KR100274328B1 - 피페리딘 화합물 및 그 화합물을 함유하는 안정화 고분자 재료 조성물 - Google Patents

Abstract

다음 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 피페리딘 화합물 및 그 ㅎ을 함유하는 안정화 고분자 재료 조성물.

A [ (O-X)_nNH-Y]_m(Ⅰ)

(식중, A 는 3~6 가의 다가 알콜에서 m 개의 수산기를 제외한 잔기를 표시하고, X 는 탄소원자수 2~4 의 알킬렌기를 표시하며, n 은 1~15의 정수를 표시하고 m 은 3~6 의 정수를 표시하며, Y는 기를 표시한다.

R₁은 수소원자, 탄소원자수 1~18의 알킬기, 알콕시기, 또는 아실기 또는 산소유리기를 표시하고, R₂는 수소원자 또는 탄소원자수 1~18의 알킬기를 표시한다.)

Description

[발명의 명칭]

피페리딘 화합물 및 그 화합물을 함유하는 안정화 고분자 재료 조성물

[발명의 상세한 설명]

[발명의 분야]

본 발명은 피페리딘 화합물 및 그 화합물을 함유하는 안정화 고분자 재료 조성물에 관한 것이며, 상세하게는 2,2,6,6-테트라메틸피페리딜기를 갖는 특정 시아누레이트 유도체, 및 그 유도체를 함유하여 이루어지고, 특히 내열성, 내추출성 및 내광성이 개선된 안정화 고분자 재료 조성물에 관한 것이다.

[종래기술의 설명]

폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐 등의 고분자 재료는 일반적으로 광에 대하여 민감하고, 그 작용에 의해 열화, 변색 혹은 기계적 강도 저하 등이 야기되며, 장기 사용에 견디지 못한다는 것이 알려져 있다.

그래서, 그 광에 의한 고분자 재료의 열화를 방지하기 위하여 종래, 각종 안정제가 사용되어 왔으나 분자중에 2,2,6,6-테트라메틸피페리딜기를 갖는 화합물도 다수 제안되고 있다.

이들 피페리딘 화합물중, 시아누레이트 유도체는 호합물 자체의 내열성이 비교적 양호한 사실에서 지금까지 몇몇 화합물이 제안되고 있다. 예컨대, 특개소 49-21389호 공보에는 피페리딘 화합물의 시아누레이트 유도체가 제안되고 있으나 그 공보에 기재된 화합물은 저분자량 화합물이기 때문에 고분자 재료 가공중에 휘산(揮散)되기 쉽고, 혹은 물, 유기용매에 의해 추출되기 쉽다는 등의 결점을 가지고 있었다.

이때문에 특개소 52-73886호 공보, 특개소 58-122487호 공보, 특개소 58-47030호 공보, 특개소 58-194931호 공보, 특개소 59-122487호 공보 및 특개소 61-81441호 공보 등에는 고분자량의 화합물이 제안되고 있으며, 또, 특개소 61-176662호 공보에는 분자중에 에테르기를 갖는 디아민의 시아누레이트 유도체가 제안되어 있으나 이들 화합물의 안정화 효과는 아직 불충분하며, 실용상 만족할 수 있는 것은 아니었다.

[발명의 개요]

본 발명자들은 상기 현상을 감안하여 예의 검토를 거듭한 결과 에테르 결합을 갖는 특정 시아누레이트 유도체를 첨가함으로써 내열성, 내추출성 및 내광성이 우수한 안정화 고분자 재료 조성물이 얻어짐을 발견하여 본 발명을 완성하였다.

즉, 본 발명은 하기 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 피페리딘 화합물을 제공하는 것이다.

또, 본 발명은 고분자 재료 100 중량부에 하기 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 피페리딘 화합물의 적어도 1 종 0.001~5중량부를 첨가하여 이루어지는 안정화 고분자 재료 조성물을 제공하는 것이다.

A [ (O-X)_nNH-Y]_m(Ⅰ)

(식중, A 는 3~6 가의 다가 알콜에서 m 개의 수산기를 제외한 잔기를 표시하고, X 는 탄소원자수 2~4 의 알킬렌기를 표시하며, n 은 1~15의 정수를 표시하고 m 은 3~6 의 정수를 표시하며, Y는 기를 표시한다.

R₁은 수소원자, 탄소원자수 1~18의 알킬기, 알콕시기, 또는 아실기 혹은 산소유리기를 표시하고, R₂는 수소원자 또는 탄소원자수 1~18의 알킬기를 표시한다.)

본 발명의 상기 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 피페리딘 화합물을 함유하는 본 발명의 고분자 재료 조성물은 내열성, 내추출성 및 내광성이 우수한 것이다.

[발명의 상세한 설명]

이하 본 발명의 피페리딘 화합물 및 그 화합물을 함유하는 고분자 재료 조성물에 대하여 상술한다.

상기 일반식 (Ⅰ) 중, A 로 표시되는 3~6 가의 다가 알콜의 잔기로는 가령, 글리세린, 트리메틸롤에탄, 트리메틸롤프로판, 트리스 (2-히드록시에틸) 이소시아누레이트, 펜타에리스리톨, 디글리세린, 디트리메틸롤에탄, 디트리메틸롤프로판, 만니톨, 솔비톨, 디펜타에리스리톨, 이노시톨 등의 잔기를 들 수 있다.

상기 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 본 발명의 피페리딘 화합물로는 특히 A 로 표시되는 다가 알콜의 잔기가 하기식으로 표시되는 네오펜틸 구조를 갖는 기인 화합물이 그 효과가 크기 때문에 바람직하다.

(식중, R 은 탄소원자수 1~18의 알킬기 또는 -CH₂- 를 표시하고 a 는 0 또는 1 을 표시한다.)

상기 일반식 (Ⅰ) 중, R₁및 R₂로 표시되는 알킬기로는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 2-에틸헥실, 데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 옥타데실 등의 비치환 알킬기 및 벤질, 페닐에틸, 2-히드록시에틸, 2,3-에폭시프로필, 디메틸아미노 프로필, 메톡시에틸 등의 치환 알킬기를 들 수 있고, R₁로 표시되는 알콕시기로는, 상기 알킬기에서 유도되는 알콕시기를 들 수 있다. 또, R₁로 표시되는 아실기로는, 아세틸, 프로피오닐, 아크릴로일, 메타크릴로일, 부틸로일, 옥타노일 등을 들 수 있다.

또, 상기 일반식 (Ⅰ) 중, X 로 표시되는 알킬렌기로는, 에틸렌, 프로필렌, 트리메틸렌, 부틸렌, 이소부틸렌, 테트라메틸렌 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 본 발명의 피페리딘 화합물은 가령 염화시아눌, 4-피페리딜아민 화합물을 반응시켜서 2-클로로-4, 6-비스 (폴리알킬피페리딘-4- 일) 트리아진을 합성하고, (필요하다면 피페리딜기의 1 위를 알킬화 또는 아실화하고), 이어서 이것과 하기 일반식 (Ⅱ) 로 표시되는 폴리아민 화합물을 반응시킴으로써 용이하게 제조된다.

A [ (O-X)_nNH₂]_m(Ⅱ)

상기 일반식 (Ⅱ) 로 표시되는 폴리아민 ㅎ은 가령 A(OH)_m으로 표시되는 3~6 가의 다가 알콜에 알킬렌옥사이드를 부가시킨후, 말단의 수산기를 아미노화하는 통상법에 따라 제조할 수 있고 통상 시판되고 있는 것을 그대로 사용할 수 있다. 또, 상기 일반식 (Ⅱ) 에 있어서의 n 은 알킬렌 옥사이드의 평균 부가몰수를 나타내고, 다가 알콜의 각 수산기에 부가하는 알킬렌 옥사이드의 몰수는 같거나 다르거나 모두 좋다.

다음에 본 발명의 고분자 재료 조성물에서 사용되는 상기 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 ㅂ의 피페리딘 ㅎ의 대표예 (ㅎ No. 1~No. 6)를 표시한다.

또한, 하기 ㅎ No.1~No.6 및 후기 실시예중의 비교ㅎ에 있어서 B₁~B₄는 하기 [식1] 에 표시하는 기를 나타낸다. 또, 하기 ㅎ No. 1~No. 6은 실제로는 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 n 의 값이 상이한 2 종 이상의 ㅎ의 ㅁ이고, 식중의 p,q,r 및 s는 각각 ㅁ을 구성하는 2 종 이상의 ㅎ 각각의 n 의 값의 평균치이다.

다음에 ㅂ 에서 사용되는 상기 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 피페리딘 ㅎ의 합성방법을 하기 (합성예) 에 의해 구체적으로 설명하지만, ㅂ은 하기 합성방법에 의해 제한되는 것은 아니다.

(합성예) ㅎ No. 2의 합성

(1) 2-클로로-(4,6-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-N-부틸아미노])트리아진의 제조

염화 시아눌 28.2g 을 크실렌 230g에 20~30℃에 용해하고, 이 용액을 교반하면서 N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 아민 64.4g 을 65℃이하에서 1 시간 걸려 적하하였다. 그리고 25% 수산화나트륨 57.8g 을 30분 걸려 적하하였다. 적하종료후, 그리고, 65℃에서 5 시간 반응시킨 후에 반응액을 유수 (油水) 분리, 수세하였다.

(2) N-메틸화

상기 반응액에 87% 의 파라포름알데히드를 넣고, 80℃로 승온시켜서 80% 개미산 수용액 23.3g 을 1 시간 결러 적하하였다. 그리고, 90℃에서 5 시간 반응시킨 후, 40% 수산화나트륨 수용액 31.6g 을 넣어 중화하고, 유수분리, 수세하여 탈수, 여과하였다.

(3) 화합물 No. 2의 제조

상기 여과액에 트리스 [ω-아미노폴리 (프로필옥시) 메틸] 프로판 (미츠이 텍사코 케미칼사제 제파민 T-403, p+q+r=5.3) 22g, 수산화나트륨 20g 을 넣고 질소분위기하 크실렌 환류하여 18시간 반응을 행한 후, 수세, 탈수, 여과를 행하였다.

그후 탈용매하고, 연화점 85~95℃의 유리(glass) 상 고체의 생성물을 얻었다.(수율 96.5%)

얻어진 생성물은 고속액체 크로마토그래피에 의한 분석 결과, 1 피이크로, 분자량이 약 2000 (계산치 2021.8) 이고 또 이 생성물의 원소분석 결과는 하기와 같이 계산치와 잘 일치하며, 상기 생성물이 목적물이라는 것을 확인하였다.

C H N

실측치 (%) 72.4 12.9 11.0

계산치 (%) 71.9 12.5 11.2

ㅂ에 있어서의 안전성 개선의 대상이 되는 고분자 재료는, 가령 고밀도, 저밀도 또는 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸펜텐, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 α-올레핀의 단중합체 또는 공중합체, 이들 α-올레핀과 공역(共役) 디엔 또는 비공역 디엔 등의 다불포화 화합물, 아크릴산, 메타크릴산, 아세트산비닐 등과의 공중합체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화폴리에틸렌, 염소화폴리프로필렌, 폴리플루오르화비닐리덴, 염화고무, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 염화비닐-에틸렌 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴-아세트산비닐 삼원공중합체, 염화비닐-아크릴산 에스테르 공중합체, 염화비닐-말레산 에스테르 공중합체, 염화비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체, 염화비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체 등의 함할로겐수지, 석유수지, 쿠마론수지, 폴리스티렌, 폴리아세트산비닐, 아크릴수지, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과 다른 단량체 (가령, 무수말레산, 페닐 말레이미드, 메타크릴산메틸, 부타디엔, 아크릴로니트릴 등) 와의 공중합체 (가령, AS수지, ABS 수지, MBS 수지, 내열 ABS 수지 등), 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐알콜, 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리테트라메틸렌테레프탈레이트 등의 직쇄 폴리에스테르, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리카프로락탐 및 폴리헥사메틸렌아디파미드 등의 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 폴리페닐린설파이드, 폴리우레탄, 섬유소계수지 등의 열가소성 합성수지, 페닐수지, 요소수지, 멜라민수지, 에폭시수지, 불포화폴리에스테르수지 등의 열경화성 수지, 그리고 이소프렌고무, 부타디엔고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합 고무, 스티렌-부타디엔 공중합 고무, 에틸렌과 프로필렌, 부텐-1 등의 α-올레핀과의 공중합체 고무, 또한 에틸렌-α-올레핀 및 에틸리덴노르보르넨, 시클로펜타디엔 등의 비공역 디엔류와의 삼원공중합체 고무 등의 엘라스토머 등을 들 수 있다. 이들 수지 및/또는 엘라스토머를 블렌드한 것이라도 좋다.

상기 일반식 (Ⅰ) 에서 표시된 ㅂ의 피페리딘 ㅎ의 첨가량은 고분자 재료 100 중량부에 대하여 0.001 ~5 중량부, 바람직하게는 0.01~3 중량부이다.

ㅂ의 고분자 재료 조성물에는 상기 일반식 (Ⅰ) 에서 표시된 ㅂ의 피페리딘 ㅎ과 함께 다른 범용의 항산화제, 자외선 흡수제, 상기 일반식 (Ⅰ) 에서 표시된 피페리딘 ㅎ 이외의 힌더드아민계 광안정제, 안정제 등의 첨가제를 병용할 수 있다.

상기 첨가제로서 특히 바람직한 것으로는, 페놀계, 인계, 유황계 등의 항산화제 및 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.

상기 페놀계 항산화제로는 가령, 2,6-디제 3부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 스테아릴(3,5-디제 3부틸-4-히드록시페닐) 프로피오네이트, 디스테아릴(3,5- 디제 3부틸-4-히드록시벤질) 포스포네이트, 티오디에틸렌글리콜비스[(3,5-디제 3부틸-4- 히드록시페닐) 프로피오네이트], 1,6-헥사메틸렌비스[(3,5-디제 3부틸-4- 히드록시페닐) 프로피오네이트], 1,6-헥사메틸렌비스[(3,5-디제 3부틸-4- 히드록시페닐) 프로피온산아미드], 4,4-티오비스(6-제 3부틸-m-크레졸), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-제 3부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-제 3부틸페놀), 비스[3,3- 비스(4- 히드록시-3- 제 3부틸페닐) 부티르산] 글리콜에스테르, 4,4'- 부틸리덴비스(6- 제 3부틸-m-크레졸), 2,2'-에틸리덴비스(4,6- 디제 3부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4- 제 2부틸-6- 제 3 부틸페놀), 1,1,3- 트리스(2- 메틸-4- 히드록시-5- 제 3부틸페닐) 부탄, 비스[2- 제 3부틸-4- 메틸-6-(2-히드록시-3- 제 3부틸-5- 메틸벤질) 페닐] 테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-히드록시-4-제 3부틸벤질) 이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5- 디제 3부틸-4- 히드록시벤질) 이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5- 디제3부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리스[(3,5-디제 3부틸-4- 히드록시페닐) 프로피오닐옥시에틸] 이소시아누레이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디제 3부틸-4- 히드록시페닐) 프로피오네이트] 메탄, 2-제 3부틸-4-메틸-6-(2-아크릴로일옥시-3- 제 3부틸-5- 메틸벤질) 페놀, 3,9-비스[1,1- 디메틸-2-{(3- 제 3부틸-4- 히드록시-5- 메틸페닐) 프로피오닐옥시} 에틸]-2,4,8,10- 테트라옥사스피로[5,5]-운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[(3-제 3부틸-4- 히드록시-5- 메틸페닐) 프로피오네이트] 등을 들 수 있다.

상기 인계 항산화제로는, 가령, 트리스 (노닐페닐) 포스파이트, 트리스 (모노 및 디-혼합 노닐페닐) 포스파이트, 트리스(2,4- 디제 3부틸페닐) 포스파이트, 트리스[2- 제 3부틸-4-(3-제 3부틸-4- 히드록시-5- 메틸페닐티오)-5-메틸페닐] 포스파이트, 트리 (트리데실) 포스파이트, 옥틸디페닐포스파이트, 디 (트리데실) 펜타에리스리톨디포스파이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 디 (노닐페닐) 펜타에리스리톨디포스파이트, 비스 (2,4-디제 3부틸페닐) 펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6- 디제 3부틸-4- 메틸페닐) 펜타에리스리톨디포스파이트, 비(2,4,6- 트리제 3부틸페닐) 펜타에리스리톨디포스파이트, 테트라 (트리데실) 이소프로필리덴디페놀디포스파이트, 테트라 (트리데실)-4,4'-n- 부틸리덴비스(2- 제 3부틸-5-메틸페놀) 디포스파이트, 헥사 (트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5- 제 3부틸페닐)부탄트리포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6- 디제 3부틸페닐) 옥틸포스파이트, 2,2'- 메틸렌비스(4,6- 디제 3부틸페닐) 플루오로포스파이트, 테트라키스(2,4- 디제 3부틸페닐) 비페닐렌디포스포나이트, 9-포스파-10-옥사페난트렌-9- 옥시드 등을 들 수 있다.

또, 상기 유황계 항산화제로는, 가령 티오디프로피온산디라우릴, 디미리스틸, 디스테아릴등의 디알킬티오디프로피오네이트류 및 펜타에리스리톨테트라 (β-도데실메르캅토프로피오네이트) 등의 폴리올의 β-알킬메르캅토프로피온산에스테르류를 들 수 있다.

상기 자외선 흡수제로는 가령, 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-히드록시-4- 메톡시벤조페논) 등의 2-히드록시벤조페논류; 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐) 벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디제 3부틸페닐) 벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디제 3부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-제 3부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-제 3옥틸페닐) 벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디크밀페닐) 벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4- 제 3옥틸-6- 벤조트리아조릴) 페놀 등의 2-(2'-히드록시페닐) 벤조트리아졸류; 페닐 살리실레이트, 레조르시놀모노벤조에이트, 2,4-디제 3부틸페닐-3',5'-디제 3부틸-4'-히드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-디제 3부틸-4- 히드록시벤조에이트 등의 벤조에이트류; 2-에틸-2'-에톡시옥사닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥사닐리드 등의 치환 옥사닐리드류; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2- 시아노-3- 메틸-3-(p-메톡시페닐) 아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트류를 들 수 있다.

기타 필요에 따라 ㅂ의 고분자 재료 조성물에는 중금속 불활성화제, 조핵제(造核制), 금속비누, 유기주석ㅎ, 가소제, 에폭시ㅎ, 발포제, 대전방지제, 난연제, 활제, 가공조제 (加工助劑) 등을 포함시킬 수 있다.

ㅂ의 고분자 재료 조성물은 농업용 자재, 자동차용 도료 및 내외장재 등의 장기간에 걸쳐 고도의 내후성이 요구되는 용도에도 적합하게 사용할 수 있고, 가령 필름, 석유, 테이프, 시트, 각종 성형재료, 도료, 래커용 결합제, 접착제, 퍼티 및 사진재료에 있어서의 기재 등에 사용할 수 있다.

다음에, 실시예에 의해 ㅂ의 고분자 재료 조성물의 안정화 효과를 구체적으로 나타낸다. 그러나, ㅂ은 다음에 든 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.

[ㅅ 1]

하기 [배합] 에 의해 두께 0.3mm 의 프레스시트를 작성하고, 이 시트에 대하여 고압수은램프를 사용한 내광성 시험을 행하였다 (표중에는 「오리지날」로서 표시함). 또 100 시간 광조사후 80℃의 열수에 24시간 침지후의 시트에 대해서도 내광성 시험을 행하였다 (표중에는 「열수침지후」로서 표시함). 그 결과를 하기 [표 1]에 표시한다.

[배합]

폴리프로필렌 100 중량부

펜타에리스리톨테트라키스(3,5-

디제3 부틸-4- 히드록시페닐프로

피오네이트) 0.1

칼슘스테아레이트 0.05

시험ㅎ([표 1] 참조) 0.1

표중, 비교ㅎ은 각각 다음식으로 표시되는 ㅎ이고, 식중, B₁은 상기 [식 1] 에 표시한 기를 나타낸다.

[ㅅ 2]

하기 [배합] 에 의해 믹서로 5 분간 혼합한 후, 실린더온도 230℃ 및 240℃, 헤드 다이스온도 250℃, 회전수 20rpm의 조건으로 압출기로 콤파운드를 작성하고 이어서 실린더온도 240℃, 노즐온도 250℃, 사출압 475kg/cm²의 조건으로 시험편을 작성하였다.

또, 상기 압출조작을 5 회 반복 행한 콤파운드에 대해서도 같은 조작에 의해 시험편을 작성하였다.

얻어진 시험편에 대하여 고압수은램프를 이용하여 내광성 시험을 행하였다. 그 결과르 하기 [표 2]에 표시한다.

[배합]

에틸렌/ 프로필렌블록코폴리마 100 중량부

스테아릴(3,5- 디제 3부틸-4-

히드록시페닐)-프로피오네이트 0.1

칼슘스테아레이트 0.2

디라우릴티오디프로피오네이트 0.2

시험ㅎ([표 2] 참조) 0.1

[ㅅ 3]

하기 [배합] 의 배합물을 혼련후 프레스하여 두께 0.5mm의 시트를 작성하였다. 이 시트를 이용하여 내후성 시험기(weather-Ometer)중에서 내광성을 측정하고 취화할때까지의 시간을 측정하였다. 그 결과를 하기 [표 3] 에 표시한다.

[배합]

폴리에틸렌 100 중량부

펜타에리스리톨테트라키스(3,5-

디제 3부틸-4- 히드록시페닐

프로피오네이트) 0.1

칼슘스테아레이트 1.0

디스테아릴티오디프로피오네이트 0.3

시험ㅎ([표 3] 참조) 0.1

[ㅅ 4]

하기 [배합] 에 의해 롤혼련하고, 두께 1mm의 시트를 작성하였다. 이 시트를 이용하여 내후성 시험기중에서의 내광성 시험을 행하였다. 그 결과를 하기 [표 4] 에 표시한다.

[배합]

폴리염화비닐 100 중량부

디옥틸프탈레이트 48

에폭시화 대두유 2

트리스노닐페닐포스파이트 0.2

칼슘스테아레이트 1.0

아연스테아레이트 0.1

시험ㅎ([표 4] 참조) 0.1

[ㅅ 5]

하기 [배합] 에 의해 롤혼련후 프레스하여 두께 3mm의 시트를 작성하고, 이 시트를 이용하여 내후성 시험기로 800 시간 광조사후의 항장력잔율 (抗張力殘率) 을 측정하였다. 그 결과를 하기 [표 5] 에 표시한다.

[배합]

ABS 수지 100 중량부

4,4'-부틸리덴비스(2-제 3부틸

-m- 크레졸) 0.1

시험ㅎ([표 5] 참조) 0.2

[ㅅ 6]

분자량 약 1000의 폴리프로필렌글리콜 3000중량부를 80℃로 20분간 진공건조후, 테트라메틸렌글리콜 135부를 첨가하고, 90℃에서 충분히 혼합하고, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트 1125부를 첨가하고 10분간 교반혼련하였다. 덩어리모양 반응물을 꺼내어 160℃에서 1 시간 숙성후 냉각하여 해머로 분쇄하여 열가소성 폴리우레탄수지를 제조하였다.

하기 배합에 의해 3.5 온스인라인식 사출성형기로 실린더온도 170~190℃에서 사출성형을 행하여 길이 150mm×폭 100mm×두께 2mm의 시험편을 작성하였다.

이 시험편을 이용하여 페이드미터로 50시간 광조사후의 신장잔율을 측정하였다. 그 결과를 하기 [표 6] 에 표시한다.

[배합]

열가소성폴리우레탄수지 (상기 제조품) 100 중량부

디트리데실펜타에리스리톨디포스파이트 0.2

2,6-디제 3부틸-p- 크레졸 0.1

시험화합물([표 6] 참조) 0.3

상기 [표 1]~[표 6] 의 결과로 명백한 바와같이 분자중에 에테르 결합을 갖지 않는 폴리아민의 시아누레이트 유도체를 이용할 경우, 혹은 분자중에 에테르기를 갖는 디아민의 시아누레이트 유도체를 이용할 경우는 고분자 재료의 내광성을 개선하는 효과가 불충분할뿐 아니라 특히 열수추출을 행한후 혹은 고온가공을 반복한후 등의 과혹한 시험조건하에 있어서는 그 효과가 현저히 저하되어 버려 실용상 만족할 수 있는 결과를 주지 못한다.

이에 비해 고분자 재료에 에테르결합을 갖는 3~6 가의 폴리아민에서 유도되는 특정 시아누레이트 ㅎ을 첨가한 ㅂ의 고분자 재료 조성물은 고분자 재료의 내광성의 개선효과가 현저히 우수하고, 특히 과혹한 시험조건하에 있어서도 그 효과가 거의 저하되지 않는다는 것이 분명하다.

Claims (13)

1. 다음 일반식 (Ⅰ) 로 표시되는 피페리딘 화합물.

   A [ (O-X)_nNH-Y]_m(Ⅰ)

   (식중, A 는 3~6 가의 다가 알콜에서 m 개의 수산기를 제외한 잔기를 표시하고, X 는 탄소원자수 2~4 의 알킬렌기를 표시하며, n 은 1~15의 정수를 표시하고 m 은 3~6 의 정수를 표시하며, Y는 기를 표시한다.

   R₁은 수소원자, 탄소원자수 1~18의 알킬기, 알콕시기, 또는 아실기 또는 산소 유리기를 표시하고, R₂는 수소원자 또는 탄소원자수 1~18의 알킬기를 표시한다.)
2. 제1항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 m 이 3 인 것을 특징으로 하는 피페리딘 화합물.
3. 제2항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 A 가 프로판트리일인 것을 특징으로 하는 피페리딘 화합물.
4. 제1항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 n 이 1~3 인 것을 특징으로 하는 피페리딘 화합물.
5. 제1항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 X 가 프로필렌인 것을 특징으로 하는 피페리딘 화합물.
6. 고분자 재료 100 중량부에 청구범위 제1항 기재의 피페리딘 ㅎ의 적어도 일종 0.001 ~5 중량부를 첨가하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 안정화 고분자 재료 조성물.
7. 제6항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 m 이 3 인 청구범위 제1항 기재의 피페리딘 화합물을 첨가한 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물.
8. 제6항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 m 이 3 이고 또한 A 가 프로판트리일인 청구범위 제1항 기재의 피페리딘 화합물을 첨가한 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물.
9. 제6항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 n 이 1~3 인 청구범위 제1항 기재의 피페리딘 화합물을 첨가한 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물.
10. 제6항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ) 중의 X 가 프로필렌인 청구범위 제1항 기재의 피페리딘 화합물을 첨가한 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물.
11. 제6항에 있어서, 고분자 재료가 폴리올레핀인 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물.
12. 제11항에 있어서, 폴리올레핀이 폴리프로필렌인 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물.
13. 제6항에 있어서, 페놀계 항산화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 고분자 재료 조성물.