KR100197645B1 - 소수성 섬유재료의 염색 또는 날염에 유용한 벤조디푸라논 화합물의 제조방법 - Google Patents

소수성 섬유재료의 염색 또는 날염에 유용한 벤조디푸라논 화합물의 제조방법 Download PDF

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고사이 아끼오
스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

다음 일반식의 벤조디푸라논 화합물은 소수성 섬유 재료의 염색 및 날염에 유용하며,
Figure kpo00001
(상기식에서, R1과 R2는 각기 독립적으로 나프틸기 또는 비치환 또는 치환 페닐기이다) 다음 일반식의 벤조푸란 화합물을
Figure kpo00002
(상기식에서, R1은 나프탈기 또는 비치환 또는 치환 페닐기이다.) 다음 일반식의 아세토니트릴 화합물과 반응시키고
Figure kpo00003
(상기식에서, R2은 나프틸기 또는 비치환 또는 치환 페닐기이다.) 이어서 산화반응 시킴으로써 고수율 및 고순도로 제조된다.

Description

소수성 섬유 재료의 염색 또는 날염에 유용한 벤조디푸라논 화합물의 제조방법
본 발명은 벤조디푸라논 화합물의 제조방법에 관한 것이며, 더욱 상세히는 소수성 섬유재료, 예를 들면 폴리에스테르섬유 또는 이 섬유를 함유한 섬유 재료를 적색으로 염색 또는 날염함에 유용한 벤조디푸라논 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
소수성 섬유 재료의 염색 또는 날염에 유용한 여러 종류의 벤조디푸라논 화합물과 이들 화합물을 제조하는 방법이, 예를 들면 일본국 JP61-54058호, 동 1-258677호 그리고 동 1-36859호에 기술되어 있다. 또한 출발 물질의 하나로서 만델산 화합물을 사용하는 제법과 그리고 출발 물질로서 페닐글리옥실산 화합물을 사용하는 제법이 제안된 바 있다(일본국 JP60-178889호 및 유럽 특허출원 제252,406호).
그러나, 이들 공지 방법들은 모두 경제적인 관점에서 볼때 아직 만족한 것은 아니다.
본 발명의 발명자는 벤조디푸라논 화합물을 상업적으로 제조하는 방법을 찾기 위해 광범위한 연구를 하고, 이 결과로서 본 발명을 이룩하게 되었다.
본 발명은 다음 일반식(II)의 벤조푸란 화합물을 다
Figure kpo00004
(상기 식에서, R1은 나프틸기 또는 치환 또는 비치환 페닐기이다)
다음 일반식(III)의 아세토니트릴 화합물과 반응시키고
Figure kpo00005
(상기 식에서, R2는 나프틸기 또는 비치환 또는 치환 페닐기이고, L은 -COR3, -CO2R4또는 -SO2R5이고, 여기서 R3, R4, R5는 각기 독립적으로 알킬 또는 페닐기이다)
이어서 산화반응시켜 되는 다음 일반식(I)의 벤조디푸라논 화합물의 제조방법을 제공한다.
Figure kpo00006
상기 식에서 R1과 R2는 각기 독립적으로 나프틸기 또는 비치환 또는 치환 페닐기이다.
또한, 본 발명은 일반식(I)의 벤조디푸라논 화합물로 소수성 섬유재료 또는 이를 함유한 섬유 재료의 염색 및 날염 방법을 제공한다.
상기한 일반식(I)에서, R1그리고/또는 R2로 표시되는 페닐은 니트로, 할로, 알킬, 알콕시, 페닐, 알콕시페닐, 페녹시, 히드록실, 시아노, 카르복실, 알콕시카르보닐, 페녹시카르보닐, 카르바모일, 술포, 클로로술포닐, 알콕시술포닐, 페녹시술포닐, 술파모일, 머캅토, 알킬티오, 페닐티오, 아미노, 알킬아미노, 아크릴아미노, 포스포, 알킬포스포닐, 페닐포스포닐, 알킬술포닐, 페닐술포닐, 포밀, 아조 그리고 다음의 일반식(i) 또는 (ii)에 의해 표시되는 그룹의 적어도 하나의 기에 의해 치환된 또는 비치환된 페닐기를 함유한다:
Figure kpo00007
Figure kpo00008
상기 식에서, R6는 메틸렌기 또는 히드록실기, 알콕시기 또는 알킬카르보닐옥시기에 의해 치환될 수 있는 곧은 또는 가지난 C2-C6알킬렌기이고, X1은 직접결합 또는 -O-, -S-, -SO-, SO2-,
Figure kpo00009
(여기에서 R8은 수소 원자 또는 알킬기이다),
Figure kpo00010
또는
Figure kpo00011
(여기서 R8은 상술한 것과 같다), X2는 -O- 또는
Figure kpo00012
이고(여기서 R8은 상술한 것과 같다), T 및 U는 각기 독립적으로 수소원자 또는 알킬기이고, ℓ은 0 또는 1 내지 3의 정수이고, Q는 비치환 또는 치환된 5-, 6-또는 7-원 포화 또는 불포화 이종고리잔기이고, R7은 알킬기이고, X3은 -O- 또는 -S-이고, X4는 -O- 또는이고 여기서 R8은 살술한 것과 같다), V및 W는 각기 독립적으로 수소 원자 또는 알킬기이고, m은 1내지 3의 정수이고, n은 m+n이 적어도 2라는 조건으로 0 또는 1이다.
R1그리고/또는 R2에 의해 표시되는 페닐기에 임의로 부착된 치환체에서, 알킬, 알콕시 그리고 알킬아미노, 알킬티오, 알킬술포닐, 알킬포스포닐, 알콕시카르보닐, 알킬술포닐 및 알킬페닐기내의 이들의 부분은 탄소수 1내지 4를 가지는 것들이다. 또한, 이들은 클로로, 브로모, 플루오로 등과 같은 할로기, C1-C4알콕시기, 페닐기, C1-C4알콕시페닐기, 페녹시기, 히드록시기 또는 시아노기에 의해 더 치환될 수 있다.
페닐기에 임의로 부착된 페닐 그리고 페녹시, 페녹시카르보닐, 페녹시술포닐, 페닐포스포닐 및 페닐티오기내의 페닐 부분은 클로로, 브로모, 플루오로 등과 같은 할로기 및 니트로기에 의해 치환 또는 비치환 될 수 있다.
아실아미노기는 포밀아미노기, 아세틸아미노기, 프로피오닐아미노기, 부티릴아미노기, 발레일아미노기와 같은 C1-C4아실아미노기, 아크릴로아미노기 그리고 벤조일아미노기를 포함한다.
Q로 표시되는 불포화 이종원자 고리 잔기는 각기 다음 구조식으로 표시되는 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 피리딜, 피라닐, 티아졸릴, 옥사졸릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 티아디아졸릴, 그리고 S-트리아조일의 그룹을 포함한다.
Figure kpo00014
Q로 표시되는 포화 이종원자 고리 잔기는 다음 구조식으로 표시되는 것을 포함한다.
Figure kpo00015
이들중, 바람직한 것으로는 테트라히드로푸릴, 테트라히드로티에닐, 피롤리딜, 피페리딜, 테트라히드로피라닐, 피페라지닐, 몰폴리닐 및 헥사히드로아제피닐이고, 그리고 특히 바람직한 것은 테트라히드로푸릴, 피롤리딜, 피페리딜, 테트파히드로피라닐 및 몰폴리닐이다.
본 발명의 이종원자 고리 잔기는 다음에 예시한 것을 형성하기 위해서 벤젠 또는 이종원자 고리와 축합될 수 있다.
Figure kpo00016
Figure kpo00017
이들중, 바람직한 것은 벤조푸라닐, 벤조티에닐, 인돌릴, 벤조옥사졸릴, 벤조이미다졸릴 및 벤조티아졸릴과 같은 벤젠 고리와 축합된 것들이다.
상술한 이종원자 잔기는 플루오로, 클로로 및 브로모와 같은 할로기, 히드록실, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알킬카르보닐, C1-C4알콕시카르보닐, 시아노, C1-C4알킬 또는 케토기로 비치환 또는 치환된 일차, 이차 또는 삼차아민 하나 또는 두개로 비치환 또는 치환된다.
예를 들어, 일본국 JP 60-17889와 유럽 특허출원 제252406호에서 언급된 일반식(II)의 벤조푸란 화합물은 히드로퀴논과 다음 일반식(IV)의 글리콜산 화합물과 반응시켜서 제조한다:
Figure kpo00018
상기 식에서, R1은 상술한 것과 같다. 히드로퀴논과 글리콜산 화합물 사이의 반응은 73% 황산 또는 황산과 아세트산의 혼합물 중에서 바람직하게 수행된다[Britrzzcki and Flateau, Ber., 30, 124 1897].
일반식(III)의 아세토니트릴 화합물은 다음 일반식(V)의 알데히드를
Figure kpo00019
(상기 식에서 R2는 상술한 것과 같다)
다음 일반식(VI)로 표시되는 산할로겐화물의 존재하에
Figure kpo00020
(상기 식에서 L은 상술한 것과 같고, Hal은 할로기이다)
시안화칼륨, 시안화나트륨 등과 같은 금속시안화물과 반응시켜서 제조한다.
일반식(III) 및 (VI)중의 기호 L은 바람직하기로는 아세틸, 에틸카르보닐, n- 또는 이소-프로필카르보닐, n-, 이소- 또는 3급-부틸카르보닐 및 유사물과 같은 알킬카르보닐기, 벤조일, o-, m- 또는 p-메틸벤조일, o-, m- 또는 p-메독시벤조일, o-, m- 또는 p-니트로벤조일 및 유사물과 같은 페닐카르보닐기, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, n- 또는 이소-프로폭시카르보닐, n-, 이소- 또는 3급-부톡시카르보닐 및 유사물과 같은 알콕시카르보닐기, 벤젠옥시카르보닐, p-메틸벤젠옥시카르보닐, p-니트로벤젠옥시카르보닐 및 유사물과 같은 페녹시카르보닐기, 메탄술폰, 에탄술폰, n- 또는 이소-프로판술포닐, n- 또는 이소-부탄술포닐 및 유사물과 같은 알칸술포닐기, 벤젠술포닐, p-메틸벤젠술포닐, 4-메틸-2-니트로벤젠술포닐 및 유사물과 같은 페닐술포닐기이다.
벤조푸란 화합물(II)과 아세토니트릴 화합물(III)의 반응은 용매의 존재 또는 부재하에, 바람직하기는 용매의 존재하에, 30 내지 180℃, 바람직하기는 50 내지 120℃의 온도범위내에서 당량적으로 수행된다.
반응에 사용될 수 있는 용매는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌, 모노-, 디, 트리-클로로벤젠, 브로모벤젠, 클로로나프탈렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2,2-테트라 클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 디클로로메탄, 클로로폼, 카본테트라클로리드, 브로모폼 및 저비점 석유 유분과 같은 탄화수소 그리고 할로겐화 탄화수소; 니트로벤젠, 니트로톨루엔 그리고 니트로메탄과 같은 니트로탄화수소; 메틸이소부틸케톤 및 술포란과 같은 케톤; 포름산, 아세트산, 프로피온산 및 아세트산 무수물과 같은 알칸카르복실산 및 이들의 무수물이다. 이들중, 바람직한 것은 톨루엔, 모노클로로벤젠, 디클로롤벤젠, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2,2,-테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 디클로로메탄 및 클로로폼과 같은 방향족 탄화수소와 할로겐화 탄화수소이다.
화합물(II)와 화합물(III)의 반응은 산 촉매의 존재하에 양호히 수행된다. 산 촉매의 예로서는 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산 및 벤젠-m-디술폰산과 같은 비치환 또는 치환된 벤젠술폰산;
메탄술폰산과 같은 알칸술포산; 트리플루오로아세트산과 같은 할로겐화 저급 카르복실산; 사염화티탄, 염화알루미늄, 염화 제1주석, 염화 제2주석, 염화 제1철, 염화 제2철, 염화아연 그리고 플루오로화 붕소와 같은 루이스산; 황산 및 염산과 같은 광산이다. 산 촉매의 양은 제한없이 사용할 수 있으나. 바람직하기는 0.5 몰 또는 그 이상이고, 더욱 바람직하기는 0.8 내지 2몰이고, 가장 바람직하기는 0.9 내지 1.5몰/벤조푸란 화합물(II)이다.
벤조푸란 화합물(II)과 아세토니트릴 화합물(III)의 반응에 의해 수득된 생성물은 요망될 때에는 분리할 수 있다. 본 발명에서는 생성물은 분리하지 않고, 계속해서 산화반응시킨다.
산화반응은 바람직하기로는 용매의 존재하에 30 내지 180℃, 바람직하기는 40 내지 100℃의 온도에서 수행된다. 화합물(II)와 (III)의 반응에서 사용될 수 있는 상술한 용매는 또한 산화반응에도 사용될 수 있다.
산화반응을 촉진하기 위해서, 산화제가 바람직하게 사용된다. 산화제의 예로서는 클로라닐, 브로마닐, 티오황산염, 아질산염, 하이포아염소산염, 아염소산염, 염소산염, 과염소산염, 과황산염, 과요드산염, 과붕산염, 과망간산염, 바나덴산염, 디크로산염, 질산요드, 테트라클로로히드로퀴논, 이산화납, 이산화망간, 오산화바나듐, 니트로벤젠, 디시아노디클로벤조퀴논, 과산화수소 및 공기이다. 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용될 수 있으며, 바람직하기는 둘 또는 셋의 혼합물이 사용된다. 더욱 바람직하기는 하나의 아질산염과 클로라닐, 브로마닐 및 디시아노디클로로벤젠퀴논으로부터 선택되는 하나와의 혼합물이다. 특히 바람직한 것은 아질산나트륨과 클롤라닐과의 혼합물이다. 산화제는 화학량론 또는 그 이상이 사용된다.
산화반응이 종료된 후에, 일반식(I)의 요망되는 벤조디푸라논 화합물은 통상의 방법으로 반응 혼합물에서 분리된다. 예를 들면, 저급 알칸올과 같은 친수성 용매를 반응 혼합물에 가해서 요망되는 반응 생성물을 침전시키고, 이어서 여과를 한다.
일반식(I)의 벤조디푸라논 화합물은 폴리에스테르 섬유 재료와 같은 소수성 섬유재료, 트리아세테이트 섬유 재료, 디아세테이트 섬유 재료 그리고 폴리아세테이트 섬유 재료, 특히 폴리에스테르 섬유 재료의 염색 또는 날염용 분산 염료로서 유용하다.
염색은 벤조디푸라논 혼합물을 나프탈렌술폰산/포름알데히드 축합물, 리그닌 술폰산 또는 유사물의 조제와 함께 수성매체내에서 미세하게 분쇄하여 액체 염료 분산액을 만들어서 실시한다.
액체 염료 분산액은 그대로 사용될 수도 있으며 분무 건조기로 분말 형태로 건조하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 소수성 섬유 재료를 수성 염료조내에 담그고, 이어서 105℃ 또는 그 이상의 온도, 바람직하게는 110 내지 140℃에서 가압하에 30 내지 60분 가열하여서 되는 고온 염색법으로 염색을 할 수 있다. 다른 염색법으로는 o-페닐페놀, 메틸나프탈렌 및 유사물과 같은 담체 존재하에 비교적 높은 온도에서, 예를 들면 물의 비점에서 염색을 하는 캐리어 염색법으로 실시하는 방법이다. 또다른 방법은 섬유 재료를 수성 염료 분산액으로 패드하고, 100℃ 또는 그 이상의 온도로 건식 가열하는 터모솔 방법이다.
날염은 수성 염료 분산액을 적합한 페이스트와 혼합하여 착색 페이스트를 만들고, 섬유 재료를 착색페이스트로 날염하고, 이어서 날염된 섬유 재료를 스팀 처리하거나 또는 터모솔 처리를 하여 수행한다.
본 발명에 의한 제조방법으로 요망되는 벤조디푸라논 화합물을 고순도로, 만약 용매가 사용될 경우에는 회수에 어려움 없어, 용이하게 입수할 수 있는 원료를 사용하여 고수율로 얻을 수 있다.
본 발명은 다음의 실시예에 의해 더욱 상세히 설명한다.
그러나 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다. 다음 실시예에서 부와 %는 달리 언급하지않으면 중량 기준이다.
[실시예 1]
1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴(3.37부), 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란(2.26부), p-톨루엔술폰산(2.06부 ) 및 물(0.22부)를 모노클로로벤젠(33부)에 가하고 혼합물을 80℃에서 5시간동안 유지시킨다. 그후, 클로라닐(2.46부)을 반응 혼합물에 가한다. 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 더 유지시킨 후, 실온으로 냉각하고, 메탄올(30부)과 혼합한 다음, 빙냉하에 1시간동안 교반한다.
생성된 결정은 여과기상에 모으고, 메탄올(150부) 및 물(30부)로 세정한 후, 건조하여 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00021
λmas 503mm (디메틸포름아미드)
[실시예 2]
2-에톡시카보닐옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴(3.05부), 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란(2.26부), p-톨루엔술폰산(2.06)부 및 물(0.22부)를 모노클로로벤젠(33부)에 가하고 혼합물을 75℃에서 4시간동안 유지시킨다. 그후, 클로라닐(2.46부)을 반응 혼합물에 가한다. 얻어진 혼합물을 75℃에서 1.5시간 더 유지시킨 후, 실온으로 냉각하고, 메탄올(35부)과 혼합한 다음, 빙냉하에 1시간동안 교반한다.
생성된 결정을 여과기상에 모으고, 메탄올(150부) 및 물(25부)로 세정한 후, 건조하여 다음 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
[실시예 3]
1-벤조일옥시-1-[p-(3-에톡시프로폭시)페닐]-아세토니트릴(3.40부), 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란(2.26부), p-톨루엔술폰산(2.06)부 및 물(0.22부)를 모노클로로벤젠(30부)에 가하고 혼합물을 85℃에서 5시간동안 유지시킨다. 그후, 클로라닐(2.46부)을 반응 혼합물에 가한다. 얻어진 혼합물을 85℃에서 1시간 더 유지시킨 후, 실온으로 냉각하고, 메탄올(30부)과 혼합한 다음, 빙냉하에 1시간동안 교반한다.
생성된 결정을 여과기상에 모으고, 메탄올(140부) 및 물(35부)로 세정한 후, 건조하여 다음 구조식(2)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00022
[실시예 4]
1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴(3.37부), 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란(2.26부), p-톨루엔술폰산(2.06)부 및 물(0.22부)를 모노클로로벤젠(35부)에 가하고 혼합물을 80℃에서 5시간동안 유지시킨다. 그후, 클로라닐(0.24부) 및 아질산 나트륨(0.62부)를 반응 혼합물에 가한다. 얻어진 혼합물을 80℃에서 2시간 더 유지시킨 후, 실온으로 냉각하고, 메탄올(30부)과 혼합한 다음, 빙냉하에 1시간동안 교반한다.
생성된 결정은 여과기상에 모으고, 메탄올(100부) 및 물(30부)로 세정한 후, 건조하여 다음 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
[실시예 5 내지 19]
실시예 1에서 사용된 모노클로로벤젠 대신에 표1에 나타낸 각 용매를 사용하고, 1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴 및 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란 간의 반응을 표1에 기재한 각각의 온도에서 수행하는 것을 제외하고는 실시예 1의 방법을 반복하여 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00023
[실시예 20 내지 25]
1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴 및 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란 간의 반응을 실시예 1에서 사용된 클로라닐 대신에 표2에 기재한 각 산화제를 사용하여 수행하는 것을 제외하고는, 실시예 1의 방법을 반복하여 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00024
[실시예 36 내지 46]
실시예 1에서 사용된 p-톨루엔술폰산 대신에 표3에 나타낸 각 산 촉매를 사용하고, 1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴 및 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란 간의 반응을 표3에 기재한 각 온도에서 수행하는 것을 제외하고는, 실시예 1의 방법을 반복하여 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00025
[실시예 47]
1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴 및 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란 간의 반응을 실시예 1에서 사용된 p-톨루엔술폰산(2.06부) 대신에 표4에 기재한 p-톨루엔술폰산 각각의 양을 사용하여 수행하는 것을 제외하고는 실시예 1의 방법을 반복하여 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00026
[실시예 51 내지 55]
1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴 및 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란 간의 반응을 실시예 4에서 사용한 클로라닐(0.24) 및 아질산 나트륨(0.62부) 대신에 표5에 기재한 클로라닐 및 아질산 나트륨 각각의 양을 사용하여 수행하는 것을 제외하고는, 실시예 4의 방법을 반복하여 구조(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 수득한다.
Figure kpo00027
[실시예 56 내지 58]
실시예 1에서 사용한 1-벤조일옥시-1-(p-테트라히드로푸르푸릴옥시페닐)-아세토니트릴(3.37부) 대신에 표6에 기재한 일반식(III)의 화합물 각각을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1의 방법을 반복하여 구조식(1)의 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00028
[실시예 69 내지 82]
실시예 1의 방법과 유사하게, 표7에 기재한 일반식(III-a)의 상응하는 화합물을 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란과 반응시켜 일반식(I-a)의 각 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00029
Figure kpo00030
[실시예 83 내지 89]
실시예 1의 방법과 유사하게, 표8에 기재한 일반식(III-b)의 상응하는 화합물을 5-히드록시-2-옥소-3-페닐-2,3-디히드로벤조푸란과 반응시켜 일반식(I-b)의 각 화합물을 고순도 및 고수율로 얻는다.
Figure kpo00031
[실시예 90]
실시예 1에서 얻은 구조식(1)의 화합물(1.0부)을 수용성 매질중에서 나프탈렌술폰산/포름알데히드 축합물(3.0부)을 사용하여 잘 분산시킨다. 얻어진 염료 분산액을 분말 형태로 건조한다.
폴리에스테르 천(10부, Tetron jersey, 일본국, 데이진 리미티드제품)을 상기에서 얻은 분말(0.6부)을 함유한 염료욕에 침지하고, 승압하에 130℃ 내지 135℃에서 60분간 염색을 계속한다. 염색된 천을 물(3000부)중 수산화나트륨(3부), 히드로술파이트(3부) 및 베타인 양쪽성 계면활성제(3부)를 녹인 용액에 85℃에서 10분간 환원-린스 처리를 하고, 수세후 건조 하여 빛 견뢰도, 승화견뢰도 및 습윤 견뢰도가 우수한 적색의 염색물을 얻는다.
[실시예 91]
실시예 1에서 얻은 구조식(1)의 화합물(1.3부), 리그닌술폰산(3.7부), 열수(35부) 및 다음 조성분을 갖는 반 에멀젼 페이스트(60부)를 혼합하여 날염 페이스트를 제조한다.
Figure kpo00032
폴리에스테르 천(Tetron tropical, 일본국 데이진 리미티드제품)을 상기에서 얻은 날염 페이스트로 날염하고 예비-건조한 후 대기압하에서 170℃에서 7분간 스팀처리한다. 날염된 천을 환원-린스 처리, 수세 및 유연가공과 대전방지 가공을 순서대로 실시예 90에서와 유사하게 수행한다. 얻어진 적색제품은 우수한 빛, 승화 및 습윤 견뢰도 특성, 특히 세탁 견뢰도를 갖는 것이 판명되었다.

Claims (14)

  1. 다음 일반식(II)의 벤조푸란 화합물을 다음 일반식(III)의 아세토니트릴 화합물과 반응시키고, 이어서 산화반응시키는 것을 특징으로 하는 다음 일반식(I)의 벤조디푸라논 화합물의 제조방법.
    Figure kpo00033
    Figure kpo00034
    Figure kpo00035
    (상기 식에서, R1및 R2는 나프탈기, 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐기이고, L은 -COR3, -CO2R4또는 -SO2R5이고, 여기서 R3, R4및 R5는 각기 독립적으로 알킬 또는 페닐기이다.)
  2. 제1항에 있어서, 상기한 일반식(II)의 벤조푸란 화합물과 상기한 일반식(III)의 아세토니트릴 화합물의 반응이 산 촉매 존재하에 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기한 산 촉매가 벤조푸란 화합물 1몰당 0.05몰 이상의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기한 일반식(II)의 벤조푸란 화합물과 상기한 일반식(III)의 아세토니트릴 화합물의 반응이 용매 존재하에 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기한 용매가 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌, 모노-, 디-, 트리-클로로벤젠, 브로모벤젠, 클로로나프탈렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2,2,-테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 카본 테트라클로라이드, 브로모포름, 저비점 석유 분획물, 니트로벤젠, 니트로톨루엔, 니트로메탄, 메틸이소부틸케톤, 술포란, 포름산, 아세트산, 프로피온산 또는 아세트산 무수물인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기한 용매가 톨루엔, 모노클로로벤젠, 디클로로벤젠, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 디클로로메탄 또는 클로로포름인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기한 일반식(II)의 벤조푸란 화합물과 상기한 일반식(III)의 아세토니트릴 화합물의 반응이 30 내지 180℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기한 일반식(III)의 아세토니트릴 화합물을, 다음 일반식(V)의 알데히드 화합물과 금속 시아나이드 화합물을 다음 일반식(VI)의 산할로겐화물 존재하에 반응시켜 얻는 것을 특징으로 하는 제조방법.
    Figure kpo00036
    Figure kpo00037
    상기 식에서, R2및 L은 제1항에서 정의된 바와 같고, Hal은 할로기이다.
  9. 제1항에 있어서, 상기한 산화반응이 산화제를 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기한 산화제가 클로라닐, 브로마닐, 티오황산염, 아질산염, 하이포아염소산염, 아염소산염, 염소산염, 과염소산염, 과황산염, 과요드산염, 과붕산염, 과망간산염, 바나덴산염, 디크롬산염, 질산요드, 테트라클로로히드로퀴논, 이산화납, 이산화망간, 오산화바나듐, 니트로벤젠, 디시아노디클로로벤조퀴논, 과산화수소 및 공기중에서 선택되는 1종이상인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기한 산화제가 하나의 아질산염과 클로라닐, 브로마닐 및 디시아노디클로로벤조퀴논중에서 선택되는 1종과의 혼합물인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기한 산화제가 클로라닐과 아질산나트륨의 혼합물인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  13. 제1항에 있어서, 상기한 산화반응이 30 내지 180℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  14. 제1항의 방법으로 제조된 벤조디푸라논 혼합물을 섬유 재료에 적용하는 것을 특징으로 하는 소수성 섬유 재료의 염색 또는 날염방법.
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