사용되어야만 하는지를 나타내는 명령어 또는 상기 기판홀더들간의 차이를 고려하도록 어떻게 묘화를 조정해야 하는 지를 나타내는 명령어를 수신하기 위한 수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  12. - 적어도 제1 및 제2기판홀더를 구비한 리소그래피 장치의 제1기판홀더상에 적어도 부분적으로 방사선감응재의 층으로 덮인 기판을 제공하는 단계;
    - 방사선시스템을 사용하여, 방사선의 투영빔을 제공하는 단계;
    - 패터닝수단을 사용하여 투영빔의 단면에 패턴을 부여하는 단계;
    - 제1패턴을 묘화하기 위하여, 방사선감응재층의 타겟부상에 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계를 포함하는 디바이스 제조방법에 있어서,
    상기 기판상에 제2패턴을 묘화하는 단계; 및
    상기 2개의 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이도록, 상기 제2패턴의 묘화를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제2기판홀더에 의하여 유지되는 제2기판상에 제1패턴 및 제2패턴을 묘화하는 단계,
    상기 2개의 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이도록, 제2기판상으로의 제2패턴의 묘화를 제어하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 제어하는 단계는, 상기 기판이 상기 제1기판홀더상에 유지되는 동안, 상기 제2패턴이 상기 기판상에 묘화되는 것을 보장하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  15. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 제어하는 단계는 상기 제2패턴의 묘화에 앞서 상기 기판의 동일성(identity)을 체크하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 체크된 동일성은, 어느 기판홀더 위의 기판이 사전에 묘화되었는지를 결정하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 결정 후, 상기 묘화는,
    사전에 묘화된 기판홀더상에 상기 기판을 위치시키는 단계, 및
    상기 제1 및 제2기판홀더간의 차이를 고려하도록 묘화를 조정하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  18. 제15항에 있어서,
    상기 체크하는 단계는 저장된 동일성 정보를 체크하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  19. 제15항에 있어서,
    상기 체크하는 단계는 상기 2개의 어느 기판홀더 위의 기판이 사전에 처리된 것이 어느 것인지를 결정하여, 상기 기판홀더상에서 기판을 처리하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  20. 제15항에 있어서,
    상기 체크하는 단계는 기판상의 물리적인 식별마커를 체크하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 물리적인 식별마커는 바코드, 문자숫자식의 문자, 1이상의 기호 및 그들의 조합 가운데 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 물리적인 식별마커는 사전결정된 간격을 갖는 한 쌍의 정렬마크를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  23. 제15항에 있어서,
    상기 보장하는 단계는, 각각의 기판이 사전에 처리된 상기 기판홀더 가운데의 어느 하나와 연관되도록, 처리될 기판의 배치를 정렬하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  24. 제14항에 있어서,
    상기 제어하는 단계는, 기판이 제2기판홀더상에 유지되는 동안, 상기 기판상에 제2패턴을 묘화하고, 상기 제1 및 제2기판홀더간의 차이를 고려하도록 상기 묘화를 조정하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 조정하는 단계는 상기 제1 및 제2기판홀더간의 차이를 특성화하는 한 세트의 저장된 파라미터에 기초하여 수행되는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
  26. 제12항의 방법에 따라 제조된 디바이스.
  27. 복수의 기판홀더 가운데 기판이 사전에 묘화된 것이 어느 것인지를 결정하는 방법에 있어서,
    적어도 한 쌍의 정렬마크를 마이크로회로의 패턴을 포함하지 않는 기판의 영역상에 묘화하는 단계로서, 상기 정렬마크의 쌍은 복수의 기판홀더 중의 특정 기판홀더에 대응하는 거리만큼 다른 하나로부터 이격되는 것을 특징으로 하는 상기 묘화하는 단계;
    후속 묘화공정시, 상기 거리를 측정하는 단계; 및
    복수의 기판홀더 중의 특정 기판홀더에 대하여 상기 거리를 코렐레이팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  28. 적어도 한 쌍의 정렬피처를 포함하는 기판에 있어서,
    상기 정렬피처의 쌍은 복수의 기판홀더 중의 특정 기판홀더에 대응하는 거리만큼 다른 하나로부터 이격되어, 상기 거리의 검사시에, 상기 기판이 복수의 기판홀더 중의 특정 기판홀더와 연관될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 기판.
  29. - 방사선투영빔을 공급하는 방사선시스템;
    - 소정의 패턴에 따라 투영빔을 패터닝시키는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체;
    - 기판을 잡아주는 제1기판홀더;
    - 기판을 잡아주는 제2기판홀더;
    - 기판의 타겟부상으로 패터닝된 투영빔을 투영시키는 투영시스템을 포함하는 리소그래피 투영장치에 있어서,
    상기 장치는, 그 위에 제1패턴이 묘화된 기판상에 제2패턴을 묘화할 때, 상기 2개의 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이도록, 묘화를 제어하기 위한 수단을 더욱 포함하고,
    사용시, 묘화되는 복수의 기판들 가운데 하나의 기판은 제1기판홀더에 의하여 유지되는 한편, 복수의 기판들 가운데 또 다른 기판은 제2기판홀더에 의하여 유지되며,
    상기 묘화를 제어하는 수단은, 상기 2개의 기판홀더 중의 동일한 하나를 사용하여, 제1패턴이 묘화되는 기판이 제2패턴으로 묘화되는 것을 보장하는 수단을 포함하고, 상기 기판홀더간의 차이를 고려하도록 묘화를 조정하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  30. 제29항에 있어서,
    묘화에 앞서 기판식별정보를 판정하기 위하여 기판을 검사하는 식별수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  31. 제29항 또는 제30항에 있어서,
    상기 리소그래피 투영장치의 외부에 있는 소스로부터 기판식별정보를 수신하는 수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  32. 제31항에 있어서,
    관련된 기판홀더정보와 함께 기판식별정보를 저장하도록 구성된 저장수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  33. - 방사선투영빔을 공급하는 방사선시스템;
    - 소정의 패턴에 따라 투영빔을 패터닝시키는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체;
    - 기판을 잡아주는 제1기판홀더;
    - 기판을 잡아주는 제2기판홀더;
    - 기판의 타겟부상으로 패터닝된 투영빔을 투영시키는 투영시스템을 포함하는 리소그래피 투영장치에 있어서,
    상기 장치는, 그 위에 제1패턴이 묘화된 기판상에 제2패턴을 묘화할 때, 상기 2개의 기판홀더간의 차이의 영향을 줄이도록, 묘화를 제어하기 위한 수단을 더욱 포함하고,
    사용시, 묘화되는 복수의 기판들 가운데 하나의 기판은 제1기판홀더에 의하여 유지되는 한편, 복수의 기판들 가운데 또 다른 기판은 제2기판홀더에 의하여 유지되며,
    상기 묘화를 제어하는 수단은, 상기 2개의 기판홀더 중의 동일한 하나를 사용하여, 제1패턴이 묘화되는 기판이 제2패턴으로 묘화되는 것을 보장하는 수단을 포함하고,
    묘화에 앞서 기판식별정보를 판정하기 위하여 기판을 검사하는 식별수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  34. 제33항에 있어서,
    상기 리소그래피 투영장치의 외부에 있는 소스로부터 기판식별정보를 수신하는 수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
  35. 제33항 또는 제34항에 있어서,
    관련된 기판홀더정보와 함께 기판식별정보를 저장하도록 구성된 저장수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치.
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