KR100344518B1 - 포스파이트화합물및이를함유하는합성수지조성물 - Google Patents

포스파이트화합물및이를함유하는합성수지조성물 Download PDF

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아사히 덴카 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 하기 일반식 (I)로 표시되는 포스파이트 화합물 및 이 화합물을 포함함을 특징으로 하는 합성 수지 조성물을 제공한다.
(식중, R1은 수소원자 또는 메틸기를, R2는 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를, R3은 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를, 그리고 X는 탄소수 1~8의 알킬리덴기를 나타낸다)

Description

포스파이트 화합물 및 이를 함유하는 합성수지 조성물
본 발명은 신규한 포스파이트 화합물 및 이 화합물을 함유하는 안정화된 합성수지 조성물에 관한 것이다.
폴리에틸렌, 폴리프로필렌, ABS, 폴리염화비닐 등의 합성수지는 그 뛰어난 기계적, 화학적 특성으로 말미암아, 포장용기, 포장용 필름, 자동차의 내외장재, 건축자재, 농업용 자재, 가전제품 등에 널리 이용되고 있다. 그러나, 이들 합성수지는 성형가공시에 고온에 노출되며, 유통 및 사용시에는 빛이나 열, 습기에 의한 열성화(劣性化)를 일으켜, 착색이나 기계강도가 저하하기 때문에 실용적이지 못하다.
이러한 합성수지의 열성화를 막을 목적으로 많은 첨가제가 개발되고, 단독 또는 조합되어 사용되어 왔다. 이들의 첨가제 중에서도 포스파이트 화합물은 합성수지에 대하여 내열성, 내광성을 부여하고 더구나 합성수지의 착색도 억제한다는 잇점이 있어 널리 사용되어 왔다.
이들 포스파이트 화합물 중에서도 환상 포스파이트 화합물은 그 효과가 큰 것으로 알려져 있고, 예를 들어, 일본 특허공개 소55-151058호 공보, 특허공개소57-114595호 공보, 특허공개 소58-103537호 공보, 특허공개 소58-152029공보, 특허공개 평5-25321호 공보, 특허공개 평6-1880호 공보 등에는 여러 가지의 환상 포스파이트 화합물이 제안되어 있다.
그러나, 상기한 화합물은 합성수지와의 상용성이 떨어지고, 가공시에 합성수지에 균일하게 배합하는 것이 곤란할 뿐 아니라, 비교적 단시간에 그 효과가 사라지는 수가 많고, 또 옥외 또는 습한 분위기하에서는 그 효과가 급속하게 없어지는 일이 많다. 또, 합성수지를 고온에서 가공하는 경우에도 그 효과가 없어져 버려 실용상 만족스럽지 못했다.
본 발명자들은 이런 현실에 비추어 예의 검토를 한 결과, 합성수지에 특정의 포스파이트 화합물을 첨가함으로써, 합성수지의 내열성, 내후성 및 가공성이 현저하게 재선된다는 것을 발견하고 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명은, 다음 일반식 (I)로 표현되는 포스파이트 화합물을 제공하는 것이다.
(식중, R1은 수소원자 또는 메틸기를,
R2는 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를,
R3은 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를, 그리고
X는 탄소수 1~8의 알킬리덴기를 나타낸다)
또 본 발명은, 합성수지 100중량부에 대해, 상기 일반식 (I)로 표시되는 포스파이트 화합물 0.005~5중량부를 첨가하여 이루어진 안정화된 합성수지 조성물을 제공한다.
이하에 본 발명의 포스파이트 화합물을 보다 상세하게 설명한다.
상기 일반식에서, R2, R3로 표시되는 알킬기로서는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, t- 부틸, 아밀, t- 아밀 등의 작용기를 들 수 있다.
X로 표시되는 알킬리덴기로서는, 메틸렌, 에틸리렌, 프로필리덴, 부틸리덴, 펜틸리덴, 헥실리덴, 헵틸리덴, 옥틸리덴이 예시된다.
따라서, 본 발명의 상기 일반식 (I)로 표시되는 포스파이트 화합물로서는, 예를 들면 아래에 나타낸 화합물이 있다.
상기 포스파이트 화합물은, 공지 화합물인 2,2'-알킬리덴비스(4,6-디 t- 아밀페놀)과 4,4'-알킬리덴비스페놀로부터 용이하게 합성할 수 있다.
본 발명의 합성 수지 조성물은 합성 수지 100 중량부에 대하여, 상기 포스파이트 화합물을 0.005 - 5 중량부, 바람직하게는 0.01 - 3 중량부의 양으로 함유한다. 상기 포스파이트 화합물의 첨가량이 상기한 범위의 하한치보다 적으면 안정화 효과가 얻어지지 않고, 상한치보다 많으면 블루밍(blooming) 현상이 발생하여 수지의 상품성이 훼손된다.
본 발명에 따라서 그의 안정성을 개선시킬 수 있는 합성수지로는 예를 들면 고밀도, 저밀도 또는 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸펜텐, 폴리-4-메틸팬텐, 에틸렌-프로필렌공중합체 등의 α-올레핀의 단중합체 또는 공중합체, 이들의 α-올레핀과 공역 디엔 또는 비공역 디엔 등의 다중 불포화 화합물, 아크릴산, 메타크릴산, 초산비닐 등과의 공중합체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화폴리에틸렌, 염소화폴리프로필렌, 폴리불화비닐리덴, 염화고무, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 염화비닐-에틸렌 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴-초산비닐 삼원공중합체, 염화비닐-아크릴산 에스테르 공중합체, 염화비닐-말레인산 에스테르 공중합체, 염화비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체 등의 할로겐-함유 수지, 석유 수지, 크마론 수지, 폴리스티렌, 폴리초산비닐, 아크릴 수지, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과 다른 단량체(예를 들면, 무수 말레인산, 페닐말레이미드, 메타크릴산 메틸, 부타디엔, 아크릴로니트릴 등)와의 공중합체 (예를 들면, AS 수지, ABS 수지, MBS 수지, 내열 ABS 수지 등), 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐알콜, 폴리비닐 포르말, 폴리비닐부티랄, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리테트라메틸렌테레프탈레이트 등의 직쇄상 폴리에스테르, 방향족계 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리카프로락탐 및 폴리헥사메틸렌 아디파미드(polyhexamethylene adipamide) 등의 폴리아미드, 폴리이미드, 직쇄상 또는 분지상의 폴리카르보네이트, 폴리아세탈, 폴리페닐렌설파이드, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리우레탄, 섬유소계 수지 등의 열가소성 합성 수지, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화폴리에스테르수지 등의 열경화성 수지, 그리고 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합 고무, 스티렌-부타디엔 공중합체 고무, 에틸렌과 프로필렌, 부텐-1 등의 α-올레핀과의 공중합체 고무, 또 에틸렌- α-올레핀 및 에틸리덴노르보르넨, 시클로펜타디엔 등의 비공역 디엔류와의 삼원 공중합체 고무 등의 엘라스토머이어도 무방하고, 이들 수지 및/또는 엘라스토머를 알로이(alloy)화 또는 블렌드한 것도 무방하다.
본 발명의 조성물은 상기 포스파이트 화합물과 함께, 다른 통상의 항산화제, 자외선 흡수제, 안정제 등의 첨가제를 더 함유할 수도 있다.
이들 첨가제로서 특히 바람직한 것은, 페놀계, 유황계, 포스파이트계 등의 항산화제 및 자외선 흡수제, 힌더드 아민(hindered amine)계 광안정제 등을 들 수 있다.
상기 페놀계 항산화제로는 예를 들면, 2,6-디 t-부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 스테아릴(3,5-디 t-부틸-4-히드록시페닐)-프로피오네이트, 디스테아릴(3,5-디t-부틸-4-히드록시벤질)포스포네이트, 티오디에틸렌글리콜비스[(3,5-디t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 1,6-헥사메틸렌비스[(3,5-디t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 1,6-헥사메틸렌비스[(3,5-디t-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산 아미드], 4,4'-티오비스(6-t-부틸-m-크레졸), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 비스[3,3-비스(4-히드록시-3-t-부틸페닐)부티릭애시드]글리콜에스테르, 4,4'-부틸리덴비스(6-t-부틸-m-크레졸), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4-s-부틸-6-t-부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 비스[2-t-부틸-4-메틸-6-(2-히드록시-3-t-부틸-5-메틸벤질)페닐]테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-히드록시-4-t-부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디t-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디t-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리스[(3,5-디t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 테트라키스[메틸렌-3(3',5'-디t-부틸-4'-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 2-t-부틸-4-메틸-6-(2-아크릴로일옥시-3-t-부틸-5-메틸벤질)페놀, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트] 등을 들 수 있다.
또, 상기 유황계 항산화제로서는, 예를 들면, 티오디프로피온산디라우일, 디미리스틸, 디스테아릴 등의 디알킬티오디프로피오네이트류 및 펜타에리쓰리톨테트라(β-도데실메르캅토프로피오네이트) 등의 폴리올의 β-알킬메르캅토프로피온산 에스테르류를 들 수 있다.
또한, 상기 포스파이트계 항산화제로서는, 예를 들면, 트리스노닐페닐포스파이트, 트리스(2,4-디t-부틸페닐)포스파이트, 트리스[2-t-부틸-4-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐티오)-5-메틸페닐]포스파이트, 트리데실포스파이트, 옥틸디페닐포스파이트, 디(데실)모노페닐포스파이트, 디(트리데실)펜타에리쓰리톨디포스파이트, 디스테아릴펜타에리쓰리톨디포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리쓰리톨디포스파이트, 비스(2,4-디t-부틸페닐)펜타에리쓰리톨디포스파이트, 비스(2,6-디t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리쓰리톨디포스파이트, 테트라(트리데실)이소프로필리덴디페놀디포스파이트, 테트라(트리데실)-4,4'-n-부틸리덴비스(2-t-부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-t-부틸페닐)부탄트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디t-부틸페닐)비페닐렌디포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디t-부틸페닐)(옥틸)포스파이트 등을 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제로서는 예를 들면, 2,4-디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-히드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-히드록시벤조페논류; 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3', 5'-디t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3', 5'-디t-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디큐밀페닐)-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-t-옥틸-6-벤조트리아졸릴)페놀 등의 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸류; 페닐살리실레이트, 레조르실노르모노벤조에이트, 2,4-디t-부틸페닐-3',5'-디t-부틸-4'-히드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-디t-부틸-4-히드록시벤조에이트 등의 벤조에이트류; 2-에틸-2'-에톡시옥자닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥자닐리드 등의 치환 옥자닐리드류; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트류를 들 수 있다.
또한, 상기 힌더드 아민(hindered amine)계 광안정제로는, 예를 들면, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜스테아레이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜스테아레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)도데실호박산이미드, 1-[(3,5-디t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜- (3,5-디t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타매틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)·디(트리데실)부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-팬타메틸-4-피페리딜)·디(트리데실)부탄테트라카르복실레이트, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피폐리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 3,9~비스[1,1-디메틸-2-{트리스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시}에틸-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]-운데칸, 1,5,8,12-테트라키스[4,6-비스{N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)부틸아미노}-1,3,5-트리아진-2-일]-1,5,8,12-테트라아자드데칸, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/호박산디메틸축합물, 2-t-옥틸아미노-4,6-디클로로-s-트리아진/N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민 축합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민/디브로모에탄 축합물 등을 들 수 있다.
본 발명의 조성물은 그외에 필요에 따라 중금속 불활성화제, 조핵제(造核劑), 금속 비누(metallic soap), 유기 주석화합물, 가소제, 에폭시화합물, 발포제, 대전방지제, 난연제, 윤활제, 가공보조제 등을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 합성 수지 조성물은 농업용 자재, 자등차용 도료 및 내외장재 등의 장기간에 걸쳐 고도의 내후성이 요구되는 용도 혹은 식품포장용도, 의료용도 등의 방사선이 조사되는 용도에도 바람직하게 이용될 수 있으며, 예를 들면 필름, 섬유, 테이프, 시트, 각종 성형재료, 도료, 락커용 결합제, 접착제, 퍼티(putty) 및 사진재료를 위한 기재 등에도 사용될 수 있다.
아래에 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다. 그러나, 본 발명이 이들 실시예에만 국한되는 것을 아니다.
합성예
화합물 No 1의 합성
2,2'-메틸렌비스(4,6-디t-아밀페놀) 19.2g(47밀리몰) 및 탄화수소계 용매 (나프텐계 탄화수소 26.4%, 파라핀계 탄화수소 58.0% 및 방향족 탄화수소 15.6%로 이루어져 있고, 비등점이 154 - 197℃ : 엑손-가가쿠 제품 (엑손나후사 No. 5) 50㎖에 트리에틸아민 1g (10밀리몰)을 첨가하고, 60℃에서 교반하에 삼염화인 7.1g(52밀리몰)을 1시간에 걸쳐 적가하였다. 반응액을 135℃까지 가열한 후, 6시간동안 유지한 후, 감압하고 과잉의 삼염화인을 제거하였다. 30℃까지 냉각하고 비스페놀 A 5.34g (23밀리몰)을 가하고, 교반 후 100℃에서 트리에틸아민 5.75g(56밀리몰)을 2시간에 걸쳐 적가하고, 120℃에서 12시간동안 반응시켰다. 냉각 후에, 생성된 트리에틸아민염산염을 분리하고, 용매를 120℃에서 30㎖를 감압증류제거하여, 융점이 188 - 190℃인 백색 분말 17.9g (수율 69%)을 얻었다.
실시예 1
표 3에 나타낸 시험 화합물(인계 산화방지제)를 각각 3g씩 샤레에 넣어 칭량하고, 온도 50℃, 습도 100%의 데시케이터안에 넣고 2일마다 중량을 측정하고, 3% 이상의 중량증가가 관찰될 때까지의 일수를 내가수분해성(耐加水分解性)으로서 평가하였다.
그 결과를 표 3에 나타내었다.
비교화합물로서, 아래의 화합물을 이용하였다. 또, 비교화합물 3과 4의 R은t- 부틸 또는 t- 아밀을 나타낸다.
실시예 2
시차열분석 (승온속도 10℃/분, 공기 150㎖/분)을 이용하여 표 3에 나타낸 시험화합물의 중량감소온도를 측정하고, 20% 중량감소온도를 내열성으로 하여 평가하고, 그 결과를 표 3에 나타내었다.
실시예 3
고온가공시의 안정화 효과를 알아보기 위하여, 하기 표 1의 배합물을 혼합한 후, 300℃에서 압출가공하였다. 압출 회수 1회 또는 5회의 컴파운드를 이용하여 그의 멜트인덱스를 측정하고, 5회/1회의 멜트인덱스의 비율에 의해 가공안정성을 평가하였다.
그 결과를 표 3에 나타내었다.
실시예 4
하기 표 2의 배합물을 150℃에서 5분간 믹싱롤을 이용하여 혼련하고, 이어서 150℃, 180kg/㎠의 조건에서 5분간 압축성형을 행하여, 두께 1.0mm의 시트를 작성하 였다. 그 시트를 10×20mm의 시험편으로서, 온도 80℃, 습도 100%의 데시케이터안에서 7일간 보존한 후의 시트의 표면을 현미경으로 관찰하였다. 블루밍성(blooming)을 5단계 (1 : 블루밍이 관찰되지 않음 ~ 5 : 시트 표면 전체에 걸쳐 블루밍이 관찰됨)로 평가하였다.
그 결과를 표 3에 나타내었다.
실시예 5
하기 표 4의 배합물을 200℃에서 압출가공하여 펠랫을 제작하고, 이 펠렛을 사용하여 230℃에서 인젝션가공하여 시험편을 작성하였다. 이 시험편을 135℃의 기어 오븐(gear oven) 중에서 48시간동안 가열한 후 시험편의 20℃에서의 아이조드 충격치를 측정하고, 가열전의 시험핀의 아이조드 충격치와 비교하여 잔율(殘率)을구하였다.
그 결과를 표 5에 나타내었다.
실시예 6
하기 표 6의 배합물을 260℃에서 프레스하여 두께 1.0mm의 무색의 시험편을 작성하였다. 이 시트를 이용하여 230℃의 기어 오븐에서 30분간 가열하기 전후의 시험편의 변색을 관찰하였다. 평가기준은 10단계로서, 1이 전혀 착색이 없는 상태를 나타내고, 수치가 커질수록 착색이 많이 된 것을 의미한다.
그 결과를 표 7에 나타내었다.
실시예 7
하기 표 8의 배합물을 혼련 롤에 의해 가공하여, 두께 1mm의 시트를 작성하였다. 이 시트를 이용하여 190℃의 기아 오븐에서 열안정성 시험을 행하였다. 또한, 내후성 측정기에 의해 내후성의 시험을 행하였다.
그 결과를 표 9에 나타내었다.
상기 표 3으로부터 명백하게 알 수 있듯이, 본 발명의 포스파이트 화합물은 내가수분해성, 내열성, 가공안정성 및 블루밍성 등의 제 성능도 우수하고, 특히 블루밍성에 있어서 우수하다.
이에 반하여, 비교화합물 1, 2 및 4의 환상 포스파이트에 트리아릴포스파이트 구조를 갖는 것은 내가수분해성 및 내열성은 우수하지만, 가공안정성 및 블루밍성이 나쁘다. 또, 비교화합물 3은 R이 t-부틸기인 것이 가공안정성이 우수하지만 내가수분해성, 내열성 및 블루밍성 등의 성능이 좋지 않다.
이와 같이, 본 발명의 특정의 포스파이트 화합물 (인계 산화방지제)를 합성수지에 첨가하면, 고온가공이나 습한 분위기에서의 사용에 있어서도 성능의 저하가 적고, 가공안정성과 블루밍성이 우수한 합성 수지 조성물을 얻을 수 있다.

Claims (8)

  1. 하기 일반식 (I)로 표시되는 포스파이트 화합물.
    (식중, R1은 수소원자 또는 메틸기를,
    R2는 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를,
    R3은 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를, 그리고
    X는 탄소수 1~8의 알킬리덴기를 나타낸다)
  2. 제 1항에 있어서, R1, R2및 R3가 수소원자인 것임을 특징으로 하는 포스파이트 화합물.
  3. 제 2항에 있어서, X가 이소프로필리덴기인 것임을 특징으로 하는 포스파이트 화합물.
  4. 합성 수지 100중량부에 대하여, 하기 일반식 (I)로 표시되는 포스파이트 화합물을 0.005~5중량부의 양으로 함유함을 특징으로 하는 안정화된 합성수지 조성물.
    (식중, R1은 수소원자 또는 메틸기를,
    R2는 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를,
    R3은 수소원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를, 그리고
    X는 탄소수 1~8의 알킬리덴기를 나타낸다)
  5. 제 4항에 있어서, 합성수지가 폴리올레핀 수지인 것을 특징으로 하는 합성 수지 조성물.
  6. 제 5항에 있어서, 합성 수지가 폴리프로필렌인 것을 특징으로 하는 합성 수지 조성물.
  7. 제 4항에 있어서, 일반식 (I)중의 R1, R2및 R3가 수소원자인 포스파이트 화합물을 포함함을 특징으로 하는 합성 수지 조성물.
  8. 제 7항에 있어서, 일반식 (I)중의 X가 이소프로필리덴기인 포스파이트 화합물을 포함함을 특징으로 하는 합성 수지 조성물.
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