KR100252851B1 - 감광제 도포장비의 감광제 경화장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 감광제 도포장비에서 웨이퍼의 표면에 도포된 감광제(P/R)를 열에 의해 경화시키는 감광제 경화장치에 관한 것으로 열전도에 의해 감광제를 경화시키지 않고 복사열에 의해 경화시킬 수 있도록 그 구성을 개선하여 감광제를 균일한 두께로 경화시킴과 동시에 경화온도의 조절작업이 용이해지도록 한 것이다.

이를 위해, 웨이퍼(1)의 로딩 및 언로딩이 가능하도록 일부가 개폐가능하며 공정 진행시에는 공간부(4)가 밀폐되는 챔버(3)와, 상기 챔버내에 회전가능하게 설치되며 상부에는 웨이퍼의 테두리부분을 지지하는 안착편(6)이 고정된 턴테이블(5)과, 상기 턴테이블을 회전시키는 구동수단과, 상기 턴테이블의 상부에 설치되어 전원이 인가됨에 따라 발열하는 히팅판(9)과, 상기 히터판의 발열온도를 조절하는 온도조절기(10)로 구성되어 있어 코팅된 감광제의 두께가 균일해지게 됨은 물론 경화에 따른 챔버내의 온도조절작업이 용이해지게 된다.

Description

감광제 도포장비의 감광제 경화장치

본 발명은 감광제 도포장비에 관한 것으로써, 좀 더 구체적으로는 웨이퍼의 표면에 도포된 감광제(P/R)를 열에 의해 경화시키는 감광제 경화장치에 관한 것이다.

일반적으로 감광제 도포장비는 로딩부측에 웨이퍼를 예열하는 프리 베이크 플레이트 및 예열된 웨이퍼를 상온으로 냉각시키는 냉각 플레이트가 인라인으로 설치되어 있고 상기 냉각 플레이트의 일측에는 냉각 플레이트에서 상온상태로 냉각된 웨이퍼의 표면에 감광제를 도포하는 코팅챔버가 설치되어 있다.

상기 코팅챔버의 내부에는 모터의 구동에 의해 웨이퍼를 회전시키는 턴테이블이 설치되어 있고 상기 턴테이블의 상부 일측에는 웨이퍼의 상면으로 액체상태의 감광제를 분사시키는 분사노즐이 설치되어 있다.

그리고 상기 코팅챔버의 일측에 감광제가 도포된 웨이퍼를 가열하여 경화시키는 소프트 베이크 플레이트가 설치되어 있고 상기 소프트 베이크 플레이트의 일측에는 감광제의 도포작업이 완료된 웨이퍼를 다음 공정으로 언로딩하는 언로딩부가 위치되어 있다.

따라서 로딩부에 있던 1개의 웨이퍼가 트랜스퍼(transfer)에 의해 프리 베이크 플레이트의 상면으로 이송되어 얹혀져 설정된 온도까지 예열되고 나면 예열된 웨이퍼를 냉각 플레이트의 상면으로 이송하여 상온으로 냉각시킨다.

그 후, 상온으로 냉각된 웨이퍼를 코팅챔버의 내부에 설치된 턴테이블의 상면으로 이송시킨 상태에서 상기 턴테이블을 회전시키면서 분사노즐을 통해 액체상태의 감광제를 웨이퍼의 상면에 도포하게 된다.

이와 같이 감광제의 도포작업이 완료되고 나면 웨이퍼의 상면에 도포된 감광제를 경화시키기 위해 웨이퍼를 소프트 베이크 플레이트의 상면으로 이송시켜 설정된 온도로 설정된 시간동안 경화시킨 다음 언로딩부로 이송시키게 되므로 감광제의 도포작업이 완료된다.

상기한 바와 같이 감광제를 도포하는 감광제 도포장비에서 프리 베이크 플레이트 및 소프트 베이크 플레이트에서 웨이퍼를 예열할 때 도 1에 나타낸 바와 같이 웨이퍼(1)를 상,하이동하는 금속재의 플레이트(2)상면에 올려 놓고 예열을 하였기 때문에 도포된 감광제의 두께가 불균일해지는 문제점이 발생되었다.

즉, 가열된 플레이트(2)의 상면에 웨이퍼(1)를 올려 놓고 열전도에 의해 도포된 감광제를 경화시키므로 플레이트의 온도편차(중심부의 온도가 주변부의 온도보다 높음)로 인해 도포된 감광제의 두께가 불균일해지는 경우가 빈번히 발생되었음은 물론 플레이트(2)의 온도조절작업이 어려워 균일한 두께의 도포막을 얻을 수 없게 되었다.

본 발명은 종래의 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로써, 열전도에 의해 감광제를 경화시키지 않고 복사열에 의해 경화시킬 수 있도록 그 구성을 개선하여 감광제를 균일한 두께로 경화시킴과 동시에 경화온도의 조절작업이 용이해지도록 하는데 그 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 형태에 따르면, 웨이퍼의 로딩 및 언로딩이 가능하도록 일부가 개폐가능하며 공정 진행시에는 공간부가 밀폐되는 챔버와, 상기 챔버내에 회전가능하게 설치되며 상부에는 웨이퍼의 테두리부분을 지지하는 안착편이 고정된 턴테이블과, 상기 턴테이블을 회전시키는 구동수단과, 상기 턴테이블의 상부에 설치되어 전원이 인가됨에 따라 발열하는 히팅판과, 상기 히터판의 발열온도를 조절하는 온도조절기로 구성된 감광제 도포장비의 감광제 경화장치가 제공된다.

도 1은 종래의 장치를 나타낸 분해 사시도

도 2는 본 발명의 일 실시예를 나타낸 종단면도

도 3은 본 발명의 요부를 나타낸 분해 사시도

도 4는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 종단면도

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

3 : 챔버 4 : 공간부

5 : 턴테이블 6 : 안착편

7 : 모터 8 : 구동풀리

9 : 히팅판 10 : 온도조절기

11 : 격판

이하, 본 발명을 일 실시예로 도시한 도 2 내지 도 4를 참고하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 2는 본 발명의 일 실시예를 나타낸 종단면도이고 도 3은 본 발명의 요부를 나타낸 분해 사시도이며 도 4는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 종단면도로써, 본 발명은 웨이퍼(1)의 로딩 및 언로딩이 가능하도록 도어(도시는 생략함)가 개폐가능하게 설치된 챔버(3)의 공간부(4)내에 웨이퍼(1)를 회전시키는 턴테이블(5)이 구동수단에 의해 회전가능하게 설치되어 있고 상기 턴테이블의 상면에는 웨이퍼의 테두리부분을 지지하는 안착편(6)이 고정되어 있는데, 상기 웨이퍼(1)는 안착편(6)에 형성된 요입홈(6a)내에 끼워져 턴테이블(5)의 회전시 안착편에서 이탈되지 않는다.

상기 웨이퍼(1)의 테두리부분을 지지하는 안착편(6)을 턴테이블(5)의 원주면을 따라 최대한 1/2이하가 되게 형성하여야 웨이퍼의 로딩 및 언로딩작업이 가능하다.

그리고 상기 안착편(6)을 단일편으로 형성하여도 되지만, 웨이퍼(1)의 테두리부분과의 접촉면적을 최소화하기 위해 분할 형성하는 것이 보다 바람직하다.

또한, 상기 턴테이블(5)을 회전시키는 구동수단이 본 발명의 일 실시예에서는 챔버(3)내에 고정 설치된 모터(7)와, 상기 모터의 구동에 따라 턴테이블의 외주면과 접속된 상태로 회전하는 구동풀리(8)로 구성되어 있다.

그리고 상기 턴테이블(5)의 상부에는 전원이 인가됨에 따라 발열하는 히팅판(9)이 설치되어 있어 챔버(3)의 외부로 노출되게 설치된 온도조절기(10)의 조작에 따라 설정된 온도로 발열하도록 되어 있다.

도 4는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 종단면도로써, 감광제가 도포된 다수매의 웨이퍼(1)를 챔버(3)내에 동시에 로딩하여 경화시킬 수 있도록 구성한 것이다.

즉, 챔버(3)내에 턴테이블(5)과 구동수단 그리고 히팅판(9)을 다단으로 설치하고 다단으로 설치되는 턴테이블과 구동수단 그리고 히팅판사이에는 이들을 격리시키기 위한 격판(11)을 설치하여 각각 독립적으로 웨이퍼(1)의 표면에 도포된 감광제를 경화시키도록 구성되어 있다.

이와 같이 구성된 본 발명의 작용을 설명하면 다음과 같다.

먼저, 코팅챔버에서 소정의 두께로 감광제가 도포된 웨이퍼(1)가 이송수단에 의해 전면이 개방된 챔버(3)의 내부로 이송되어 턴테이블(5)의 상면에 로딩되면 상기 웨이퍼의 가장자리(edge)가 안착편(6)의 요입홈(6a)내에 끼워져 지지된다.

이러한 상태에서 구동수단인 모터(7)에 전원이 인가되어 모터가 구동하면 상기 모터축에 고정된 구동풀리(8)가 턴테이블(5)의 외주면과 접속된 상태로 회전하게 되므로 턴테이블이 설정된 회전수로 회전되기 시작한다.

이와 같이 웨이퍼(1)가 로딩된 턴테이블(5)이 회전하는 상태에서 챔버(3)의 외부로 노출된 온도조절기(10)를 조작하여 감광제의 경화온도를 설정하면 챔버내의 히팅판(9)이 설정된 온도로 발열하게 되므로 공기의 복사열로 챔버(3)내의 온도분포가 균일해지게 되고, 이에 따라 상기 웨이퍼의 표면에 도포된 감광제가 균일한 두께로 경화되는 것이다.

한편, 다른 실시예로 나타낸 도 4와 같이 1개의 챔버(3)내에 다수개의 웨이퍼(1)를 로딩한 상태에서 감광제 경화작업의 실시가 가능하므로 생산성의 극대화를 꾀할 수 있게 된다.

이상에서와 같이 본 발명은 플레이트와의 접촉에 따른 전도열이 아닌 공기의 복사열에 의해 웨이퍼에 도포된 감광제를 경화시키게 되므로 도포된 감광제의 두께가 균일해지게 됨은 물론 경화에 따른 챔버내의 온도분포가 균일하므로 온도조절작업이 용이해지게 되는 효과를 얻게 된다.

Claims (3)

1. 웨이퍼의 로딩 및 언로딩이 가능하도록 일부가 개폐가능하며 공정 진행시에는 공간부가 밀폐되는 챔버와, 상기 챔버내에 회전가능하게 설치되며 상부에는 웨이퍼의 테두리부분을 지지하는 안착편이 고정된 턴테이블과, 상기 턴테이블을 회전시키는 구동수단과, 상기 턴테이블의 상부에 설치되어 전원이 인가됨에 따라 발열하는 히팅판과, 상기 히터판의 발열온도를 조절하는 온도조절기로 구성된 감광제 도포장비의 감광제 경화장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   턴테이블을 회전시키는 구동수단이 챔버내에 고정 설치된 모터와, 상기 모터의 구동에 따라 턴테이블의 외주면과 접속된 상태로 회전하는 구동풀리인 감광제 도포장비의 감광제 경화장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   챔버내에 턴테이블과 구동수단 그리고 히팅판을 다단으로 설치하고 다단으로 설치되는 턴테이블과 구동수단 그리고 히팅판사이에는 이들을 격리시키기 위한 격판을 설치하여서 된 감광제 도포장비의 감광제 경화장치.

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