KR100304782B1

KR100304782B1 - 단부면연마장치및단부면연마방법

Info

Publication number: KR100304782B1
Application number: KR1019980011241A
Authority: KR
Inventors: 요시다 히또시
Original assignee: 가네꼬 히사시; 닛본 덴기 가부시끼가이샤
Priority date: 1997-03-31
Filing date: 1998-03-31
Publication date: 2002-04-17
Also published as: KR19980080936A; JP3011129B2; JPH10277899A

Abstract

본 발명의 단부면 연마 장치는, 유리 기판을 유지하며 상기 유리 기판의 크기에 따라서 폭을 자동적으로 조정 가능한 다수의 기판 수용부에 의해서 다단계 방식으로 다수의 유리 기판을 내장하는 카세트형 스테이지와; 다수의 오목형 지석(sharpening stone)이 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉하도록 다단계 방식으로 배열되는 지석부(砥石部)와; 상기 카세트형 스테이지의 양측에 배치되며 상기 지석부가 부착되는 회전축과; 상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 회전축을 자동적으로 이동시키는 회전축 위치 설정부를 포함한다.

Description

단부면 연마 장치 및 단부면 연마 방법 {END SURFACE ABRADING APPARATUS AND METHOD OF ABRADING AN END SURFACE}

본 발명은 유리 기판과 같은 기판의 단부면을 연마하는 단부면 연마 장치와, 유리 기판과 같은 기판의 단부면을 연마하는 방법에 관한 것이다.

단부면 연마 장치에 의해 유리 기판의 연마가 필요한 배경으로는, 칼라 액정패널 제조 공정을 제기할 수 있다. 즉, 패턴 유리 기판에 배향 처리와 같은 것을 적용하기 전에 유리 기판을 분단(分斷)하는 경우에는, 단부면 연마 장치에 의해서 분단 유리 기판의 단부면을 연마해야 할 필요성이 있다.

상기 연마 처리의 필요성은 다음과 같은 이유 때문이다. 분단 후에 유리 기판에는 예리한 단부면이 남아 있다. 따라서, 유리 기판을 운반하는 데 사용되는 운반 가이드가 손상을 받아 분진(dust)을 만들게 된다. 그리고, 이러한 분진이 유리 기판에 놓여지는 경우에는 배향 불량 등이 발생할 수 있다. 따라서, 유리 기판의 단부면의 예리한 부분을 미리 닦아 낼 필요가 있게 된다. 또한, 유리 기판의 단부면의 예리한 부분이 파괴되는 경우에는, 이는 분진과 동일하게 작용하여 문제가 된다. 또한, 유리 기판의 외부 형상이 정밀하지 않은 형상이라면, 유리 기판의 외부 형상을 활용하는 위치를 결정함에 있어서는 충분히 정밀한 위치 설정을 유지할 수 없다.

그러나, 여러 종류의 유리 기판의 단부면 연마 장치가 공지되어 있다.

그 대표적인 장치로서, 도5에 도시된 단부면 연마 장치를 들 수 있는데, 이러한 종래 타입의 단부면 연마 장치의 배치에 대해 이하에서 간략하게 설명한다.

도5에 도시된 상기 단부면 연마 장치는 일반적으로 스테이지(19)와, 컵형상 지석(sharpening stone; 20)과, 회전 기구(15)로 구성되어 있다. 이러한 구성에서, 스테이지(19)에는 그 위에 유리 기판(1')이 배치되고, 2개의 컵형상 지석(20) 사이에서 유리 기판이 반송된다. 단부면 연마 후에 유리 기판(1')의 테이퍼 면과 컵형상 지석(sharpening stone)(20) 저면의 연마면이 평행하도록, 컵형상 지석(20)이 네 곳에 순차적으로 부착된다. 또한, 여기에는 컵형상 지석(20)을 유리 기판(1')의 테이퍼 면과 수직되게 축선(16) 둘레로 회전시키는 회전 기구(15)가 있다.

한편, 도5에 도시된 단부면 연마 장치는 다음과 같은 결함이 있다. 첫 번째 결함은, 상기 단부면 연마 장치는 유리 기판(1')의 연마 처리가 하나씩 도입되는 구조이므로, 연마 처리에 장시간이 소요된다는 것이다. 즉, 대량의 유리 기판을 처리하는 경우에는 다수의 단부면 연마 장치를 설치하는 것이 기본적인 것이 된다.

두 번째 결함은 유리 기판(1')의 크기가 변경되는 경우에, 유리 기판(1')의 크기 변경에 따라서 스테이지(19)를 교환해야 할 필요성이 있다는 것이다. 이러한 스테이지 교환 또는 교환 후의 연마량 조정 등의 작업은 장치 가동률을 현저하게 저하시키는 것이다.

세 번째 결함으로는 컵형상 지석(20)의 저면을 사용하여 연마 처리를 수행하므로 유리 기판(1')의 단부면이 도6에 도시된 바와 같이 사각 형상으로만 처리된다는 것이다. 즉, 도5의 단부면 연마 장치는 유리 기판(1')에 절단면(17)의 가공 처리를 할 수 없는 것이다. 이러한 사실은 충분한 고정밀도 위치 설정 작업을 유지할 수 없다는 것을 의미한다. 또한, 도5의 단부면 연마 장치에서는, 유리 기판(1')의 단부 부분을 모서리의 파손이 쉽게 발생하지 않는 둥근 형상으로 가공 처리할 수 없다는 것이다. 더욱이, 도5의 단부면 연마 장치에서는 다량의 챔퍼량(chamfer quantity)이 있을 수 있다. 이러한 경우에는, 유리 기판(1')의 단부 부분의 형상이 도7에 도시된 바와 같이 예리하게 된다. 즉, 유리 기판(1')의단부 부분에는 균열이 쉽게 발생한다. 도7에서 도면 부호 18로 나타낸 바와 같은 균열이 상기 부분에서 발생하는 경우에는, 장치 가동에 악영향을 미치게 됨은 자명한 일이다.

상술된 단부면 연마 장치와 동일한 기능을 갖는 장치로서, 일본 특개소62-100440호 공보에 개시된 유리 보드용 챔퍼 처리 장치(chamfer processing apparatus)가 있다. 상기 챔퍼 처리 장치를 도8과 도9를 참고로 이하에 설명하면 다음과 같다.

도8에 도시된 상기 챔퍼 처리 장치는 지지 테이블(22)과, 2개의 볼록형 지석(21)과, 볼록형 지석(21)을 회전시키는 회전 기구(23)와, 조절 기구(25)를 구비하는 것이다. 상기 구성에서, 지지 테이블(22) 위에는 유리 기판(1')이 배치된다. 지지 테이블(22)은 그 위에 배치된 유리 기판(1')을 볼록형 지석(21) 위치로 반송시키는 역할을 한다. 볼록형 지석(21)은 차례로 지지 테이블(22) 위에 배치된 유리 기판(1')으로부터 상향과 하향으로 위치하도록 배치된다. 또한, 볼록한 지석(21)은 절단선을 형성하고, 절단 공정을 이행하고 그리고 챔퍼 공정을 이행하는 V형상 볼록부를 갖는다. 더욱이, 회전 기구(25)는 볼록형 지석(21)이 절단선(24)을 개재시키는 위치에 볼록형 지석(21)이 안착되도록 볼록형 지석(21)의 위치 설정 동작을 이행한다. 또한, 회전 기구(25)는 볼록형 지석(21)이 유리 기판(1')과 접촉되게 하는 기능을 한다.

이러한 챔퍼 처리 장치에 의한 절단 연마가 이루어진 후에 즉, V형상 홈이 대향 형성된 후에 절단선(24)에는 굽힘 응력이 적용된다. 따라서, 유리 기판(1')은 2개의 부분으로 분단된다. 분단된 유리 기판(1')은 V형상 홈의 중심부로부터 전단되어, V형상 홈의 테이퍼 부분이 챔퍼 부분이 되게 한다. 또한, 일반적으로 굽힘 응력은 손(hand)에 가해지게 된다.

도8의 챔퍼 처리 장치를 사용하는 경우에는, 챔퍼 부분이 되는 V형상 홈과 절단선(24)이 일괄 처리되기 때문에 공정이 약간 감소될 수 있다. 그러나, 유리 기판(1')이 하나씩 연마되므로, 상기 장치는 아직 대량 처리면에서는 부족한 것이다. 또한, 다른 결점으로서, 연마 처리로 형성되는 V형상 홈이 절단선(24)으로 활용되어 균열 발생에 대처하기가 곤란하다는 것이다. 이러한 결점의 절단 작업은 제품의 질뿐만 아니라 처리 공정에도 중대한 악영향을 주게 된다.

더욱이, 도8의 챔퍼 처리 장치에는 다음과 같은 결점이 있다. 연마 처리 후에 절단 작업이 행해짐으로, 도9에 도면 부호 26으로 지시된 절단면의 연마가 수행될 수 없다. 따라서, 도9에 도시된 바와 같이, 절단 작업 중에 미소한 균열(27)로 인하여, 유리의 박리(peeling)가 발생한다. 이러한 유리의 박리는 유리 기판을 반송하는 중에 각종 문제점을 발생시키는 원인이 된다. 또한, 상하부에 배치된 볼록형 지석(21)의 위치가 좌측 또는 우측으로 약간 들어올려지는 경우에는, 절단면(26)이 수직 방향을 향하게 된다. 따라서, 당연한 문제로서 절단면(26)의 연마 처리가 수행될 수 없게 된다. 따라서, 유리 기판(1')의 단부면의 형상을 보정할 수가 없다. 이러한 사실도 또한, 제품의 질에 악영향을 끼치는 경우가 있는 것이다.

상술된 2개의 단부면 연마 장치와 유사한 장치로서 일본국 실용신안 출원제110055/1989 호에 개시된 마이크로스코프의 슬라이드 유리용 연마 장치가 있다.

상기 연마 장치의 개략적인 구조와 기능을 도10내지 도12를 통해 도시하였다. 즉, 도10 및 도11로부터 이해될 수 있는 바로서, 상기 연마 장치는 일반적으로 이동 장치(컨베이어)(A)와, 이동 장치(A)에 의해 반송되는 박스(B)와, 제1 회전 지석(30)과, 제2 회전 지석(31), 및 제3 회전 지석(32)으로 구성된 것이다. 상기 구성에서, 이동 장치(A)는 연속적이지 않고 단속(斷續)적인 것이다. 또한, 박스(B)는 박스(B) 내에 내장된 슬라이드 유리(C)와 같이 이동 장치(A)에 의해 반송된다. 또한, 제1 회전 지석(30)과, 제2 회전 지석(31)과 제3 회전 지석(32)은 박스(B) 내에 적층 방식(laminated manner)으로 내장된 슬라이드 유리(C)를 연마하는 작업을 한다.

도12에 도시한 바와 같이 배치된 연마 장치에서, 슬라이드 유리(C)의 상부 단부면은 제1 회전 지석(30)으로 연마된다[도12의 (a)]. 또한, 슬라이드 유리(C)의 측 단부면은 제2 회전 지석(31)으로 연마된다[도12의 (b)]. 그리고, 슬라이드 유리(C)의 모서리는 제3 회전 지석(32)으로 연마된다[도12의 (c) 및 (d)].

이러한 연마 장치에서는 슬라이드 유리(C)의 연마가 적층된 다수의 슬라이드 유리(C)로서 집단적으로 수행되므로 상술된 2개의 장치에 비해서 효율성이 양호하다고 말할 수 있다. 그러나, 이러한 연마 처리 방법은 주 표면에 대해 수직하는 단부면에 대해서만 행할 수 있는 것이다. 따라서, 단부면이 균열되기가 쉽고 그리고 이러한 사실은 문제를 발생시키는 원인이 된다.

보드 유리용 단부면 연마 장치로서는 상술된 세 개 장치와는 다른 장치로서일본국 특허 출원 제243895/1996 호에 개시된 형태의 것이 있다. 도13은 상기 단부면 연마 장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면으로서, 상기 장치는 일반적으로 플랫폼(33)과 2개의 연마 처리 장치(34, 35)로 구성된다. 특히, 상기 연마 처리 장치(34, 35)는 연마할 보드 유리(w)의 폭에 따라서 대향되게 설치된다. 또한, 고속으로 회전하는 지석(36)이 연마 처리 장치(34, 35)의 각각의 하단부 부분에 설치된다. 이러한 배치로 이루어진 단부면 연마 장치에서, 고속으로 회전하는 지석(36) 사이를 보드 유리(w)가 지나가면, 보드 유리의 단부면의 연마 처리가 행해진다.

그러나, 상기 단부면 연마 장치에서도, 보드 유리(w)의 가공이 하나씩 수행되므로 효율이 낮다. 또한, 자연적인 결과로서 연마면을 형성하는 지석(36)의 둘레 면이 보드 유리(w)의 단부면에 대해 수직되게 맞닿으므로, 획득된 제품의 단부면은 주 표면에 대해 수직을 이루게 된다. 따라서, 단부면은 균열되기가 쉽다.

본 발명이 해결하고자 하는 제1의 과제는 연마 처리가 고 효율로 수행되고 처리에 소요되는 시간을 저감시키는 것이다.

제2의 과제는 유리 기판의 크기가 변경되는 경우에 용이하게 크기 변경을 수용할 수 있게 하는 것이다.

제3의 과제는 유리 기판의 단부면의 연마 처리를 균열이 쉽게 발생하지 않는 형상 즉, 예리한 부분이 존재하지 않는 형상이 형성되게 수행될 수 있게 하는 것이다.

도1은 본 발명의 제1 실시예의 단부면 연마 장치의 구성을 개략적으로 도시한 정면도.

도2는 본 발명의 제1 실시예의 단부면 연마 장치의 구성을 개략적으로 도시한 측면도.

도3은 본 발명의 제2 실시예의 단부면 연마 장치의 구성을 개략적으로 도시한 측면도.

도4는 본 발명의 제3 실시예의 단부면 연마 장치의 구성을 개략적으로 도시한 측면도.

도5는 종래의 단부면 연마 장치(제1 종래예)의 구성을 개략적으로 도시한 정면도.

도6은 종래의 단부면 연마 장치(제1 종래예)에 의해 유리 기판의 단부 부분의 처리 상태를 도시한 사시도.

도7은 종래의 단부면 연마 장치(제1 종래예)에 의해 처리되는 유리 기판의 단부 부분에 균열이 발생하게 된 상태를 도시한 사시도.

도8은 종래의 챔퍼 처리 장치(제2 종래예)의 구성을 개략적으로 도시한 정면도.

도9는 종래의 챔퍼 처리 장치(제2 종래예)에 의해 유리 보드의 단부 부분의 처리 상태를 도시한 사시도.

도10은 종래의 연마 장치(제3 종래예)의 구조를 개략적으로 도시한 측면도.

도11은 종래의 연마 장치(제3 종래예)의 구조를 개략적으로 도시한 측면도.

도12의 (a) 내지 (d)는 종래의 연마 장치(제3 종래예)에 의해 슬라이드 유리가 연마되는 과정을 도시한 도면.

도13은 종래의 단부면 연마 장치(제4 종래예)의 구조를 개략적으로 도시한 정면도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1, 1': 유리 기판

2: 카세트형 스테이지

3, 3a, 3b: 오목형 지석(砥石; sharpening stone)

4: 지석부

5: 회전축 위치 설정부

6: 기판 수용부

7a, 7b: 가이드

8: 흡착 기구

9: 회전축

10: 모터

11: 보조 연마 지석부

15: 회전 기구

17: 절단면

18: 균열

19: 스테이지

20: 컵형상 지석

21: 볼록형 지석

22: 지지 테이블

24: 절단선

25: 회전 기구

30, 31, 32: 회전 지석

33: 플랫폼

34, 35: 연마 처리 장치

36: 지석

상기 과제들은, 유리 기판을 유지하며 상기 유리 기판의 크기에 따라서 서로 간의 간격이 자동적으로 조정될 수 있는 다수의 기판 수용부에 의해서 다단계 방식으로 다수의 유리 기판을 내장하도록 구성된 카세트형 스테이지와;

상기 카세트형 스테이지 안에 유지된 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉하도록 연마 표면의 중간부가 중공으로 되며 안에는 다수의 오목형 지석(sharpening stone)이 다단계 방식으로 배치되는 지석부(砥石部)와;

상기 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제1 회전축과; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제1 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제1 회전축 위치 설정부를 포함하는, 단부면 연마 장치에 의해 해결된다.

특히, 상기 과제들은, 유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 부가적으로 상기 유리 기판의 폭을 따르는 방향에 대해 직교하는 방향으로 이동할 수 있게 구성되며, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

다수의 오목형 지석이 다단계 방식으로 배열되고, 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되도록 중공으로 되는, 지석부와;

상기 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제1 회전축과;

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제1 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제1 회전축 위치 설정부와;

다수의 보조 연마용 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치되고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 상기 오목형 지석 형상보다 경감되는 형상을 갖고 상기 지석 부분에 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는, 상기 지석부의 전진 단계에 배치되는 보조 연마 지석부와;

상기 보조 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제2 회전축과; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제2 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제2 회전축 위치 설정부를 포함하는, 단부면 연마 장치에 의해 해결된다.

또한, 상기 과제들은, 유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

다수의 오목형 지석은 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되어 있고, 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 중공이고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 상기 오목형 지석 형상보다 더 경감되는 형상을 갖고, 상기 지석 부분에 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는, 다수의 오목형 지석과 다수의 보조 연마용 오목형 지석이 다단계 방식으로 교대로 배치되는 조합 지석부와;

상기 조합 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제3 회전축과; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따르는 상기 제3 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하고, 상기 제3 회전축의 높이를 조정하는 제3 회전축 위치 설정부를 포함하는, 단부면 연마 장치에 의해 해결된다.

이러한 방식으로, 본 발명의 단부면 연마 장치에서는, 다수의 유리 기판이 카세트형 스테이지에 다단계 방식으로 유지되고, 다수의 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치된 지석부에 의해 유리 기판의 단부면의 연마가 수행된다. 따라서, 다수의 유리 기판의 연마 처리를 일괄로 수행할 수 있어서 장치의 처리능력을 현저하게 향상시킬 수 있다. 그 결과 연마 처리에 소요되는 시간도 현저하게 저하되게 된다.

또한, 본 발명의 단부면 연마 장치는 간격이 자동적으로 조정되는 기판 수용부를 갖는 카세트형 스테이지를 구비하는 것이다. 그리고, 지석부를 회전시키는 회전축에 대하여, 그 위치가 이동 가능한 것이다. 따라서, 상기 장치는 다양한 크기의 유리 기판에 대응할 수 있는 것이다. 즉, 유리 기판의 크기가 변경되면, 회전축의 위치와 카세트형 스테이지의 기판 수용부와의 사이에 간격은 자동적으로 변경되는 것이다. 따라서, 상기 장치는 유리 기판의 크기의 변경에 용이하게 대처할 수 있는 것이고, 장치의 가동률이 저하되지 않는 것이다.

또한, 본 발명의 단부면 연마 장치에서는 연마면이 중공이고 오목한 중앙부를 갖는 지석이 사용된다. 따라서, 절단 후에 외부 형상 치수를 보정하거나 또는 유리 기판의 단부 부분의 원호 형상의 연마가 가능한 것이다. 그러므로, 외부 형상의 불량으로 인한 반송 문제와 유리 기판의 단부 부분으로부터 만들어지는 분진의 발생을 방지할 수 있는 것이다.

이하, 본 발명의 제1 실시예를 도1 및 도2를 사용하여 설명한다.

도1 및 도2에 도시된 본 발명의 실시예의 단부면 연마 장치는 카세트형 스테이지(2)와, 지석부(4)와 회전축(제1 축)(9)과, 회전축 위치 설정부(제1 회전축 위치 설정부)(5)를 포함한다.

상기 구성의 카세트형 스테이지(2)에서, 연마되는 유리 연마(1)의 폭에 따라 기판 수용부(6)의 위치가 자동적으로 변경된다. 즉, 기판 수용부(6) 사이에 간격이 자동적으로 변경된다. 그리고, 카세트형 스테이지(2)는 다단계 방식으로 그 위에 배치된 4개의 유리 기판(1)을 반송하는데 사용된다. 지석부(4)는 차례로, 유리 기판(1)의 단부면과 균일하게 접촉하도록 다단계 방식으로 배치되는 전체 4개의 오목형 지석(3)으로 구성된다. 또한, 오목부는 유리 기판(1)의 단부면의 최종 형상에 따라 오목형 지석(3)의 연마면에 형성된다.

회전축(9)은 각 유리 기판(1)의 단부면과 접촉되는 지석부(4)를 회전시킨다.그리고, 그에 따라서 유리 기판(1)의 단부면은 임의의 오목 형상을 창출하도록 연마된다.

회전축 위치 설정부(5)는 연마량과 유리 기판(1)의 폭에 따르는 회전축(9)들 사이의 간격을 자동적으로 조정하는 기능을 한다.

또한, 지석부(4), 회전축(9) 및 회전축 위치 설정부(5)는 각각 카세트형 스테이지(2)의 양 측에 개별적으로 배치된다. 이는 유리 기판의 양 대향 모서리가 동시에 처리될 수 있게 한다.

상기 회전축(9)은 회전축 위치 설정부(5)의 작동에 의해서 유리 기판(1)의 폭 방향(도1의 좌측 및 우측)으로 이동한다. 그러나, 회전축(9)은 유리 기판(1)의 전방 및 후방(종방향: 도1의 지면에 대해 수직하는 방향)으로 이동할 수는 없다. 그리고, 회전축(9)은 유리 기판(1)의 폭 방향으로 설정된 위치에서 회전한다.

다른 한편, 카세트형 스테이지(2)는 도시 않은 전후 이동 기구에 의해 전후 방향(유리 기판(1)의 종방향: 도2에서는

좌우측 방향)으로 이동된다. 이러한 이동 중에, 오목형 지석(3)의 회전 연마면을 유리 기판(1)의 단부면과 접촉시킴으로써, 유리 기판(1)의 단부면이 연마된다.

다음, 유리 기판(1)이 다단계 방식으로 배치되는 카세트형 스테이지(2)의 구성에 대하여 설명한다.

카세트형 스테이지(2)의 사용에 앞서, 카세트형 스테이지(2)는 유리 기판(1)의 폭을 측정할 필요성이 있다. 유리 기판(1)이 카세트형 스테이지(2)에 배치될때, 측정에 의해 얻어지는 크기가 입력되고, 그 다음 입력 크기에 따라서 카세트형 스테이지(2)의 기판 수용부(6)는 가이드(7a)를 사용하여 이동된다. 즉, 기판 수용부(6)들 사이의 간격이 변경된다. 그리고, 그에 의해서, 카세트형 스테이지(2)가 유리 기판(1)의 크기에 따라 조정된다.

유리 기판(1)을 연마 유지하는 흡착 기구(8)에는 카세트형 스테이지(2)의 기판 수용부(6)가 구비된다. 흡착 기구(8)의 작동으로, 연마 시에는 유리 기판(1)이 움직이지 않도록 고정된다. 또한, 상기 실시예는 기판 수용부(6)가 카세트형 스테이지(2)의 양 측에 배치되는 예를 나타내는 것이다. 그러나, 기판 수용부(6)가 유리 기판(1)의 중앙부에 대응하는 위치에 더해질 수 있는 것이다. 이러한 구성으로, 배치된 유리 기판(1)의 가요성이 발생하기가 더욱 어려워지게 된다.

다음, 단부면 연마 장치의 다른 구성 요소, 즉 지석부(4), 회전축(9) 및 회전축 위치 설정부(5)가 각각 설명될 것이다.

먼저, 지석부(4)에 대해서 설명하면, 상기 지석부(4)는, 상술된 바와 같이 다수의 오목형 지석(3)으로 구성된다. 특히, 상기 오목형 지석(3)의 각각은 완만하고 둥근 형상의 중공이 되는 연마면의 중앙부를 갖는다. 지석부(4)의 높이는 조정 가능하다. 지석부(4)가 상기 기능을 가지므로, 그 오목부는 카세트형 스테이지(2)에 배치되는 전체 4개의 유리 기판(1)의 단부면과 접촉되게 놓여질 수가 있게 되는 것이다.

회전축(9)은, 차례로, 모터(10)에 접속된다. 특정 모터(10)가 지석 조건, 연마될 형상, 그리고 연마 시의 부하와 주변 속도 등을 고려하여 결정된다. 상기지석부(4)는 회전축(9)에 부착된다.

또한, 회전축 위치 설정부(5)는 연마량과 유리 기판(1)의 크기에 따라 가이드(7b)를 따라서 회전축(9)을 이동시킨다. 그리고, 회전축 위치 설정부(5)는 소정의 위치에서 회전축(9)을 유지시킨다.

상기 구성을 갖는 단부면 연마 장치에 의한 연마 방법을 이하에 설명한다.

이러한 단부면 연마 장치를 사용하여 유리 기판(1)을 연마하는 작업에서는 먼저, 카세트형 스테이지(2)의 폭 조정(기판 수용부(6)의 간격 조정)과 회전축(9)의 위치 조정이 유리 기판(1)의 크기와 유리 기판(1)의 연마량에 따라 수행된다. 그 다음, 회전축 위치 설정부(5)에 의한 연마 위치로 이동된 회전축(9)은 연마 조건에 대응하는 속도로 회전한다.

다음, 4개의 유리 기판(1)이 유리 기판(1)의 크기에 대응하도록 조정되어 있는 카세트형 스테이지(2)에 배치 및 위치된다. 또한, 유리 기판(1)이 카세트형 스테이지(2)에 배치되면, 유리 기판(1)이 카세트형 스테이지(2)의 측면으로부터 총괄적으로 설정될 수 있다. 그렇지 않으면, 유리 기판(1)이 하나씩 배치될 수 있다. 특히, 정밀한 연마가 필요한 경우, 하나씩 유리 기판(1)의 위치 설정을 이행하는 것이 바람직하다. 즉, 유리 기판(1)이 카세트형 스테이지(2)의 최저 단계로부터 순차적으로 배치되고, 흡착 및 유지되는 것이 바람직하다.

이러한 방식으로, 전체 4개의 유리 기판(1)이 카세트형 스테이지(2)에 배치되어 흡착 및 유지된 후에, 카세트형 스테이지(2)는 2개의 지석부(4) 사이에서 임의의 속도로 이동되고, 연마 처리가 수행된다. 연마 처리 완료 후에, 카세트형 스테이지(2)로부터 유리 기판(1)을 배출한다.

따라서, 이러한 실시예의 단부면 연마 장치는 4개의 유리 기판이 카세트형 스테이지(2)에서 유지되고 유리 기판(1)의 단부면의 연마가 4개의 오목형 지석을 갖는 지석부(4)에 의해 수행되는 구조를 갖는다. 따라서, 유리 기판(1)의 총괄적으로 연마 처리를 할 수 있어서, 처리 능력을 현저하게 향상시키는 것이 가능하다. 또한, 상기 장치는 간격을 조절할 수 있는 기판 수용부(6)를 갖는 카세트형 스테이지(2)를 구비하고, 지석부(4)를 회전시키는 회전축(9)에 대해서도 그 위치를 이동시킬 수 있다. 따라서, 상기 장치는 다양한 크기의 유리 기판(1)에 적합하게 될 수 있다. 즉, 상기 실시예의 단부면 연마 장치에서, 유리 기판(1)의 크기가 변경될 때, 회전축(9)의 위치와 카세트형 스테이지(2)를 구비하는 기판 수용부(6) 사이에 간격이 자동적으로 조정된다. 따라서, 유리 기판(1)의 크기가 변경되더라도, 상기 장치의 가동률은 변경으로 인해서 저하되지 않는다. 또한, 오목형 지석(3)이 사용됨으로, 절단 후에 외부 형상을 보정하거나 또는 원호 형상을 형성하는 유리 기판(1)의 단부 부분을 연마하는 것이 가능하게 된다. 그러므로, 유리 기판(1)의 단부 부분으로부터 만들어지는 분말의 발생 및 외부 형상의 불량에 의한 문제점을 방지할 수 있는 것이다.

이하, 본 발명의 제2 실시예를 도3을 참고로 설명한다.

상술된 제1 실시예와 제2 실시예 사이에 상이점은, 제2 실시예는 보조 연마 지석부를 갖는다. 따라서, 도3에서의 공통 부분에 관해서는 도1 및 도2에서와 동일한 도면 부호를 붙이고 그 상세한 설명은 생략한다.

도3에서, 제2 실시예의 단부면 연마 장치에 보조 연마 지석부(11)는 전체적으로 4개의 오목형 지석(3b)으로 구성된다. 보조 연마 지석부(11)의 높이는 오목형 지석(3b)의 각 오목 부분이 카세트형 스테이지(2)에 배치된 유리 기판(1)의 단부면과 접촉하도록 조정된다. 다르게는, 도3에 도시된 바와 같이, 지석부(4)도 전체 4개의 오목형 지석(3a)으로 구성된다. 그리고, 지석부(4)의 높이는 오목형 지석(3a)의 각 오목부가 카세트형 스테이지(2)에 배치된 유리 기판(1)의 단부면과 접촉하도록 조정된다.

보조 연마 지석부(11)와 지석부(4)는 개별 회전축(제2 회전축)(9)에 각각 부착된다. 보조 연마 지석부(11)가 부착된 회전축(9)에 있어서, 2개의 축 모두가 카세트형 스테이지(2)를 개재(sandwich)하도록 배치된다. 따라서, 2개의 보조 연마 지석부(11)도 있게 된다. 또한, 지석부(4)가 부착된 회전축(9)에 있어서, 2개의 축은 모두가 카세트형 스테이지(2)를 개재하도록 배치된다. 따라서, 2개의 지석부(4)도 있게 된다.

지석부(4)의 가공 부하 저감을 위해서, 보조 연마 지석부(11)를 구성하는 오목형 지석(3b)은, 유리 기판(1)의 단부면과의 접촉량이 오목형 지석(3a)에서 보다 더 저감되는 형상을 갖는다. 즉, 지석부(4)를 구성하는 오목형 지석(3a)의 형상은 그 중앙부에서 둥글게 중공 지고, 반면에 보조 연마 지석부(11)를 구성하는 오목형 지석(3b)의 형상은 그 중앙부에서 V자형 노치부를 갖는다. 또한, 오목형 지석(3a)의 중공부는 유리 기판(1)의 단부 부분이 최종적으로 필요한 형상을 창출하도록 연마될 수 있도록 곡률을 갖는다. 또한, 형상 이외의 점으로서는, 오목형 지석(3b)이 오목형 지석(3a)에서 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는 것이다.

각 회전축(9)에는 지석 조건, 연마 형상, 연마 시의 부하 및 둘레 속도 등에 의해 임의적으로 결정되는 모터(10)가 연결된다. 상술된 바와 같이, 보조 연마 지석부(11)와 지석부(4)는 각각 그들 회전축(9)에 부착된다.

또한, 회전축 위치 설정부(제2 회전축 위치 설정부)(5)는 유리 기판(1)의 크기와 연마량에 따라 정해지는 위치로 각각의 회전축(9)을 이동시킨다. 그리고, 회전축 위치 설정부(5)는 그 위치에 회전축을 유지하도록 작동한다.

이하, 상기 구성의 단부면 연마 장치에 의한 연마 방법을 설명한다.

상기 단부면 연마 장치를 사용하여 유리 기판(1)의 단부면을 연마하는 작업에서, 먼저, 카세트형 스테이지(2)의 폭 조정(기판 수용부(6)의 간격 조정)이 유리 기판(1)의 단부면을 연마하는 연마량과 유리 기판(1)의 크기에 따라 행해진다. 또한, 동시에, 회전축(9)의 위치 조정이 행해진다. 그 다음에, 회전축 위치 설정부(5)에 의해 연마 위치로 위치가 변경되고 위치 결정된 회전축(9)이, 연마 조건에 맞는 회전수로 회전한다.

다음, 4개의 유리 기판(1)이 카세트형 스테이지(2)에 배치된다. 그리고, 상기 유리 기판들이 흡착 유지된 후에, 카세트형 스테이지(2)는 보조 연마 지석부(11)와 지석부(4) 사이에서 임의 속도로 이동된다. 이러한 방식으로, 거친 연마 처리와 주(main) 연마 처리가 연속적으로 행해진다. 주 연마 처리 후에, 카세트형 스테이지(2)로부터 유리 기판(1)을 배출하여, 일련의 처리 단계는 완료된다.

제2 실시예의 단부면 연마 장치에 있어서도, 제1 실시예와 동일한 효과를 얻을 수 있다. 상기 실시예의 경우에서는 최종적인 연마를 행하는 지석부(4)의 전 단계에 예비적인 거친 연마를 행하기 위한 보조 연마 지석부(11)가 설치된 것이다. 따라서, 지석부(4)의 가공 부하가 경감되고 오목형 지석(3a)의 수명이 연장되어 진다. 즉, 오목형 지석(3a)을 빈번하게 교체할 필요성이 없으므로 전체적 가공 시간의 단축이 가능하다.

이하, 본 발명의 제3 실시예를 도4를 참고로 설명한다.

제3 실시예의 단부면 연마 장치도 상술된 제2 실시예와 같이 보조 연마용 오목형 지석을 갖는다. 그러나, 제3 실시예는 한 개의 지석부가 보조 연마용의 오목형 지석과 주 연마용의 오목형 지석을 조합시킴으로써 구비된다는 점에서 제2 실시예의 구성과 다르다. 또한, 도4에서도 제1 실시예와 제2 실시예에서와 동일한 부분에 대해서는 도1 및 도2에서 사용된 도면 부호와 동일한 도면 부호를 붙였으며, 그 상세한 설명은 생략한다.

도4에서, 상기 실시예의 단부면 연마 장치의 지석부(조합 지석부)(4)는 교대로 쌓인 보조 연마용 오목형 지석(3b)과 주 연마용 오목형 지석(3a)으로 구성된다. 또한, 지석부(4)는 오목형 지석(3a) 또는 오목형 지석(3b)의 어느 하나가 카세트형 스테이지(2)에 배치되는 전체 4개의 유리 기판(1)의 단부면과 접촉하도록 구성된다. 그러나, 오목형 지석(3a)과 오목형 지석(3b)은 모두 동일 회전축(제3 회전축)(9)에 부착된다.

오목형 지석(3a)의 가공 부하가 저감되도록, 보조 연마용 오목형 지석(3b)은유리 기판(1)의 단부면과의 접촉량이 오목형 지석(3a)의 형상에서보다 저감되는 형상을 갖는다. 즉, 오목형 지석(3a)의 형상은 그 중앙부에서 둥근 중공인 것이고, 반면에 보조 연마용 오목형 지석(3b)의 형상은 그 중앙부에서 V형상 노치를 갖는다. 또한, 보조 연마용 오목형 지석(3b)은 오목형 지석(3a)의 재료 보다 더 거친 재료로 제조된다.

회전축(9)에는 지석 조건, 연마 형상, 연마 시의 부하 및 둘레 속도 등에 의해 임의 결정된 모터(10)가 접속된다. 지석부(9)는 회전축(9)에 부착된다.

회전축 위치 설정부(제3 회전축 위치 설정부)(5)는 유리 기판(1)의 크기와 연마량에 따라 결정되는 위치로 회전축(9)을 이동시킨다. 그리고, 회전축 위치 설정부(5)는 상기 위치에서 회전축(9)을 유지하도록 작동한다. 또한, 제3 실시예에서는 회전축 위치 설정부(5)가 회전축(9)이 임의 높이로 이동할 수 있도록 구성된 것이다.

상기 단부면 연마 장치를 사용하여 유리 기판(1)을 연마하는 작업에서, 먼저, 카세트형 스테이지(2)의 폭 조정[기판 수용부(6)의 간격 조정]과 회전축(9)의 위치 조정은 유리 기판(1)의 단부면을 연마하는 연마량과 유리 기판(1)의 크기에 따라 행해진다. 그 다음에, 회전축 위치 설정부(5)가, 먼저, 회전축(9)의 높이를 조정하도록, 즉 보조 연마용 오목형 지석(3b)이 유리 기판(1)의 단부면에 접촉하도록 지석부(4)의 높이를 조정하도록 작동된다. 그런 후, 회전축(9)이 연마 조건에 맞는 회전수로 회전한다.

다음, 4개의 유리 기판(1)이 유리 기판(1)의 크기로 조정되어진 카세트형 스테이지(2)에 배치되고 흡착 및 유지된다. 그런 후, 카세트형 스테이지(2)는 지석부(4) 사이에서 임의 속도로 이동되고, 그리고 오목형 지석(3b)에 의한 거친 연마 처리가 행해진다.

거친 연마 처리가 완료되고 카세트형 스테이지(2)가 지석부(2) 사이를 지나간 후에, 지석부(4)의 높이는 회전축 위치 설정부(5)에 의해 변경된다. 즉, 회전축(9)의 높이, 즉 지석부(4)의 높이는 주 연마 처리용 오목형 지석(3a)이 유리 기판(1)의 단부면과 접촉하도록 변경된다. 그 다음에, 카세트형 스테이지(2)가 거친 연마 처리인 경우의 방향과 반대되는 방향으로 이동하고, 주 연마 처리는 오목형 지석(3a)에 의해 수행된다. 주 연마 처리가 완료된 후에, 카세트형 스테이지(2)로부터 유리 기판(1)을 배출하여, 일련의 처리 단계는 완료된다.

본 발명의 실시예로서, 상술된 세 가지 실시예를 기술하였지만, 본 발명은 상술된 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 정신과 기술 범위 내에서 다양한 변경이 가능한 것임은 당 분야의 기술인은 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 예를 들면, 카세트형 스테이지에 배치될 수 있는 유리 기판의 수, 그리고 오목형 지석의 수 및 형상 등에 있어서는 상기 실시예에 한정되지 않고, 필요에 의해 적절한 설계 변경이 가능한 것이다.

명세서, 청구범위, 도면 및 요약서를 포함한 1997년 3월 31일자로 출원된 일본 특허 출원 제9-081237호의 전체 개시 내용은 본 명세서에 참고로 포함된다.

본 발명에 의하면, 연마 처리가 고 효율로 수행되고 처리에 소요되는 시간이 저감된다. 또한, 유리 기판의 크기가 변경되는 경우에도 용이하게 크기 변경을 수용할 수 있으며, 유리 기판의 단부면의 연마 처리를 균열이 쉽게 발생하지 않는 형상 즉, 예리한 부분이 존재하지 않는 형상으로 형성되게 수행될 수 있다. 본 발명의 단부면 연마 장치에서는 연마면이 중공이고 오목한 중앙부를 갖는 지석이 사용된다. 따라서, 절단 후에 외부 형상 치수를 보정하거나 또는 유리 기판의 단부 부분의 원호 형상의 연마가 가능하다. 그러므로, 외부 형상의 불량으로 인한 반송 문제와 유리 기판의 단부 부분으로부터 만들어지는 분진의 발생을 방지할 수 있다.

Claims

단부면 연마 장치에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

다수의 오목형 지석이 다단계 방식으로 적층되고, 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉 되도록 중공으로 되는, 지석 부분과;

상기 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제1 회전축과;

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제1 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제1 회전축 위치 설정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제1항에 있어서, 상기 오목형 지석은 연마면의 중앙부가 둥근 형상 중공이도록 형성되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제1항에 있어서, 상기 기판 수용부는 유리 기판을 흡착 유지하는 흡착 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제1항에 있어서, 다수의 보조 연마용 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치되고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 상기 오목형 지석 형상보다 경감되는 형상을 갖고 상기 지석 부분에 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는, 상기 지석 부분의 전진 단계에 배치되는 보조 연마 지석부와;

상기 보조 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제2 회전축과; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제2 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제2 회전축 위치 설정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제4항에 있어서, 상기 오목형 지석은 연마면의 중앙부가 둥근 형상의 중공이도록 형성되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제4항에 있어서, 보조 연마용 오목형 지석은 그 연마면의 중앙부가 V형상 노치를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제4항에 있어서, 상기 기판 수용부는 상기 유리 기판을 흡착 유지하는 흡착 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
단부면 연마 장치에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 부가적으로 상기 유리 기판의 폭을 따르는 방향에 대해 직교하는 방향으로 이동할 수 있게 구성되며, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

다수의 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치되고, 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되도록 중공으로 되는, 지석부와;

상기 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제1 회전축과;

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제1 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제1 회전축 위치 설정부와;

다수의 보조 연마용 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치되고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 상기 오목형 지석 형상보다 더 경감되는 형상을 갖고 상기 지석부에 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는, 상기 지석부의 전진 단계에 배치되는 보조 연마 지석부와;

상기 보조 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제2 회전축과; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제2 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제2 회전축 위치 설정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제8항에 있어서, 상기 오목형 지석은 연마면의 중앙부가 둥근 형상의 중공이도록 형성되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제8항에 있어서, 보조 연마용 오목형 지석은 그 연마면의 중앙부가 V형상 노치를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제8항에 있어서, 상기 기판 수용부는 상기 유리 기판을 흡착 유지하는 흡착 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
단부면 연마 장치에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

다수의 오목형 지석은 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되어 있고, 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 중공이고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 상기 오목형 지석 형상보다 더 경감되는 형상을 갖고 상기 지석부에 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는, 다수의 오목형 지석과 다수의 보조 연마용 오목형 지석이 다단계 방식으로 선택적으로 배열되는 조합 지석부와;

상기 보조 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제3 회전축과; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제3 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하고, 상기 제3 회전축의 높이를 조정하는 제3 회전축 위치 설정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제12항에 있어서, 상기 오목형 지석은 연마면의 중앙부가 둥근 형상의 중공이도록 형성되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제12항에 있어서, 보조 연마용 오목형 지석은 그 연마면의 중앙부가 V형상 노치를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
제12항에 있어서, 상기 기판 수용부는 상기 유리 기판을 흡착 유지하는 흡착 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
단부면 연마 장치에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

상기 유리 기판의 폭 방향에 대해 직교하는 방향으로 상기 카세트형 스테이지를 이동시키는 전후방 이동 기구와;

다수의 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치되고, 상기 오목형 지석은 카세트형 스테이지에서 유지되는 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되도록 둥근 중공으로 되는 지석부와;

상기 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제1 회전축과;

상기 제1 회전축을 회전시키도록 상기 제1 회전축에 접속된 모터와; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제1 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제1 회전축 위치 설정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
단부면 연마 장치에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

상기 유리 기판의 폭 방향에 대해 직교하는 방향으로 상기 카세트형 스테이지를 이동시키는 전후방 이동 기구와;

다수의 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치되고, 상기 오목형 지석의 중앙부는 카세트형 스테이지에서 유지되는 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되도록 둥근 중공으로 되는, 지석부와;

상기 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제1 회전축과;

상기 제1 회전축을 회전시키도록 상기 제1 회전축에 접속된 모터와;

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제1 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제1 회전축 위치 설정부와;

다수의 보조 연마용 오목형 지석이 다단계 방식으로 배치되고, 보조 연마용 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 오목형 지석의 형상에서보다 더 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 경감되도록 V형상 노치를 갖고 보조 연마용 오목형 지석은 지석부에 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는, 상기 지석부의 전진 단계에 배치된 보조 연마 지석부와;

상기 보조 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제2 회전축과;

상기 제2 회전축을 회전시키도록 상기 게 2 회전축에 접속된 모터와; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제2 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하는 제2 회전축 위치 설정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
단부면 연마 장치에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 다수의 직사각형 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한, 카세트형 스테이지와;

상기 유리 기판의 폭 방향에 대해 직교하는 방향으로 상기 카세트형 스테이지를 이동하는 전후방 이동 기구와;

다수의 오목형 지석은 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되어 있고, 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 둥근 중공이고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 상기 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되고, 보조 연마용 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 상기 오목형 지석의 형상에서보다 더 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 경감되는 V형상 노치 형태를 갖고, 보조 연마용 상기 오목형 지석은 지석부에 사용되는 재료보다 더 거친 재료로 제조되는, 다수의 오목형 지석과 다수의 보조 연마용 오목형 지석이 다단계 방식으로 교대로 배치되는 조합 지석부와;

상기 조합 지석부가 부착되고, 상기 유리 기판의 2개의 모서리를 처리하도록 상기 카세트형 스테이지의 양 측에 배치되는 제3 회전축과;

상기 제3 회전축을 회전시키도록 제3 회전축에 접속된 모터와; 그리고

상기 유리 기판의 폭과 연마량에 따라서 상기 제3 회전축을 자동적으로 이동시키고, 그 위치를 고정하고, 상기 제3 회전축의 높이를 조정하는 제3 회전축 위치 설정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 장치.
단부면 연마 방법에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한 카세트형 스테이지에 다수의 직사각형 유리 기판을 내장 유지하는 단계와;

상기 유리 기판의 단부면과 접촉되는 지석부를 회전시키고, 카세트형 스테이지를 이동시키고, 그리고 상기 유리 기판의 단부면을 연마하는 단계를 포함하고,

상기 다수의 오목형 지석이 다단계 방식으로 지석부에 설치되며, 상기 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 카세트형 스테이지에서 유지되는 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되도록 중공으로 되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 방법.
단부면 연마 방법에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한 카세트형 스테이지에 다수의 직사각형 유리 기판을 내장 유지하는 단계와;

유리 기판의 단부면과 접촉되는 지석부와 보조 연마 지석부를 회전시키고,상기 카세트형 스테이지를 이동시키고, 그리고 상기 유리 기판의 단부면을 연마시키는 단계를 포함하고,

상기 다수의 오목형 지석은 다단계 방식으로 지석부에 설치되며, 상기 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 카세트형 스테이지에서 유지되는 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되도록 중공으로 되고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석에는 다단계 방식으로 보조 연마 지석부가 설치되고, 보조 연마용 오목형 지석은 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 상기 오목형 지석 형상의 것보다 더 경감되는 형상을 갖고, 상기 지석부에서 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 방법.
단부면 연마 방법에 있어서,

유리 기판을 유지하는 다수의 기판 수용부에 의해 다단계 방식으로 유리 기판을 내장할 수 있게 구성되고, 기판 수용부들 사이의 간격은 상기 유리 기판의 크기에 따라서 자동적으로 조정 가능한 카세트형 스테이지에 다수의 직사각형 유리 기판을 내장 유지하는 단계와;

유리 기판의 단부면과 접촉되는 조합 지석부를 회전시키고, 상기 카세트형 스테이지를 이동시키고 그리고 상기 유리 기판의 단부면을 연마시키는 단계를 포함하고,

상기 다수의 오목형 지석과 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 다단계 방식으로 상기 조합 지석부에 교대로 구비되며, 상기 다수의 오목형 지석은 상기 카세트형 스테이지에서 유지되는 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되고, 상기 오목형 지석의 연마면의 중앙부는 중공이고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 카세트형 스테이지에서 유지되는 다수의 유리 기판의 단부면과 접촉되고, 다수의 보조 연마용 오목형 지석은 유리 기판의 단부면과의 접촉량이 상기 오목형 지석 형상의 것보다 더 경감되는 형상을 갖고, 상기 지석부에서 사용되는 것보다 더 거친 재료로 제조되며;

상기 조합 지석부가 상기 오목형 지석의 두께에 의해서만 변경된 후에, 상기 유리 기판의 단부면과 접촉되는 조합 지석부를 회전시키고, 카세트형 스테이지를 이동시키고, 그리고 유리 기판의 단부면을 연마시키는 것을 특징으로 하는 단부면 연마 방법.