KR0148883B1 - 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 패키지를 와이어 본딩방법으로 칩 상면의 본딩패드와 내부리드를 연결할 때에 있어서, 스티치 본딩되는 내부리드 쪽의 와이어 힐 부분이 성형수지의 잔류 응력 또는 성형수지와 리드프레임간의 열팽창 계수의 차이 등으로 크랙이 발생되는 것을, 상기 와이어 힐 부분을 기계적으로 강화시키는 공정을 추가하여 반도체 패키지의 신뢰성을 향상시키는 효과를 나타내는 것을 특징으로 한다.
Description
제1도는 종래 기술에 따른 실시예로써, 리드프레임의 내부리드 상면의 와이어 힐(Heel) 부분을 보여주는 것으로 성형수지 부분을 도시하지 않은 도면.
제2도는 본 발명에 따른 제1실시예로써, 리드프레임의 내부리드의 와이어 힐 부분에 금범프가 형성된 것으로 성형수지 부분을 도시하지 않은 도면.
제3도는 제2도 A부분의 확대 사시도.
제4도는 본 발명에 따른 제2실시예로써, 리드프레임의 내부리드의 와이어 힐 부분에서 2중으로 와이어 본딩이 된 것으로 성형수지 부분을 도시하지 않은 도면.
제5도는 제4도 B부분의 확대 사시도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 다이패드 20 : 칩
22 : 본딩패드 30 : 내부리드
40 : 와이어 42 : 제1금범프
44 : 제2금범프
본 발명은 반도체 패키지의 내부리드 본딩공정에 있어서, 특히 구리 리드프레임의 내부리드 힐 부분에 발생하는 크랙을 방지하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지에 관한 것이다.
와이어 본딩방법은 칩의 상면에 형성되어 있는 본딩 패드와 내부리드를 연결할 때에 와이어를 통하여 전기적으로 연결시키는 방법이다. 와이어 본딩방법은 대량 생산이나 단가면에서 높은 효용이 있으나, 반도체 패키지에 사용되는 성형수지로 잔류 응력 또는 신뢰성 검사 등의 외력에 의해 와이어의 힐 부분에 크랙을 유발하는 단점을 내포하고 있다.
제1도는 종래 기술에 따른 실시예로써, 리드프레임의 내부리드 상면의 와이어 힐(Heel) 부분을 보여주는 것으로 성형수지 부분을 도시하지 않은 도면이다.
제1도를 참조하면, 다이패드(10) 상면에는 칩(20)이 접착제(도면에 도시되어 있지 않음, 이하 동일)에 의해서 접착되어 있고, 상기 칩(20)의 상면에는 복수개의 본딩패드(22)가 형성되어 내부리드(30)와 와이어(40)에 의해 연결되어 있다.
보다 상세히 기술하면, 상기 칩(20)의 본딩패드(22)는 캐필러리(도면에 도시되어 있지 않음, 이하 동일)에 의해 제1금범프(42)가 형성되고, 내부리드(30)의 본딩 부분은 스티치(Stitch) 본딩이 된 후, 캐필러리에 의해 눌려져 와이어(40)가 내부리드(30) 상면에 절단·부착된다. 절단기(도면에 도시되어 있지 않음)에 의해서 와이어(40)가 절단된다. 즉, 상기 칩(20)의 상면에는 복수개의 본딩패드(22)가 형성되어 내부리드(30)와 와이어(40)에 의해 연결되어 있다.
성형수지의 성형 온도보다 낮은 온도에서 변화되는 열적 환경(예를 들면, 장기 신뢰도 측정)을 반복하여 패키지 전체에 부하를 가하면, 특히 구리 리드프레임을 사용할 때에 있어서, 내부리드 팁(Tip) 상단의 와이어 힐 부분은 인장력을 주기적으로 받게 된다.
전술한 종래 기술에 따른 와이어 본딩방법은 장기 신뢰도 측정(Temperature Cycling)을 진행한 후에 있어서, 다음과 같은 결점을 갖는다.
첫째, 내부리드 상면의 와이어 힐 부분에 크랙이 발생할 수 있다.
성형수지와 리드프레임간의 물성치중 열팽창 계수 차이에 의해서 장기 신뢰도 측정을 진행할 경우, 리드프레임에 대한 성형수지의 상대적 변위(變位)로 와이어 힐 부분에 반복적인 응력을 가하게 된다.
이는, 구리 리드프레임의 열팽창 계수가 성형수지의 열팽창 계수 보다 큰 경우에 빈번히 발생하며, 내부리드의 직선 길이가 길 경우에 더욱 심한 크랙이 발생하여 결국, 전기적 결함을 야기할 수 있다.
둘째, 성형수지의 재질을 선택하는데 있어 제한을 받는다.
성형수지의 열팽창 계수와 구리 리드프레임의 열팽창 계수를 가급적으로 동일하게 하기 위해 성형수지의 재질을 변경할 수 있으나, 상기 변경된 재질에 따른 이차적 불량을 야기할 수도 있으며, 또한 추가적 비용이 발생된다.
따라서, 본 발명의 목적은, 기존의 성형수지를 사용하면서도 내부리드 상면의 와이어 힐 부분에 크랙의 발생을 억제하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지를 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위해서, 칩 상면에 형성되어 있는 본딩패드와 내부리드를 와이어 본딩으로 연결하는 반도체 패키지에 있어서, 상기 내부리드의 와이어 힐 부분에 제2금범프를 형성시키는 것을 특징으로 하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지를 제공한다.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위해서, 칩 상면에 형성되어 있는 본딩패드와 내부리드를 와이어 본딩으로 연결하는 반도체 패키지에 있어서, 상기 내부리드의 제1차 스티지 본딩된 와이어 힐 부분에 제2금범프를 형성하여 다시 상기 내부리드에서 외부리드 방향으로 제2차 스티치 본딩을 하는 것을 특징으로 하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지를 제공한다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다.
제2도는 본 발명에 따른 제1실시예로써, 리드프레임의 내부리드의 와이어 힐 부분에 금범프가 형성된 것으로 성형수지 부분을 도시하지 않은 도면이다.
제3도는 제2도 A부분의 확대 사시도이다.
제2도 및 제3도를 참조하면, 다이패드(10) 상면에는 칩(20)이 접착제에 의해서 접착되어 있고, 상기 칩(20)의 상면에는 복수개의 본딩패드(22)가 형성되어 내부리드(30)와 와이어(40)에 의해 연결되어 있다.
보다 상세히 기술하면, 상기 칩(20)의 본딩패드(22)는 캐필러리(도면에 도시되어 있지 않음)에 의해 제1금범프(42)가 형성되고, 내부리드(30)의 본딩부분은 스티치(Stitch) 본딩이 된 후, 캐필러리에 의해 눌려져 와이어(40)가 내부리드(30) 상면에 절단·부착된다. 즉, 상기 칩(20)의 상면에는 복수개의 본딩패드(22)가 형성되어 내부리드(30)와 와이어(40)에 의해 연결되어 있다.
상기 스티치 본딩된 와이어 힐 부분에 제2금범프(은선으로 도시되어 있음, 이하 동일)(44)가 형성되어 있다.
제4도는 본 발명에 따른 제2실시예로써, 리드프레임의 내부리드의 와이어 힐 부분에서 2중으로 와이어 본딩이 된 것으로 성형수지 부분을 도시하지 않은 도면이다.
제5도는 제4도 B부분의 확대 사시도이다.
제4도 및 제5도를 참조하면, 다이패드(10) 상면에는 칩(20)이 접착제에 의해서 접착되어 있고, 상기 칩(20)의 상면에는 복수개의 본딩패드(22)가 형성되어 내부리드(30)와 와이어(40)에 의해 연결되어 있다.
보다 상세히 기술하면, 상기 칩(20)의 본딩패드(22)는 캐필러리(도면에 도시되어 있지 않음)에 의해 제1금범프(42)가 형성되고, 내부리드(30)의 본딩부분은 제1차 스티치(Stitch) 본딩이 되는 제1차 본딩을 한 후, 캐필러리에 의해 눌려져 와이어(40)가 내부리드(30) 상면에 절단·부착된다. 즉, 상기 칩(20)의 상면에는 복수개의 본딩패드(22)가 형성되어 내부리드(30)와 와이어(40)에 의해 연결되어 있다.
또한, 상기 본딩패드(22)와 내부리드(30) 간의 전기적 연결을 해주는 모든 와이어 본딩이 완료된 후, 와이어 힐 크랙이 예상되는 내부리드(예를 들면, 직선 길이가 긴 내부리드)에 대해서 상기 내부리드(30) 상에서 와이어 힐 부분에서부터 외부리드(도면에 도시되어 있지 않음) 방향으로 2차 본딩을 진행한다.
상기 2차 본딩은 상기 내부리드(30)의 와이어 힐 부분에서 캐필러리(도면에 도시되어 있지 않음)에 의해 제2금범프(44)가 형성하여, 상기 내부리드(30)의 외부리드(도면에 도시되어 있지 않음) 방향으로 제2차 스티치 본딩을 하고, 캐필러리에 의해 눌려져 와이어(40)가 내부리드(30) 상면에 절단·부착된다.
전술한 본 발명에 따른 실시예들의 장점을 기술하면 다음과 같다.
첫째, 본 발명에 따른 제1실시예에 있어서, 와이어가 성형수지에 의해서 받게 되는 인장 응력을 와이어 힐 부분에 금범프로 형성시킴으로써, 기계 역학적으로 강화시킨다.
둘째, 본 발명에 따른 제2실시예에 있어서, 와이어가 성형수지에 의해서 받게 되는 인장 응력을 와이어 힐 부분에 금범프로 형성시킴으로써, 기계 역학적으로 강화시키는 동시에 2차 본딩된 와이어가 내부리드 상면과 성형수지 및 리드프레임의 접착면 부근의 성형수지의 거동(擧動)을 방해하여 성형수지가 와이어 힐 부분에 미치는 외력을 미비하게 할 수 있다.
따라서, 와이어가 내부리드와 스티치 본딩된 2개 부분에 본딩 되어 있어, 설령 크랙이 한 부분에서 발생되더라도 전기적 고장을 유발할 가능성이 적으며, 바람직하게는 은도금막을 스티치 본딩되는 2개의 부분에 형성시켜 주는 것이 바람직하다.
세째, 본 발명에 따른 제1 내지 제2실시예에 있어서, 2차 본딩을 위한 내부리드 상면 팁(Tip) 부근에 내부리드와 와이어의 본딩 접착력을 증대시키기 위해서 은도금막 영역을 크게 해 주는 번거러움이 있으나 몇 개의 내부리드만을 선택적으로 진행함으로써 타(他) 불량(예를 들면, 내부리드와 성형수지 간의 박리 현상 등)을 야기할 확률이 적어진다.
종래 기술보다는 상기 스티치 본딩되는 부분에서 내부리드와 와이어간의 접착력을 증가시키기 위해 은도금막 영역을 수십 내지 수백 ㎛ 정도 넓게 하여 주는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 구조에 의하면, 칩 상면에 형성되어 있는 본딩 패드와 내부리드를 전기적으로 연결시키는 와이어 본딩방법에 있어서, 스티치 본딩되는 와이어 힐 부분이 외부의 요인으로 인하여 크랙이 발생되는데, 상기 부분을 기계적으로 강화시킴으로써 반도체 패키지의 신뢰성을 향상시키는 이점(利點)이 있다.
Claims (4)
- 칩 상면에 형성되어 있는 본딩패드와 내부리드를 와이어 본딩으로 연결하는 반도체 패키지에 있어서, 상기 내부리드의 와이어 힐 부분에 제2금범프를 형성시키는 것을 특징으로 하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지.
- 제1항에 있어서, 상기 내부리드 중에서 와이어 본딩 길이가 길면서 와이어 힐 부분에 크랙이 발생할 수 있는 확률이 큰 내부리드에 선택적으로 금범프를 형성하는 것을 특징으로 하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지.
- 칩 상면에 형성되어 있는 본딩패드와 내부리드를 와이어 본딩으로 연결하는 반도체 패키지에 있어서, 상기 내부리드의 제1차 스티치 본딩된 와이어 힐 부분에 제2금범프를 형성하여 다시 상기 내부리드에서 외부리드 방향으로 제2차 스티치 본딩을 하는 것을 특징으로 하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지.
- 제3항에 있어서, 상기 내부리드 중에서 와이어 본딩 길이가 길면서 와이어 힐 부분에 크랙이 발생할 수 있는 확률이 큰 내부리드에 선택적으로 금범프를 형성하여 다시 상기 내부리드에서 외부리드 방향으로 제2차 스티치 본딩을 하는 것을 특징으로 하는 이중 와이어 본딩을 이용한 반도체 패키지.
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1995
- 1995-05-17 KR KR1019950012205A patent/KR0148883B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7067413B2 (en) | 2003-09-04 | 2006-06-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Wire bonding method, semiconductor chip, and semiconductor package |
CN103035546A (zh) * | 2012-12-18 | 2013-04-10 | 可天士半导体(沈阳)有限公司 | 一种小尺寸键合点双线键合方法 |
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