KR100283971B1 - 디사이클로헥실에틸렌 유도체 - Google Patents

디사이클로헥실에틸렌 유도체 Download PDF

Info

Publication number
KR100283971B1
KR100283971B1 KR1019950703793A KR19950703793A KR100283971B1 KR 100283971 B1 KR100283971 B1 KR 100283971B1 KR 1019950703793 A KR1019950703793 A KR 1019950703793A KR 19950703793 A KR19950703793 A KR 19950703793A KR 100283971 B1 KR100283971 B1 KR 100283971B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
trans
weight
cyclohexyl
propylcyclohexyl
liquid crystal
Prior art date
Application number
KR1019950703793A
Other languages
English (en)
Other versions
KR960700985A (ko
Inventor
노리유키 오니시
슈이치 마쓰이
도모유키 곤도
야스유키 고토
Original Assignee
고토 기치
칫소가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 고토 기치, 칫소가부시키가이샤 filed Critical 고토 기치
Publication of KR960700985A publication Critical patent/KR960700985A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100283971B1 publication Critical patent/KR100283971B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C25/18—Polycyclic aromatic halogenated hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/013—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens
    • C07C17/04—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens to unsaturated halogenated hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
    • C07C17/263—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by condensation reactions
    • C07C17/2635—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by condensation reactions involving a phosphorus compound, e.g. Wittig synthesis
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
    • C07C17/358—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction by isomerisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C25/24—Halogenated aromatic hydrocarbons with unsaturated side chains
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
    • C07C45/511—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups
    • C07C45/513—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups the singly bound functional group being an etherified hydroxyl group
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/56—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds
    • C07C45/57—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds with oxygen as the only heteroatom
    • C07C45/59—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds with oxygen as the only heteroatom in five-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C09K19/3048—Cyclohexane rings in which at least two rings are linked by a carbon chain containing carbon to carbon double bonds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Supply Devices, Intensifiers, Converters, And Telemotors (AREA)

Abstract

본 발명은 액정 상 온도범위가 광범위하고 점도가 낮고 △ε값이 크고 안정성이 크며 다른 액정 화합물과의 상용성이 우수한 액정 화합물인 디사이클로헥실에틸렌 유도체를 제공한다. 디사이클로헥실에틸렌 유도체는 일반식(I)로 나타내어진다.
상기식에서, R은 C1-C10직쇄 알킬이고, X는 불소 또는 트리플루오로메틸이다.
이 화합물은 NI 점이 높기 때문에 액정 디스플레이 소자의 작동 범위를 광범위하게할 수 있고, 점도가 낮기 때문에 디스플레이 소자의 응답속도를 증진시킬 수 있으며 △ε값이 높기 때문에 디스플레이 소자를 구동시키기 위한 전압을 낮출 수 있다.
또한, 환경적 요인에서의 변화에 대하여 안정하기 때문에, 예를 들면, TFT를 사용하는 활성 매트릭스 구동 형태의 각종 액정 디스플레이 소자에 사용할 수 있다.

Description

디사이클로헥실에틸렌 유도체
최근들어, 액정 표시소자는 표시장치로서 퍼스널 컴퓨터 및 OA 기기에 도입되어 왔으며 이의 중요성이 급속히 증가하고 있다. 컴퓨터와 기기에 있어서, 액정 표시방식 중에서, 초비틀림 네마틱(STN) 또는 초비틀림 복굴절 효과(SBE) 및 박막 트랜지스터(TFT)를 이용하는 활성 매트릭스 방식의 표시장치가 사용되어 왔다.
이러한 이유는 이러한 방식을 사용함으로써 정보의 양이 증가하여, 그 결과 칼라 표시와 표시의 대화면화(大畵面化)가 가능하게 되었다. 이러한 표시방식에 사용되는 액정 물질에 있어서, 액정 물질은, 표시소자가 사용되는 경우, 온도 범위 내에서 액정 상을 갖고, 환경적 요인(예: 수분, 열, 공기, 및 전기 등)에 안정하고, 무색이고, 굴절률(이후에는 △n으로 약칭함)의 이방성의 양이 크고(또는 작고), 유전 이방성(이후에는 △ε으로 약칭함)의 양이 커지고, 점도가 낮아지고, 비저항이 높고 시간 경과에 다른 이의 변화가 여전히 작으며 d/p 마진(d: 셀 두께, p: 피치 길이)이 넓어지는 것과 같은 각종 특성이 요구된다. 그러나, 현재까지 이러한 요건을 충족시켜서 표시소자에 유용한 단일 화합물은 구입할 수 없다. 따라서, 특별하게 사용된 액정 물질은 수 종의 액정 화합물을 혼합하거나 이들 화합물을 특수 목적의 기타 화합물과 혼합함으로써 수득된 물질이다. 따라서, 액정 화합물은, 기타 액정과의 상용성이 양호해야 한다. 본 발명에 있어서, 액정 화합물은 외관상으로는 자체로 메조상(mesophase)을 나타내지 않지만, 액정 물질과 혼합되는 경우, 특정한 측면에서 액정으로서 각종 특성에 기여하는 화합물을 의미한다.
본 발명의 화합물과 유사한 화합물로서, 일반식(II)의 화합물은 공지되어 있다[참조: 일본국 공개특허공보 제(소)61-215336호]:
위의 일반식(II)에서, n은 3. 4. 5. 6 또는 7이다.
그러나, 이러한 화합물은 점도가 높고 저온에서 다수의 이미 공지된 액정 화합물과의 상용성이 열등하다. 더구나, 이 화합물은 TFT 방식의 표시재료에 요구되는 비저항과 시간 경과에 따른 이의 변화의 측면에서 사용하기에 곤란한 단점이 있다.
또한, 본 발명의 화합물과 유사한 일반식(III)의 화합물은 미합중국 특허 제5,055,220호에 기재되어 있다.
위의 일반식(III)에서, R은 탄소수 1 내지 8의 직쇄 알킬 그룹이다.
이 화합물은 액정 온도 범위가 광범위하며 점도가 낮지만 유전 이방성이 작은 단점이 있다.
또한, 본 발명의 화합물과 유사한 일반식(IV) 및 (V)의 불소원자 함유 화합물은 미합중국 특허 제5,032,313호 및 독일연방공화국 특허출원 공개명세서 제4,027,840 A1호에 기재되어 있다.
일반식(III) 및 (IV)의 화합물은 본 발명의 화합물과 유사하게 유전 이방성 △ε이 크지만, 저온에서 기타 액정 화합물에서의 용해도가 열등한 단점이 있기 때문에 사용하기에 다소 어렵다.
위의 일반식(IV) 및 (V)에서, R은 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹이다.
일반식(IV)의 화합물은 본 발명의 화합물과 구조적으로 매우 유사하며, 화합물간의 차이는, 본 발명의 화합물은 중앙 결합 그룹으로서 에텐디일 그룹을 갖는 반면, 일반식(IV)의 화합물은 중앙 결합 그룹으로서 에탄디일 그룹을 갖는다는 점에만 있다. 그러나, 후자의 화합물은 저온에서 유도된 스멕틱 상을 갖기 때문에 저온에서의 전기광학 응답이 훨씬 더 열등한 단점이 발생하기 쉬운 것으로 밝혀졌다. 본 발명자들은 일반식(IV)의 화합물과 동일하거나 이보다 큰 유전 이방성을 지니며 또 다른 네마틱 액정과 혼합되는 경우, 저온에서 어떠한 스멕틱 상도 형성하지 않는 네마틱 화합물에 관하여 연구를 거듭하였다.
위에서 언급한 액정 표시방식에서 뿐만 아니라, 각종 액정 표시방식에서도, 넓은 작동 온도 범위, 빠른 응답 속도 및 낮은 구동 전압도 연구하였다.
본 발명의 목적은 액정 상의 광범위한 온도 범위, 저점도, 큰 △ε 및 높은 안정성을 갖고 위에서 언급한 요건들을 만족시키면서 기타 액정 화합물과의 상용성이 우수한 액정 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명은 일반식(I)의 디사이클로헥실에틸렌 유도체 및 하나 이상의 성분으로서 이러한 유도체를 포함하는 액정 조성물에 관한 것이다.
위의 일반식(I)에서, R은 탄소수 1 내지 10의 직쇄 알킬 그룹이고, X는 불소원자 또는 트리플루오로메틸 그룹이다.
1,4-사이클로헥실렌 그룹 두 개는 모두 트랜스 형태이며, 에텐디일 그룹도 트랜스 형태이다.
본 발명의 화합물은 일반식(Ia) 또는 (Ib)의 화합물이며, 이들 중에서 n이 2 내지 7인 일반식의 화합물이 바람직하다:
이들 화합물 중에서 많은 화합물이 대략 실온 내지 백몇십 ℃의 넓은 액정상 온도 범위를 나타내는 다수의 화합물을 포함한다. 이들 화합물은 매우 낮은 점도와 큰 △ε을 갖기 때문에, 6원 환이 3개인 화합물에 있어서, 이들 화합물이 액정 물질에 사용되는 경우, 저전압하에서 액정 표시소자를 구동시킬 수 있다. 또한, 위의 일반식의 화합물은 스멕틱 상을 나타내지 않거나 매우 협소한 온도 범위 내에서 스멕틱 상을 나타내기 때문에, 이들은 네마틱 상을 사용하는 액정 표시소자용 물질로서 바람직하다.
또한, 일반식(I)의 화합물은 에스테르 형, 쉬프 염기 형(schiff base type), 에탄 형, 아세틸렌 형, 아족시 형, 비페닐 형, 사이클로헥산 형, 사이클로헥센 형, 피리딘 형, 피리미딘 형, 디옥산 형 및 불소 형의 화합물과 같은 공지된 화합물과의 상용성이 우수하기 때문에, 일반식(I)의 화합물이 이들 화합물 또는 이들의 혼합물과 혼합되는 경우, 각종 적용에 적합한 액정 물질을 제조할 수 있다.
더구나, 본 발명의 화합물은 환경적 요인(수분, 열, 공기, 빛, 전기 등)에 매우 안정하다.
또한, 일반식(I)의 화합물은 기타 액정 화합물을 제조하기 위한 원료 물질로서 적합하다. 예를 들면, 이를 촉매 환원에 적용하는 경우, 일반식(VI)의 액정 화합물을 수득할 수 있다:
본 발명의 화합물의 제조공정은 다음과 같다:
위의 일반식(VI)에서, R과 X는 위에서 정의한 바와 같다.
즉, 1,4-사이클로헥산디온모노에틸렌 케탈을 일반식(I)의 아릴브로마이드로부터 제조한 그리나드 시약(Grignard reagent)과 반응시킨 다음, p-톨루엔설폰산, 황산수소칼륨, 염산 및 황산과 같은 산 촉매 및 양이온 교환 수지의 존재하에 탈수 반응을 수행하여 일반식(2)의 사이클로헥센 유도체를 수득한다. Pd, Ni 또는 Pt 시스템과 같은 촉매의 존재하에 촉매 환원 반응을 수행한 후, 산성 수용액으로 추가로 처리하여 일반식(3)의 사이클로헥사논 유도체를 수득한다. 이어서, 메톡시메틸트리페닐 포스포늄 클로라이드를 n-부틸 리튬 및 칼륨-3급 부톡사이드와 같은 염기로 처리하여 수득한 일리드(ylide)를 일반식(3)의 화합물과 반응시킨 후, 산성 수용액 속에서 추가로 처리하여 일반식(4)의 알데히드 유도체를 수득한다. 이 유도체를 일반식(5)의 포스포늄 염을 n-부틸 리튬 및 칼륨-3급 부톡사이드와 같은 염기로 처리하여 수득한 일리드와 반응시켜 일반식(I′)의 디사이클로헥실에틸렌 유도체를 수득한다. 일반식(I′)의 화합물은 시스형 물질과 트랜스형 물질의 혼합물이며, 이의 비는 대략 시스 대 트랜스가 95:5이다. 시스형 물질을 트랜스형 물질로 전환시키는 경우, 본 발명의 일반식(I)의 화합물을 수득한다. 즉, 일반식(I′)의 에틸렌 유도체를 m-클로로퍼벤조산과 같은 과산화물을 사용하여 산화시킨 다음, 디브로모트리페닐포스포란을 사용하여 브롬화시키고 최종적으로 Zn과 반응시킴으로써 본 발명의 화합물인 일반식(I)의 디사이클로헥실에틸렌 유도체를 수득한다.
본 발명의 액정 조성물은, 조성물이 액정 화합물을 2개 이상 함유하는 액정 조성물[여기서, 이들 중의 하나 이상은 위에서 언급한 일반식(I)의 액정 화합물이다]임을 특징으로 한다.
본 발명의 액정 조성물의 다른 성분으로서, (i) △ε이 5 이상인 유전 이방성이 높은 화합물을 하나 이상 함유하는 성분(B), (ii) │△ε│이 5 미만인 유전 이방성이 낮은 화합물을 하나 이상 함유하는 성분(C) 및 (iii) 투명점이 80℃를 초과하는 화합물을 하나 이상 함유하는 성분(D)로부터 선택된 성분을 하나 이상 언급할 수 있다.
본 발명에 따라 제공되는 액정 조성물은 일반식(I)의 화합물을 하나 이상 함유하는 성분(A) 이외에 성분(i), (ii) 및 (iii), 및 또 다른 성분(E)로부터 선택된 성분을 둘 이상 함유하는 유전성 액정 조성물인 것이 바람직하다.
본 발명의 액정 조성물의 성분(B)로서 바람직한 화합물은 다음에 언급한 화합물이다:
위의 일반식 B1 내지 B19에서, R은 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹 또는 알케닐 그룹이고, 위에서 언급한 그룹에서 서로 인접하지 않는 1 또는 2개의 메틸렌 그룹은 산소원자로 대체될 수 있다.
본 발명의 액정 조성물의 성분(C)로서 바람직한 화합물은 다음과 같다:
위의 일반식 C1 내지 C22에서, R 및 R′은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹 또는 알케닐 그룹을 나타내고, 위에서 언급한 그룹에서 서로 인접하지 않은 1 또는 2개의 메틸렌 그룹은 산소원자로 대체될 수 있다.
본 발명의 액정 조성물의 성분(D)로서 바람직한 화합물은 다음과 같다:
위의 일반식 D1 내지 D69에서, R 및 R′는 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹 또는 알케닐 그룹을 나타내고, 이러한 그룹에서 서로 인접하지 않은 1 또는 2개의 메틸렌 그룹은 산소원자로 대체될 수 있다.
본 발명의 액정 조성물의 또 다른 성분(E)로서 바람직한 화합물은 다음과 같다.
위의 일반식 E1 내지 E22에서, R은 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹 또는 알케닐 그룹이고, 이러한 그룹에서 서로 인접하지 않은 1 또는 2개의 메틸렌 그룹은 산소원자로 대체될 수 있다.
또한, 측쇄 위치의 치환체(F)는 F원자 또는 치환되지 않은 H원자를 의미한다.
이하에서 본 발명을 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하였으나, 이로써 본 발명을 제한하려는 것으로 해석해서는 안된다.
실시예 및 대조실시예에 있어서, 기호는 다음과 같이 정의된다:
CN 점 : 결정 네마틱 상 전이점
NI 점 : 네마틱 등방성 액상 전이점.
본 발명는 디사이클로헥실에틸렌 유도체에 관한 것이다. 보다 특히, 본 발명은 표시재료의 성분으로서 바람직한 화합물인 디사이클로헥실에틸렌 유도체 및 이를 함유하는 액정 조성물에 관한 것이다.
[(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)에텐[n이 3인 일반식(Ia)의 화합물](화합물 번호 1)의 제조]
[(i) 3′,4′,5′-트리플루오로페닐사이클로헥센-4-온-에틸렌 케탈[X가 F인 일반식(2)의 화합물]의 제조]
테트라하이드로푸란(THF로 약칭함) 250ml 중의 3,4,5-트리플루오로브로모벤젠 64.5g을 온도를 50℃로 유지시키면서 질소 흐름하에 마그네슘 8.0g 및 THF 30ml를 함유하는 2ℓ 용량의 3구 플라스크 속에 적가한다. 이어서, 반응 용액을 1시간 동안 교반하고, 온도를 40℃로 유지시키면서 1,4-사이클로헥산디온-모노에틸렌 케탈 46.8g의 THF 용액 200ml를 사용하여 적가한다. 또한, 반응 용액을 10시간 동안 교반하고, 빙냉하에 포화 염화암모늄 수용액과 함께 가한다. 이 혼합물을 톨루엔 500ml로 추출한다. 유기 층을 물 500ml로 3회 세척하고, 황산나트륨으로 건도시킨 다음, 농축시킨다.
이온 교환 수지(Amberlist 15) 5g과 톨루엔 500ml를 농축물에 가한 다음, 3시간 동안 환류시킨다. 이때, 공비 혼합물로서 유출된 물을 배수 튜브를 사용하여 분리시킨다. 반응 용액을 30℃로 냉각시키고, 여과하여 이온 교환 수지를 분리한 다음, 생성된 여액을 농축시켜 조생성물을 82.5g 수득한다. 조생성물을 헵탄 용매로부터 결정화하여 목적하는 생성물을 56.1g 수득한다. 이의 구조는 NMR로 확인한다.
[(ii) 4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥사논[X가 F인 일반식(3)의 화합물]의 제조]
5% Pd-탄소 20g, (i)에서 수득한 화합물 56.1g 및 에탄올을 300ml 함유하는 1ℓ 용량의 가지형 플라스크 속에 수소를 퍼징(purging)시킨다. 혼합물을 25℃에서 8시간 동안 교반하여 촉매 환원 반응을 완결한다. 촉매를 분리한 후, 이를 농축시키고, 에탄올 용매로부터 결정화하여 백색 결정을 52.5g 수득한다.
결정을 톨루엔 200ml와 포름산 60g에 용해시킨 다음, 1시간 동안 환류시킨다. 냉각시킨 후, 반응 혼합물을 에틸 아세테이트 200ml에 가하여 유기 층을 추출한다. 추출액을 물 300ml로 세척하고, 탄산나트륨 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한다. 황산마그네슘을 가하여 건조시킨 후, 농축시켜 조생성물을 41.5g 수득한다. 생성물을 에탄올 용매로부터 결정화하여 표제 화합물을 24.5g 수득한다. 이의 구조는 NMR로 확인한다.
[(iii) 트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)-사이클로헥산카브알데히드[X가 F인 일반식(4)의 화합물]의 제조]
메톡시메틸트리페닐포스포늄 클로라이드 56.9g과 THF 150ml를 함유하는 1ℓ 용량의 3구 플라스크를 -10℃로 냉각시킨 다음, 칼륨 3급 부톡사이드를 18.5g 가한다. 반응 용액을 0℃에서 1시간 동안 교반한 후, (ii)에서 수득한 화합물 23.6g의 THF 용액 100ml를 적가한다. 또한, 반응 용액을 4시간 동안 교반하고, 포화 염화암모늄 수용액 300ml와 에틸 아세테이트 300ml를 가하여 추출한다. 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한 후, 황산마그네슘을 가하여 건조, 농축시킨 다음, 헵탄 500ml를 가하고, 침전된 결정을 여과한다. 여액을 농축키고, 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하여 농축시킨다. 농축물에 2N 염산 150ml와 THF 300ml를 가하고, 실온에서 8시간 동안 교반한 다음, 에틸 아세테이트 300ml를 가하여 추출한다. 추출 용액을 탄산나트륨의 포화 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한다. 황산마그네슘을 가하여 건조시키고, 농축시켜 조생성물을 26.7g을 수득한다. 생성물을 증류시켜 목적 화합물을 17.5g 수득한다. 이의 구조는 NMR로 확인한다.
[(iv) 2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)-에텐[X가 F이고 R이 n-프로필 그룹인 일반식(I′)의 화합물]
의 제조]
트랜스-4-n-프로필사이클로헥실메틸트리페닐포스포늄 브로마이드 15.7g과 THF 100ml를 함유하는 500ml 용량의 3구 플라스크를 -50℃로 냉각시킨 다음, 칼륨 3급 부톡사이드를 3.5g 가한다. 반응 용액을 -50℃에서 1시간 동안 교반한 후, (iii)에서 수득한 화합물 6.5g의 THF 용액 50ml를 적가하고, 4시간 동안 교반하면서 반응 용액의 온도를 0℃로 점차로 상승시킨다. 반응 시스템에 물 150ml와 에틸 아세테이트 150ml를 가하여 추출한다. 분리된 유기 층을 포화 염화암모늄 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화암모늄 수용액으로 세척하고, 황산마그네슘을 가하여 건조, 농축시킨다. 이렇게 하여 수득한 조생성물에 헵탄을 150ml 가하고, 침전된 결정을 여과한 다음, 농축된 여액을 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하여 헵탄을 증류시켜 목적 생성물을 5.6g 수득한다. 시스형 물질 대 트랜스형 물질의 비율은 95:5이다.
[(v) (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)에텐[n이 3인 일반식(Ia)의 화합물]의 제조]
m-클로로퍼벤조산 5.1g. 탄산칼륨 3.0g 및 염화메틸렌 10ml를 함유하는 100ml 용량의 3구 플라스크를 10℃로 냉각시킨 다음, (iv)에서 수득한 화합물 5.6g의 염화메틸렌 용액 20ml를 교반하면서 적가한다. 반응 용액을 2시간 동안 교반한 후, 티오황산나트륨의 10% 수용액을 30ml 가하고 5분 동안 교반한다. 수성층을 분리시킨 후, 유기 층을 탄산나트륨의 포화 수용액으로 세척하고, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한 다음, 황산마그네슘을 가하여 건조시킨다. 용액을 농축시키고, 생성된 조생성물을 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하여 헵탄을 증류시켜 오일상 물질을 5.3g 수득한다.
위에서 언급한 오일상 물질 5.3g의 톨루엔 용액 15ml를 디브로모트리페닐포스포란 8.4g과 톨루엔 30ml를 함유하는 100ml 용량의 3구 플라스크 속에 가한 다음, 혼합물을 6시간 동안 환류시킨다. 냉각시킨 후, 반응 용액을 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하고 용액을 농축시켜 백색 결정을 7.2g 수득한다. 조생성물을 에탄올 용매로부터 결정화하여 백색 결정을 3.4g 수득한다. 융점은 160℃이다. NMR 스펙트럼으로 분석한 결과, 목적 생성물인 (에리트로-1,2-디브로모-1′-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2′-(트랜스-4-(2,3,4-트리플루오로페닐)사이클로헥실)에탄이 확인된다.
1.5g의 아연을 디브로모 물질 2.3g과 아세트산 20ml를 함유하는 100ml 용량의 3구 플라스크 속에 가한다. 반응 용액을 2시간 동안 교반하고, 물 70ml를 함유하는 300ml들이 비이커 속에 부어넣은 다음, 에틸 아세테이트 100ml로 추출한다. 유기 층을 포화 탄산나트륨 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척하고, 황산마그네슘을 가하여 건조시킨 다음, 농축시켜 조생성물을 2.1g 수득한다. 생성물을 에탄올 용매로부터 결정화하고 건조시켜 목적 생성물을 0.7g 수득한다. CN 점은 51℃이고 NI 점은 101℃이다.
위에서 언급한 방법에 따라 다음 화합물들을 수득한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)에텐 (No. 2), (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 (No. 3) CI 점 : 78.6℃. (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-부틸사이클로헥실)에텐 (No. 4) CI 점 : 52.0℃, NI 점 : 101.8℃, (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-펜틸사이클로헥실)에텐 (No. 5) CN 점 : 50.7℃, NI 점 : 111.7℃, (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-헥실사이클로헥실)에텐 (No. 6), (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-헵틸사이클로헥실)에텐 (No. 7), (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-옥틸사이클로헥실)에텐 (No. 8), (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-노닐사이클로헥실)에텐 (No. 9) 및 (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-데실사이클로헥실)에텐 (No. 10).
[실시예 2]
[(E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)에텐[n이 3인 일반식(Ib)의 화합물](No. 11)의 제조]
[(i) 3′,5′-디플루오로-4′-트리플루오로메틸페닐사이클로헥센-4-온 에틸렌 케탈[X가 트리플루오로메틸인 일반식(2)의 화합물]의 제조]
THF 용액 250ml 중의 3.5-디플루오로-4-트리플루오로메틸브로모벤젠 79.7g을 온도를 50℃로 유지시키면서 질소 흐름하에 마그네슘 8.0g과 THF 30ml를 함유하는 2ℓ 용량의 3구 플라스크 속에 적가한다. 이어서, 반응 용액을 1시간 동안 교반하고, 온도를 40℃로 유지시키면서 1.4-사이클로헥산디온-모노에틸렌 케탈 46.8g의 THF 용액 200ml를 사용하여 적가한다. 또한, 반응 용액을 실온에서 10시간 동안 교반하고, 빙냉하에 염화암모늄의 포화 수용액과 함께 가한다. 이 혼합물을 톨루엔 500ml로 추출한다. 유기 층을 물 500ml로 3회 세척하고, 황산나트륨으로 건조시킨 다음, 농축시킨다.
이온 교환 수지(Amberlist 15) 5g과 톨루엔 500ml를 유기 층에 가한 다음, 3시간 동안 환류시킨다. 이때 공비 혼합물로서 유출된 물을 배수 튜브를 사용하여 분리시킨다. 반응 용액을 30℃로 냉각시킨 후, 이온 교환 수지를 여과하고, 여액을 농축시켜 조생성물을 101.5g 수득한다. 조생성물을 헵탄 용매로부터 결정화하여 목적 생성물을 69.1g 수득한다. 이의 구조는 NMR로 확인한다.
[(ii)4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)사이클로헥사논[X가 트리플루오로메틸인 일반식(3)의 화합물]의 제조]
5% Pd-탄소 20g, (i)에서 수득한 화합물 69.1g 및 에탄올 300ml를 함유하는 1ℓ 용량의 가지형 플라스크 속에 수소를 퍼징시킨다. 혼합물을 25℃에서 8시간 동안 교반하여 촉매 환원 반응을 완성시킨다. 촉매를 분리한 후, 이를 농축시키고, 에탄올 용매로부터 결정화하여 백색 결정을 64.5g 수득한다.
결정을 톨루엔 200ml와 포름산 60g에 용해시킨 다음, 용액을 1시간 동안 환류시킨다. 냉각시킨 후, 반응 혼합물에 에틸 아세테이트 200ml를 가하여 유기 층을 추출한다. 추출액을 물 300ml로 세척하고, 탄산나트륨 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한다. 황산마그네슘을 가하여 건조시킨 후, 농축시켜 조생성물을 수득한다. 생성물을 에탄올 용매로부터 결정화하여 표제 화합물을 29.4g 수득한다. 이의 구조는 NMR로 확인한다.
[(iii) 트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥산카브알데히드[X가 트리플루오로메틸인 일반식(4)의 화합물]의 제조]
메톡시메틸트리페닐포스포늄 클로라이드 57.1g과 THF 150ml를 함유하는 1ℓ 용량의 3구 플라스크를 -10℃로 냉각시킨 다음, 칼륨 3급 부톡사이드를 18.9g 가한다. 반응 용액을 0℃에서 1시간 동안 교반한 후, (ii)에서 수득한 화합물 29.4g의 THF 용액을 100ml 적가한다. 또한, 반응 용액을 4시간 동안 교반하고, 포화 염화암모늄 수용액 300ml와 에틸 아세테이트 300ml를 가하여 추출한다. 추출 용액을 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한 후, 황산마그네슘을 가하여 건조시키고, 농축시킨 다음, 헵탄 500ml를 가하고, 침전된 결정을 여과한다. 여액을 농축시키고, 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하여 재농축시킨다. 농축물에 2N 염산 150ml와 THF 300ml를 가하고, 실온에서 8시간 동안 교반한 다음, 에틸 아세테이트를 300ml 가하여 추출한다. 추출 용액을 탄산나트륨의 포화 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한다. 황산마그네슘을 가하여 건조시키고, 농축시켜 조생성물을 31.9g 수득한다. 조생성물을 증류시켜 목적 화합물을 20.5g 수득한다. 이의 구조는 NMR로 확인한다.
[(iv) 2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리풀루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)-에텐[X가 트리플루오로메틸이고 R이 n-프로필 그룹인 일반식(I′)의 화합물]의 제조]
트랜스-4-n-프로필사이클로헥실메틸트리페닐포스포늄 브로마이드 15.7g과 THF 100ml를 함유하는 500ml 용량의 3구 플라스크를 -50℃로 냉각시킨 다음, 칼륨 3급 부톡사이드를 3.5g 가한다. 반응 용액을 -50℃에서 1시간 동안 교반한 후, (iii)에서 수득한 화합물 7.9g의 THF 용액 50ml를 적가하고, 4시간 동안 교반하면서 반응 용액의 온도를 0℃로 점차로 상승시킨다. 물 150ml와 에틸 아세테이트 150ml를 반응 시스템에 가하여 추출한다. 유기 층을 포화 염화암모늄 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척하고, 황산마그네슘을 가하여 건조시키고 농축시킨다. 이렇게 하여 수득한 조생성물에 헵탄 150ml를 가하고, 침전된 결정을 여과한 다음, 농축된 여액을 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하고, 헵탄을 증류시켜 목적 생성물을 6.7g 수득한다. 시스형 물질 대 트랜스형 물질의 비율은 95:5이다.
[(v) (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)에텐[n이 3인 일반식(Ib)의 화합물]의 제조]
메타클로로퍼벤조산 5.1g, 탄산칼륨 2.9g 및 메틸렌 클로라이드 10ml를 함유하는 100ml 용량의 3구 플라스크를 10℃로 냉각시킨 다음, (iv)에서 수득한 화합물 6.7g의 메틸렌 클로라이드 용액 20ml를 교반하면서 적가한다. 반응 용액을 2시간 동안 교반한 후, 티오황산나트륨의 10% 수용액을 30ml 가하고, 5분 동안 교반한다. 수성 층을 분리시킨 후, 유기 층을 포화 탄산나트륨 수용액으로 세척하고, 이어서 포화 염화나트륨 수용액으로 세척한 다음, 황산마그네슘을 가하여 건조시킨다. 용액을 농축시키고, 수득한 조생성물을 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하여 헵탄을 증류시켜 오일상 물질을 6.4g 수득한다.
위에서 언급한 오일상 물질 6.4g의 톨루엔 용액 15ml를 디브로모트리페닐포스포란 8.5g과 톨루엔 30ml를 함유하는 100ml 용량의 3구 플라스크 속에 가한 다음, 혼합물을 6시간 동안 환류시킨다. 냉각시킨 후, 반응 용액을 헵탄 용매로 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피하고, 용출물을 농축시켜 백색 결정을 8.6g 수득한다. 조생성물을 에탄올로부터 결정화하여 백색 결정을 3.7g 수득한다. NMR 스펙트럼으로 분석한 결과, 목적 생성물인 (에리트로-1,2-디브로모-1′-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2′-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)사이클로헥실)에탄)이 확인된다.
1.5g의 아연을 브롬 물질 2.8g과 아세트산 20ml를 함유하는 100ml 용량의 3구 플라스크 속에 가한다. 반응 용액을 2시간 동안 교반한 후, 물을 70ml 함유하는 300ml 들이 비이커 속에 부어넣고, 에틸 아세테이트 100ml로 추출한다. 유기층을 포화 탄산나트륨 수용액으로 세척한 다음, 포화 염화나트륨 수용액으로 세척하고, 황산마그네슘을 가하여 건조시킨 다음, 농축시켜 조생성물을 2.5g 수득한다. 생성물을 에탄올 용매로부터 결정화하여 목적 생성물을 0.8g 수득한다. CN 점은 53.2℃이고 NI 점은 118.9℃이다.
위에서 언급한 방법에 따라 다음 화합물들을 수득한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)에텐 (No. 12), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-메틸사이클로헥실)에텐 (No. 13), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-부틸사이클로헥실)에텐 (No. 14), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-펜틸사이클로헥실)에텐 (No. 15), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)에텐 (No. 16), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-헵틸사이클로헥실)에텐 (No. 17), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-옥틸사이클로헥실)에텐 (No. 18), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-노닐사이클로헥실)에텐 (No. 19), (E)-2-(트랜스-4-(3,5-디플루오로-4-트리플루오로메틸페닐)-사이클로헥실)-1-(트랜스-4-데실사이클로헥실)에텐 (No. 20).
[실시예 3]
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 30중량부, 4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)벤조니트릴 40중량부 및 4-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)벤조니트릴 30 중량부로 이루어진 액정 조성물 A는 NI 점이 52.3℃이고 △ε이 10.7이고 △n이 0.119이며 20℃에서의 점도가 22cP인 것으로 나타났다. (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)에텐의 화합물 15중량부를 액정 조성물 A 85중량부에 가하여 수득한 액정 조성물은 NI 점이 53.2℃이고 △ε이 10.8이고 △n이 0.119이며 20℃에서의 점도가 25.0cP인 것으로 나타났다. 또한, 조성물을 -20℃의 냉동기 속에 20일 동안 정치시키는 경우에도 결정이 침전되지 않았다.
위의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화합물은 NI 점을 상승시킬 수 있으며 점도가 최대로 증가하는 것을 억제하기 때문에, 저온에서 상용성이 우수한다.
[대조실시예]
실시예 3의 (E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-n-프로필사이클로헥실)에텐 대신에, 다음 일반식의 화합물(A) 및 (B)를 각각 가하여 액정 조성물(A) 및 (B)를 제조한 다음, 실시예 3에서와 동일한 방식으로 이들의 특성을 조사한다.
본 실시예의 결과를 실시예 3의 결과와 함께 표 1에 나타낸다.
[표 1]
저온에서의 상용성 난의 기호 ○은, 스멕틱 상이 침전되지 않음을 나타내며 기호 △는 스멕틱 상이 나타남을 뜻한다.
[실시예 4]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-(4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 8중량%,
(E)-2-(트랜스-(4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 9중량%,
(E)-2-(트랜스-(4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 9중량%,
5-펜틸-2-(3,4-디플루오로페닐)피리미딘 11중량%,
4-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)비페닐 5중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 5중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)비페닐 10중량%,
4-에틸-4′-메톡시톨란 7중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-에틸톨란 6중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-프로필톨란 5중량% 및 4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-부틸톨란 5중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다;
NI 점 : 77.1℃, △ε : 5.7, △n : 0.132, 20℃에서의 점도, (η20) : 25.5cP 및 Vth : 1.84V.
[실시예 5]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 10중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에탄 8중량%,
2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)에탄 8중량%,
2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에탄 8중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-프로필사이클로헥산 7중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-부틸사이클로헥산 3중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(3,4,5-트리플루오로페닐)에탄 13중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(3,4,5-트리플루오로페닐)에탄 10중량%,
4′-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-3,4,5-트리플루오로비페닐
6중량% 및
4′-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-3,4,5-트리플루오로비페닐
5중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다: NI 점 : 88.1℃, △ε : 7.9, △n : 0.0814, η20: 27.5cP 및 Vth : 1.61V.
[실시예 6]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 5중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 5중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 5중량%,
4-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 11중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-1-부틸사이클로헥산
12중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)비페닐 8중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 8중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)비페닐 16중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-플루오로벤젠
4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-톨루엔
7중량%,
4-플루오로페닐 트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥산카복실레이트 4중량% 및
4-플루오로페닐 트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-사이클로헥산카복실레이트 3중량%,
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 87.6℃, △ε : 4.3, △n : 0.0919, η20: 17.7cP 및 Vth : 2.22V.
[실시예 7]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 6중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 6중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 6중량%,
트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)-1-헵틸사이클로헥산 5중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-1-에톡시벤젠 13중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 3중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 3중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 3중량%,
2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에탄 10중량%,
2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에탄 5중량%,
2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에탄 10중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-에틸사이클로헥산 6중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-프로필사이클로헥산 7중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-부틸사이클로헥산 4중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-(3,4,5-트리플우로로페닐)사이클로헥실)-1-펜틸사이클로헥산 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-플루오로벤젠
4중량% 및
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)톨루엔 5중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다: NI 점 : 79.6℃, △ε : 4.9, △n : 0.0762, η20: 20.7cP 및 Vth : 1.93V.
[실시예 8]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 10중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
5-펜틸-2-(3,4-디플루오로페닐)피리미딘 10중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 10중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-메톡시메틸사이클로헥실)-1-프로필사이클로헥산 5중량%,
4-플루오로페닐 트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-사이클로헥산카복실레이트 6중량%,
4-플루오로페닐 트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-사이클로헥산카복실레이트 6중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-(디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)아니솔 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)톨루엔 6중량%,
5-에틸-2-(4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)페닐)-피리미딘 4중량% 및
5-프로필-2-(4-트랜스-4-프로필사이클로헥실)페닐)피리미딘 4중량%,
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다: NI 점 : 95.2℃, △ε : 7.4, △n : 0.0978, η20: 22.6cP 및 Vth : 1.91V.
[실시예 9]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 수득한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 6중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 6중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 6중량%,
4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)벤조니트릴 12중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 22중량%,
4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)벤조니트릴 6중량%,
4-(2-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에틸)-4′-에틸톨란 4중량%,
4-(2-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에틸)-4′-프로필톨란 4중량%,
4-(2-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에틸-4′-부틸톨란 4중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)비페닐 3중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 3중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)비페닐 6중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-에틸톨란 6중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-프로필톨란 6중량% 및
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-부틸톨란 6중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 87.6℃, △ε : 8.5, △n : 0.1498, η20: 25.7cP 및 Vth : 1.78V.
[실시예 10]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 4중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 4중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 8중량%,
5-프로필-2-(3,4-디플루오로페닐)피리미딘 12중량%,
4-에틸-4′-메톡시톨란 12중량%,
4-플루오로페닐 트랜스-4-펜틸사이클로헥산카복실레이트 9중량%,
4-플루오로페닐 트랜스-4-헵틸사이클로헥산카복실레이트 9중량%,
4-플루오로페닐 트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-사이클로헥산카복실레이트 3중량%,
4-플루오로페닐 트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-사이클로헥산카복실레이트 3중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)비페닐 3중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 3중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)비페닐 6중량%,
5-프로필-2-(4′플루오로비페닐-4-일)피리미딘 8중량%,
5-부틸-2-(4′-플루오로비페닐-4-일)피리미딘 8중량% 및
5-펜틸-2-(4′-플루오로비페닐-4-일)피리미딘 8중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 72.2℃, △ε : 7.6, △n : 0.1572, η20: 30.3cP 및 Vth : 1.74V.
[실시예 11]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 7중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 7중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 7중량%,
4-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 10중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 3중량%,
4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)벤조니트릴 4중량%,
4-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)벤조니트릴 3중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-1-에톡시벤젠 10중량%,
4-에틸-4′-메톡시톨란 11중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)비페닐 3중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 3중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)비페닐 6중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-에틸톨란 6중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-프로필톨란 6중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로-4′-부틸톨란 6중량%,
4-(2-트랜스-4-프로필사이클로헥실)에틸)-4′-에틸톨란 4중량% 및
4-(2-트랜스-4-프로필사이클로헥실)에틸)-4′-프로필톨란 4중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 81.3℃, △ε : 4.4, △n : 0.1611, η20: 23.5cP 및 Vth : 2.37V.
[실시예 12]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 3중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 3중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 3중량%,
4-에틸-4′-시아노비페닐 9중량%,
4-부틸-4′-시아노비페닐 8중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 3중량%,
4-(트랜스-펜틸사이클로헥실)벤조니트릴 4중량%,
4-(트랜스-헵틸사이클로헥실)벤조니트릴 3중량%,
4-(트랜스-메톡시메틸사이클로헥실)벤조니트릴 4중량%,
4-에틸-4′-메틸톨란 2중량%,
4-헥실-4′-메틸톨란 4중량%,
4,4′-디부틸톨란 2중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-메톡시메틸사이클로헥실)-1-프로필-사이클로헥산
11중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-메톡시메틸사이클로헥실)-1-펜틸-사이클로헥산
12중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)벤조니트릴
3중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-벤조니트릴
5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-톨루엔
6중량%,
5-프로필-2-(4′-플루오로비페닐-4-일)피리미딘 5중량%,
5-부틸-2-(4′-플루오로비페닐-4-일)피리미딘 5중량% 및
5-펜틸-2-(4′-플루오로비페닐-4-일)피리미딘 5중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 78.7℃, △ε : 8.8, △n : 0.1462, η20: 22.4cP 및 Vth : 1.75V.
[실시예 13]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 4중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 4중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 4중량%,
4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)벤조니트릴 12중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 14중량%,
4-(트랜스-4-메톡시메틸사이클로헥실)벤조니트릴 12중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로벤조니트릴 12중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 4중량%,
5-프로필-2-(4′-플루오로비페닐-4-일)피리미딘 5중량%,
5-부틸-2-(4′-플루오로비페닐-4-일)피리미딘 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-2-플루오로벤조니트릴 8중량% 및
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-2-플루오로벤조니트릴 8중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 69.0℃, △ε : 13.9, △n : 0.1224, η20: 34.5cP 및 Vth : 1.24V.
[실시예 14]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 7중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 7중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 7중량%,
4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-1-플루오로벤젠 9중량%,
4-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-1-플루오로벤젠 7중량%,
4-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-1-플루오로벤젠 7중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 6중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 9중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 6중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 8중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 9중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-트리플루오로메틸옥시페닐)에탄 8중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-트리플루오로메틸옥시페닐)에탄 7중량% 및
4′-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-2-플루오로비페닐 3중량%.
[실시예 15]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 8중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 8중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에텐 8중량%,
4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-1-플루오로벤젠 8중량%,
4-(트랜스-4-헥실사이클로헥실)-1-플우오로벤젠 8중량%,
4-(트랜스-4-헵틸사이클로헥실)-1-플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 7중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-트리플루오로메틸옥시벤젠 7중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 8중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)비페닐 7중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-트리플루오로메틸옥시페닐)에탄 5중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-트리플루오로메틸옥시페닐)에탄 5중량%,
4′-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-2-플루오로비페닐 2중량%,
4′-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-2-플루오로비페닐 2중량% 및
4′-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-2-플루오로비페닐 2중량%.
[실시예 16]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 5중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 5중량%,
4-(트랜스-4-에테닐사이클로헥실)벤조니트릴 11중량%,
4-(트랜스-4-(E-3-펜테닐)사이클로헥실)벤조니트릴 10중량%,
4-(트랜스-4-(3-부테닐)사이클로헥실)벤조니트릴 8중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 3중량%,
4′-에틸-4-시아노비페닐 7중량%,
3-플루오로-4-시아노페닐-4-에틸벤조에이트 2중량%,
3-플루오로-4-시아노페닐-4-프로필벤조에이트 3중량%,
4-(트랜스-4-(3-메톡시프로필)사이클로헥실)-2-플루오로벤조니트릴
3중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-1-펜틸-1-사이클로헥센 15중량%,
4-부틸-4′-에톡시톨란 3중량%,
4-펜틸-4′-에톡시톨란 3중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4′-에틸톨란 6중량%,
3-플루오로-4-시아노페닐 4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-벤조에이트
9중량% 및
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-4′-메톡시메틸비페닐 7중량%.
[실시예 17]
다음 화합물들로 이루어진 네마틱 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에텐 10중량%,
4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)벤조니트릴 10중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)벤조니트릴 13중량%,
4-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)벤조니트릴 10중량%,
4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)벤조니트릴 15중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-플루오로페닐)에탄 4중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-플루오로페닐)에탄 4중량%,
4-메틸-4′-에톡시톨란 5중량%,
4-펜틸-2′,3′-디플루오로-4′-에톡시톨란 4중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-메틸페닐)에탄 5중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-에틸페닐)에탄 5중량% 및
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(4-프로필페닐)에탄 5중량%.
[실시예 18]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-1-클로로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-1-클로로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-클로로벤젠
5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-클로로벤젠
5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에탄 6중량%,
2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에탄 3중량%,
2-(트랜스-4-(3,4-디플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에탄 6중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
트랜스-4-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-펜틸사이클로헥산 5중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(3,4,5-트리플루오로페닐)에탄 5중량%,
2-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-(3,4,5-트리플루오로페닐)에탄 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-플루오로벤젠
5중량% 및
4′-플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 5중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 94.9℃, △ε : 5.4, △n : 0.0860, η20: 21.1cP 및 Vth : 2.10V.
[실시예 19]
다음 화합물들로 이루어진 액정 조성물을 제조한다:
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
(E)-2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-부틸사이클로헥실)에텐 10중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1-클로로벤젠
7중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1-클로로벤젠
8중량%,
2-(트랜스-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에탄 7중량%,
2-(트랜스-4-(3-플루오로-4-클로로페닐)-사이클로헥실-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에탄 8중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
4-(트랜스-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실)-1,2-디플루오로벤젠 5중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-에틸사이클로헥실)비페닐 4중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)비페닐 4중량%,
3′,4′-디플루오로-4-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)비페닐 8중량%,
4′-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)-3,4,5-트리플루오로비페닐 4중량%,
4′-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)-3,4,5-트리플루오로비페닐 5중량%,
2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-프로필사이클로헥실)에탄 5중량% 및
2-(트랜스-4-(3,4,5-트리플루오로페닐)사이클로헥실)-1-(트랜스-4-펜틸사이클로헥실)에탄 5중량%.
조성물의 물리적 특성을 측정한 결과는 다음과 같다:
NI 점 : 113.1℃, △ε : 6.4, △n : 0.1033, η20: 27.7cP 및 Vth : 2.20V.
본 발명의 화합물은 NI 점이 높기 때문에, 액정 표시소자의 작동 범위를 증가시킬 수 있다. 또한, 점도가 낮기 때문에, 액정 표시소자의 응답 속도를 증진시킬 수 있다. 더구나, 포지티브 △ε이 크기 때문에, 액정 표시소자의 구동 전압을 저하시킬 수 있다. 이외에도, 환경적인 요인에 대하여 매우 안정하기 때문에, 이러한 화합물을 각종 액정 표시소자[예: TFT를 사용하는 활성 매트릭스 방식의 소자]에 사용할 수 있다.

Claims (4)

  1. 일반식(I)의 디사이클로헥실에틸렌 유도체.
    위의 일반식(I)에서, R은 탄소수 1 내지 10의 직쇄 알킬 그룹이고, X는 불소원자 또는 트리플루오로메틸 그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, X가 불소원자인 디사이클로헥실에틸렌 유도체.
  3. 제1항에 있어서, X가 트리플루오로메틸 그룹인 디사이클로헥실에틸렌 유도체.
  4. 성분을 2개 이상 포함하고 이들 중의 하나 이상이 제1항에 따르는 디사이클로헥실에틸렌 유도체인 액정 조성물.
KR1019950703793A 1993-03-10 1994-03-10 디사이클로헥실에틸렌 유도체 KR100283971B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7755193 1993-03-10
JP93-077551 1993-03-10
PCT/JP1994/000389 WO1994020443A1 (en) 1993-03-10 1994-03-10 Dicyclohexylethylene derivative

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960700985A KR960700985A (ko) 1996-02-24
KR100283971B1 true KR100283971B1 (ko) 2001-03-02

Family

ID=13637158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950703793A KR100283971B1 (ko) 1993-03-10 1994-03-10 디사이클로헥실에틸렌 유도체

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5641432A (ko)
EP (1) EP0688754B1 (ko)
JP (1) JP3418398B2 (ko)
KR (1) KR100283971B1 (ko)
AT (1) ATE171929T1 (ko)
AU (1) AU676542B2 (ko)
DE (1) DE69413808D1 (ko)
WO (1) WO1994020443A1 (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997000233A1 (fr) * 1995-06-15 1997-01-03 Chisso Corporation Composes presentant des groupes alcenylene a substitution alkyle et composition de cristaux liquides
US6350417B1 (en) * 1998-11-05 2002-02-26 Sharper Image Corporation Electrode self-cleaning mechanism for electro-kinetic air transporter-conditioner devices
DE10018599B4 (de) * 1999-05-03 2009-02-05 Merck Patent Gmbh Flüssigkristallines Medium
EP2295520A3 (de) * 2003-05-21 2011-08-03 Merck Patent GmbH Flüssigkristallines Medium
CN1329481C (zh) * 2005-10-17 2007-08-01 清华大学 含有单氟乙撑桥键的液晶化合物及其制备方法
CN100497285C (zh) * 2007-04-30 2009-06-10 西安瑞联近代电子材料有限责任公司 反-4-（反-4′-烷基环己基）环己基甲醛的合成方法
JP5146719B2 (ja) * 2007-06-29 2013-02-20 Ｄｉｃ株式会社 シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体
EP2919770A4 (en) 2012-11-14 2017-03-08 The Board of Regents of The University of Texas System Inhibition of hif-2 heterodimerization with hif1 (arnt)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0684339B2 (ja) * 1987-11-16 1994-10-26 チッソ株式会社 シクロヘキサン誘導体
JP2696557B2 (ja) * 1989-03-07 1998-01-14 チッソ株式会社 トリフルオロベンゼン誘導体
DE4027315A1 (de) * 1989-08-30 1991-03-07 Merck Patent Gmbh Halogenierte benzolderivate und fluessigkristallines medium
JPH0662462B2 (ja) * 1989-10-13 1994-08-17 チッソ株式会社 ジシクロヘキシルエチレン誘導体
JPH0495042A (ja) * 1990-08-10 1992-03-27 Dainippon Ink & Chem Inc エーテル結合を有するフッ素系３環式化合物
JP2732335B2 (ja) * 1992-05-28 1998-03-30 チッソ株式会社 液晶組成物およびこの組成物を用いた液晶表示素子

Also Published As

Publication number Publication date
AU6219794A (en) 1994-09-26
US5641432A (en) 1997-06-24
EP0688754A4 (en) 1996-04-17
KR960700985A (ko) 1996-02-24
EP0688754B1 (en) 1998-10-07
WO1994020443A1 (en) 1994-09-15
EP0688754A1 (en) 1995-12-27
DE69413808D1 (en) 1998-11-12
AU676542B2 (en) 1997-03-13
JP3418398B2 (ja) 2003-06-23
ATE171929T1 (de) 1998-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4331552A (en) Liquid crystalline, partially hydrogenated oligo-1,4-phenylenes and dielectrics and electro-optical display elements containing them
KR100333020B1 (ko) 액정화합물,이러한화합물을함유하는액정조성물및이러한조성물을사용하여제조된액정표시소자
CA1336441C (en) Liquid crystal composition
JP2722195B2 (ja) スメクテイツク液晶相
JP2787360B2 (ja) ジフルオロメチル化合物
KR100549898B1 (ko) 비스알케닐비사이클로헥산 및 액정 매질
JP2935744B2 (ja) フェニルシクロヘキサン化合物および液晶相
KR20150108325A (ko) 4,6-다이플루오로다이벤조퓨란 유도체
JP2764293B2 (ja) トラン化合物
JP4044617B2 (ja) 負の誘電率異方性値を有する液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子
JPH03505742A (ja) メソ相形成性化合物
JP3158623B2 (ja) ジエン誘導体
EP0597701B1 (en) Conjugated enyne derivative and liquid crystal composition
KR100283971B1 (ko) 디사이클로헥실에틸렌 유도체
EP0733692B1 (en) Liquid crystalline compound, liquid crystal composition containing the same, and display device
JPH0662462B2 (ja) ジシクロヘキシルエチレン誘導体
JP2927957B2 (ja) フェニルシクロヘキサン類および液晶媒体
JP4385202B2 (ja) フェニルデカヒドロナフタレン誘導体
JPH09278698A (ja) フッ素置換結合基を有する液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子
JPH08325173A (ja) エキソメチレン部位を持つ液晶性化合物およびそれを含む液晶組成物
US5635108A (en) Liquid crystalline compound having conjugated carbon chain and liquid crystal composition containing
JP3579726B2 (ja) 共役エンイン誘導体および液晶組成物
JP4478842B2 (ja) デカヒドロナフタレン誘導体
JP4239242B2 (ja) フェニルナフタレン誘導体
KR840000444B1 (ko) 부분적으로 수소화된 올리고-1, 4-페닐렌을 함유한 액정 유전체

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121121

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131118

Year of fee payment: 14