KR100359796B1 - 액정표시장치용박막트랜지스터및액정표시장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (2)
- 투명기판상에 게이트전극이 형성되고, 투명기판 상면과 게이트전극을 덮는 절연층이 형성되고, 절연층 상에 상기 게이트전극에 대향하여 반도체층이 형성되고, 반도체층 상에 에치스토퍼층이 형성되고, 반도체층의 양측에 에치스토퍼층과 반도체층과 절연층에 걸쳐 서로 인접한 대향 상태로 소스전극과 드레인전극이 형성되어 이루어진 액정표시소자용 박막트랜지스터에 있어서,상기 소스전극과 드레인전극의 각각의 반도체층측에 상기 반도체층과의 전기적 콘택을 행하는 오믹콘텍층이 형성되고, 상기 게이트전극의 크기는 상기 투명기판측으로 부터 상기 반도체층을 가리는 크기 이상으로 형성됨과 아울러, 상기 에치스토퍼층측으로 부터 상기 소스전극 드레인전극 및 상기 에치스토퍼층이 공동으로 상기 반도체층을 가리도록 형성되고, 상기 소스전극과 드레인전극의 라인폭이 그 라인폭과 같은 방향을 따른 상기 반도체층의 폭보다도 크게 형성되고, 상기 소스전극 및 드레인전극이 각각 상기 오믹콘택층을 개재하여 상기 반도체층의 상면 및 측단면과 접속되고, 상기 게이트전극, 에치스토퍼층, 소스전극 및 드레인전극이 차광성재료에 의하여 각각 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 박막트랜지스터.
- 투명기판상에 게이트전극이 형성되고, 투명기판 상면과 게이트전극을 덮는 절연층이 형성되고, 절연층 상에 상기 게이트전극에 대향하여 반도체층이 형성되고, 반도체층 상에 에치스토퍼층이 형성되고, 반도체층의 양측에 에치스토퍼층과 반도체층과 절연층에 걸쳐 서로 인접한 대향 상태로 소스전극과 드레인전극이 형성되어 이루어진 박막트랜지스터를 포함하는 액정표시장치에 있어서,상기 소스전극과 드레인전극의 각각의 반도체층측에 상기 반도체층과의 전기적 콘택을 행하는 오믹콘택층이 형성되고, 상기 게이트전극이 상기 투명기판측으로부터 상기 반도체층을 가리는 크기로 형성됨과 아울러, 상기 에치스토퍼층측으로 부터 상기 소스전극, 드레인전극 및 상기 에치스토퍼층이 공동으로 상기 반도체층을 가리도록 형성되고, 상기 소스전극과 드레인전극의 라인폭이 그 라인폭과 같은 방항을 따른 상기 반도체층의 폭보다도 크게 형성되고, 상기 반도체층 단면과 상기 소스전극 및 드레인전극과의 접속은 상기 오믹콘텍층을 개재하여 접속되고, 상기 게이트전극, 에치스토퍼층, 소스전극 및 드레인전극이 차광성재료에 의하여 각각 구성되어 이루어진 박막트랜지스터를 구비한 어레이기판과, 상기 박막트랜지스터 어레이기판에 대향배치된 대향기판과, 상기 대향기판과 상기 박막트랜지스터 어레이기판 사이에 주입봉합된 액정과, 상기 대향기판의 박막트랜지스터 어레이기판측의 일부에 설치된 블랙마스크와, 상기 투명기판을 사이에 두고 상기 대향기판측에 빛을 입사하는 백라이트를 구비하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10008608B2 (en) | 2008-11-28 | 2018-06-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3420201B2 (ja) * | 1999-12-22 | 2003-06-23 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置 |
JP2001343669A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
KR100751177B1 (ko) * | 2000-08-08 | 2007-08-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시소자 및 그의 제조방법 |
US6734924B2 (en) | 2000-09-08 | 2004-05-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
US7167226B2 (en) * | 2000-11-02 | 2007-01-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device having particular configuration of pixel electrodes |
KR100508000B1 (ko) * | 2002-08-27 | 2005-08-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
TWI256732B (en) * | 2002-08-30 | 2006-06-11 | Sharp Kk | Thin film transistor, liquid crystal display apparatus, manufacturing method of thin film transistor, and manufacturing method of liquid crystal display apparatus |
GB0302485D0 (en) * | 2003-02-04 | 2003-03-05 | Plastic Logic Ltd | Pixel capacitors |
JP4507540B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2010-07-21 | カシオ計算機株式会社 | 薄膜トランジスタ |
KR100683664B1 (ko) * | 2004-01-06 | 2007-02-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터를 제조하는 방법 및이를 구비한 평판 디스플레이 소자 |
TWI249857B (en) * | 2005-06-01 | 2006-02-21 | Au Optronics Corp | Displaying device with photocurrent-reducing structure and method of manufacturing the same |
CN100449715C (zh) * | 2006-01-23 | 2009-01-07 | 友达光电股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制造方法 |
KR101248003B1 (ko) * | 2006-05-09 | 2013-03-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 어레이 기판과 그 제조방법 |
JP5442228B2 (ja) * | 2008-08-07 | 2014-03-12 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
KR101827333B1 (ko) * | 2008-09-19 | 2018-02-09 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체장치 |
JP2010113253A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
US8456586B2 (en) | 2009-06-11 | 2013-06-04 | Apple Inc. | Portable computer display structures |
WO2011027649A1 (en) * | 2009-09-02 | 2011-03-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including a transistor, and manufacturing method of semiconductor device |
KR101587936B1 (ko) * | 2009-10-26 | 2016-01-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치용 모기판 및 이의 제조 방법 |
US8408780B2 (en) * | 2009-11-03 | 2013-04-02 | Apple Inc. | Portable computer housing with integral display |
US8743309B2 (en) | 2009-11-10 | 2014-06-03 | Apple Inc. | Methods for fabricating display structures |
US9143668B2 (en) * | 2010-10-29 | 2015-09-22 | Apple Inc. | Camera lens structures and display structures for electronic devices |
US8467177B2 (en) | 2010-10-29 | 2013-06-18 | Apple Inc. | Displays with polarizer windows and opaque masking layers for electronic devices |
KR101835525B1 (ko) | 2011-02-17 | 2018-04-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
WO2015107606A1 (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | 株式会社Joled | 表示装置及び薄膜トランジスタ基板 |
CN104377247B (zh) * | 2014-11-24 | 2017-12-08 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 薄膜晶体管、显示装置及薄膜晶体管的制造方法 |
CN109417099A (zh) | 2016-04-25 | 2019-03-01 | 堺显示器制品株式会社 | 薄膜晶体管、显示装置和薄膜晶体管制造方法 |
CN109244085A (zh) * | 2018-09-27 | 2019-01-18 | 惠科股份有限公司 | 一种阵列基板及显示面板 |
US11838432B2 (en) | 2019-12-03 | 2023-12-05 | Apple Inc. | Handheld electronic device |
US11637919B2 (en) | 2019-12-03 | 2023-04-25 | Apple Inc. | Handheld electronic device |
US12003657B2 (en) | 2021-03-02 | 2024-06-04 | Apple Inc. | Handheld electronic device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02199842A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-08 | Nec Corp | 薄膜電界効果型トランジスタ素子の製造方法 |
US5327001A (en) * | 1987-09-09 | 1994-07-05 | Casio Computer Co., Ltd. | Thin film transistor array having single light shield layer over transistors and gate and drain lines |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5187551A (en) * | 1988-04-30 | 1993-02-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film semiconductor device and liquid crystal display apparatus thereof for preventing irradiated light from reaching the semiconductor layers |
US5474941A (en) * | 1990-12-28 | 1995-12-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for producing an active matrix substrate |
DE69125260T2 (de) * | 1990-12-28 | 1997-10-02 | Sharp Kk | Ein Verfahren zum Herstellen eines Dünnfilm-Transistors und eines Aktive-Matrix-Substrates für Flüssig-Kristall-Anzeige-Anordnungen |
JPH05293823A (ja) | 1992-04-21 | 1993-11-09 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Bmc成形体 |
US5614731A (en) * | 1993-03-15 | 1997-03-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin-film transistor element having a structure promoting reduction of light-induced leakage current |
US5473168A (en) * | 1993-04-30 | 1995-12-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film transistor |
US5471330A (en) * | 1993-07-29 | 1995-11-28 | Honeywell Inc. | Polysilicon pixel electrode |
TW354380B (en) * | 1995-03-17 | 1999-03-11 | Hitachi Ltd | A liquid crystal device with a wide visual angle |
JPH08264790A (ja) * | 1995-03-22 | 1996-10-11 | Toshiba Corp | 薄膜電解効果トランジスタ及び液晶表示装置 |
-
1996
- 1996-01-25 JP JP1123796A patent/JPH09203908A/ja active Pending
-
1997
- 1997-01-22 KR KR1019970001794A patent/KR100359796B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-01-22 US US08/787,463 patent/US6278504B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5327001A (en) * | 1987-09-09 | 1994-07-05 | Casio Computer Co., Ltd. | Thin film transistor array having single light shield layer over transistors and gate and drain lines |
JPH02199842A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-08 | Nec Corp | 薄膜電界効果型トランジスタ素子の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10008608B2 (en) | 2008-11-28 | 2018-06-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
US10424674B2 (en) | 2008-11-28 | 2019-09-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
US10985282B2 (en) | 2008-11-28 | 2021-04-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
US11869978B2 (en) | 2008-11-28 | 2024-01-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6278504B1 (en) | 2001-08-21 |
JPH09203908A (ja) | 1997-08-05 |
KR970059803A (ko) | 1997-08-12 |
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