KR0168347B1 - 이소프로필 알콜 재생 방법 - Google Patents

이소프로필 알콜 재생 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR0168347B1
KR0168347B1 KR1019950021391A KR19950021391A KR0168347B1 KR 0168347 B1 KR0168347 B1 KR 0168347B1 KR 1019950021391 A KR1019950021391 A KR 1019950021391A KR 19950021391 A KR19950021391 A KR 19950021391A KR 0168347 B1 KR0168347 B1 KR 0168347B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ipa
contaminants
high purity
purifying
vacuum distillation
Prior art date
Application number
KR1019950021391A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970006256A (ko
Inventor
송재인
권영민
고용선
장규환
Original Assignee
윤종용
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019950021391A priority Critical patent/KR0168347B1/ko
Publication of KR970006256A publication Critical patent/KR970006256A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0168347B1 publication Critical patent/KR0168347B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/74Separation; Purification; Use of additives, e.g. for stabilisation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

반도체 웨이퍼 세정에 사용된 이소프로필 알콜(IPA)의 재생 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 IPA 재생 방법은 사용된 IPA를 정제하여 금속 이온 오염물을 제거하는 단계; 상기 오염물이 제거된 IPA의 수분 잔유물을 감압 증류 방법에 의하여 제거하는 단계; 상기 수분 잔유물이 제거된 IPA를 고온의 CaO를 사용하여 정제하여 고순도의 IPA를 형성하는 단계; 및 이온 제거 필터를 이용하여 상기 고순도의 IPA로부터 알카리 및 알카리토금속을 제거하는 단계를 구비한다.

Description

이소프로필 알콜 재생 방법
제1도는 IPA 재생 스테이션 장치의 개략도이다.
본 발명은 이소프로필 알콜(IsoPropyl Alcohol: 이하 IPA라 칭함)의 재생 방법에 관한 것으로, 특히 반도체 웨이퍼 세정에 사용된 IPA의 재생 방법에 관한 것이다.
현재, 반도체 세정 공정에 있어서 최종 헹굼(final Rinse) 후 웨이퍼 건조를 위해 사용되어지는 IPA 증기 드라이어스는 스핀(spin) 드라이어에 비해 다음과 같은 장점이 있다. 첫째, 정전기력에 의한 분진(particle) 흡착을 방지한다. 둘째, 물 반점생성을 방지한다. 세째, 기계적으로 웨이퍼가 파손되는 것을 방지할 수 있다. 따라서 이같은 장점으로 인해 IPA 증기 드라이어 사용이 점차 확대되고 있다. 그러나 IPA 증기 드라이어을 사용할 경우, 1회 사용되어진 IPA는 최종 헹굼 후 웨이퍼에서 묻어 나오는 수분 잔유물(water residue)에 의한 수분에 의한 오염과 IPA 증기 드라이어에 의한 건조 과정중에 발생하는 유기 및 금속 이온들에 의한 오염 때문에 거의 대부분 폐액 처리를 하고 있는 실정이다. 종래의 IPA 재생방법에서는 IPA에 혼합되어져 있는 소량의 수분 잔유물(water residue)을 IPA의 물리적 성질인 공비점(azeotropic point) 때문에 일반 증류 방법이 아닌 삼중 혼합물 끓는점(triple mixture boiling point)을 이용하여 걸러낸다. 구체적으로는, 세정액을 증류방법을 이용 정제하여 IPA, 수분, 그리고 벤젠(benzene)의 세가지로 이루어진 혼합물을 얻고나서 이 혼합물을 다시 증류하여 IPA를 얻게 된다. 상기 공비점(azeotropic point)이란 IPA의 끓는점은 83℃인데 수분의 끓는점은 100℃이므로 IPA와 수분의 혼합용액을 83℃ 이상으로 가열할 경우 IPA만 증발하여야 하나 실제적으로는 수분과 IPA가 결합하여 같이 증발하는 경우를 일컫는다. 이와 같이 공비점인 삼중 혼합물 끓는점을 이용하여 먼저 증류되어 나오는 3가지 혼합물(mixture)를 먼저 분리시키고 이것을 다시 증류시킴으로써 증류 챔버(chamber)에 남아있는 순수한 IPA를 수거한다. 그러나 이와 같은 방법으로는 우리가 원하는 순환 시스템(circulation system)에 응용이 극히 어려운 실정이다. 왜냐하면 증류방법을 사용해서는 지속적으로 삼중 혼합물(triple mixture)를 얻기가 매우 어렵기 때문이다. 한편, 현재 상업용으로 나와있는 IPA 재생처리기(Reprocessor)의 경우 스테이션(station) 자체가 부피적으로 크고, 고가이다. 또한, 멤브레인(membrane) 필터 모듈(filler module)에 IPA를 통과시켜 탈수(dehydrate)시키는 방법을 채택하므로 운영비가 많이 들뿐만 아니라 대형화된 설비 때문에 실제 반도체 세정공정에 적용시키기는 상당한 불합리성이 대두되어 왔다.
따라서, 본 발명의 목적은 상술한 종래 방법의 문제점을 해결할 수 있는 IPA 재생 방법(recycling process)를 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 사용된 IPA를 정제하여 금속 이온 오염물을 제거하는 단계; 상기 오염물이 제거된 IPA의 수분 잔유물을 감압 증류 방법에 의하여 제거하는 단계; 상기 수분 잔유물이 제거된 IPA를 고온의 CaO를 사용하여 정제하여 고순도의 IPA를 형성하는 단계; 및 이온 제거 필터를 이용하여 상기 고순도의 IPA로부터 알카리 및 알카리토금속을 제거하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 IPA 재생 방법을 제공한다.
상기 IPA 수분 잔유물은 감압 증류 방법을 이용하여 제거된다.
상기 정제 단계에서는 상기 수분 잔유물이 제거된 IPA를 CaO가 내재된 봄베로 통과시킨다.
본 발명에 의하면, 1회 사용된 IPA을 폐액으로 처리하는 종래의 경우와는 달리 감압 증류 및 화학 작용에 의한 복합적인 IPA 탈수과정(dehydration process)을 이용하여 단순화된 공정 및 저렴한 유지 비용으로 IPA를 재생할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하고자 한다.
제1도는 IPA 증기 드라이어내에 장착되는 IPA 재생 스테이션(recycling station) 장치의 개략도이다. 본 발명은 현재 세정 공정에서 사용되어지고 폐액 처리되는 다량의 IPA를 재생하여 사용하는 정제(purification) 및 순환 시스템(circulation system)을 골격으로 하고 있다. 상기 재생 스테이션 장치는 4가지 단계로 재생방법을 구성하고 있다. 첫째는 금속 이온 오염물을 제거하는 단계, 둘째는 IPA의 수분 잔유물을 제거하는 단계, 세째는 고순도의 IPA로 정제하는 단계 및 네째는 알카리 금속과 알카리토금속을 제거하는 단계를 구성되어 있다. 상기 금속이온 오염물은 정제기(purifier)를 이용하여 걸러내고, 상기 IPA 수분 잔유물은 감압 증류장치를 이용하여 제거하며, 상기 고순도의 IPA는 봄베내의 CaO를 이용하여 정제한다. 또한, 상기 알카리 및 알카리토금속을 이온 제거 필터를 이용하여 제거하는 것이 바람직하다.
참조번호 10은 IPA 증기 드라이어이다. 11은 IPA 집합 컨테이너, 12는 펌프, 13은 정제기(purifier), 14는 감압 증류장치, 15는 고온 CaO 봄베, 16은 순수 IPA 집합 컨테이너, 17은 펌프, 18은 이온 제거 필터 19는 IPA 주 공급 시스템이다. 상기한 장치 구성요소를 다음과 같이 배치한다. 일측은 튜브를 통해 IPA 증기 드라이어(10)에 연결되고 타측은 튜브를 통해 펌프(12)에 연결된 벌크 IPA 집합 컨테이너(11)와, 상기 벌크 IPA 집합 컨테이너에 펌프(12)를 통해 일측이 연결된 정제기(purifier:13)와, 상기 정제기 타측에 연결된 감압 증류장치(14)와, 상기 감압 증류장치의 다른 일측에 연결된 고온 산화 칼슘(CaO)을 내재한 봄베(bombe:일종의 튜브,15)와, 상기 봄베의 다른 일측에 연결된 순수 IPA 집합 컨테이너(16)와, 상기 순수 IPA 집합 컨테이너에 펌프(17)를 통하여 연결된 이온 제거 필터(18)와, 상기 이온 제거 필터 다른 일측에 연결된 IPA 주 공급 시스템(19)와, 상기 IPA 주 공급 시스템의 다른 일측에 연결된 상기 벌크 IPA 증기 드라이어(10)로 이루어져 순환 시스템을 구성하는 것을 특징으로 하는 IPA 재생 스테이션(recycling station) 장치를 제공한다.
상기 정제기(purifier:13)는 세정에 사용된 IPA로부터 금속이온 오염 물질을 제거키 위하여 통과시키며, 통과된 IPA를 펌프를 이용 감압 증류기(14)로 공급한다. 이 감압 증류기로부터 1차 대부분의 수분 잔유물(water residue)를 없앤 IPA 증기를 고온의 CaO 봄베(bombe:15)에 통과시킨다. 봄베 내에서는 다음과 같은 식으로 나타낼 수 있는 반응이 일어나서 고순도의 IPA를 얻는다. 즉,
이다.
이 고순도 IPA 용액은 이온 제거 필터(filter:18)에 통과시켜 잔존하는 알카리(alkali) 및 알카리토금속(alkali earth metal)들을 제거시켜주고 펌프(17)를 통해 이 최종처리된 IPA를 IPA 주 공급 시스템(19)을 통해 재사용되게 한다. 상술한 장치를 이용 IPA를 재생 처리하게 되면, 정제기(purifier)를 통과시켜 금속 이온 오염물을 제거하고 감압 증류장치를 이용하여 IPA의 수분 잔유물을 제거하며 봄베내의 CaO를 이용하여 고순도의 IPA로 정제 및 이온 제거 필터를 이용하여 알카리 및 알카리토금속을 제거하는 절차를 갖게 된다.
또한, 사용되어진 를 계속 정제하여 순환(circulation)시키므로 공정에 사용되는 IPA 소모(consume)양을 최소화하므로 궁극적인 경비 절감 뿐아니라 환경 오염요소 제거를 극대화시키는 장점을 지니고 있다. 결국, 상기 장치를 이용하면 종래의 삼중 화합물을 얻어야 하는 어려운 공정이 필요없는 단순한 설비로 IPA를 순환시켜 사용하므로 환경보호 및 경제적 잇점을 얻게 된다.
본 발명에 의하면, 1회 사용된 IPA을 폐액으로 처리하는 종래의 경우와는 달리 감압 증류 및 화학 작용에 의한 복합적인 IPA 탈수과정(dehydration process)을 이용하여 단순화된 공정 및 저렴한 유지 비용으로 IPA를 재생할 수 있다.

Claims (1)

  1. 반도체 웨이퍼 세정에 사용된 IPA의 재생 방법에 있어서, 사용된 IPA를 정제하여 금속 이온 오염물을 제거하는 단계; 상기 오염물이 제거된 IPA의 수분 잔유물을 감압 증류 방법에 의하여 제거하는 단계; 상기 수분 잔유물이 제거된 IPA를 고온의 CaO를 사용하여 정제하여 고순도의 IPA를 형성하는 단계; 및 이온 제거 필터를 이용하여 상기 고순도의 IPA로부터 알카리 및 알카리토금속을 제거하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 IPA 재생 방법.
KR1019950021391A 1995-07-20 1995-07-20 이소프로필 알콜 재생 방법 KR0168347B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950021391A KR0168347B1 (ko) 1995-07-20 1995-07-20 이소프로필 알콜 재생 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950021391A KR0168347B1 (ko) 1995-07-20 1995-07-20 이소프로필 알콜 재생 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970006256A KR970006256A (ko) 1997-02-19
KR0168347B1 true KR0168347B1 (ko) 1999-03-20

Family

ID=19421041

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950021391A KR0168347B1 (ko) 1995-07-20 1995-07-20 이소프로필 알콜 재생 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0168347B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020096026A (ko) * 2002-10-16 2002-12-28 장성진 고순도의 염기성/불활성 가스 제조를 위한 정제방법 및장치

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015026160A1 (ko) * 2013-08-20 2015-02-26 주식회사 엘지화학 이소프로필 알코올의 정제 방법
WO2015026161A1 (ko) * 2013-08-20 2015-02-26 주식회사 엘지화학 이소프로필 알코올의 정제 방법
CN105473537A (zh) * 2013-08-20 2016-04-06 Lg化学株式会社 用于纯化异丙醇的方法
WO2015026162A1 (ko) * 2013-08-20 2015-02-26 주식회사 엘지화학 이소프로필 알코올의 정제 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020096026A (ko) * 2002-10-16 2002-12-28 장성진 고순도의 염기성/불활성 가스 제조를 위한 정제방법 및장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR970006256A (ko) 1997-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101663079A (zh) 回收和再利用工艺气体的方法和设备
KR0168347B1 (ko) 이소프로필 알콜 재생 방법
JP3634147B2 (ja) 半導体素子製造用化学薬品の精製方法及びその再生システム
JP2752001B2 (ja) 蒸気乾燥装置
KR100395363B1 (ko) 용제의 정제방법 및 장치
JPH044008B2 (ko)
JP3699502B2 (ja) 半導体洗浄排水の回収方法
JPH07105371B2 (ja) 半導体基材の洗浄方法
JP2629576B2 (ja) 有機排気処理装置
KR20170020151A (ko) 폐수에 포함된 이소프로필 알콜의 회수 처리장치 및 그 방법
JPH08224572A (ja) クローズドシステムの超純水製造および排水処理方法
JP3106382B2 (ja) クローズドシステムの超純水製造および排水処理方法
RU2105744C1 (ru) Способ реактивации отработанного активного угля системы рекуперации паров спиртоэфирного растворителя
JP2004043434A (ja) 高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法
JP2011215355A (ja) レジスト剥離液の再生方法及び装置
JP2001176731A (ja) 変圧器の再生方法
JPH0515703A (ja) 核燃料サイクルから発生する使用済溶媒の再生方法
KR20210138229A (ko) 폐수에 포함된 이소프로필 알콜의 회수 처리장치 및 그 방법
JPH07228545A (ja) アルコール中の水分除去方法
JPS6245124A (ja) 処理装置
JPH0685854B2 (ja) 着臭ガスの脱臭方法
JPH11276795A (ja) ドライクリーニング方法およびその装置
JPH0833485B2 (ja) 核燃料サイクルから発生する使用済溶媒の分離精製方法
SU1698323A1 (ru) Способ очистки спецодежды
CN116765105A (zh) 汞污染土壤处理工艺以及汞污染土壤处理系统

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20060928

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee