KR100350253B1 - 요소 함유 조성물, 및 미용 및/또는 피부과학 분야에서 그의 용도 - Google Patents

요소 함유 조성물, 및 미용 및/또는 피부과학 분야에서 그의 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 요소(尿素) 및 N-치환 아미노술폰산을 함유하는 조성물에 관한 것이다. 사용되는 N-치환 아미노술폰산은 바람직하게는 6 내지 7.83 의 pKa 범위를 가지며 본 발명에 따른 조성물의 pH 는 바람직하게는 약 7 이다. 요소는, 특히 미용 및/또는 피부과학 분야에서, 사용하고자 하는 상기 조성물에 안정하게 유지된다.
본 발명은 또한 사람의 피부, 점막 및/또는 케라틴섬유의 케어, 트리트먼트 및/또는 보호, 특히 피부 보습과 건조한 피부의 트리트먼트를 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.

Description

요소 함유 조성물, 및 미용 및/또는 피부과학 분야에서 그의 용도 {COMPOSITION COMPRISING UREA, AND ITS USES IN THE FIELD OF COSMETICS AND/OR DERMATOLOGY}
본 발명은 요소를 안정적으로 함유하고 특히 미용 및/또는 피부과학 분야에 사용하고자 하는 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 사람 피부, 점막 및/또는 케라틴섬유의 케어, 트리트먼트, 보호 및/또는 수화(水和), 및 건조한 피부의 트리트먼트를 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.
미용 또는 피부용 조성물에서, 보습제, 즉 피부의 수분 함량을 유지시켜서 피부 촉감 및 유연함을 좋게 하는 흡습성 물질이 현재 사용된다. 상기 보습제는 또한 피부의 수화, 특히 건조한 피부의 트리트먼트에 유용하다.
많은 보습제 중에서, 특히 요소(尿素)를 들 수 있으며, 이것은 NMF (천연보습성분) 조성물의 일부이고 피부의 각질층을 부드럽게 하는 효과를 갖는다.
그러나, 요소의 단점은 수성 환경에서 안정하지 못하여 이산화탄소와 암모니아로 분해된다는 것이다. 이것은 요소를 함유하는 조성물의 pH 상승을 초래하며 냄새를 방출하여 상기 조성물의 용도를 쓸모없게 만든다.
따라서 미용상 허용 가능한 조성물내에 요소를 수 개월 이상 안정한 형태로 제제화하려는 시도가 오래동안 있어 왔다. 따라서, 문헌 JP51048441 은 pH 6 내지 9 의 글리신/수산화나트륨 완충액에서 요소를 안정화시키는 것을 기재한다. 그러나, 상기 완충액의 사용은 이것을 함유하는 조성물을 피부 도포시 끈적거리게 만드는 단점이 있다.
따라서 만족스러운 미용 특성을 갖는 안정한 요소계 조성물에 대한 요구가 존재한다.
본 출원인은, 놀랍고 예측 못한 방식으로, N-치환 아미노술폰산을 사용함으로써, 요소를 함유하고 시간이 지나도 안정하며 사용이 쾌적한 조성물을 제제화하는 것이 가능함을 발견하였다
따라서 본 발명은 생리적으로 허용 가능한 담체중에 요소와 하나 이상의 N-치환 아미노술폰산을 함유하는 것을 특징으로 하는 미용 또는 피부 용도의 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 조성물의 장점은 45℃에서 2 개월간 보관 후에도 안정한 요소를 함유할 수 있다는 것이다.
따라서 본 발명은 요소를 안정화시키기 위한 하나 이상의 N-치환 아미노술폰산의 용도에 관한 것이다.
본 발명에 따른 조성물의 장점은 피부 및 케라틴섬유에 특히 잘 허용되며 국소 용도, 특히 미용 및/또는 피부 용도에 매우 적합하다는 것이다.
본 발명에 따른 조성물에 사용되는 N-치환 아미노술폰산은 일반적으로 약 20℃에서 6 내지 7.8, 바람직하게는 6.3 내지 7.6 범위의 pKa 를 갖는 완충액을 구성한다.
N-치환 아미노술폰산은 특히, 바람직하게는 알킬기 탄소수가 1 내지 6, 보다 바람직하게는 2 내지 3 인 알킬술폰산의 아미노 유도체 중에서 선택된다. 이들은 특히 에탄술폰산 및 프로판술폰산의 아미노 유도체일 수 있다.
N-치환 아미노술폰산의 예로 들 수 있는 것은 N,N-비스[2-히드록시에틸]-2-아미노에탄술폰산 (pKa = 7.17), N-2-히드록시에틸피페라진-N'-2-에탄술폰산 (pKa = 7.55), 3-[N-모르폴리노]프로판술폰산 (pKa = 7.15), 피페라진-N,N'-비스[2-에탄술폰]산 (pKa = 6.82), 3-[N-트리스(히드록시메틸)메틸아미노]-2-히드록시프로판술폰산 (pKa = 7.6), 2-[N-모르폴리노]에탄술폰산 (pKa = 6.15), N-(2-아세트아미도)-2-아미노에탄술폰산 (pKa = 6.88), N-트리스(히드록시메틸)메틸-2-아미노에탄술폰산 (pKa = 7.5)이다. 상기 산들의 혼합물 또한 사용 가능하다. 상기 주어진 pKa 값은 약 20℃에서 0.1 M 농도에 대해 측정한 값이다.
N-치환 아미노술폰산량은 목적하는 결과, 즉 조성물중 요소의 안정화를 이룰 수 있게 충분히 높아야 한다. 상기량은, 예컨대, 조성물 총중량에 대해 0.1 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 15 중량% 범위일 수 있다.
조성물중 요소량은 목적에 따라 광범위하게 변할 수 있다. 미용 및/또는 피부 용도를 위해, 요소는 조성물 총중량에 대해 일반적으로 0.1 내지 20 중량%,바람직하게는 0.5 내지 15 중량% 범위의 양으로 존재한다.
본 발명에 따른 조성물은 요소의 안정성을 보다 확실히 하기 위해 pH 가 약 7 인 것이 바람직하다. pH 약 7 은 6.5 내지 7.5 범위의 pH 로 이해된다. 조성물의 pH 는 바람직하게는 6.8 내지 7.2 범위이며, 공지된 임의의 적당한 수단에 의해, 그리고 환경에 따라, 염산 또는 시트르산과 같은 무기산 또는 유기산, 또는 수산화나트륨 및 트리에탄올아민과 같은 무기염기 또는 유기염기에 의해 조정할 수 있다.
pH 에 따라, N-치환 아미노술폰산은 부분적 염 형태일 수 있다.
요소는 요소를 함유하는 조성물의 pH 가 7 일 때 더 적게 분해되다고 알려져 있다. 그러나, 상기 pH 에서도, 시간이 지남에 따라 피할 수 없는 분해가 발생한다. 본 발명에 따른 조성물에서는, N-치환 아미노술폰산의 존재로 인해 요소의 분해를 피할 수 있다.
요소가 존재하는 조성물은 생리적으로 허용 가능한 담체, 즉 피부, 점막 (입술 포함) 및/또는 케라틴섬유 (모발, 속눈썹)와 상용 가능한 것을 함유한다. 상기 조성물은, 특히 수성 또는 유성 용액, 로션 또는 유액 형태의 수성 또는 유성 현탁액 또는 분산액, 또는 지방상을 수성상에 분산시키거나 (O/W; 수중유형) 반대의 방법 (W/O; 유중수형)으로 수득한 에멀션, 삼중 에멀션 (W/O/W 또는 O/W/O) 또는 이온성 및/또는 비이온성 소포체 분산액의 형태로, 통상 사용되는 국소 용도의 임의의 약제학적 형태로 존재할 수 있다. 상기 조성물은 통상의 방법으로 제조된다. 본 발명의 바람직한 구현에 있어서, 조성물은 수중유형(O/W) 에멀션 형태이다.
조성물의 다른 구성성분량은 고려하는 분야에서 통상 사용되는 양이다.
조성물이 에멀션일 때, 지방상의 양은 조성물 총중량에 대해 5 내지 80 중량%, 바람직하게는 5 내지 50 중량% 범위일 수 있다. 에멀션 형태의 조성물에 사용되는 오일, 왁스, 유화제 및 조(助)유화제는 미용 및 피부과학 분야에서 통상 사용되는 것 중에서 선택된다. 유화제 및 조유화제는 조성물 총중량에 대해 바람직하게는 0.3 내지 30 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 20 중량% 의 양으로 조성물중에 존재한다. 에멀션은 지질 소포체를 추가로 함유할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 오일 또는 왁스로서 언급할 수 있는 것은 광유(鑛油) (액체 바셀린), 식물성유 (쉐아(shea)버터의 액체 유분, 해바라기유), 동물성유 (퍼히드로스쿠알렌), 합성유 (이소프로필 미리스테이트), 실리콘유 또는 왁스 (시클로메티콘) 및 플루오르화유 (퍼플루오로폴리에테르), 밀랍, 카르나우바 왁스 또는 파라핀 왁스이다. 지방 알콜 (세틸알콜) 및 지방산 (스테아르산)을 상기 오일에 첨가할 수 있다.
본 발명에서 사용 가능한 유화제의 예로서 언급할 수 있는 것은 글리세롤 스테아레이트 및 PEG-50 스테아레이트이다.
미용 또는 피부용 조성물은 또한, 공지의 방법으로, 친수성 또는 친유성 겔화제, 친수성 또는 친유성 첨가제, 방부제, 산화방지제, 용매, 방향제, 충전제, 일광차단제, 소취제 및 착색제와 같은 미용 또는 피부과학 분야에 통상 사용되는 보조제를 함유할 수 있다. 상기 각종 보조제의 양은 상기 분야에 통상 사용되는양이며, 예컨대 조성물 총중량에 대해 0.01 내지 10% 이다. 그 성질에 따라, 상기 보조제는 지방상, 수성상 및/또는 지질 소구체내에 도입될 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 친수성 겔화제로서 언급할 수 있는 것은 카르복시비닐 중합체 (카보머(carbomer)), 아크릴레이트/알킬아크릴레이트 공중합체와 같은 아크릴 공중합체, 폴리아크릴아미드, 히드록시프로필셀룰로스와 같은 폴리사카라이드, 천연고무, 점토이며, 친유성 겔화제로서 언급할 수 있는 것은 벤토나이트와 같은 개질 점토 및 알루미늄 스테아레이트와 같은 지방산의 금속염이다.
요소와 대립되지 않는 한, 본 발명에 따른 조성물은 기타 활성 물질, 특히 피부병 예방 및/또는 트리트먼트용 활성 물질을 함유할 수 있다.
다음의 기타 활성 물질을 예로 들 수 있다: 글리세롤, 글리콜 및 당 유도체와 같은 폴리올, 효소, 비타민 C (아스코르브산), 비타민 A (레티놀), 비타민 D, 비타민 E (토코페롤), 비타민 K 와 같은 비타민 및 상기 비타민의 유도체 (예컨대 에스테르), 세라마이드, 코지산 및 카페산과 같은 착색감소제, 살리실산과 같은 베타-히드록시산 및 그 유도체, 락트산 및 글리콜산과 같은 알파-히드록시산, 단백질 가수분해물과 같은 보습제, 알란토인과 같은 연화제, 및 이들의 혼합물.
본 발명의 조성물은 특히 얼굴 및/또는 신체의 피부의 케어, 트리트먼트 및/또는 보호, 및 특히 피부의 보습을 위한 것이다.
또 본 발명은 얼굴 및/또는 신체의 피부의 케어, 트리트먼트, 보호 및/또는 보습을 위한, 상기 정의된 조성물의 미용 용도에 관한 것이다.
요소의 보습성으로 인해, 본 발명에 따른 조성물은 건조한 피부의 트리트먼트용으로 사용할 수 있다.
따라서 본 발명은 또한 건조한 피부의 트리트먼트용 조성물을 제조하기 위한, 상기 정의된 조성물의 용도에 관한 것이다.
이하 실시예는 본 발명을 그 범위를 제한하지 않으면서 설명할 것이다. 조성물중 주어진 양은 조성물 총중량에 대한 중량퍼센트이다.
실시예 1: 수중유형(O/W) 에멀션
유성상:
- 세틸알콜 7%
- 글리세릴 스테아레이트 2.5%
- PEG-50 스테아레이트 2.5%
- 바셀린 오일 6.2%
- 이소프로필 미리스테이트 3%
수성상:
- 방부제 0.3%
- 요소 10%
- 3-[N-모르폴리노]프로판술폰산 7%
- 수산화나트륨 적량 pH = 7 ±0.2
- 물 적량 100%
절차: 유성상을 80℃로 가열한다. 별도로, 수성상의 약간의 물과 방부제를 혼합하고 혼합물을 80℃로 가열한 후, 유성상을 수성상내에 교반하면서 도입한다. 수득한 에멀션을 약 40℃의 온도로 냉각하고, 소량의 물에 가용화된 3-[N-모르폴리노]프로판술폰산을 첨가한다: 수산화나트륨으로 pH 를 조정하고, 소량의 물에 가용화된 요소를 에멀션내에 도입한다. 다시 pH 를 약 7 로 조정한다.
45℃에서 2 개월 후, 조성물중 요소 농도는 동일하게 유지되며, pH 는 0.4 단위를 넘게 상승하지 않으며 (+5.6% 의 변동), 보관된 조성물이 냄새를 전혀 방출하지 않는 반면, 아미노술폰산이 없는 동일 조성물에서는, 45℃에서 2 개월후 요소 농도가 13% 떨어지고, pH 가 1.8 단위 상승하며 (+27% 의 변동), 조성물은 암모니아 냄새가 난다.
수득한 에멀션은 양호한 미용 특성을 가지며 (끈적이지 않음) 피부를 부드럽게 하면서 보습할 목적으로 피부를 트리트먼트하는 데 적당하다.
실시예 2: 수중유형(O/W) 에멀션
유성상:
- 세틸알콜 7%
- 글리세릴 스테아레이트 2.5%
- PEG-50 스테아레이트 2.5%
- 바셀린 오일 6.2%
- 이소프로필 미리스테이트 3%
수성상:
- 요소 10%
- 피페라진-N,N'-비스[2-에탄술폰]산 10%
- 방부제 0.3%
- 수산화나트륨 적량 pH = 7 ±0.2
- 물 적량 100%
절차는 실시예 1 과 동일하다.
45℃에서 2 개월후, 요소 농도는 단지 5.7% 낮아지고, pH 는 단지 0.7 단위 상승하며 (+10% 변동), 조성물은 냄새를 전혀 방출하지 않는 반면, 아미노술폰산이 없는 동일 조성물에서는, 45℃에서 2 개월후 요소 농도가 13% 낮아지고, pH 가 1.8 단위 상승하며 (+27% 변동), 조성물은 암모니아 냄새가 난다.
수득한 에멀션은 양호한 미용 특성을 가지며 (끈적이지 않음) 피부를 부드럽게 하면서 보습할 목적으로 피부를 트리트먼트하는 데 적당하다.
실시예 3: 수중유형(O/W) 에멀션
유성상:
- 세틸알콜 7%
- 글리세릴 스테아레이트 2.5%
- PEG-50 스테아레이트 2.5%
- 바셀린 오일 6.2%
- 이소프로필 미리스테이트 3%
수성상:
- 요소 10%
- N,N'-비스[2-히드록시에틸]-2-아미노에탄 술폰산 7.1%
- 방부제 0.3%
- 수산화나트륨 적량 pH = 7 ±0.2
- 물 적량 100%
절차는 실시예 1 과 동일하다.
45℃에서 2 개월후, 요소 농도는 단지 7.6% 낮아지고, pH 는 단지 0.7 단위 상승하며 (+10% 변동), 조성물은 냄새를 전혀 방출하지 않는 반면, 아미노술폰산이 없는 동일 조성물에서는, 45℃에서 2 개월후 요소 농도가 13% 낮아지고, pH 가 1.8 단위 상승하며 (+27% 변동), 조성물은 암모니아 냄새가 난다.
수득한 에멀션은 양호한 미용 특성을 가지며 (끈적이지 않음) 피부를 부드럽게 하면서 보습할 목적으로 피부를 트리트먼트하는 데 적당하다.
본 발명에 따른 요소 및 N-치환 아미노술폰산을 함유하는 조성물은 요소가 시간이 지나도 안정하며 양호한 미용 특성을 지녀서 얼굴 및/또는 신체 피부의 케어, 트리트먼트 및/또는 보호, 특히 건조한 피부의 트리트먼트에 적당하다.

Claims (11)

  1. 생리적으로 허용 가능한 담체중에 요소(尿素) 및 하나 이상의 N-치환 아미노술폰산을 함유하는 것을 특징으로 하는 미용 또는 피부 용도의 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, pH 범위가 6.5 내지 7.5 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 약 20℃에서 N-치환 아미노술폰산의 pKa 가 6 내지 7.8 인 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, N-치환 아미노술폰산이, 알킬기 탄소수가 1 내지 6 인 알킬술폰산의 아미노 유도체 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, N-치환 아미노술폰산이 N,N-비스[2-히드록시에틸]-2-아미노에탄술폰산, N-2-히드록시에틸피페라진-N'-2-에탄술폰산, 3-[N-모르폴리노]프로판술폰산, 피페라진-N,N'-비스[2-에탄술폰]산, 3-[N-트리스(히드록시메틸)-메틸아미노]-2-히드록시프로판-술폰산, 2-[N-모르폴리노]에탄술폰산, N-(2-아세트아미도)-2-아미노에탄술폰산, N-트리스-(히드록시메틸)메틸-2-아미노에탄술폰산 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, N-치환 아미노술폰산량이 조성물 총중량에 대해 0.1 내지 20 중량% 범위인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 요소가 조성물 총중량에 대해 0.1 내지 20 중량% 범위의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 수중유형(O/W) 에멀션 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 얼굴 및/또는 신체의 피부의 케어, 트리트먼트 및/또는 보호를 위한 미용 용도로 사용되는 조성물.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 건조한 피부의 트리트먼트용 조성물을 제조하는 데 사용되는 조성물.
  11. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 요소를 안정화시키기 위해 하나 이상의 N-치환 아미노술폰산이 사용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
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