KR0148561B1 - 피롤살충제 - Google Patents

Abstract

내용없음.

Description

[발명의 명칭]

피롤 살충제

[발명의 상세한 설명]

본 발명은 피롤족의 신규 화합물 및 이들 화합물의 제조용 중간 생성물, 및 이들 화합물 및 중간체의 제조방법에 관한 것이다.

본 발명은 또한 농업에 있어서, 특히 절지 동물을 억제하기 위한 살충제, 바람직하게는 살충제 및 살비제로서의 상기 화합물의 응용에 관한 것이며, 또한 절지동물, 특히 곤충 및 거미의 억제에 유용한 농약 조성물에 관한 것이다.

많은 피라졸류 (2개의 질소원자 함유 헤테로고리 화합물)이 살충제로 공지되어 있다. 또한 피롤기를 함유한 화합물 (일반식에 1개의 질소원자 함유)이 살충제로 공지되어 있다. 그러나, 이들은 보통 피레트로이드기, 카르바메이트기 또는 오르가노인산기와 같은 그 자체가 살충성을 갖는 것으로 공지된 또 다른 화학기를 그의 일반식에 함유한다.

단순 치환된 피롤 유도체들은 예를 들면 영국 특허 제2,189,242호에 살진균용 농약 화합물로 기재되어 있다.

본 발명의 신규 피롤 화합물은 하기 일반식(I)로 표시된다.

[상기식중, X는 할로겐원자, 또는 시아노, 시아네이토, 티오시아네이토, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 알케닐티오, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알케닐티오, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 페닐티오, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로 아릴티오, 헤테로 아릴술피닐 또는 헤테로 아릴술포닐기일 수 있으며; 여기서 페닐기는 할로겐, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환되며, 헤테로 아릴기는 산소, 황 또는 질소와 같은 헤테로원자를 1 또는 2개 함유하며 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 모노시클릭 5 또는 6원 헤테로아릴이며; 상술한 기 모두에 있어서 할로치환은 동일 또는 상이한 1개 이상의 할로겐원자가 모노 내지 완전 폴리 치환되는 것이며, 알킬, 할로알킬, 알케닐, 할로알케닐, 알콕시 및 할로알콕시기는 일반적으로 10 이하, 바람직하게는 5이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 촉쇄의 것이며;

R¹, R²및 R³는 상기 X에서 설명된 기 또는 원자, 수소원자, 알킬기에서 선택될 수 있으며; 이들 (R¹, R², R³)중 하나의 치환체는 포르밀, 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐, 아지도, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 벤질리덴이미노, 알킬리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 비스(알킬티오) 메틸, 비스(아릴티오) 메틸, 알킬티오알킬리덴이미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 할로겐, 시아노 또는 할로알킬로 임의 치환된 페닐, 및 산소, 황 또는 질소와 같은 동일 또는 상이한 1 또는 2개의 헤테로원자를 함유하며 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 모노시클릭 5 또는 6원 헤테로아릴기의 군에서 선택되며; 상술한 기 중의 할로치환은 동일 또는 상이한 1개 이상의 할로겐원자가 모노 내지 완전 폴리 치환되는 것이며, 알킬, 할로알킬, 알케닐, 할로알케닐, 알콕시 및 할로알콕시기는 일반적으로 10이하, 바람직하게는 5이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 촉쇄의 것이며;

Y는 할로겐원자, 또는 시아노, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알킬티오, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 알킬카르보닐, 할로알킬카르보닐, 알케닐 (특히, 알릴), 할로알케닐 (특히 할로알릴), 알키닐 (특히 프로파르길), 또는 할로알키닐 (특히 할로프로파르길) 일 수 있으며,

이들 기 중의 할로 치환은 동일 또는 상이한 1개 이상의 할로겐원자가 모노 내지 완전 폴리 치환되는 것이며, 알킬, 할로알킬, 알케닐, 할로알케닐, 알키닐, 할로알키닐, 알콕시 및 할로알콕시기는 일반적으로 10 이하, 바람직하게는 5 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 촉쇄의 것이며; 또는

Y가 수소원자일 때; X는 할로겐원자 또는 기 R⁵S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 알킬, 할로알킬, 알케닐 또는 할로알케닐이며, 알킬 및 알케닐 탄소 사슬 및 할로치환은 상기에 정의한 바와같다)이고, R¹및 R³은 각각 수소원자이며, R²는 시아노이고; X¹, X², X³및 X⁴는 각각 Y에서 설명된 치환체 및 수소원자 중에서 선택되며; 단, R¹, R²및 R³중 적어도 하나는 X에서 설명한 치환체 중에서 선택되며; X⁴및 X¹이 H이고, X가 할로겐 또는 시아노이면, R²는 X와는 상이하며; X⁴ 및 X¹이 H이고, Y가 메틸이면, X는 브로모와는 상이하다.]

본 발명의 일반식(I)의 특정 신규 피롤 화합물은 X 가 할로겐원자, 또는 시아노, 시아네이토, 티오시아네이토, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 페닐티오, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로 아릴티오, 헤테로 아릴술포닐 또는 헤테로 아릴술포닐기일 수 있으며; 여기서 페닐기는 할로겐, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환되며, 헤테로 아릴기는 산소, 황 또는 질소와 같은 1 또는 2 헤테로원자를 함유하며 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 모노시클릭 5 또는 6원의 헤테로아릴이며; 상술한 기 중의 할로 치환은 모노 치환 내지 완전 폴리 치환이며, 알킬, 할로알킬, 알콕시 및 할로알콕시기는 일반적으로 10 이하, 바람직하게는 5이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 촉쇄의 것이며; R¹, R²및 R³는 X에서 설명한 치환체, 수소원자 및 알킬기에서 선택될수 있으며; R¹, R²및 R³중 하나의 치환체는 포르밀, 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐, 아지도, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 벤질리덴이미노, 알킬리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 할로겐, 시아노 또는 할로알킬로 임의 치환된 페닐, 및 산소, 황 또는 질소와 같은 동일 또는 상이한 1 또는 2개의 헤테로원자를 함유하며 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 모노시클릭 5 또는 6원 헤테로아릴기의 군에서 선택되며; 상술한 기 중의 할로 치환은 모노 치환 내지 완전 폴리 치환이며, 알킬, 할로알킬, 알콕시 및 할로알콕시기는 일반적으로 10 이하, 바람직하게는 5 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄의 것이며;

Y는 할로겐원자 또는 시아노, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알킬티오, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 알킬카르보닐, 할로알킬카르보닐, 알케닐 (특히 알릴), 할로알케닐 (특히 할로알릴), 알키닐 (특히 프로파르길), 또는 할로알키닐 (특히 할로프로파르길) 일 수 있으며; 이들 기 중의 할로 치환은 모노치환 내지 완전 폴리 치환이며, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알키닐 및 할로알키닐기는 일반적으로 10 이하, 바람직하게는 5 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄의 것이며; X¹, X², X³및 X⁴는 상기에 정의한 바와 같고; 단서 조항도 상기에 정의한 바와 같은 화합물이다.

일반적으로 살충제 및 살비제로 관심있는 일반식(I)의 바람직한 화합물은 X가 할로겐원자 또는 기 R⁵S(O)n(식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 알킬, 할로알킬, 알케닐 또는 할로알케닐이다)이고; R¹이 수소원자, 할로겐원자 또는 알킬티오이며; R²가 시아노이고; R³수소원자 또는 할로겐원자이며; Y가 수소원자, 할로겐원자, 할로알킬 또는 할로알콕시이며 (단, Y가 수소인 경우의 단서는 일반식(I)에서 정의한 바와같다);

X¹, X², X³및 X⁴는 각각 수소원자, 할로겐원자, C₁~₃알킬, C₁~₃알콕시 및 C₁~₃알킬티오인 일반식(I)의 화합물이다.

바람직하며, 특히 관심있는 일반식(I)의 특정 화합물은 다음과 같다;

A) 고도의 살충 활성을 갖는 일반식(II)의 화합물

[상기식중, X는 R⁵S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 CH₃, CF₃, CF₂Cl, CFCl₂, CF₂Br, CHF₂, CHCl₂또는 CHClF 이다)이고; R²는 시아노이며; R¹은 H, F, Cl 또는 Br이고; R³는 H, F, Cl 또는 Br이며; X¹은 H 또는 Cl이고; Y는 CF₃또는 CF₃O 이다.]

이들 화합물중에서 바람직한 화합물은 다음과 같다:

B) 높은 살충 활성을 갖는 기타 일반식(II)의 화합물:

[식 중, X는 R⁵S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 CH₃, CF₃, CF₂Cl 또는 CFCl₂이다)이고; R²는 시아노이며; R¹은 H, F, Cl , Br 또는 NH₂이고; R³는 H, F, Cl, Br, CF₃또는 CN 이며; X¹는 H 또는 C₁이고; Y는 CF₃또는 CF₃O 이다.]

이들 화합물 중에서, 그의 살충 활성에 바람직한 화합물은 다음과 같다:

C) 놀랍게 고도의 살비 활성을 갖는 일반식(I)의 화합물:

식 중, X는 할로겐원자 또는 기 R⁵S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 알킬, 바람직하게는 C₁~₄알킬; 할로알킬, 바람직하게는 할로가 F, Cl, Br 또는 그의 조합인 트리할로메틸, 예를 들면 CF₃, CCl₃, CF₂Cl, CFCl₂또는 CF₂Br; 알케닐; 또는 할로알케닐이다) 이고; R¹및 R³는 각각 수소원자이며; R²는 시아노이고; Y는 수소원자 또는 할로겐원자, 바람직하게는 Cl 또는 Br이며; X¹, X², X³및 X⁴는 각각 수소, 할로겐, C₁~₃알킬, C₁~₃알콕시 및 C₁~₃알킬티오의 군에서 선택되며, 바람직하게는 X¹및 X⁴는 각각 H, F, Cl, Br 또는 CH₃이고, X²및 X³는 각각 수소이다.

이들 화합물중에서, 더욱 바람직한 화합물은 다음과 같다 :

D) 기타 바람직한 일반식(I)의 화합물은

R¹이 수소원자 또는 염소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자이고; R²가 시아노이며; X가 할로알킬티오기 또는 할로알킬술피닐 또는 할로알킬술포닐기, 바람직하게는 CF₃S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이다)의 기이고; X¹및 X⁴는 수소원자 이외의 기이며; X²및 X³는 각각 수소원자이고; Y는 할로알킬 또는 할로알콕시인 일반식(I)의 화합물이다.

본 발명의 목적은 피롤 족의 신규 살충제 및 살비제, 및 그의 제조를 위한 중간체 화합물을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 고활성 화합물을 제공하는 것이다.

본 발명의 상기 목적 및 기타 목적은 이후에 정의되는 신규 화합물에 의해 성취될 수 있다.

일반식(I)의 화합물은 공지의 방법 (즉, 지금까지 화학문헌에 사용 또는 설명된 방법); 일반적으로 피롤 고리 형성 및 치환기 교환 반응을 응용함으로써 제조될 수 있다.

또한, 하기의 제조 방법의 설명에서, 피롤 고리에 각종 기를 도입하는 순서는 다른 순서로 수행될 수 있으며, 적당한 보호기는 당분야에서 통상적으로 사용되는 것이다. 또한, 일반식(I)의 화합물은 공지 방법에 의해 일반식(I)의 다른 화합물로 전환될수 있다.

하기 제조 방법 설명에서, 일반식에 나타낸 기호가 특별히 정의되지 않는 경우, 본 명세서의 상기에 정의한 바와 같은 기는 각 기호의 제일 처음 정의에 따라 이해해야 한다. 보호의 용어는 필요한 경우, 다시 전환될 수 있는 적당한 비-반응성기로 전환시키는 것 및 작용상 비반응성인 기를 도입하는 것을 말한다. 정의에서 특별한 언급이 없는 한, 아미노는 비치환된 아미노기이다.

본 발명은 특히 본 발명의 화합물을 제조하는데 유용한 중간체 화합물도 포함한다. 하기에 설명된 바와 같이 제조된 바람직한 중간체 화합물은 하기 일반식(IIIa)로 표시되는 화합물이다.

[식중, Y는 H, Cl, Br, CF₃또는 OCF₃이고, X¹및 X⁴는 각각 H, Cl, F, CH₃또는 SCH₃이며, 단 X¹및 X⁴가 각각 H일 때, Y는 H 또는 Cl 이외의 기이다. 단서 조항에 의해 정의된 화합물은 본 발명에 포함되지 않으나, 본 발명의 일반식(I)의 화합물의 제조를 위한 중간체로 유용하다.

Y가 CF₃또는 OCF₃이고, X¹이 H 또는 Cl 이며, X⁴가 Cl 인 일반식(IIIa)의 화합물은 중간체로 특히 바람직하다.

[방법 1]

본 발명에 따라, R¹및 R²가 수소원자, X가 시아노기, R³가 아미노 (NH₂)기, X¹, X², X³, X⁴및 Y 가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 하기 일반식(III)의 화합물은 하기 일반식(IV)의 디시아노프로펜유도체를 염기성 시약, 바람직하게는 3차 아민 또는 알칼리금속의 수산화물 또는 탄산염과 같은 알칼리성 시약과 반응시킴으로써 제조될 수 있다.

[식중, 각종 기호는 상기에 정의한 바와 같다). 이 반응은 -80~150℃, 바람직하게는 40~100℃에서 유리하게 수행된다. 용매는 액체 알콜, 탄화수소, 할로탄화수소, 에테르, 케톤, N - 메틸피롤리돈과 같은 아미드, 또는 물이 사용될 수 있다.

[방법 2]

본 발명에 따라, 일반식(IV)의 화합물은 X¹, X², X³, X⁴및 Y 가 상기에 정의한 바와 같은 하기 일반식(V)의 아닐린 유도체를 포르밀숙시노니트릴 또는 포르밀숙시노니트릴의 알칼리금속염과 반응시킴으로써 제조될 수 있다.

이 반응은 일반적으로 유기 용매 또는 물 중에서 10~120℃의 온도, 바람직하게는 환류 온도에서 수행한다.

포르밀숙시노니트릴은 공지의 화합물이며, 일반적으로는 문헌 [K. Gewald, Z. Chem 1961, 1349]에 따라 숙시노니트릴을 알칼리 시약 존재하에 저급 알킬포르메이트와 반응시켜 수득된 그의 알칼리염을 산으로 전환시킴으로써 제조된다.

[방법 3]

X가 할로겐, R¹이 아미노, R²가 시아노, R³가 수소, 다른 치환체는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(III)의 화합물을 술푸릴클로라이드, N - 클로로숙신이미드, N - 브로모숙신이미드, N - 요오도숙신이미드, 피리디늄 브로마이드 퍼브로마이드 또는 분자 플루오트, 염소, 브롬 또는 요오드와 같은 할로겐화제로 처리함으로써 제조될 수 있다.

이런 전환 반응을 위한 적당한 유기 용매는 디클로로메탄 및 아세토니트릴이다. 이 반응은 -80℃~+80℃, 바람직하게는 -30℃~+25℃에서 수행된다. 원소 플루오르로 처리하는 동안 트리플루오로아세트아미드 유도체로 아미노기를 보호하는 것이 유리하다.

[방법 4]

A) X가 시아노기이고, R¹이 아미노이며, R²가 시아노이고, R³가 수소이며, 다른 치환체는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 X가 C=NOH 기인 상응하는 화합물을 아세트산 무수물, 염화시아누르 또는 P₂O₅와 같은 시약으로 탈수시킴으로써 수득될 수 있다. 이러한 탈수제를 사용하는 경우, 아미노기를 적당한 보호기로 보호할 필요가 있다.

B) X가 C=NOH 기인 중간체 화합물은 히드록실아민을 X가 포르밀인 상응하는 화합물과 축합시킴으로써 수득될 수 있다.

C) X가 포르밀기인 중간체 화합물 (이후 일반식(VI)로 표시) 은 X가 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸기인 상응하는 화합물을 가수분해하거나 적당한 알킬나이트레이트로 처리하고, 가수분해함으로써 수득될 수 있다.

(E. Fujita, K. Ichikawa and K. Fuji, Tetrahedron Letters 1978, 3561). 알킬나이트레이트와의 반응 동안 아미노기를 적당한 보호기로 보호하는 것이 필요하다.

D) X가 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸기이고, 다른 기는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 중간체 화합물은 일반식(III)의 화합물을 루이스산, 바람직하게는 디메틸 (메틸티오) 술포늄테트라플루오로보레이트와 같은 술포늄염 존재하에 트리스 (알킬티오) 메탄 또는 트리스 (아릴티오) 메탄과 반응시킴으로써 제조될 수 있다. 이러한 전환반응의 일반적 조건은 문헌 (Synthesis 1984, 166) 에 나타나 있다.

[방법 5]

A) X가 히드록시, R¹이 임의로 보호된 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 유용한 중간체 화합물은 X가 할로겐인 상응하는 화합물을 표준 방법에 따라 그리나드시약 또는 리튬 유도체로 전환시키고, 옥소디퍼옥시몰티브데늄 (피리딘)(헥사메틸인산트리아미드)(MoOPH)로 처리함으로써 제조될 수 있다 (N. J. Lewis et al in J. Org. Chem. 1977, 42, 1479). X가 할로겐인 상기 화합물에서 그리나드시약 또는 리튬 유도체의 형성전에 시아노기를 적당하게 보호된 유도체 (예를 들면 시아노기가 카르복실산으로 가수분해된 상응하는 화합물의 옥사졸린 유도체)로 전환시킨다.

또는, 상술한 그리나드 시약 또는 리튬 유도체를 트리알킬보레이트와 반응시키고, 과산화수소로 산화시킬수 있다 (M. F. Hawthorne, J. Org. Chem. 1957, 22, 1001 또는 R. W. Hoffmann and K. Ditrich, Synthesis 1983, 107).

B) X가 시아네이토, R¹이 아미노, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 X가 히드록시, R¹이 임의로 보호된 아미노기, R³가 수소원자, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 상응하는 화합물을 문헌 (D. Martin and M. Bauer, Org. Synth. 61, 35) 과 유사한 방법에 의해 염기 존재하에 시아노겐 할라이드로 처리하고, 필요하다면 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

C) X가 알콕시, R¹이 아미노, R²가 시아노기, R³가 수소원자, X¹, X², X³, X⁴는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 X가 히드록시, R¹이 임의 보호된 아미노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은 상응하는 화합물을 임의로 염기 존재하에 아세톤 또는 디메틸포름아미드와 같은 용매중에서 25℃~용매의 환류 온도에서 알킬할라이드, 알킬술포네이트, 디알킬설페이트 등으로 처리하고, 필요하다면 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

D) X가 할로알콕시, R¹이 아미노, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 X가 히드록시, R¹이 임의로 보호된 아미노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 상응하는 화합물을 문헌 (Synthesis of Fluoroorganic Compounds ; Knunyants, I. L. and Yakobson, G. G. Ed . ; Springer - Verlag : Berlin, 1985; pp 263-269) 에 기재된 각종 할로알킬화 방법에 의해 처리하고, 필요하다면 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

[방법 6]

X가 할로알킬기, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 X가 포르밀기, 카르복실산 작용기 또는 할로겐이고, 아미노기가 임의 보호된 상응하는 화합물로부터 제조될 수 있다. 예를 들면, 문헌 (W. J. Middleton, J. Org. Chem. 1975, 40, 574) 에 기재된것과 유사한 방법으로 포르밀 화합물을 디에틸아미노설퍼 트리플루오라이드로 처리하여, X가 디플루오로메틸기 및 다른 치환체는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 수득한다.

X가 포르밀인 상술한 일반식(I)의 중간체 화합물을 황산중의 삼산화크롬과 같은 산화제 (존스 시약)로 산화하여 X가 카르복실산 작용기, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 중간체 화합물을 수득한다. 이 산화반응 동안 예를 들면 트리플루오로아세트아미드 유도체와 같은 아미노 작용기를 보호하는 것이 유리하다. X가 카르복실산기인 화합물을 문헌(G. A. Boswell et al. Org. React. 1974, 21, 1-124)에 기재된 바와 같이 4 플루오르화 황과 반응시켜 X가 트리플루오로메틸기이고, 다른 기는 상기에 정의한 바와 같은 화합물을 수득한다.

그렇지 않으면, X가 트리플루오로메틸, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 X가 할로겐, 바람직하게는 요오드, 다른 치환체는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 문헌 (D. J. Burton and D. M. Wiemers, J. Am. Chem. Soc. 1986, 108, 832)과 유사한 조건하 트리플루오로메틸구리와 반응시킴으로써 제조할 수 있다.

[방법 7]

X가 브로모메틸 또는 클로로메틸기, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 X가 메틸기이고 아미노기가 임의로 보호된 상응하는 중간체 화합물을 0℃ 내지 용매의 환류 온도에서 사염화탄소와 같은 용매중에서 N- 브로모숙신이미드 또는 N - 클로로숙신이미드로 처리함으로써 수득될 수 있다. X가 메틸기인 상기의 화합물은 X가 포르밀 및 다른 치환체는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 중간체 화합물을 문헌 (J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 1793)과 유사한 방법에 따라 p - 톨루엔술포닐히드라진 및 소듐 시아노보로하이드라이드로 연속 처리함으로써 수득될 수 있다.

[방법 8]

A) X가 할로알킬카르보닐, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식(VIII)의 화합물은 아미노기가 임의로 보호된 상응하는 화합물(VI)를 할로알킬 금속 유도체로 처리하여 X가 할로알킬카르비놀인 일반식(VII)의 화합물을 수득하고, 문헌(R. J. Linderman and D. M. Graves, Tetrahedron Lett. 1987, 28, 4259) 의 방법에 따라 산화시킨 후, 필요하다면 탈보호시킴으로써 수득될 수 있다. 적당한 할로알킬금속 유도체는 문헌 (P. G. Gassman and N. J. O'Reilly, J. Org. Chem. 1987, 52, 2481~2490) 에 따라 제조된 퍼플루오로알킬리튬 유도체 또는 문헌 (G. A. Olah et al. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 393)에 따라 제조 및 사용된 트리메틸트리플루오로메틸실란이 있다. 다른 할로알킬금속 유도체도 이들 문헌에서 발견될 수 있다. 트리메틸트리플루오로메틸실란을 사용하는 방법은 다음과 같다.

B) 일반식(VIII)의 화합물은 [2,4 - 비스 (4 - 메톡시페닐) - 1,3 - 디티아 - 2,4 - 디포스페탄 - 2,4 - 디설파이드] (라베슨의 시약)으로 처리함으로써 X가 할로알킬티오 카르보닐기, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물로 전환될 수 있다.

[방법 9]

일반식(VII)의 화합물은 티오닐클로라이드 또는 브롬화 수소와 같은 할로겐화제로 처리함으로써 X가 α-할로알킬-α-할로메틸기인 일반식(I)의 다른 화합물로 전환될 수 있다.

아미노 작용기를 예를 들면 트리플루오로아세트아미드 유도체로 보호하여 할로겐화 반응동안 피롤 고리의 할로겐화를 방지하는 것이 유리하다.

[방법 10]

A) X가 티오시아네이토, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(III)의 화합물을 브롬 존재하에 메탄올과 같은 용매중에서 MSCN (식중, M은 알칼리 금속이다)으로 처리함으로써 제조될 수 있다.

B) X가 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오기, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같으며, 페닐 및 헤테로아릴기는 상술한 바와 같이 형성 및/ 또는 치환될 수 있는 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식(IX) 의 화합물은 일반식(III)의 화합물을 액체 반응매질에서 술페닐할라이드 RSHal (식중, R은 상기에 정의한 바와 같은 알킬, 할로알킬, 알케닐, 할로알케닐, 페닐 또는 헤테로아릴기이고, Hal은 할로겐원자이다) 와 반응시킴으로써 제조될 수 있다. 바람직하게는, 유기 용매, 예를 들면 디클로로메탄이 -100℃~+100℃, 바람직하게는 -80℃~+25℃의 온도에서 사용된다. 이 반응은 임의로 3차 아민, 예를 들면 피리딘과 같은 산수용체의 존재하에 수행될 수 있다.

알킬술페닐클로라이드는 문헌 (S. Thea and G. Cevasco, Tetrahedron Letters, 1988, 2865)에 따라 제조될 수 있다. 술페닐클로라이드를 사용할 때, 그 반응은 하기식으로 나타낼 수 있다.

[방법 11]

X가 티오시아네이토, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 용매중에서 알킬할라이드 또는 디알킬설페이트 존재하에 수산화나트륨 또는 칼륨과 같은 염기로 처리함으로써, X가 알킬티오기, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, R³가 수소원자 및 X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물로 더 전환될 수 있다.

[방법 12]

일반식(IX)의 화합물을 산화하여 X가 RS(O)n기 (식중, n은 1 또는 2이고, R은 상기에 정의한 바와같다) 인 일반식(X)의 화합물을 수득할 수 있다. 사용될 수 있는 산화제는 과산화수소, 퍼옥시아세트산, 트리플루오로퍼옥시아세트산 및 m - 클로로퍼옥시벤조산이 디클로로메탄, 아세트산 또는 트리플루오로아세트산과 같은 용매중에서 -40℃~+80℃, 바람직하게는 0℃~25℃에서 사용된다. 적당한 반응 조건, 즉, 온도, 반응 시간 및 산화제의 양을 변화시켜 필요한 경우 술피닐 (n=1) 또는 술포닐(n=2) 유도체를 수득할 수 있다.

또한, 이 분야에 공지된 기술에 따라 술피닐 화합물로부터 술포닐 유도체를 제조할 수 있다. 할로알킬티오기, 예를 들면 트리플루오로메틸티오기를 사용하는 경우, 아미노 작용기를 예를 들면 트리플루오로아세트아미드 유도체로 보호하는 것이 유리하다.

예를 들면 트리플루오로퍼옥시아세트산을 산화제로 선택한다면, 반응은 다음과 같이 표시될 수 있다.

[방법 13]

R³는 할로겐, R¹이 아미노, R²가 시아노, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 R¹이 아미노, R²가 시아노, R³가 수소 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 이후에 나타낸 일반식(XI)의 화합물을 방법 3과 유사한 조건하에 할로겐화제로 처리함으로써 제조될 수 있다.

일반적인 전환 반응은 다음과 같이 나타낸다.

[방법 14]

R³가 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸기, R¹은 아미노, R²는 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식 (XI)의 화합물을 루이스산, 바람직하게는 술포늄염 존재하에 용매중에서 0℃ 내지 용매의 완류 온도에서, 임의로 피리딘과 같은 산수용체 존재하에 트리스 (알킬티오) 메탄 또는 트리스 (아릴티오) 메탄, (R^aS)₃CH (식중, R^a는 알킬 또는 아릴이다) 와 반응시킴으로써 제조될 수 있다. 더욱 바람직한 방법은 용매로서 아세토니트릴, 트리스 (알킬티오) 메탄으로 트리스 (메틸티오) 메탄 및 루이스산으로 디메틸 (메틸티오) 술포늄테트라플루오로보레이트를 산수용체없이 25℃에서 사용하는 것이다. 이 방법은 일반적으로 다음과 같이 나타낼 수 있다.

[방법 15]

R³가 포르밀, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 유용한 중간체 화합물, 즉 이후에 나타내는 일반식(XIV)의 화합물은 일반식(XIII)의 화합물을 가수분해하거나, 방법 4C 와 유사한 조건하에 알킬나이트라이트로 처리함으로써 제조될 수 있다. 이 방법은 일반적으로 다음과 같이 나타낼 수 있다.

[방법 16]

R³가 히드록시이미노알킬리데닐 또는 알콕시이미노알킬리데닐, R¹이 아미노, R²는 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은, 중간체로 유용한 일반식(I)의 중간체 화합물은 R³가 알킬카르보닐 또는 포르밀, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 에탄올과 같은 용매중에서 히드록실아민 또는 O - 알킬히드록실아민 또는 그의 산부가염과 축합시킴으로써 제조될 수 있다. R³가 알킬카르보닐인 상기의 화합물은 긍극적으로 출발 물질로서 1,1,1-트리스 (알킬티오 또는 아릴티오) 알칸을 사용하는 화합물 (XIV)와 같은 방법으로 제조될 수 있다.

[방법 17]

R³가 아미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은 중간체로 유용한 일반식(I)의 중간체 화합물은 R³가 니트로인 상응하는 화합물을 예를 들면 백금 또는 팔라듐과 같은 귀금속 촉매 존재하에 수소로 또는 히드라진 및 라니니켈로 환원시킴으로써 제조될 수 있다. R²및 X 치환체의 조합으로, R¹및 R²가 동시에 아미노인 일반식(I)의 화합물은 제한된 안정성을 가지므로, 적당한 보호기로 아미노기 중의 하나를 보호할 필요가 있다.

R³가 니트로, R¹이 아미노, R²가 시아노, 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XI)의 화합물을 질산 및 황산의 작용을 통해 또는 아세트산 무수물 또는 기타 니트로화제중에서 질산의 작용을 통해 니트로화시킴으로써 제조될 수 있다. 니트로화 반응동안 아세틸 또는 트리플루오로아세틸과 같은 적당한 보호기로 (XI)중의 아미노작용기를 보호하는 것이 유리하다.

[방법 18]

중간체로 유용한 일반식(XV)의 화합물의 각종 유도체는 하기의 방법에 의해 제조될 수 있다:

A) R³가 알킬아미노, 디알킬아미노 또는 아르알킬아미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 R³가 아미노이고, 다른 치환체는 상기에 정의된 바와 같은 상응하는 화합물을 에탄올, 아세토니트릴, 톨루엔과 같은 유리 용매중에서 알킬 또는 아르알킬할라이드 또는 술포네이트로 알킬화함으로써 제조될 수 있다.

모노 - 또는 디알킬화 화합물의 제조는 화학양론 또는 반응 조건을 조작함으로써 조절될 수 있다. 또는, 모노알킬아민 생성물이 필요하다면, 아미노기를 알킬오르토에스테르로 처리하고 환원시킴으로써 알콕시알킬리덴이미노기로 전환시키는 반응과 같은 기타의 방법이 이용될 수 있다. 목적하는 최종 생성물이 비치환된 아미노기로서 R¹을 함유할 때, 처리전에 적당한 보호기로 아미노기를 보호하는 것이 필요하다. 이런 경우에, R³가 아미노, R¹이 적당히 보호된 아미노기 및 다른 치환제는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식(XV)의 화합물이 제조되며, 반응물로 사용된다. (XV)에서 보호기는 통상 방법 17에서 언급된 니트로 환원 단계전에 가해진다. R³에서 아미노기를 연속해서 전환시키는 경우에 따라, 하기의 실시예에서 나타낸 바와 같이 각종 보호기가 선택될 수 있다.

B) R³가 아미노카르보닐아미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XI)의 화합물을 포스겐으로 처리한 후, 암모니아로 처리하고 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

C) R³가 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노 또는 아릴카르보닐아미노, R¹이 아미노, R²가 시아노, 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XI)의 화합물을 일반식 R^b(C=O)C1의 산클로라이드 또는 일반식[R^b(C=O)]₂ ⁰의 산무수물 (식중, R^b은 일반식(I)의 맨처음 정의에서 정의된 알킬, 할로알킬 또는 아릴기이다) 과 반응시키고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다. 아세토니트릴과 같은 용매가 사용될 수 있으며, 피리딘과 같은 산수용체가 적당한 조건하에 사용될 수 있다.

D) 마찬가지로, R³가 알킬술포닐아미노 또는 할로알킬술포닐아미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 보호된 아미노 화합물을 적당한 조건하에 알킬 또는 할로알킬술포닐할라이드 또는 술폰산 무수물과 반응시키고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다. 이 반응에서 적당한 아미노 보호기는 아미노 화합물을 알킬오르토포르메이트로 처리함으로써 수득된 알콕시알킬리덴이미노기이다. 이런 기를 위한 탈 보호단계는 대표적으로는 수성 가수분해이다.

E) R³가 알킬아미노카르보닐아미노 또는 아릴아미노카르보닐아미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 적당히 보호된 아미노 화합물을 알킬 또는 아릴기가 상기에 정의된 바와 같은 알킬 또는 아릴이소시아네이트와 반응시키고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

우레아의 형성에 적당한 조건은 문헌[J. March in Advanced Organic Chemistry McGraw - Hill publ. (1985), p 802 및 그에 인용된 참고 문헌] 에 설명되어 있다. 이러한 반응에서 적당한 아미노 보호기는 전술한 바와 같이 탈보호 되는 알콕시알킬리덴이미노기이다.

F) R³가 알콕시카르보닐아미노 또는 할로알킬옥시카르보닐아미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 적당히 보호된 아미노 화합물을 알킬클로로포르메이트 또는 할로알킬클로로포르메이트와 반응시키고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

G) R³가 알킬리덴이미노 또는 벤질리덴이미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 적당히 보호된 아미노 화합물을 알킬 또는 아릴기가 상기에 정의된 바와 같은 알킬 또는 아릴알데히드와 축합시키고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다. 쉬프 염기의 형성에 적당한 조건이 문헌 (J. March in ibid p 1165 및 그에 인용된 참고 문헌) 에 기재된 바와 같이 축합 단계를 위해 선택될 수 있다. 적당한 아미노 보호기는 아세틸 또는 트리플루오로아세틸이며, 탈보호는 알칼리 가수분해 또는 문헌 [T. W. Greene in Protective Groups in Organic Synthesis J. Wiley publ (1981) p 254 및 그에 인용된 참고 문헌] 에 기재된 기타의 방법에 의해 성취될 수 있다.

H) R³가 알콕시알킬리덴이미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 보호된 아미노 화합물을 알킬오르토에스테르와 축합시키고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다. 적당한 보호기는 문헌 (T. W. Greene ibid p 223 및 249)에 기재된 아미드 또는 카르바메이트 유도체이다.

I) R³가 디알킬아미노알킬리덴이미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 화합물을 문헌 (T. W. Greene, ibid, p 275)에 기재된 바와 같이 N, N - 디알킬포름아미드의 디알킬아세탈 유도체와 반응시키고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다. 또는, (XV)의 화합물을 빌스마이어조건하 포스포러스옥시클로라이드와 같은 시약 존재하에 N, N - 디알킬포름아미드와 반응시킨다. 적당한 보호기는 아미드 또는 카르바메이트 유도체이다.

J) R³가 알킬티오알킬리덴이미노, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 화합물을 용매로서 피리딘중에서 임의로는 예를 들면 디메틸 (메틸티오) 술포늄테트라플루오로보레이트와 같은 적당한 촉매존재하에 트리스 (알킬티오) 메탄과 반응시킴으로써 제조될 수 있다.

K) R³가 아지도, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XV)의 화합물을 문헌(J. March ibid, p 573 및 그에 인용된 참고 문헌)에 기재된 조건하 p-톨루엔술포닐아지드와 반응시키고 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다. 또는, R³가 아지도인 상술한 화합물은 일반식(XV)의 화합물의 아미노기를 디아조늄염으로 전환시키고, 히드라지노기로 환원시킨 후, 아질산으로 처리하여 아지드를 수득하고, 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

[방법 19]

A) R³가 상기에서 정의된 바와 같이 치환된 페닐 또는 헤테로아릴, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 유용한 중간체 화합물은 아미노기가 적당한 보호기로 임의 보호된 일반식(XI)의 화합물을 검버그 - 바크만 (Gomberg-Bachmann) 반응조건 (M. Swainsburg in Tetrahedron 1980, 36, 3327-3359 및 그에 인용된 참고 문헌) 하 적당히 치환된 페닐 또는 헤테로 아릴디아조늄염으로 처리함으로써 제조될 수 있다.

B) 또는, R³가 상기에 정의된 바와 같이 치환된 페닐 또는 헤테로 아릴, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 중간체 화합물은 아미노기가 적당한 보호기로 임의 보호된 일반식(XII)의 화합물을 울만(Ullmann) 반응조건 (M. Swainsbury ibid)하 구리 존재하에 적당히 치환된 페닐 또는 헤테로아릴할라이드, 바람직하게는 브로마이드 또는 요오다이드로 처리함으로써 제조될 수 있다.

C) 또는, R³가 상기에 정의된 바와 같이 치환된 페닐 또는 헤테로 아릴, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 중간체 화합물은 일반식(XII)의 화합물, 바람직하게는 브로마이드 또는 요오다이드를 문헌 (V. Snieckus et al. in Tetrahedron Letters 1988, 29, 2135 및 그에 인용된 참고 문헌)에 기재된 것과 유사한 조건하 팔라듐 [0]존재하에 적당히 치환된 페닐 또는 헤테로아릴보론산으로 처리함으로써 제조될 수 있다.

[방법 20]

R³가 시아노기, R¹이 아미노기, R²가 시아노기, 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 16에서 설명된 R³가 히드록시이미노메틸리데닐 또는 알콕시이미노메틸리데닐인 일반식(I)의 화합물을 방법 14의 공정에 따라 탈수시킴으로써 제조될 수 있다.

[방법 21]

R³가 할로알킬카르보닐 또는 할로알킬티오카르보닐, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식(XIV)의 임의로 아미노 보호된 화합물을 방법 8과 같은 방법으로 처리하고, 필요하다면 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

[방법 22]

A) R³가 할로알킬, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 아미노기가 임의로 보호된 일반식(XII) 또는 (XIV)의 화합물을 방법 6,7 및 9의 공정에 따라 처리하고, 필요한 경우 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

B) R³가 알킬, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 아미노기가 임의로 보호된 일반식(XIV)의 화합물을 알킬할라이드 또는 알킬리튬으로부터 유도된 그리나드 시약과 반응시켜 카르비놀을 수득하고, 탈수시켜 R³가 알케닐인 화합물을 수득한 후, 환원시킴으로써 제조될 수 있다.

R³가 메틸이고, 기타 치환체는 상술한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 7의 공정에 의해 일반식(XIV)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 23]

R³가 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 기 및 상술한 바와 같이 형성 및 / 또는 치환된 페닐 및 헤테로아릴기인 일반식(I) 의 화합물, 즉 일반식(XVI)의 화합물은 방법10과 유사한 조건하 일반식(XI)의 화합물로부터 제조될 수 있다. 이러한 방법은 하기식으로 나타낼 수 있다.

R이 알킬을 나타내는 일반식(XVI)의 화합물은 R³가 티오시아네이토 및 다른 치환체는 (XVI)에서 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 방법11과 유사한 방법에 의해 알킬할라이드 등으로 처리함으로써 제조될 수 있다.

[방법 24]

R³가 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술포닐, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의한 바와 같은 기 및 상술한 바와 같이 형성 및 / 또는 치환된 페닐 및 헤테로아릴기인 일반식(I) 의 화합물은 일반식(XVI)의 화합물을 방법12와 유사한 방법으로 산화시킴으로써 제조될 수 있다. X가 바람직하지 못한 경쟁적 산화를 일으킬 수 있는 RS 기인 경우, 상기 공정에 따른 술페닐화를 X가 할로겐, 바람직하게는 브롬 또는 요오드, R¹이 아미노, R²가 시아노, R³가 수소 및 다른 치환체는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물에 수행하고, 산화시킨후, 문헌(C. Kruse et al. in Heterocycles 1989, 29, 79)과 유사한 공정에 의해 알킬리튬으로 처리하고, 수성 냉각시켜 일반식(XVII)의 화합물을 수득할 수 있다.

그리고, 화합물(XVII)를 술페닐화하여 일반식(XVIII)의 화합물을 수득할 수 있다. 이러한 공정은 다음과 같이 나타낼 수 있다.

[방법 25]

R³가 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시, R¹이 아미노, R²가 시아노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 아미노기가 임의로 보호된 일반식(XII)의 화합물을 방법 5와 유사한 방법으로 처리하고, 필요하다면 탈보호시킴으로써 제조될 수 있다.

[방법 26]

A) R¹이 수소, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식 (XX)의 화합물은 R¹이 아미노, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식(XIX)의 화합물을 테트라히드로푸란 또는 아세토니트릴과 같은 불활성 용매중에서 바람직하게는 t-부틸나이트라이트와 같은 알킬나이트라이트로 디아조화함으로써 제조될 수 있다. 이 반응은 -80℃ 내지 용매의 환류 온도, 바람직하게는 0℃~25℃에서 수행될 수 있다.

B) R¹이 할로겐, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 본 발명의 일반식(XXI)의 화합물은 일반식(XIX)의 화합물을 브로모포름, 사염화탄소, 무수염화제2구리 또는 요오드와 같은 할로겐원자 공여체 존재하에 알킬나이트라이트, 예를 들면 t-부틸나이트라이트로 디아조화함으로써 제조될 수 있다.

C) R¹이 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같은 기 및 상술한 바와 같이 형성 및/ 또는 치환된 페닐 및 헤테로아릴기인 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식 (XXII)의 화합물은 일반식(XIX)의 화합물을 R이 상기에 정의된 바와 같은 알킬, 할로알킬, 알케닐, 할로알케닐, 페닐 또는 헤테로아릴기인 일반식 RSSR의 이황화물 또는 (SCN)₂의 존재하에 알킬나이트라이트로 처리함으로써 제조될 수 있다.

이 반응은 일반적으로 클로로포름과 같은 용매중에서 0℃에서 1~5당량의 알킬나이트라이트 및 2~5당량의 이황화물에 의해 수행된다.

이러한 방법을 하기에 나타낸 바와 같이 설명될 수 있다.

[방법 27]

또한, 일반식(XXII)의 많은 화합물들은 방법 10과 유사한 공정에 의해 R³가 아미노인 일반식(XX)의 화합물로부터 제조될 수 있다. 아미노기를 본 발명의 다른 작용기로 전환시키는 공정은 상술한 공정중의 한 공전에 의해 수행될 수 있다.

[방법 28]

R¹가 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술포닐, R²이 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 기 및 상술한 바와 같이 형성 및 / 또는 치환된 페닐 및 헤테로아릴기인 일반식(I) 의 화합물은 일반식(XXII)의 화합물을 방법24의 방법에따라 산화시킴으로써 제조될 수 있다. X 또는 R³기가 설파이드로 산화 단계에서 유지될 수 있는 SR 기이면, 목적 화합물을 제공하기 위해 방법24와 유사한 공정이 채택될 수 있다.

[방법 29]

R¹이 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노 또는 아지도, R²이 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 18과 유사한 방법에 의해 일반식(XIX)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 30]

A) R¹이 포르밀, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 일반식 (XIX)의 화합물을 문헌 (W. F. Beech J. Chem. Soc. 1954, 1297)과 유사한 방법에 따라 아질산나트륨, HC=NOH, 황산구리 및 HCl로 처리함으로써 제조될 수 있다. (XIX)에서 R³가 아미노기이면, 적당히 보호할 수 있다. R¹이 포르밀인 상기의 화합물은 표준 티오아세탈화방법 (T. W. Greene ibid p 130 및 그에 인용된 참고 문헌)에 의해 R¹이 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸기인 화합물로 전환될 수 있다. 또는 R¹이 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸, R²가 시아노, R³가 아미노 및 X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 14와 유사한 공정에 의해 R³가 아미노인 일반식(XX)의 화합물로부터 제조될 수 있다. 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸기를 포르밀로 전환시키는 공정은 방법 15와 유사한 공정에 의해 수행될 수 있다. 아미노 작용기를 본 발명의 다른 작용기로 전환시키는 공정은 상술한 공정에 의해 수행될 수 있다.

B) R¹이 히드록시이미노알킬리데닐 또는 알콕시이미노 알킬리데닐, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 16과 유사한 공정에 의해 R¹이 알킬카르보닐 또는 포르밀이고, 다른 치환체는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물로부터 제조될 수 있다. R¹이 알킬카르보닐인 상기의 화합물은 R¹이 할로겐인 상응하는 화합물을 그리나드 시약 또는 리튬 유도체로 전환시키고, 방법 5와 같은 방법으로 시아노기를 임의 보호한 후, 지방족 산염화물 또는 무수물과 반응시키거나, 지방족 알데히드와 축합시키고 산화시킴으로써 제조될 수 있다. 또는 R¹이 알킬카르보닐인 화합물은 R¹이 포르밀인 상응하는 화합물을 알킬 그리나드 시약과 반응시키고, 산화시킴으로써 제조될 수 있다.

C) R¹이 시아노, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 4A)와 유사한 공정에 의해 R¹이 히드록시이미노 메틸리데닐 또는 알콕시이미노 메틸리데닐인 상응하는 화합물로부터 제조될 수 있다.

D) R¹이 할로알킬카르보닐 또는 할로알킬티오카르보닐, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 R¹이 포르밀이고, 다른 치환체는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 방법 8과 유사한 조건하에 처리함으로써 제조될 수 있다.

E) R¹이 할로알킬 또는 알킬, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 R¹이 포르밀 또는 할로겐이고, 기타 치환체는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 방법 22와 유사한 조건하에 처리함으로써 제조될 수 있다.

[방법 31]

R¹이 상기에 정의된 바와 같이 치환된 페닐 또는 헤테로아릴, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 19B) 및 19C)와 유사한 방법에 의해 R¹이 할로겐이고, 다른 치환체는 상기에 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 32]

R¹이 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시, R²가 시아노 및 R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 5와 유사한 방법에 의해 일반식(XXI)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 33]

R²가 포르밀, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식(XXIV)의 화합물은 R²가 시아노, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물, 즉 일반식(XXIII)의 화합물을 문헌 (S. Trofimenko in J. Org. Chem. 1964, 29, 3046)과 유사한 공정에 의해 용매, 바람직하게는 톨루엔과 헥산의 1:1 혼합물중에서 환원제, 바람직하게는 디이소부틸알루미늄하이드라이드로 처리함으로써 제조될 수 있다. 이러한 공정은 하기와 같이 나타낼 수 있다.

[방법 34]

R²가 카르복실산 작용기, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 유용한 중간체 화합물, 즉 일반식(XXV)의 화합물은 일반식(XXIV)의 화합물을 존스시약으로 산화시킴으로써 제조될 수 있다.

이러한 공정은 하기와 같이 나타낼 수 있다.

[방법 35]

R²가 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 알킬, 비스 (알킬티오) 메틸, 비스 (아릴티오) 메틸할로알킬, 및 R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 30 A), B), D) 및 E)와 유사한 공정에 의해 일반식(XXIV)의 화합물 또는 방법 38에서 제조된 R²는 할로겐이고 다른 치환체는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 36]

R²가 아미노, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같은 화합물, 즉 일반식(XXVII)의 화합물은 일반식(XXV)의 화합물을 t-부탄올과 같은 알콜성 용매중에서 트리에틸아민과 같은 유기염기 존재하에 디페닐포스포릴아지드로 처리하여, 카르바메이트 (XXVI)를 제조하고, 가수분해함으로써 제조될 수 있다. 커티우스 재배열을 통한(XXV)로부터 (XXVII)의 또다른 제조방법은 산클로라이드로 전환시켜 아지드이온과 반응시키고 알콜로 처리하는 것이다 (J. March in Advanced Organic Chemistry McGraw-Hill publ (1985)p985) 이러한 반응은 다음과 같이 나타낼 수 있다.

[방법 37]

R²가 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노 또는 아지도, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 18과 유사한 공정에 의해 화합물(XXVII)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 38]

R²가 수소, 할로겐, 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y 는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 26과 유사한 방법에 의해 일반식(XXVII) 의 화합물로부터 제조될 수 있다.

또는 R²가 수소, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y 가 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 구리존재하에 데칼린 또는 퀴놀린과 같은 고비등 용매중에서 환류 또는 가열하 빙초산에 녹인 48% HBr 과 함께 가열함으로써 일반식(XXV)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 39]

R²가 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술포닐, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 R²가 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식(I)의 화합물을 방법 24와 유사한 공정에 의해 산화시킴으로써 제조될 수 있다.

[방법 40]

R²상기에 정의된 바와 같이 치환된 페닐 또는 헤테로아릴, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 방법 19B 및 19C와 유사한 공정에 의해 R²는 할로겐이고 다른 치환체는 상기에 정의된 바와같은 일반식(I)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

[방법 41]

R²가 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시, R¹, R³, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와같은 일반식(I)의 화합물은 방법 5와 유사한 공정에 의해 R²가 할로겐이고 다른 치환체는 상기에 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물로부터 제조될 수 있다.

본 발명의 전체적인 방법은 하기에 설명하는 바와 같이 정외될 수 있다.

P₁. 하기 일반식

(식중, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같고, X는 할로겐, 트리플루오로메틸, 시아노, 티오시아네이토, 알킬티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐티오, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴술피닐 또는 헤테로아릴술포닐이다) 의 화합물의 제조방법으로서, 아미노가 임의로 보호된 하기 일반식

의 화합물을 (a) 임의로 용매존재하에 할로겐화제와 반응시켜 X가 할로겐인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 공지의 방법으로 트리플루오로메틸구리와 반응시켜 X 가 트리플루오로메틸인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법:

(b) 루이스산 존재하에 트리스(알킬티오) 메탄 또는 트리스 (아릴티오) 메탄과 반응시키고, 수득된 X가 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸인 일반식(XXXVI) 의 화합물을 적당한 알킬나이트라이트와 반응시킨 후, 가수분해하여 X가 포르밀인 일반식(XXXVII) 의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 히드록실아민과 접촉시킨후, 공지의 방법으로 P₂O₅와 같은 적당한 시약으로 탈수시켜 X가 시아노기인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법: (c) 메탄올과 같은 용매중에서 브롬의 존재하에 일반식 MSCN (식중, M 은 알칼리금속이다)의 화합물과 반응시켜 X 가 티오시아네이토기인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 임의로 용매중에서 NaOH 또는 KOH 와 같은 염기존재하에 알킬할라이드 또는 디알킬설페이트와 반응시켜 X가 알킬티오인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법: 또는 (d) 유기액체 반응매질에서 임의로 3차아민과 같은 산 수용체 존재하에 일반식 RSHal (식중, R 은 알킬, 할로알킬, 페닐 또는 헤테로아릴기이고, Hal 은 할로겐원자이다) 의 술페닐할라이드와 반응시켜 X 가 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하고, 임의로 수득된 화합물을 공지의 방법으로 산화시켜 반응조건에 따라 X가 RS(O)n (식중 n은 1 또는 2이다)인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법.

P2. X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같고, X가 시아네이토, 알콕시, 할로알콕시인 일반식(Ia)의 화합물의 제조방법으로서, 아미노 및 시아노기가 필요하다면 적당히 보호된 하기 일반식(XXVIII)

의 화합물을 (a) 산 수용체 존재하에 시아노겐할라이드와 반응시켜 X가 시아네이토인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법; (b) 임의로 염기 존재하에 알킬화제와 반응시켜 X가 알콕시인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법; 또는 (c) 문헌 (Synthesis of Fluoroorganic Compounds ; Knunyants, I. L. and Yakobson, G. G. Ed.; Springer-Verlag: Berlin, 1985; p 263-269)에 따라 공지의 방법으로 할로알킬화하여 X가 할로알콕시인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법.

P3. X¹, X², X³, X⁴및 Y가 상기에 정의된 바와 같고, X가 할로알킬 [CF₂H, CF₃, BrCH₂, ClCH₂], 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐 또는 α-할로알킬-α-할로메틸인 일반식(Ia)의 화합물의 제조방법으로서, 아미노 및 시아노기가 필요하다면 적당히 보호된 하기 일반식(VI)

의 화합물을 (a) 공지의 방법으로 디에틸아미노술포트리플루오라이드와 같은 플루오르화제와 반응시켜 X가 디플루오로메틸기인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법: (b) 황산중에서 삼산화크로뮴과 같은 적당한 산화제와 반응시켜 X가 카르복실산기인 화합물을 수득하고, 이 화합물을 공지의 방법으로 사플루오르화 황과 같은 플루오르화제와 반응시켜 X가 트리플루오로메틸인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법; (c) 울프-퀴쉬너 (Wolff-Kishner) 조건하에 반응시키거나 p-톨루엔술포닐히드라지드로 처리하고 소듐시아노보로 하이드라이드로 처리하여 X가 메틸기인 화합물을 수득하고, 이 화합물을 적당한 용매 중에서 N-브로모숙신이미드 또는 N-클로로숙신이미드와 같은 할로겐화제로 처리하여 X가 브로모메틸 또는 클로로메틸인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법; 또는 (d) 할로알킬금속 유도체 또는 트리플루오로메틸트리메틸 실란으로 처리하여 X가 할로알킬카르비놀인 일반식의 화합물을 수득하고, 공지의 방법으로 산화시켜 X가 할로알킬카르보닐인 일반식(Ia)의 화합물을 수득한 후, 임의로 이 화합물을 라베슨(Lawesson)의 시약으로 처리하여 X가 할로알킬 (티오카르보닐)인 일반식(Ia)의 화합물 또는 X가 할로알킬카르비놀인 화합물을 수득하고 이를 염화티오닐 또는 브롬화수소와 같은 할로겐화제와 반응시켜 X가 α-할로알킬-α-할로메틸인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하는 방법 (상기의 전단계에서 필요하다면 탈보호단계를 수행한다)

P₄. 하기의 일반식 (Ib)

(식 중, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같고, R³는 할로겐, 포르밀, 비스 (알킬티오 또는 아릴티오) 메틸, 할로알킬, 알킬, 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴, 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오, 헤테로아릴티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐 또는 헤테로아릴술포닐이다)의 화합물의 제조방법으로서, X, 시아노 및 아미노가 필요하다면 적당한 방법으로 임의 보호된 일반식(Ia)의 화합물을

(a) 방법 P₁(a)에 따라 반응시켜 R³가 할로겐인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 구리존재하에 공지의 방법으로 임의 치환된 헤테로아릴 또는 페닐할라이드, 바람직하게 브로마이드 또는 요오다이드와 임의로 반응시키고, R³가 바람직하게는 브로마이드 또는 요오다이드인 화합물을 팔라듐 존재하에 공지의 방법으로 임의 치환된 페닐 또는 헤테로아릴보론산과 임의로 반응시켜 R³가 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴기인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하거나, R³가 할로겐인 일반식(Ia)의 화합물을 방법 P₁(a)에 따라 반응시켜 R³가 트리플루오로메틸인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하는 방법;

(b) 방법 P₁(b)에 따라 반응시켜 R³가 비스 (알킬티오) 메틸기 또는 비스 (아릴티오) 메틸기인 일반식(Ib)의 화합물을 먼저 수득하고, 임의로 R³가 포르밀인 일반식 (Ib)의 화합물을 수득하는 방법;

(c) 공지의 방법으로 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴디아조늄임과 반응시켜 R³가 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하는 방법; 또는

(d) 방법 P₁(c,d) 에 따라 반응시켜 R³가 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, 임의로 P₁(d)의 방법에 따라 산화시켜 R³가 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐 또는 헤테로아릴술피닐이며, 단 X는 바람직하지 못한 산화반응을 일으킬 수 있는 RS가 아닌 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, X가 할로겐일 때 공지의 방법으로 임의로 알칼리륨으로 처리한 후, 수성냉각 및 방법 P₁(c,d)에 따라 술페닐화하여 X가 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하는 방법.

P₅. X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같고, R³가 히드록시아미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐, 시아노, 할로알킬카르보닐 또는 할로알킬티오카르보닐 또는 알킬인 일반식 (Ib)의 화합물의 제조방법으로서, 하기 일반식(XXIX)

(식 중, R³는 포르밀 또는 알킬카르보닐이고, X, 시아노 및 아미노는 필요하다면 적당한 방법으로 보호된다)의 화합물을

(a) 에탄올과 같은 용매중에서 히드록실아민 또는 O-알킬히드록실아민 또는 그의 부가염과 축합시켜, R³가 히드록시이미노알킬리데닐 또는 알콕시이미노알킬리데닐인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, R³가 히드록시이미노메틸리데닐 또는 알콕시이미노메틸리데닐일 때 방법 P₁(b)에 따라 물 또는 알콜의 원소를 임의로 제거하여 R³가 시아노기인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하는 방법;

(b) R³가 포르밀일 때 방법 P₃(a,b,c,d)에 따라 반응시켜 R³가 메틸 또는 할로알킬 또는 할로알킬카르보닐 또는 할로알킬티오카르보닐기인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하는 방법; 또는

(c) R³가 포르밀일 때 알킬할라이드 또는 알킬리튬으로부터 유도된 그리나드 시약과 반응시켜 카르비놀을 제조하고, 탈수시켜 R³가 알케닐인 화합물을 제조한 후, 환원시켜 R³가 알킬인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고 임의로 탈 보호시키는 방법.

P₆. 중간체 화합물로 유용한 하기 일반식(XXXIV)

(식중, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 상기에 정의된 바와 같고, R³는 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노 또는 아지도이다)와 화합물의 제조방법으로서, 아미노기가 적당한 방법으로 보호된 하기 일반식(XXX)

의 화합물을 환원시켜 R³가 아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을

(a) 유기용매중에서 적당한 알킬화제와 반응시켜 화학양론비 또는 반응조건에 따라 모노 또는 디치환된 아미노기를 수득하거나 아미노기를 알콕시알킬리덴이미노로 전환시키고 환원시켜 R³가 알킬아미노, 디알킬아미노 또는 아르알킬아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(b) 포스겐과 반응시킨 후 암모니아로 처리하여 R³가 아미노카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(c) 임의로 용매 및 / 또는 유기산 수용체 존재하에 알킬산 염화물 또는 할로알킬산 염화물 또는 아릴산클로라이드 또는 그의 무수물과 반응시켜 R³가 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노 또는 아릴카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(d) 적당한 조건하에 알킬 또는 할로알킬술포닐할라이드 또는 그의 무수물과 반응시켜 R³가 알킬술포닐아미노 또는 할로알킬술포닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(e) 공지의 방법으로 알킬 또는 아릴이소시아네이트와 반응시켜 R³가 (알킬아미노 또는 아릴아미노) 카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(f) 공지의 방법으로 알킬클로로포르메이트 또는 할로알킬클로로포르메이트와 반응시켜 R³가 알콕시카르보닐아미노 또는 할로알콕시카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(g) 공지의 방법으로 알킬 또는 아릴알데히드와 반응시켜 R³가 알킬리덴이미노 또는 벤질리덴이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(h) 알킬오르토에스테르와 반응시켜 R³가 알콕시알킬리덴이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(i) N,N-디알킬포름아미드 또는 그의 디알킬아세탈 유도체와 반응시켜 R³가 디알킬아미노알킬리덴이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법;

(j) 유기용매중에서 트리스 (알킬티오) 메탄과 반응시켜 R³가 알킬티오알킬리덴이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법; 또는

(k) 공지의 방법으로 p-톨루엔술포닐아지드와 반응시키거나 디아조늄염으로 전환시킨후, 히드라지노기로 환원시키고, 질산으로 처리하여 R³가 아지도기인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득한 다음 필요하다면 탈보호시키는 방법.

P₇. X, X¹, X², X³, X⁴및 Y 가 상기에 정의된 바와 같고, R³가 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식(Ib)의 화합물의 제조방법으로서, 하기 일반식(XXXI)

(식중, 아미노, 시아노 및 X 는 적당한 방법으로 임의 보호된다)의 화합물을 방법 P₂(a), (b), (c)에 따라 반응시켜 R³가 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하는 방법.

P₈. 하기일반식 (Ic)

(식중, X, R³, X¹, X², X³, X⁴, Y는 상기에 정의된 바와 같고, R¹은 수소, 할로겐, 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오, 헤테로아릴티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술포닐, 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴, 알킬카르보닐, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노, 아지도, 비스 (알킬티오 또는 아릴티오) 메틸, 포르밀, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 할로알킬 또는 알킬이다)의 화합물의 제조방법으로서, 방법 P₄내지 P₇에 따라 제조되며, 필요하다면 X, R³또는 시아노기의 보호 후 아미노기가 탈보호된 하기 일반식 (Ib) 또는 (XXXIV)

의 화합물을

(a) 불활성 용매중에서 디아조화제, 바람직하게는 알킬나이트라이트와 반응시켜 R¹이 H 인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하는 방법;

(b) 할로겐 공여체 존재하에 디아조화제, 바람직하게는 알킬나이트라이트와 반응시켜 R¹이 할로겐인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하고, 임의로 이 화합물을 그리나드 시약 또는 리튬 유도체와 반응시킨 후, 지방족산클로라이드 또는 그의 무수물과 반응시켜 R¹이 알킬카르보닐인 일반식(Ic)의 화합물로 전환시키거나, 방법 P₄(a)에 따라 반응시켜 R¹이 페닐 또는 헤테로아릴인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하는 방법;

(c) 클로로포름과 같은 용매중에서 (SCN)₂또는 이황화물 존재하에 디아조화제, 바람직하게는 알킬나이트라이트와 반응시켜 R¹이 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하고, 방법 P₁(d)에 따라 임의로 산화시켜 R¹이 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐 또는 헤테로아릴술포닐인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하는 방법;

(d) 방법 P₆(a-k)에 따라 반응시켜 R¹이 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노 또는 아지도인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하는 방법; 또는

(e) 공지의 방법에 따라 아질산나트륨 및 포름알독심, 황산구리 및 HCl 과 반응시켜 R¹이 포르밀인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하고, 임의로 (i) 알킬그리나드 시약과 반응시킨후 이어서 산화시켜 R¹이 알킬카르보닐인 일반식(Ic)의 화합물로 전환시키거나, (ii) 방법 P₅에 따라 반응시켜 R¹이 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐 또는 시아노인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하거나, (iii) 방법 P₃(a-d)에 따라 반응시켜 R¹이 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 할로알킬 또는 알킬인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하고, 필요하다면 탈보호 시키거나; R¹이 포르밀인 상기의 화합물을 공지의 방법으로 R¹이 비스 (알킬티오 또는 아릴티오)메틸인 일반식(Ic)의 화합물로 전환시키는 방법

P₉. X, R³, X¹, X², X³, X⁴, Y가 상기에 정의된 바와 같고, R¹이 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식(Ic)의 화합물의 제조방법으로서, X, 시아노 또는 R³가 공지방법에 의해 임의 보호된 하기 일반식(XXXII)

의 화합물을 방법 P₂(a,b,c)에 따라 반응시켜 R¹이 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하고, 임의로 탈보호 시키는 방법.

P₁₀. X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴, Y가 상기에 정의된 바와같고, R²가 CHO인 일반식(I)의 화합물의 제조방법으로서, 일반식(Ic)의 화합물을 용매중에서 환원제, 바람직하게는 디이소부틸알루미늄하이드라이드로 처리하여 R²가 CHO인 화합물을 수득하고, 이 화합물을 공지방법에 의해 임의로 산화시켜 하기 일반식(XXXV)

의 상응하는 화합물을 수득하는 방법.

P₁₁. X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴, Y가 상기에 정의된 바와 같고, R²가 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 알킬, 할로알킬, 비스(알킬티오 또는 아릴티오) 메틸 또는 시아노인 일반식(I)의 화합물의 제조방법으로서, R²가 CHO인 일반식(I)의 화합물을 필요하다면 공지의 방법으로 X, R¹또는 R³를 임의로 보호한 후, 방법 P₃(a,b,c,d), P₅(a,b) 또는 P₈(e)에 따라 반응시키고, 필요하다면 탈보호시키는 방법.

P₁₂. X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴, Y가 상기에 정의된 바와 같고, R²가 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노, 아지도, 수소, 할로겐, 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오, 헤테로아릴티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술포닐, 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴 또는 트리플루오로메틸인 일반식(I)의 화합물의 제조방법으로서, 일반식(XXXV)의 화합물을 필요하다면 공지의 방법으로 X, R¹또는 R³를 임의로 보호한 후 커티우스 재배열조건하에 반응시킴으로써 예를 들면 산클로라이드로 전환시키고 알칼리금속아지드와 반응시키거나, 알콕성용매중에서 트리에틸아민과 같은 유기염기 존재하에 디페닐포스포릴 아지드와 반응시켜 카르바메이트를 제조한 후, 가수분해하여 R²가 아미노인 상응하는 화합물을 수득하고, 방법 P₆(a-k) 또는 P₈(a-c)에 따라 임의로 반응시킨 다음, R²가 할로겐일 때 방법 P₄(a)에 따라 임의로 반응시키고, 필요하다면 탈보호시키는 방법.

P₁₃. X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴, Y가 상기에 정의된 바와 같고, R²가 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식(I)의 화합물의 제조방법으로서, 하기 일반식(XXXVI)

의 화합물을 필요하다면 X, R¹또는 R³기를 임의로 보호한 후, 방법 P₇에 따라 반응시키고, 필요하다면 탈보호시키는 방법.

P₁₄. 방법 P₂, P₇, P₁₀또는 P₁₃에 따라 일반식 (XXVIII), (XXXI), (XXXVI) 및 (XXXVII)의 화합물의 제조방법으로서, 방법 P₁(a), P₄(a), P₈(b) 또는 P₁₂에 따른 상응하는 할로겐화 화합물을 필요하다면 아미노기 보호한 후 그리나드 시약 또는 리튬 유도체로 전환시키고, 트리알킬보레이트와 반응시킨 다음, 공지의 방법으로 산화시키고, 필요하다면 탈보호시키는 방법.

P₁₅. 하기일반식(III)

(식중, X¹, X², X³, X⁴, Y는 일반식(I)에서 정의한 바와 같다)의 화합물의 제조방법으로서, 하기 일반식(IV)

의 디시아노프로펜 유도체를 염기성 시약과 반응시키는 방법.

P₁₆. 본 발명은 방법 P₁내지 P₁₅에 따라 일반식(I)의 화합물을 제조하기 위한 중간체 화합물로 특히 유용한 일반식(III) 및 (XXVIII) 내지 (XXXVII)의 화합물 (각종 치환체는 상기에 정의된 바와 같다)에 관한 것이다.

(기타의 방법들)

X가 퍼할로알킬티오기인 일반식(I)의 화합물은 클로로술폰화, 이황화물에로의 환원 및 최종적으로 자유라디칼 촉진 환원반응에 의해 제조한다. 이 방법은 다음과 같다;

A) R¹, R², R³, Y, X¹, X², X³및 X⁴의 정의가 상기 일반식(I)에서와 동일한 일반식(XXXIX)의 화합물 (하기참조)는 X가 수소인 화합물을 0℃~150℃의 반응온도에서 클로로포름, 디클로로메탄, 사염화탄소 또는 디메틸포름아미드 같은 유기용매의 존재하에 또는 부재하에 클로로술폰산으로 처리하여 제조할 수 있다. 보다 구체적인 예는 R¹이 아미노, 알킬카르보닐아미노 또는 할로알킬카르보닐아미노이고, R²가 시아노이고, R³이 수소이고 X가 수소인 일반식(XXXVIII)의 화합물을 클로로술폰산으로 처리하여 R¹이 아미노, 알킬카르보닐아미노 또는 할로알킬카르보닐아미노이고, R²가 시아노이고 R³이 수소인 일반식(XXXIX)의 화합물 (하기참조)을 제조하는 것이다. 방향족화합물의 클로로술폰화를 위한 대표적인 공정은 문헌 [J, March, Advanced Organic Chemistry, McGraw-Hill publ. (1968), p,402]에 기재되어 있다.

R¹, R², Y, X¹, X², X³및 X⁴의 정의가 상기 일반식(I)에서와 동일한 일반식(XL)의 화합물 (하기참조)은 R³수소인 (XXXIX)의 화합물을 -70℃~250℃의 반응온도에서 디에틸에테르, 아세토니트릴 또는 디클로로메탄 같은 유기용매중에서 염소, N-클로로숙신이미드 또는 술퍼릴클로라이드 같은 염소화제로 처리하여 제조할 수 있다. 보다 구체적인 예는 R¹이 아미노, 알킬카르보닐아미노 또는 할로알킬카르보닐아미노이고 R²가 시아노이고 R³이 수소인 일반식(XXXIX)의 화합물을 디에틸에테르중에서 -40℃에서 술퍼릴클로라이드로 처리하여 R¹이 아미노, 알킬아미도 또는 할로알킬아미도이고 R²가 시아노인 일반식(XL)의 화합물을 제조하는 것이다.

B) R¹, R², Y, X¹, X², X³및 X⁴의 정의가 상기 일반식 (I) 에서와 동일한 일반식 (XLI)의 화합물 (하기 참조)는 0℃~110℃의 반응온도에서 테트라히드로푸란, 톨루엔 또는 디클로로메탄 같은 유기용매의 존재하에 일반식(XXXIX)의 화합물을 트리페닐포스핀 같은 환원제로 처리하여 제조할 수 있다. 보다 구체적인 예는, R¹이 수소, 아미노, 알킬카르보닐아미노 또는 할로알킬카르보닐아미노이고, R²가 시아노이고 R³이 수소 또는 Cl인 일반식(XXXIX)의 화합물을 테트라히드로푸란중에서 25℃에서 트리페닐포스핀으로 처리하여 R¹이 수소, 아미노, 알킬카르보닐아미노 또는 할로알킬카르보닐아미노이고, R²가 시아노이고, R³이 수소 또는 Cl인 일반식(XLI)의 화합물을 제조하는 것이다.

틀루엔을 p-톨릴디술피드로 환원시키는 공정의 대표적인 예는 문헌 [G. A. Olah et al., J. Org. Chem. 1980, 45. 4792]에 기술되어 있다.

C) R¹, R², Y, X¹, X², X³및 X⁴의 정의가 상기 일반식 (I) 에서와 동일하고, X가 퍼할로알킬티오기, R⁶S (R⁶은 CFR⁷R⁸이고, R⁷은 F, Cl 또는 Br 이고, R⁸은 F, Cl, Br 또는 퍼할로알킬기이다)인 일반식(I)의 화합물은 ZCFR⁷R⁸로부터 자유 라디칼 CFR⁷R⁸의 형성을 촉진 할 수 있고, 바람직하게는 아연, 카드륨, 알루미늄, 망간 등의 금속, 또는 황의 산화물을 갖는 화합물, 예를 들면 디티오나이트 또는 히드록시메틸술피네이트로부터 선택된 환원제를 이용하여 일반식(XLI)의 화합물과 Z가 Cl, Br 또는 I 이고, R⁷이 F, Cl 또는 Br이고, R⁸이 F, Cl, Br 또는 퍼할로알킬기인 일반식(XLII)의 퍼할로알칸화합물을 반응시켜 제조할 수 있다. 금속 디티오나이트, 예를 들면 알칼리 디티오나이트 또는 알칼리토류 디티오나이트는 일반식(XLIII), Mn(S₂O₄) (식중, n은 금속 M의 원자가에 따라 1 또는 2일 수 있다)에 상응한다. 일반식(XLIII)의 디티오나이트 또는 히드록시메틸술피네이트를 사용하는 경우에는, 예를 들면 알칼리 수산화물, 알칼리토류 수산화물, 암모니아, 트리에틸벤질암모늄중에서 선택된 염기, 또는 인산이나트륨, 메타이아황산나트륨, 아황산수소나트륨 또는 붕산나트륨 같은 약산의 염을 가할 필요가 있다. 반응은 일반적으로 20℃~85℃의 반응온도에서 아세토니트릴, 포름아미드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미도, 헥사메틸포스포르아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드 또는 술폴란 같은, 디티오나이트 또는 히드록시메틸술피네이트 및 화합물(XLII), ZCFR⁷R⁸을 용해시킬 수 있는 용매 중에서 수행한다. 알칼리 디티오나이트를 물 또는 포름아미드에 용해시킨 포화용액의 형태로 반응혼합물에 가할 수 있다. 반응용매에 약간만 용해되는 기체를 이용하여 작업할 때에는, 반응압력을 예를 들면, 1~50 기압으로 상승시킬 수 있다. 보다 구체적인 예는 디메틸포름아미드중, 25℃에서 소듐디티오나이트 및 인산이나트륨을 이용하여, R¹이 수소, 아미노, 알킬아미노 또는 할로알킬아미노이고 R²가 시아노이고 R³이 수소 또는 Cl 인 일반식(XLI) 의 화합물과 Z가 Cl, Br 또는 I 이고, R⁷이 F, Cl 또는 Br 이고, R⁸이 F, Cl, Br 또는 퍼플루오로알킬기인 일반식(XLII), ZCFR⁷R⁸의 화합물을 반응시켜 R¹이 수소, 아미노, 알킬카르보닐아미노 또는 할로알킬티오기, R⁶S (식중, R⁶은 CFR⁷R⁸이고, R⁷은 F, Cl 또는 Br 이고, R⁸은 F, Cl, Br 또는 퍼플루오로알킬기이다)인 일반식(I)의 화합물을 제조하는 것이다.

이 반응은 하기 반응식으로 나타내진다.

일반식(XXXIX)의 중간체 클로로술포닐 화합물과 일반식(XLI)의 중간체 이황화물 화합물은 본 발명의 부가적인 부분이다.

[본 발명의 대표적인 화합물]

본 발명에 포함되는 특징의 대표적인 피롤 화합물 (RPC ; representative pyrrole compounds)은 R²가 시아노이고 다른 치환체들이 표1에 나타낸 의미를 갖는 일반식(I)의 화합물이다. (RPC 번호 1~389).

본 발명에 포함되는 기타 특징의 대표적인 피롤 화합물 (RPC)은 X²및 X³가 수소이고, X¹및 X⁴가 클로로이고, Y가 CF₃이고, X, R¹, R²및 R³가 표 2에 나타낸 의미를 갖는 일반식(I)의 화합물이다 (RPC 번호 390~ 491).

하기 실시예 1내지 22는 본 발명에 따른 살충성 화합물 ( 및 그의 화학 중간체)의 합성법 및 물리적특성을 더 상세히 설명한다.

[실시예 1]

25㎖의 클로로포름에 용해시킨 910㎎ (2.07mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸티오피롤(실시예 4의 방법에 따라 제조) 및 492㎎의 80% 메타클로로퍼옥시벤조산 (394㎎, 2.28mmole) 의 용액을 주변온도에서 1.5 시간 동안 교반하고 밤새 환류하 가열한다. 45㎎ (0.21mmole)의 m-클로로퍼옥시벤조산을 더 가하고, 1시간 동안 환류시킨다. 이어서, 가열을 중단하고, 반응 혼합물을 디클로로메탄으로 희석하고 중탄산나트륨 수용액으로 세척한다. 유기층을 무수 MgSO₄로 건조시키고 감압하 농축하여 무색의 고체 잔류물을 수득한다.

이 공정을 반복하여 총 950㎎의 생성물을 수득하고, 이를 실리카겔크로마토그래피하고 2:1 v/v 디클로로메탄-헥산으로 용출시킨다. 앞 분획은 백색고체인 310㎎ (24%)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸술포닐피롤 (실시예1)을 함유한다. 헥산-에틸 아세테이트로 재결정하면 무색 침상의 술폰 240㎎이 수득된다. 융점 198℃.

[실시예 2]

실시예 1에 이어서 크로마토그래피를 수행한다. 크로마토그래피의 뒷 분획에서 600㎎ (48%)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸술피닐피롤 (실시예2)을 무색고체로 수득한다. 톨루엔-헥산으로 재결정하면 무색분말상의 술폭시드 390㎎이 수득된다. 융점 152~154.5℃.

[실시예 3A 및 3B]

실시예 5의 방법에 따라 제조한 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸티오-5-브로모피롤을 출발 물질로 이용하여 실시예 1 및 2를 반복한다. 실시예 3A의 화합물은 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸술피닐-5-브로모피롤이다. 실시예 2와 비슷한 방법을 이용하여 제조한 이 화합물은 약 123℃의 융점을 갖는다. 실시예 3B의 화합물은 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸술포닐-5-브로모피롤이다. 실시예 1과 비슷한 방법을 이용하여 제조한 이 화합물은 약 113℃의 융점을 갖는다.

[실시예 4]

50㎖의 건조 테트라히드로푸란에 용해시킨 3g (6.6mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예 8에 기술된 방법에 따라 제조)의 용액을 질소 대기하에 교반하고 3.9㎖ (3.4g, 33mmole)의 t-부틸니트라이트를 가한다. 30분후, 반응 혼합물을 약 1시간 동안 가열 환류시키고, 감압하에 농축하여 3.69g의 고체 잔류물을 수득한다. 이 방법을 반복하여 총 4.07g의 고체 잔류물을 수득하고, 이를 실리카겔크로마토그래피 (1:1 v/v 디클로로메탄-헥산용리액)하여 2.9g (91%)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸티오피롤 (실시예4)을 무색고체로 수득한다. 헥산-에틸 아세테이트로 재결정하여 무색 분말상의 생성물 1.87g을 수득한다. 융점 : 약 137℃.

[실시예 5]

40㎖의 브로모포름에 용해시킨 2.4g (5.28mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤(실시예 8에 기술된 방법에 따라 제조)의 비균질 혼합물에, 불활성 대기하에, 0.94㎖ (820㎎, 7.92mmole)의 t-부틸니트라이트를 가한다. 주변온도에서 15분간 교반한후, 반응혼합물을 감압하에 농축하여 3.9g의 잔류물을 수득한다. 이를 이전의 동일한 피롤 출발 물질 300㎎의 반응에서 수득한 생성물과 합한다. 조생성물을 실리카겔크로마토그래피(용리액: 4:1 v/v 헥산-디클로로메탄)하여 1.72g (56%)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-브로모-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예5)을 분리하고, 이를 헥산으로 재결정하여 무색고체상의 생성물 780㎎ 을 수득한다. 융점 : 약 92℃.

[실시예 6]

불활성 대기하에 1.91g (4.21mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예 8에 기술된 방법에 따라 제조), 77㎎ (0.63mmole)의 4-디메틸아미노피리딘 및 20㎖의 피리딘의 용액을 0℃로 냉각하고 1.01 (1.50g, 7.14mmole)의 트리플루오로아세트산 무수물을 가한다. 반응혼합물을 0℃에서 1시간 동안, 그리고 20℃에서 4시간 동안 교반시키고 0.30㎖ (2.1mmole)의 트리플루오로아세트산 무수물을 더 가한다. 총 24시간의 반응 후, 반응 혼합물을 디클로로메탄으로 희석하고 농축한다.

잔류물을 수성 HCl 및 물로 차례로 세척하고, 헥산-에틸 아세테이트로 재결정하여 담녹색 고체상의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-[(트리플루오로메틸) 카르보닐아미노]-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예6)860㎎ (37%)을 수득한다.

융점 : 약 190℃.

[실시예 7]

1.50g (3.3mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예 8에 기술된 방법에 따라 제조), 0.10g의 4-디메틸아미노피리딘, 0.33㎖ (0.32g, 4.1mmole)의 피리딘, 0.31㎖ (0.34g, 4.3mmole)의 아세틸 클로라이드 및 10㎖의 아세토니트릴의 혼합물을 20℃에서 4일간, 그리고 환류하에 1일간 교반한다. 0.03㎖의 아세틸 클로라이드를 더 가하고, 1일간 더 환류시키고, 반응을 냉각하고 디클로로메탄으로 희석하고, 1N HCl 및 포화 중탄산나트륨 수용액으로 연속 분배한다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고 증발시켜 1.42g의 베이지색 고체를 수득한다. 실리카겔크로마토그래피 (용리액 : 4 : 1 v/v 헥산-에틸아세테이트)한 후 에탄올-물로 재결정하여 무색 침상의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-메틸카르보닐아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예7) 480㎎ (29%)을 수득한다.

융점 : 약 216℃.

[실시예 8]

15㎖의 에틸에테르에 용해시킨 1.50g (3.57mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤(실시예 13에 기술된 방법에 따라 제조)의 교반 용액을 불활성 대기하에 -20℃로 냉각하고, 15㎖의 무수 에틸 에테르에 용해시킨 0.29㎖ (0.48g, 3.6mmole)의 술퍼릴클로라이드의 용액을 적가한다. 반응 혼합물을 20℃로 데우고, 2.5일간 교반하고 0.03㎖ (0.4mmole)의 술퍼릴클로라이드를 더 가하고 1일간 더 교반한다. 술퍼릴 클로라이드 0.03㎖를 더 가하고 1일후에 28㎖의 10% 탄산칼륨 수용액을 이용하여 반응을 중지한다. 상을 분리하고 수층을 에테르로 추출한다. 에테르층을 합하고, 수세하고, 무수황산마그네슘으로 건조시키고 농축하여 1.56g의 황갈색 고체를 수득한다. 조 생성물을 실리카겔 크로마토그래피 (용리액 : 2 : 1 v/v 디클로로메탄-헥산) 하여 옅은 장미색 고체인1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예8) 1.30g (80%)을 수득한다. 시클로헥산으로 재결정하여 회색을 띤 백색침상의 생성물 810㎎을 수득한다. 융점 : 약 176℃.

[실시예 9]

실시예 13에 기재된 방법으로 제조한 1-(2-클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤 (융점 169℃)을 반응물로 대치하는 것을 제외하고 실시예 8과 비슷한 방법을 이용한다.

최종 생성물은 1-(2-클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예 9)이다. 융점 : 약 148℃.

[실시예 10]

실시예 13에 기재된 방법에 따라 제조한 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-디클로로플루오로메틸티오-4-시아노피롤 (융점 202℃)을 반응물로 대치하는 것을 제외하고 실시예 8과 비슷한 방법을 이용한다.

최종 생성물은 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-디클로로플루오로메틸티오-4-시아노-5-클로로피롤 (실시예10)이다.

융점 : 약 207℃.

[실시예 11]

화합물 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2,4-비스(트리플루오로메틸티오)-3-시아노-5-아미노피롤 (실시예11)은 융점이 161℃이며 과량의 트리플루오로메탄술페닐 클로라이드를 이용하여 실시예13 (첫째 화합물)의 방법에 따라 제조한다.

[실시예 12]

15㎖의 피리딘에 용해시킨 1.53g (3.60mmole) 의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤(실시예 13에 기술된 방법에 따라 제조, 융점 : 약 182℃)의 냉 (0℃)용액에 15㎖의 피리딘에 용해시킨 1.46g (3.6mmole)의 80% 피리디늄 브로마이드 퍼브로마이드 용액을 불활성 대기하에 가한다. 30분 후에, 반응혼합물을 냉(0℃) 에틸 에테르에 붓고, 형성된 침전을 여거한다. 여액을 수성 HCl, 수성 NaOH 및 물로 세척한다. 유기층을 무수 황산 마그네슘으로 건조시키고 증발시켜 1.34g의 갈색고체를 수득한다.

이것을, 300㎎ (0.7mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤과 0.29g의 80% 피리디늄 브로마이드 퍼브로 마이드와의 반응에 의해 미리 수득한 생성물 230㎎과 수득한다. 고결된 생성물을 실리카겔 크로마토그래피 (용리액 : 4 : 1 v/v 헥산-에틸 아세테이트)하여 백색 고체의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노-5-브로모피롤 (실시예12) 1.31g (73%)을 수득한다. 헥산/에틸 아세테이트로 재결정하여 무색 침상의 생성물 910㎎을 수득한다.

융점 : 약 160℃.

[실시예 13]

후술한 대로 제조한, 60㎖의 디클로로메탄에 용해시킨 2.00g (6.25mmole)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-4-시아노피놀 교반 용액을 일음 배드로 냉각하고, 0.55㎖ (0.85g, 6.2mmole)의 트리플루오로메탄술페닐 클로라이드를 함유하는 10㎖의 냉 (-78℃) 디클로로메탄 용액을 천천히 가한다. 0℃에서 2시간 동안 교반한 후, 질소 기류를 1시간 동안 반응 혼합물에 통과시킨다.

포화 수성 중탄산나트륨 및 물을 이용하여 분배하고, 무수황산나트륨으로 건조시키고, 진공 건조시켜 담갈색 고체 3.14g을 수득한다. 이것을 실리카겔 크로마토그래피 (용리액 3 : 2 v/v 디클로로메탄-헥산) 하여 각각 무게가 900㎎ 및 950㎎인 무색 고체 시료를 수득한다. 이들을 클로로포름으로 재결정하여 각각 680㎎ 및 630㎎의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피놀 (실시예 13)을 수득한다.

융점 : 약 182℃.

이 방법에서 사용된 반응물은 하기 방법에 의해 제조한다 : 30㎖의 벤젠에 용해시킨 4.64g (14.5mmole)의 1-[(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)아미노]-2,3-디시아노프로판 및 2.02㎖ (1.47g, 14.5mmole)의 트리에틸아민의 용액을 밤새 가열 환류시키고 진공 농축한다.

잔류물을 에틸에테르와 물 사이에 분배시키고 에테르층을 무수 황산 마그네슘으로 건조시키고 농축하여 3.79g 의 담갈색 고체를 수득한다. 에탄올 - 물로 재결정하여 2.79g (60%)의 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-4-시아노피놀을 수득한다. 융점 : 약 176℃.

출발 1-아릴아미노-2,3-디시아노 프로펜을 하기 방법에 따라 제조한다 : 포르밀숙시노니트틸의 칼륨염 시료 20.5g (0.140mole)을 약 30㎖의 물에 용해시키고 진한 염산으로 산성으로 만든다. 이것을 에틸 에테르로 추출하고 에테르 추출물을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고 증발시켜 갈색 액체 3.87g을 수득한다. 이것을, 50㎖의 벤젠에 용해시킨 40㎎의 파라-톨루엔술폰산 및 5.04g (22mmole)의 2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸아닐린을 함유하는 용액에 가한다. 비균질 반응 혼합물을 물을 분리해내면서 밤새 가열 환류한다. 반응 혼합물을 냉각 및 농축하여 7.66g 의 황색 액체를 수득한다. 헥산으로 연마하여 황색 고체의 1-[(2,6-디클로로-4-트리풀루오로메틸페닐)아미노]-2,3-디시아노프로펜 6.68g (95%)을 침전시킨다. 에탄올/물로 재결정하여 융점이 101℃ 인 시료를 수득한다.

[실시예 14A 및 14B]

-20℃로 냉각시킨 클로로포름 20㎖에 현탁시킨 0.46㎖ (0.34g, 3.3mmole)의 트리에틸아민 및 1.17g (3.30mmole)의 1-(4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤의 현탁액에 50㎖의 클로로포름에 용해시킨 0.19㎖ (0.59g, 3.7mmole)의 브롬의 용액을 가한다. 반응 혼합물을 -20℃에서 1시간 동안 교반한 후 0℃로 데워지도록 한다. 그 후, 0.04㎖ (0.13g, 0.8mmole)의 브롬을 더 가하고 15분간 더 교반한 후, 반응 혼합물을 디클로로메탄으로 희석하고 물 및 포화중탄산나트륨 수용액을 분배시킨다. 유기층을 무수 황산마그네슘으로 건조시키고 농축시켜 1.11g 의 갈색고체를 수득한다. 이 물질을, 1.00g (2.8mmole)의 1-(4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤과 0.15㎖ 의 브롬과의 반응에 의해 미리 수득한 물질과 합한다. 실리카겔 크로마토그래피 (용리액 3 : 1 v/v 디클로로메탄-헥산)하여 황색 고체상의 1-(4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리풀루오로메틸티오-4-시아노-5-브로모피롤(실시예14A) 1.40g (52%)을 수득한다. 헥산-에틸 아세테이트로 재결정하여 담황색 펠릿상의 생성물을 수득한다.

융점 : 약 175℃.

1-(4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤 (실시예 14B)(융점 : 약 152℃)은 실시예 13에 기재된 방법에 따라 1-[(4-트리플루오로메틸페닐)아미노]-2,3-디시아노프로펜으로부터 제조할 수 있다.

[실시예 15A 및 15B]

1-[(2-클로로-4-트리플루오로메틸페닐)아미노]-2,3-디시아노프로펜을 실시예 13에 기재된 것과 비슷한 방법에 따라 제조한다. 이 디시아노-프로펜을 이용하여 실시예 13에 기재된 것과 비슷한 방법에 따라 1-(2-클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시이노피롤 (실시예 15A, 융점 : 약 169℃)을 제조한다. 이 피롤을 사용하여 실시예 14의 방법에 따라 1-(2-클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시이노-5-브로모피롤 (실시예 15B, 융점 : 157℃)을 제조한다.

[실시예 16A 및 16B]

1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-4-시아노피롤 (실시예 13에 따라 제조)을 실시예 13 (CF₃SCl 사용)의 방법에 따라 CFCl₂-SCl로 처리하여 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피놀 (실시예 16A, 융점 : 약 202℃)을 제조한다.

이 화합물을 실시예4의 방법에 따라 t-부틸니트라이트로 처리하여 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-(디클로로플루오로메틸티오) 피롤 (실시예 16B, 융점 : 약 158℃)을 제조한다.

[실시예 17]

실시예 16의 최종 화합물을 m-클로로 퍼옥시벤조산 대신에 트리플루오로메틸퍼아세트산에 용해시킨 과산화수소를 이용하여 실시예1 및 2의 방법과 비슷한 방법에 따라 반응시켜 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-(디클로로플루오로메틸술피닐) 피롤 (실시예 17, 융점 : 약 119℃)을 제조한다.

[실시예 18]

2 배량의 과산화수소를 이용하여 실시예 17의 방법에 따라, 실시예 16의 최종 화합물을 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-2-클로로-3-시아노-4-(디클로로플루오로메틸술포닐) 피롤(실시예 18, 융점 : 약 179℃)로 변환시킨다.

[실시예 19]

실시예 16의 첫 번째 화합물을 실시예 4의 방법에 따라 -부틸니트라이트로 처리하여 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-시아노-4-(디클로로플루오로메틸티오) 피롤(실시예 19, 융점 : 약 120℃)을 수득한다.

[실시예 20]

실시예 19의 화합물을 실시예 17의 방법에 따라 산화시켜 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-3-시아노-4-(디클로로플루오로메틸술피닐) 피롤 (실시예 20, 융점 : 약 150℃~152℃)을 수득한다.

[실시예 21A, 21B 및 21C]

2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸아닐린 대신 2,6-디클로로-4-트리플루오로메톡시아닐린을 사용하여 실시예 13의 최종 화합물의 공정에 따라 1-[(2,6-디클로로-4-트리플루오로메톡시페닐)아미노]-2,3-디시아노프로펜을 제조한다.

이 화합물을 실시예 13의 두번째 화합물의 공정에 따라 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메톡시페닐)-2-아미노-4-시아노피롤로 전환시킨다.

이 화합물을 실시예 13의 첫번째 화합물의 공정에 따라 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메톡시페닐)-2-아미노-3-트리플루오로메틸티오-4-시아노피롤로 전환시킨다.

이 화합물을 실시예 8의 공정에 따라 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메톡시페닐)-2-아미노-3-(트리플루올메틸티오)-4-시아노-5-클로로피롤(실시예21A, 융점 : 약 196~197℃)로 전환시킨다.

이 화합물을 실시예 4의 공정에 따라 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메톡시페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸티오피롤 (실시예 21B, 융점 172℃)로 전환시킨다. 이 화합물을 실시예 18의 공정에 따라 1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메톡시페닐)-2-클로로-3-시아노-4-트리플루오로메틸술포닐피롤 (실시예 21C, 융점 : 약 187℃)로 전환시킨다.

[실시예 22A, 22B 및 22C]

2-클로로-4-클로로술페닐-3-시아노-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐) 피롤과 2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐)피롤 47.77g (0.101mole, 1.0당량)의 혼합물을 0℃에서 트리플루오로아세트산 (190㎖)에 용해시킨다. 30% H₂O₂(10.8㎖, 0.106mole, 1.05당량)를 적가한다. 반응 혼합물을 0℃에서 7.25시간 동안 교반한후 밤새 냉장고 (10℃)에 넣어둔다.

다음날 아침, 0℃에서 30% H₂O₂(10.8㎖, 0.106mole, 1.05당량)을 더 가한다. 반응 혼합물을 0℃에서 9시간 동안 교반한 후, 밤새 냉장고에 넣어둔다. 다음날 아침, 0℃에서 30% H₂O₂(10.8㎖, 0.106mole, 1.05당량)을 더 가한다. 3.5시간 후, 반응혼합물을 2ℓ의 빙수에 쏟아붓고, 격렬하게 교반한 후 여과한다.

비슷하게, 2-클로로-4-클로로술페닐-3-시아노-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐) 피롤과 2-클로로-3-시아노-4-디클로로플루오로메틸술페닐-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐)피롤 (40.77g, 0.0848mole, 1.0당량)의 혼합물을 0℃에서 트리플루오로아세트산 (188㎖)에 용해시킨다. 30% H₂O₂(17.7㎖, 0.173mole, 2.05당량)을 적가한다. 반응 혼합물을 0℃에서 2.75시간 동안 교반한 후 밤새 냉장고 (10℃)에 놓아둔다. 0℃에서 8시간 동안 교반한 후, 반응 혼합물을 다시 밤새 냉장고에 넣어둔다. 반응 혼합물을 실온으로 데워지도록 하고, 실온에서 밤새 교반한다. 다음날 아침 0℃에서 30% H₂O₂(9.05㎖, 0.086mole, 1.05당량)를 더 가하고, 반응 혼합물을 0℃에서 6시간 40분 동안 보존한 후 실온으로 데워지도록 하고 1주일간 교반한다. 반응 혼합물을 2ℓ의 빙수에 쏟아붓고, 격렬하게 교반한 후 여과한다.

두 반응물에서 생성된 침전을 합하고, 500㎖의 디클로로메탄에 용해시키고, 500㎖의 물, 500㎖의 10% 수성 NaHSO₃및 500㎖의 포화 NaCl로 세척한다. 유기상을 Na₂SO₄로 건조시키고, 여과하고 용매를 증발시켜 74.96g (79.9%, 수율)의 고체를 수득한다. 이것을 690㎖의 헥산 : 디클로로메탄 (2 : 1)으로 재결정하고, 여기에 20㎖의 디클로로메탄을 가하여 6.98g의 고체, 즉 2-클로로-4-클로로술포닐-3-시아노-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐) 피롤 (실시예 22A)를 수득한다.

이것을 103㎖의 이소프로판올로 재결정하여 3.97g (융점 : 187~188.5℃)을 수득한다.

2-클로로-4-클로로술포닐-3-시아노-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐) 피롤 (3.97g, 9.06mmole, 1.0당량)을 0℃에서 THF (15.8㎖)에 용해시킨다.

트리페닐포스핀 (2.41g, 1.0당량)을 고체로서 가한다.

용액이 황색으로 변한다. 2.5시간후, 얼음 베드를 제거하고 반응물을 실온에서 밤새 교반한다. 트리페닐포스핀 (2.55g, 9.72mmole, 1.06당량)을 더 가하고, 반응물을 실온에서 밤새 교반한다. 침전이 형성되고, 3㎖의 THF를 가한 후, 반응 혼합물을 포화 NaCl로 2회 세척한 후 역추출한다.

유기상을 MgSO₄로 건조시키고, 여과하고 용매를 진공 중 증발시켜 왁스상 고체 9.44g을 수득한다. 이를 실리카겔 크로마토그래피하여 3.39g의 왁스상 고체를 수득한다.

이것을 140㎖의 이소프로판올로 재결정하여 2.54g (74.9%)의 비스-[2-클로로-3-시아노-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐)피롤-4-일] 디술피드 (실시예 22B)를 수득한다. 융점 : 218.8~220.3℃.

비스-[2-클로로-3-시아노-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐)피롤-4-일] 디술피드 (0.80g, 1.08mmole, 1.0당량)을 DMF (10㎖)에 용해시키고 0℃로 냉각한다. Na₂HPO₄(0.46g, 3.24mmole, 3.0당량)을 5㎖ 물에 용해시킨 후 DMF 용액에 가한다.

침전이 형성되면 15㎖의 DMF 및 10㎖의 물을 가한다.

Na₂S₂O₄고체 (0.564g, 3.24mmole, 3.0당량)를 가한다. 반응물이 담황색으로 변한다. 디브로모디플루오로메탄 (0.65g, 3.1mmole, 2.87당량)을 무게를 단 차가운 바이알에 가한 후, 반응물로 옮긴다. 백색 침전이 생기면서 반응혼합물이 무색으로 된다. 1시간 50분 후, 10㎖의 DMF를 가한 후, 0.93g 의 CBr₂F₂를 더 가하고, 반응 용기를 밀봉하고 실온에서 밤새 교반한다. 0℃로 냉각한 후, 반응 혼합물을 200㎖의 물에 가하고, 150㎖의 에틸 에테르로 4회 추출한다. 유기상을 100㎖의 5% 수성 HCl로 2회, 100㎖의 포화 NaHCO₃로 2회, 그리고 100㎖의 포화 NaCl로 세척한다. 유기상을 MgSO₄로 건조시키고, 여과하고 진공중에서 용매를 증발시켜 80.7㎎의 백색고체를 수득한다. 최초의 수상을 여과하여 밤새 침전된 백색 고체를 수집한다. 이를 디클로로메탄에 용해시키고, 용매를 진공 중에서 증발시키고 건조시켜 0.348g 의 백색고체 (총수율 0.429g, 40%)를 수득한다. 이를 80.7㎎의 시료와 합하고, 실리카겔크로마토그래피하여 백색 고체상의 4-브로모디플루오로메틸술페닐-2-클로로-3-시아노-1-(2',6'-디클로로-4'-트리플루오로메틸페닐)피롤 (실시예 22C)0.362g을 수득한다. 융점 : 128.3~133.7℃.

(부가적으로 합성된 화합물의 예.)

상세히 기술된 상기 실시예 1내지 22의 화합물의 합성법 또는 본 명세서에 전반적으로 기술된 기타 방법 또는 공정에 따라, 다수의 부가적으로 합성된 일반식(I)의 피롤 화합물의 예 (ASE, additional synthesized examples)를 제조한다. 이들 화합물의 구조 및 대응 융점을 표3 (ASE 번호 1~91 : 식 중 X²및 X³가 수소이고, 다른 치환체는 상기 정의와 동일한 일반식(I)의 화합물) 및 표4 (ASE 번호 92~195 : 식중 X²및 X³가 수소이고, X¹및 X⁴가 클로로이고, Y가 트리플루오로메틸이고, 다른 치환체는 상기 정의와 동일한 일반식(I)의 화합물)에 나타내었다.

본 발명의 특성에 따라, 여러 가지 기호가 이미 정의된 바와 같은 일반식(I)의 화합물의 유효량을 지역에 처리함을 (예를 들어 시용 또는 투여에 의해) 특징으로 하는 지역에 있는 절지동물, 특히 곤충 및 거미류, 식물선충, 및 기생충 또는 원생동물 해충의 방제방법을 제공한다. 일반식(I)의 화합물은 특히 수의학 및 목축업의 분야에서 그리고 절지동물, 포유동물 특히 온혈 포유동물, 특히 인간 및 가축, 예를 들어 소, 양, 염소, 말, 돼지, 가금, 개 및 고양이에 내적 또는 외적으로 기생하는 해충 또는 원생동물, 예를 들어 진드기 [예를 들어

본 발명은 또한 식물 또는 그들이 생육하는 배지에 일반식(I)의 화합물의 유효량을 사용함을 특징으로 하는 절지동물 또는 식물의 선충의 방제방법을 제공한다.

절지동물 및 선충의 방제를 위하여, 처리할 지역의 헥타르당 활성 화합물 약 0.005㎏ 내지 약 15㎏, 바람직하게는 0.02㎏/ha 내지 2㎏/ha 의 비율로 절지동물 또는 선충만연을 방제할 지역에 일반적으로 활성 화합물을 시용한다. 이상적인 조건하에서는 방제할 해충에 따라, 보다 낮은 비율로 적절한 방지를 할 수 있다. 다른 한편으로는, 나쁜 기후 조건, 해충의 저항성 및 다른 요인들은 유효성분이 보다 높은 비율로 사용되어야할 것을 요구한다.

경엽처리에서, 0.01㎏ 내지 1㎏/ha 의 비율이 사용될 수 있다. 최적 비율은 방제할 해충의 유형 뿐만 아니라 만연하는 식물의 유형 및 생장단계, 줄 공간 및 시용방법에 따라 다르다.

해충이 토양생 일때, 활성 화합물을 함유하는 제제는 임의의 편리한 방식으로 처리할 지역에 골고루 분포한다. 필요하다면 밭 또는 곡물 생장지역에 또는 공격으로부터 보호할 종자 또는 식물에 매우 가까이 시용할 수 있다. 활성 성분은 물로 분무함으로써 토양내로 씻겨 들어갈 수 있고 강우의 자연 작용으로 남을 수도 있다. 시용 동안 또는 후, 원한다면 제제는 예를 들어 쟁기질 또는 디스킹(disking)에 의해 토양에서 기계적으로 분포될 수 있다. 시용은 이식전, 이식중, 이식후 이지만 발아가 일어나기전 또는 발아후 행해질 수 있다.

일반식(I)의 화합물은 고체 또는 액체조성물로 토양에 시용하여 거기에 살고 있는 선충을 방제할 수 있을 뿐만 아니라 경엽에 시용하여 식물의 공중부분을 공격하는 선충 (예를 들어 상기 수록한 아펠렌코이데스 spp (Aphelenchoides spp) 및 디틸렌쿠스 spp (Ditylenchus spp)을 방제할 수 있다.

일반식(I)의 화합물은 시용점으로 부터 먼 식물의 부분을 먹는 해충을 방제하는 데도 가치가 있다. 즉 잎을 먹는 곤충도 뿌리에 시용한 주제 화합물에 의해 죽는다.

게다가 본 화합물은 미각기피 또는 반발효과에 의해 식물에 대한 공격을 감소시킬 수 있다.

일반식(I)의 화합물은 특히 밭, 마초, 농장, 온실, 목초지 및 포도밭, 풍치림, 삼림, 예를 들어 곡물 (옥수수, 밀, 벼, 수수와 같은), 면, 담배, 채소 및 살라드 (콩, 채소작물, 커커비트 (curcurbit), 상치, 양파, 토마토 및 후추와 같은), 밭작물 (감자, 사탕수수, 호두, 대두, 종자유유채와 같은), 사탕무우, 목초지 및 마초 (옥수수, 수수, 자주개자리와 같은), 농장 (차, 커피, 코코아, 바나나, 오일팜, 코코넛, 고무, 양념과 같은), 목초 및 작은 숲 (돌 및 씨 과일, 감귤, 키위, 아보카도, 망고, 올리브 및 호두와 같은), 포도밭, 풍치림, 꽃 및 채소 및 덤불, 삼림 (낙엽성 및 상록성)의 보호에서 가치가 있다.

그들은 또한 톱파리 (예를 들어 유로세루스 (Urocerus)) 또는 투구벌레 (예를 들어 스콜리티드, 플라티포디드, 릭티드, 보스트리키드, 세람비시드, 아노비이드) 또는 흰개미, 예를 들어 레티쿨리테르메스 spp (Reticulitermes spp), 헤테로테르메스 spp (Heterotermes spp), 콥토테르메스 (Coptotermes spp)에 의한 공격으로부터 목재 (서있는, 쓰러진, 전환된, 저장된 또는 구조적)의 보호에서 가치가 있다.

그들은 곡물, 과일, 견과, 양념 및 담배와 같은 저장물을 전체로, 분쇄하여 또는 혼합된 형태로 나방, 투구벌레, 응애 및 곡물 바구미 (시토필루스 그라나리우스 (Sitophilus granarius)) 의 공격으로부터 보호에 시용된다.

또한 피부, 모발, 모 및 가죽과 같은 천연 또는 전환된 형태 (예를 들어 카페트 또는 직물)의 저장 동물 제품도 나방 및 투구벌레의 공격으로부터 보호된다; 또한 저장된 육류 및 생선도 투구벌레, 응애 및 파리의 공격으로부터 보호된다.

일반식(I)의 화합물은 특히 인간 및 가축, 예를 들어 상기 언급한 것들에 해롭거나 또는 질병을 전파하거나 매개체로서 역할을 하는 절지동물, 해충 또는 원생동물의 방제에 가치가 있고, 보다 특히 진드기, 응애, 이, 벼룩, 각다귀, 파리의 방제에 특히 유용하다. 일반식(I)의 화합물은 특히 가축 내부에 존재하거나 또는 피부에 살거나 동물의 피를 빨아먹고 사는 절지동물, 해충 또는 원생동물의 방제에 유용하고, 그 목적을 위하여 그들은 경구, 비경구, 경피 또는 국부 투여될 수 있다. 에이메리아 (Eimeria) 속의 원생동물 기생충의 감염에 의해 야기되는 질병인 포자충증은 가축 및 새, 특히 조밀한 조건하에서 양육되고 보관되는 것들에서 중요한 경제적 손실의 요인이다. 예를 들어, 소, 양, 돼지 및 토끼가 감염될 수 있지만, 이 질병은 가금, 특히 닭에 특히 중요하다.

가금 질병은 일반적으로 오염된 쓰레기 또는 땅에 떨어진 감염된 유기체를 집어먹는 새 또는 음식물 또는 마시는 물에 의해 번진다. 이 질병은 출혈, 맹장에서 혈액의 응집, 혈액의 점적 통과, 약화 및 소화장애의 특징을 나타낸다.

이 질병은 종종 동물의 죽음으로 종결되지만, 심한 감염에도 살아남은 가금은 감염의 결과 시장에서 가격이 매우 감소한다.

일반식(I)의 화합물의 소량을 가금 먹이와 조합하여 투여하면 포자충증의 예방 또는 발생률을 감소시키는데 크게 유효할 수 있다. 이 화합물은 맹장 형태 (이. 테넬라 (E. tenella)에 의해 야기되는) 및 장형태 (이. 아세르불리나 (E. acervulina), 이. 브루네티 (E. brunetti) 및 이. 네카트릭스 (E. necatrix)에 의해 주로 야기되는) 양자에 대하여 모두 유효하다.

일반식(I)의 화합물은 낭포체의 수 및 / 또는 생성된 것들의 포자형성을 크게 감소시킴으로써 낭포체에 저해 효과를 나타낸다.

인간 및 동물에 국부적 시용을 위하고 저장물, 가정용품, 재산 및 일반적 환경의 영역의 보호를 위한 이후 기술한 조성물은 일반적으로 생장하는 작물 및 작물 생장지역에 시용하고 종자 드레싱 (dressing)으로서 대신 사용될 수 있다.

일반식(I)의 화합물을 시용하는 적절한 방법은 다음과 같다: 절지동물, 기생충 또는 원생동물의 만연하는 인간 또는 동물에는 유효성분이 절지동물, 기생충 또는 원생동물에 대하여 일정기간 동안 즉각적인 및/또는 지연된 작용을 나타내는 조성물의 비경구, 경구 또는 국부시용, 예를 들어 먹이 또는 적절한 경구적으로 섭취가능한 약학적 제제, 식용미끼, 함염, 식이보충, 부은 제제, 분무, 목욕, 담그기, 샤워, 제트, 분제 그리스, 샴푸, 크림, 왁스얼룩 및 가축 자기처리 시스템의 조업에 의해 시용한다; 일반적 환경 또는 저장물, 목재, 가정용품 및 가정 및 산업적 토지를 포함하여 해충이 숨어있는 특정 장소에는 분무, 안개, 분제, 왁스얼룩, 래커, 과립 및 미끼로, 그리고 개울 내지 수로, 우물, 저수지 및 다른 흐르는 또는 고인 물에 시용한다; 배설물을 먹는 파리 유충을 방제하기 위하여 가축의 먹이에 시용한다. 경엽분무, 분제, 과립, 안개, 거품으로서 생장하는 작물에 시용한다; 물약, 분제, 과립, 연기 및 거품에 의한 토양 및 뿌리처리와 같은 미세하게 분할된 현탁액 및 캡슐화된 일반식(I)의 화합물로서 시용한다; 액체 슬러리 및 분제에 의해 종자 드레싱으로 시용한다.

일반식(I)의 화합물은 포유동물에 내적 또는 외적 투여에 적절한 임의의 유형의 공지의 조성물로 절지동물, 기생충 또는 원생동물을 방제하기 위하여 시용할 수 있고 유효성분으로서 적어도 하나의 일반식(I)의 화합물을 의도하는 바의 사용에 적절한 하나이상의 양립 가능한 희석제 또는 보조제와 조합하여 함유하는 조성물을 임의의 토지 또는 옥내 또는 옥외 지역에서 절지동물을 방제하기 위하여 시용한다.

모든 그러한 조성물은 임의의 공지의 방법에 따라 제조할 수 있다.

포유동물 또는 인간에 투여하기에 적절한 조성물은 경구, 비경구, 경피, 예를 들어 따르기 또는 국부 투여에 적절한 제조물을 포함한다.

경구투여용 조성물은 약학적으로 허용 가능한 담체 또는 코우팅과 조합한 하나 이상의 일반식(I)의 화합물을 함유하며, 예를 들어 위-장관에 머물도록 의도된 정제, 환제, 캡슐, 페이스트, 겔, 드렌치, 의약화된 먹이, 의약화된 음료수, 의약화된 식이보충제, 서방성 알약 또는 다른 서방성 기구를 포함한다. 이들 중 어떠한 것도 마이크로캡슐에 함유되거나 산 불안정 또는 알칼리 불안정 또는 다른 약학적으로 수용 가능한 장용 피막으로 피복된 유효성분을 조입할 수 있다. 동물에 의해 소비되는 의약화된 식사, 음료수 또는 다른 물질의 제조에 사용되는 본 발명의 화합물을 함유하는 미리 혼합한 먹이 또는 농축물 또한 사용된다.

비 경구 투여용 조성물로는 약학적으로 수용 가능한 적절한 부형제 및 유효성분을 연장된 기간동안 방출하도록 고안된 고체 또는 반고체 피하 이식조각편 또는 펠렛중의 용액, 유탁액 또는 현탁액을 들 수 있다.

경피 및 국부투여용 조성물로는 분무, 분제, 액반담그기, 제트, 그리스, 샴푸, 크림, 왁스얼룩 또는 붓는 제조물 및 기구 (예를 들어 국부적 또는 전체적 절지동물 방제를 위한 방법으로 동물에 외적으로 부착된 귀걸이)를 들 수 있다.

절지동물 방제용으로 적정한 고체 또는 액체 미끼는 하나 이상의 일반식(I)의 화합물 및 절지동물에 의한 소비를 유도하는 식품 또는 다른 물질을 포함하는 담체 또는 희석제를 함유한다. 실제로 농업에 사용될 때, 본 발명에 따른 화합물은 거의 단독으로는 사용되지 않는다. 가장 빈번하게는 이들 화합물은 조성물의 부분을 형성한다. 살충제로 사용될 수 있는 이들 조성물은 농업적으로 수용 가능한 고체 또는 액체 담체 및 똑같이 농업적으로 수용 가능한 표면 활성제와 조합한 유효성분으로서 이미 기재한 바의 본 발명에 따른 화합물을 함유한다. 특히 불활성이고 일반적인 담체 및 일반적인 표면 활성제가 사용될 수 있다. 이들 조성물은 또한 본 발명의 일부를 형성한다.

이들 조성물은 또한 예를 들어 보호 콜로이드, 접착제, 농화제, 요번제, 침투제, 분무오일 (특히 살응애제용의 경우), 안정제, 보존제 (특히 곰팡이 보존제), 포촉제 등과 같은 모든 종류의 다른 성분 뿐만 아니라 농약성질(특히 살충제, 또는 살진균제) 또는 식물 생장조절성질을 갖는 다른 공지의 유효성분을 함유할 수 있다. 보다 일반적으로, 본 발명에 사용된 화합물은 일반적인 제제기술에 해당하는 고체 또는 액체 첨가제와 조합될 수 있다.

본 발명에 사용된 화합물의 사용용량은 넓은 범위 내에서, 특히 제거되어야 할 해충의 성질 및 작물에 이들 해충이 만연하는 일반적 정도에 따라 변할 수 있다.

일반적으로, 본 발명에 따른 조성물은 본 발명에 따른 약 0.05 내지 95% (중량)의 하나 이상의 유효성분, 약 1 내지 95%의 하나 이상의 고체 또는 액체 담체 및 임의로 약 0.1 내지 50%의 하나 이상의 표면활성제를 함유한다.

이미 기술한 바에 따라, 본 발명에 사용된 화합물은 일반적으로 담체 및 임의로 표면활성제와 조합된다.

담체라는 용어는 식물, 종자 또는 토양에 그의 시용을 용이하게 하기 위하여 유효성분과 조합되는 무기 또는 유기, 천연 또는 합성성분을 나타낸다. 이 담체는 일반적으로 불활성이며 그것은 특히 처리된 식물에 농업적으로 수용 가능해야한다. 담체는 고체 (점토, 천연 또는 합성 실리케이트, 실리카, 수지, 왁스, 고체비료, 예를 들어 암모늄염) 및 고령토, 점토, 활석, 쵸크, 석영, 애터펄자이트, 몬모릴로나이트, 벤토나이트 또는 규조토와 같은 천연광물, 및 실리카, 알루미나, 실리케이트 특히 알루미늄 또는 마그네슘 실리케이트와 같은 합성 광물일 수 있다. 과립용 고체 담체로서, 예를 들어 방해석, 대리석, 부석, 해포석 및 백운암과 같은 분쇄하고 분획화한 천연바위 뿐만 아니라 무기 및 유기가루의 합성 과립, 및 톱밥, 코코넛 껍질, 옥수수 속대, 담배 줄기와 같은 유기물질의 과립; 규조토, 옥수수껍질, 트리칼슘포스페이트, 분말 코르크, 흡수 카본블랙 및 수용성 중합체, 수지, 왁스, 고체비료가 적절하고, 원한다면 그러한 조성물은 고체일 때 희석제로서 역할을 하는 하나 이상의 습윤제, 분산제, 유화제 또는 착색제를 함유할 수 있다. 담체는 또한 액체일 수 있다; 알코올, 특히 부탄올 또는 글리콜 뿐만 아니라 그의 에테르 또는 에스테르, 특히 메틸글리콜 아세테이트; 케톤, 특히 아세톤, 시클로헥사는, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 및 이소포론; 석유분획; 파라핀 또는 방향족 탄화수소, 특히 크실렌 또는 알킬 나프탈렌, 석유분획, 광물성 및 식물성 오일; 지방족 염화탄화수소, 특히 트리클로로에탄 또는 메틸렌클로라이드, 또는 방향족 염화탄화수소, 특히 클로로벤젠; 수용성 디메틸 포름아미드, 디메틸술폭시드, 또는 N-메틸피롤리돈과 같은 수용성 또는 강한 극성 용매 및 물; 액화가스 등 및 그의 혼합물.

표면활성제는 이온성 또는 비이온 유형의 유화제, 분산제 또는 습윤제 또는 그러한 표면활성제의 혼합물일 수 있다.

예로는 폴리아크릴산의 염, 리그노술폰산염, 페놀 술폰 또는 나프탈렌술폰산의 염, 에틸렌산화물과 지방 알코올 또는 지방산 또는 지방 에스테르 또는 지방 아민과의 중축합물, 치환될 페놀 (특히 알킬페놀 또는 아릴페놀), 술포숙신산에스테르의 염, 타우린 유도체 (특히 알킬타우레이트), 알코올 또는 에틸렌 산화물과 페놀의 중축합물의 인산에스테르, 지방산과 폴리올의 에스테르, 상기 화합물의 술페이트, 술포네이트 및 포스페이트 관능성 유도체를 들 수 있다. 적어도 하나의 표면활성제의 존재는 일반적으로 유효성분 및/또는 불활성담체가 난용성 이거나 수불용성일 때 그리고 시용의 담체가 물일 때 필수적이다.

본 발명의 조성물은 접착제와 같은 다른 부가제를 더 함유할 수 있다. 카르복시메틸셀룰로스와 같은 접착제 및 아리비아검, 폴리비닐알콜 및 폴리비닐아세테이트와 같은 분말, 과립, 라티스 형태의 천연 및 합성 중합체 뿐만 아니라 세팔린 및 레시틴과 같은 천연 인지질, 및 합성 인지질이 제제에서 사용될 수 있다. 부가제는 광물성 및 식물성 오일일 수 있다.

무기색소 예를 들어 철산화물, 티타늄 산화물 및 감청과 같은 착색제 및 알리자린 색소, 아조색소 및 금속프탈로시아닌 색소와 같은 유기색소, 및 철, 망간, 봉소, 구리, 코발트, 몰리브덴 및 아연의 염과같은 미량영양소를 사용하는 것도 가능하다.

절지동물, 식물선충, 기생충 또는 원생동물 해충을 방제하기 위하여 시용할 수 있는 일반식(I)의 화합물을 함유하는 조성물은 시네르지스트 (예를 들어 피페로닐 부톡시드 또는 세시멕스), 안정화물질, 다른 살충제, 살응애제, 살선충제, 구충제 또는 안티코시디알 (anticoccidial), 살진균제 (베노밀, 이프로디온과 같은 농업적 또는 수의학적으로 적절한), 살균제, 절지동물 또는 포유 동물 유혹제 또는 구충제 또는 페로몬, 리오도란트 (reodorant), 방향제, 염료 및 보조 치료제 예를 들어 미량원소를 또한 함유할 수 있다. 이들은 잠재력, 내구력, 안정성, 원하는 곳의 흡수, 방제할 해충의 구충범위를 증가시키거나 처리할 동물 또는 지역에서 다른 유용한 기능을 조성물이 수행할 수 있도록 고안될 수 있다.

본 발명의 조성물에 포함되거나 함께 사용될 수 있는 다른 농약적으로 활성인 화합물은 다음과 같다 : 아세페이트, 클로르피리포스, 데메톤-S-메틸, 디술포톤, 에토프로포스, 페니트로티온, 말라티온, 모노크로토포스, 파라티온, 포살론, 피리미포스-메틸, 트리아조포스, 시플루트린, 시페르메트린, 델타메트린, 펜프로파트린, 펜발테레이트, 페르메트린, 알디카브, 카르보술판, 메토밀, 옥사밀, 피리미카브, 벤디오카브, 테플루벤주론, 디코폴, 엔드술판, 린데인, 벤족시메이트, 카르탑, 시헥사틴, 테트라디폰, 아베르멕틴스, 이베르멕틴, 밀베미신스, 티오파나테, 트리클로르폰, 디클로르보스, 디아베리디네 및 디메트리아다졸.

농업적 시용을 위하여, 일반식(I)의 화합물은 일반적으로 조성물의 형태로 여러 가지 고체 또는 액체 형태이다.

액체조성물은 대지, 옥외 또는 옥내 저장 또는 공정 지역, 콘테이너 또는 장치 및 고인물 또는 흐르는 물을 포함하여 절지동물에 의해 만연되거나 만연되기 쉬운 기질 또는 지역에 처리하도록 사용될 수 있다.

하나 이상의 일반식(I)의 호합물을 함유하는 고형 균질 또는 비균질 조성물 예를 들어 과립, 펠렛, 연탄 또는 캡슐은 고인 물 또는 흐르는 물을 일정기간의 시간에 걸쳐 처리하는데 사용될 수 있다. 유사한 효과를 여기서 기재하는 바의 수분 산성 농축액의 점적 또는 간헐적인 먹이를 사용하여 성취할 수 있다.

애로졸 및 수성 또는 비수성용액 또는 분무, 안개형성 및 저 또는 초저부피 분무에 적합한 분산액 또한 사용될 수 있다.

언급한 조성물의 고체 형태는 분제 (80%에 달하는 일반식(I)의 화합물의 함량을 갖는) 또는 수화제 또는 입제이고 특히 압출, 밀집, 과립형 담체의 형성 또는 분말로부터 시작한 과립화 (이들 수화제 또는 입제에서 일반식(I)의 화합물의 함량은 0.5 내지 80%이다)에 의해 수득한 것들이다.

용액, 특히 유제, 유탁액, 액상 수화제, 애로졸, 수화제 (또는 분무용 분말), 건성 액상 수화제 및 페이스트는 시용할 때 액체이거나 액체 조성물을 형성하려는 의도인 조성물의 형태로 들수 있다.

유제 또는 용제는 가장 빈번하게는 5 내지 80%의 유효성분을 함유하는 반면, 즉시 시용할 수 있는 유탁액 또는 용액은 0.01 내지 20%의 유효성분을 함유한다. 용매외에도 유제는 필요하다면 안정제, 표면활성제, 침투제, 부식저해제, 착색제 또는 접착제와 같은 2 내지 50%의 적절한 첨가제를 함유할 수 있다.

식물에 시용하기에 특히 적절한 임의의 요구하는 농도의 유탁액은 이들 농축액을 물로 희석함으로써 수득할 수 있다.

분무로 시용될 수 있는 농축 현탁액은 가라앉지 않는 안정항 유체 생성물 (미세한 연마)을 생성하기 위하여 제조하고 일반적으로 10 내지 75%의 유효성분, 0.5 내지 30%의 표면 활성제, 0.1 내지 10%의 요변제, 거품 방지제, 부식해제, 안정제, 침투제, 접착제와 같은 0 내지 30%의 적절한 부가제, 및 담체로서 유효성분이 난용성 또는 불용성인 물 또는 유기액체를 함유한다 ; 어떤 유기 고체 또는 무기염이 침전을 방지하거나 물에 대한 부동액으로서 담체에 용해될 수 있다.

수화제 (또는 분무용 분말)는 10 내지 80%의 유효성분을 함유하도록 일반적으로 제조되며 고체 담체이외에도 0 내지 5%의 습윤제, 3 내지 10%의 분산제 및 필요하다면 0 내지 80%의 하나 이상의 안정제 및 /또는 침투제, 접착제 또는 해산제, 착색제 등과 같은 부가제를 함유하도록 제조한다.

이들 수화제를 수득하기 위하여, 유효성분 또는 성분은 안정한 블렌더에서 다공성 충진제상에 도입되거나 분쇄기 또는 다른 적절한 그라인더를 사용하여 분쇄되는 첨가물질과 철저히 혼합된다. 이것은 수화제를 형성하고, 그의 습윤성 및 현탁성은 유리하다 : 그들은 물에 현탁되어 임의의 원하는 농도를 수득할 수 있고 이 현탁액은 특히 식물 경엽에 시용되기 위하여 매우 유리하게 사용될 수 있다.

수분산성 입자 (WG) (물에 재빨리 분산되는 입자)는 수화제의 그것에 실질적으로 가까운 조성을 갖는다.

그들은 습식 경로 (미세하게 분할된 유효성분과 불활성 충진제 및 소량의 물 예를 들어 1 내지 20%, 또는 수용성 분산제 또는 결합제와 결합시키고 건조한 다음 스크리닝한다) 또는 건식 경로 (밀집화한 다음 분쇄하고 스크리닝한다) 둘 중 하나에 의해 수화제에 대하여 기술한 제제의 과립화에 의해 제조한다.

이미 기술한 바와같이, 수성 분산액 및 유탁액, 예를 들어 본 발명에 따른 수화제 또는 유제를 물로 희석하여 수득한 조성물은 본 발명에서 사용되는 조성물의 일반적 범주에 포함된다.

유탁액은 물 중 오일 또는 오일 중 물의 유형이며 그들은 두꺼운 일관성을 갖는다.

모든 이들 수성 분산액 또는 유탁액 또는 분무 혼합물은 임의의 적절한 수단, 특히 분무에 의해 헥타아르당 100 내지 1200 리터의 분무 혼합물의 수준인 비율로 작물에 사용될 수 있다.

본 발명에 따른 생성물 및 조성물은 식생 특히 제거되어야 할 해충이 있는 뿌리 또는 잎에 편리하게 시용된다.

본 발명에 다른 화합물 또는 조성물의 다른 시용방법은 케미게이션 (chemigation) 즉 유효성분을 함유하는 제제를 관개수에 첨가하는 것이다. 이 관계는 경엽농약용 스프링클러관개이거나 또는 그것은 농약용 지상관계 또는 지하관개일 수 있다. 유효성분의 시용량은 일반적으로 0.1 내지 10㎏/ha 바람직하게는 0.5 내지 4㎏/ha 이다.

비율 및 농도는 시용방법 및 사용되는 조성물의 성질에 따라 변할수 있다.

일반적으로 말하면, 절지동물, 식물선충, 기생충 또는 원생동물 해충을 방제하기 위한 시용조성물은 일반적으로 0.00001 내지 95 중량%, 보다 특히 0.0005 내지 50 중량%의 하나 이상의 일반식(I)의 화합물과 함께 절지동물 및 식물선충에 특성인 다른 물질, 구충제, 안티코시디알, 시네르지스트, 미량원소 또는 안정제) 함유한다. 사용된 실제조성물 또는 그의 시용비율은 농부, 가축생산자, 의사 또는 수의사, 해충방제자 또는 그 분야의 숙련공에 의해 원하는 효과를 수득하도록 선택될 것이다. 동물, 목재, 저장물, 또는 가정용품에 국부적으로 시용하기 위한 고체 및 액체 조성물은 일반적으로 0.0005% 내지 90%, 보다 특히 0.001% 내지 10 중량%의 하나이상의 일반식(I)의 화합물을 함유한다.

동물에 경구 또는 비경구 또는 경피투여를 위한 고체 및 액체 조성물은 정상적으로 0.1% 내지 9 중량%의 하나이상의 일반식(I)의 화합물을 함유한다. 의약화된 먹이는 정상적으로 0.001% 내지 3 중량%의 하나이상의 일반식(I)의 화합물을 함유한다. 먹이와 혼합용의 농축액 또는 보충물은 정상적으로 5% 내지 90%, 바람직하게는 5% 내지 50중량%의 하나이상의 일반식(I)의 화합물을 함유한다. 광물성 함염은 정상적으로 0.1% 내지 10중량%의 하나이상의 일반식(I)의 화합물을 함유한다.

가축, 인간, 상품, 대지 또는 옥외지역에 시용하기 위한 분제 및 액재는 0.0001% 내지 15%, 보다 특히 0.005% 내지 2.0 중량%의 하나이상의 일반식(I)의 화합물을 함유한다. 처리될 물에서 적절한 농도는 0.0001 ppp 내지 20ppm, 보다 특히 0.001ppm 내지 5.0ppm 의 하나이상의 일반식(i)의 화합물이며 적절한 노출시간을 갖는 생산사육에서 치료적으로 사용될 수 있다. 식용미끼는 0.01% 내지 5%, 바람직하게는 0.01% 내지 1.0 중량%의 하나이상의 일반식(I)의 화합물을 함유한다.

포유동물에 비경구, 경구 또는 경피 또는 다른 수단에 의해 투여될 때, 일반식(I)의 화합물의 용량은 포유동물의 중, 연령 및 건강 및 절지동물, 기생충, 원생동물해충이 실제로 또는 잠재적으로 만연하는 정도에 달려있다. 동물의 ㎏ 체중당 0.1 내지 100㎎, 바람직하게는 2.0 내지 20.0㎎의 단일용량 또는 지속적인 의약투여를 위해 동물의 ㎏ 체중당 0.01 내지 20.0㎎ 바람직하게는 0.1 내지 5.0㎎의 용량이 일반적으로 경구 또는 비경구 투여에 의해 적절하다. 지속적인 방출제제 또는 기구의 사용에 의해, 1개월 이상의 기간에 걸쳐 요구하는 일일용량은 조합될 수 있고, 동물에 한번 투여될 수도 있다.

다음의 구체적인 실시예는 본 발명의 화합물을 함유하는 농화학적 조성물을 설명하며 따라서 어떤 화합물의 살충적 및 살응애 시용을 설명한다.

다음의 조성물 실시예 23 내지 28 은 절지동물, 특히 곤충 및 거미류, 식물선충 및 기생충 또는 원생동물해충에 대한, 유효성분으로서 일반식(I)의 화합물, 특히 실시예 1 내지 22 및 표 3 및 4에서 기재한것들과 같은 화합물을 함유하는 조성물을 설명한다. 실시예 23 내지 28에 기재된 조성물은 각각 물에 희석되어 밭에서 사용하기에 적절한 농도의 분무가능한 조성물을 제공한다. 하기예시 화된 조성물 실시예 23 내지 28 에 사용된 성분의 화학적기술 (다음의 모든 백분율은 중량 퍼센트이다)은 다음과 같다:

[실시예 23]

수용성 농축액은 에틸탄 BCP를 N-메틸피폴리돈의 일부에 용해시킨 다음 유효성분을 용해될때까지 가열하고 교반함으로써 제조한다. 수득한 용액은 나머지 용매를 첨가함으로써 부피를 맞춘다.

[실시예 24]

유제는 소포트포트 BSU, 아릴란 CA 및 유효성분을 N-메틸피롤리돈에 용해시키고 솔베소 150을 첨가함으로써 제조한다.

[실시예 25]

수화제는 성분을 혼합하고 해머 분쇄기에서 혼합물을 50 미크론 이하의 입자 크기로 분쇄하여 제조한다.

[실시예 26]

수정액상 수화제는 성분을 즉시 혼합하고 중간 입자 크기가 3 미크론 이하일 때 까지 비드 분쇄기에서 분쇄함으로써 제조한다.

[실시예 27]

유제는 성분을 혼합하고 중간입자 크기가 3 미크론 이하가 될 때까지 비드 분쇄기에서 분쇄하여 제조한다.

[실시예 28]

수분산성 입제는 성분을 혼합하고 유체 에너지 분쇄기에서 분쇄한 다음 회전 펠레타이저에서 과립화하고 충분한 물 (10% w/v 까지)을 분무함으로써 제조한다. 수득한 입제는 유체베드 건조기에서 건조시켜 과량의 물을 제거한다.

[실시예 29]

분제는 즉시 혼합함으로써 제조한다.

이 분말은 절지동물이 만연하는 지역 예를 들어 쓰레기 버리는 곳, 저장물 또는 가정용품 또는 절지동물에 의해 감염 되었을 거나 돌 위험이 있는 동물에 시용하여 절지동물을 방제한다. 절지동물이 만연하는 지역에 분제를 분포하는 적절한 방법은 기계적 블로우어, 핸드쉐이커 및 가축 자기 처리 장치를 들 수 있다.

[실시예 30]

식용 미끼는 즉시 혼합함으로써 제조할 수 있다.

이 식용미끼는 가축 및 산업대지 예를 들어 부엌, 병원 또는 상점 또는 옥외 절지동물 예를 들어 개미, 메뚜기, 바퀴 및 파리가 만연하는 지역에 살포함으로써 절지동물을 방제할 수 있다.

[실시예 31]

용액은 피롤 유도체를 디메틸 술폭시드의 일부에 용해시키고 디메틸 술폭시드를 더 첨가하여 원하는 부피를 맞추어 제조한다.

이 용액은 절지동물이 만연하는 가축에 100㎏의 동물 체중당 1.2 내지 12㎖의 용액의 시용비율로 경피시용 또는 폴리테트라플루오로틸렌 막 (0.22 마이크로미터 공극크기)으로 여과 멸균후 비경구 주사함으로써 시용한다.

[실시예 32]

수화제는 에틸란 BCP를 애로실에 흡착시키고 다른 성분을 혼합하고 헤어 분쇄기에서 혼합물을 분쇄하여 제조한다.

수화제는 0.001% 내지 2% w/v 의 활성 화합물의 농도를 물로 희석하고 절지동물 예를 들어 쌍시류 유충, 또는 식물 선충이 만연하는 지역에 분무함으로써 또는 절지동물, 기생충 또는 원생동물이 만연하거나 감염의 위험이 있는 가축에 분무하거나 담금으로써 또는 마시는 물에 경구투여함으로써 시용하여 절지동물, 기생충 또는 원생동물을 방제한다.

[실시예 33]

서방성 알약은 밀도제, 결합제, 서방제 및 실시예 27에 따른 유효성분을 함유하는 과립으로부터 여러 가지 백분율의 조성물로 만든다. 혼합물을 압축함으로써 그 이상의 비중을 갖는 알약을 형성할 수 있고 망상 혹위 내에 보유하는 반추가축에 경구투여하여 연장된 시간 동안 피롤 화합물을 계속적으로 서서히 방출하여 반추가축에 절지동물, 기생충 또는 원생동물의 만연을 방제할 수 있다.

[실시예 34]

서방성 조성물을 폴리비닐클로라이드와 활성 화합물 및 적절한 가소제를 혼합함으로써 제조할 수 있다.

균일한 조성물을 적절한 형태 예를 들어 과립, 펠렛, 연탄 또는 스트립으로 용융 압출 또는 성형하여 물에 첨가하기에 적절하게 또는 스트립의 경우 가축에 부착하기 위한 칼라 또는 귀거리로 조작하여 서방성 활성 화합물로 곤충을 방제한다.

유사한 조성물을 조성물 실시예의 유효성분을 일반식(I)의 다른 화합물의 적절한 양으로 대치함으로써 제조할 수 있다.

다음 용도 실시예 35 내지 47에서, 본 발명에 따른 화합물은 여러가지 농도로 시용된다. 경엽용액 또는 현탁액 또는 유탁액 1ppm (사용되는 시험 용액 백만당 1부의 화합물의 농도)의 사용은 1000ℓ/ha 의 대략적 분무부피를 기준으로 1g/ha 의 유효성분의 시용에 해당한다. 다음의 시용에서 약 6.25 내지 500 ppm 의 경엽분무는 약 6~500g/ha 에 해당한다. 토양 시용의 경우, 약 7.5㎝ 토양깊이를 기준으로 1ppm 의 토양농도는 약 1000g/ha의 밭 시용에 해당한다.

[실시예 35]

[진디에 대한 활성]

혼합물을 다음으로 만든다.

- 0.01g 의 유효성분

- 0.16g 의 디메틸포름아미드

- 0.838g 의 아세톤

- 0.002g 의 알킬아릴 - 폴리에테르알콜 및 아릴부분에 술폰기를 갖는 알킬아릴 폴리에테르 알코올 양자를 함유하는 계면 활성제 블렌드

- 98.99g 의 물

이 희석 수성 혼합물은 털갈매 나무진디 (아피스 나스투르티이 (Aphis nasturtii) 의 성충 및 애벌레 단계를 사육한 난쟁이 한련에 분무한다. 포트당 진디의 수는 100 내지 150 이다. 분무한 수성 혼합물의 부피는 식물을 적시기에 충분하다. 분무후, 포트를 20℃에서 1일간 저장하고, 살아있는 진디를 센다. 주어진 사망률의 백분율은 실시예

[실시예 36]

[응애에 대한 활성]

실시예 35에서와 동일한 제제 과정을 사용한다. 그러나, 이 경우 150 내지 200의 두점응애 (테트라니쿠스우르티캐 (Tetranychus urticae)를 연록색콩에 사육한다.

분무후, 식물을 30℃에서 5일간 보관한다. 실시예 2,

[실시예 37~39]

[남부 군대 벌레에 대한 활성]

37 : 실시예 35 에서와 동일한 제제를 사용한다.

이 경우, 남부 군대 벌레 (스포돕테타 에리다니아 (Spodopteraeridania)) 의 2차 탈피 유충을 약 15㎝높이의 시바콩에 사육한다. 사망률의 다음 퍼센트는 5일후 수득한다 ;

38 : 이 경우 다음을 함유하는 것을 제의하고 실시예 35에서와 같은 동일한 제제 과정을 사용한다.

- 2.5㎎ 의 유효성분

- 0.05g 의 디메틸포름아미드

- 9.9228g 의 아세톤

- 0.0247g 의 계면활성제 (실시예 35 에서와 같이)

- 90g 의 물.

실시예 4의 화합물은 25ppm에서 남부 군대 벌레에 대하여 100%의 사망률을 제공한다.

39 : 이 경우 다음을 함유하는 것을 제외하고 실시예 38에서와 동일한 제제과정을 사용한다.

- 0.625㎎ 의 유효성분

- 12.5㎎ 의 디메틸포름아미드

-9.9621g 의 아세톤

- 0.0247g 의 계면 활성제 (실시예 35에서와 같은)

- 90g 의 물

실시예 1 및 2의 화합물은 6.25ppm에서 남부 군대 벌레에 대하여 100%의 사망률을 제공한다.

[실시예 40~43]

[멕시코콩 투구벌레에 대한 활성]

40 : 이 경우 다음을 함유하는 것을 제외하고 실시예 37에서와 동일한 제제과정이 사용된다.

- 12.5㎎ 의 유효성분

- 0.25g 의 디메틸포름아미드

- 9.726g 의 아세톤

- 24.1㎎ 의 계면 활성제 (실시예 35와 같은)

- 89.988g 의 물.

멕시코 콩 투구벌레 (에피라크나바리베스티스물스, Epilachna varivestis, muls) 의 2차 탈피유충을 약 15㎝ 높이의 시바 콩에서 사육한다. 사망을 퍼센트는 5일후 수득한다 : 실시예 13의 화합물 125ppm 에 대하여 100%의 사망률을 수득한다.

41 : 실시예 38의 제제과정을 사용하지만 유효성분으로서 실시예 8의 화합물을 함유하는 경우, 25ppm에서 멕시코 콩 투구벌레의 100%의 사망률을 수득한다.

42 : 실시예 35의 제제과정을 사용하지만 유효성분으로서 실시예 15A의 비브롬화 화합물을 함유하는 경우, 100ppm에서 멕시코 콩 투구벌레의 100%의 사망률을 수득한다.

43 : 이 경우 다음을 함유하는 것을 제외하고 실시예 40에서와 동일한 제제과정을 사용한다.

- 10㎎ 의 유효성분

- 0.2g 의 디메틸포름아미드

- 9.7657g 의 아세톤

- 0.0243㎎ 의 계면 활성제 (실시예 35와 같은)

- 90g 의 물.

멕시코콩 투구벌레에 대하여 다음의 사망률 퍼센트를 수득한다 : 실시예 15A 및 15B 의 화합물 100ppm에 의해 80%의 사망률 및 실시예 1,2,9,17,18 및 ASE 번호 42,44,60,62,64,98,99,124,125,141,142 및 144의 화합물 100ppm에서 100%의 사망률.

[실시예 44~46]

[집파리에 대한 활성]

10% w/w의 설탕 및 100ppm의 화학독약을 함유하는 10㎖의 수성 설탕 용액 형태의 독약을 실시예 35에서와 동일한 방법으로 제제한다. 단계적 희석액을 필요한 대로 만든다.

다음의 세가지 다른 제제를 시험을 위해 만든다.

25마리의 파리 (무스카 도메스티카, Musca domestica) 성충을 이산화탄소로 마취한 다음 독약 제제를 함유하는 미끼컵에 옮긴다. 27℃에서 하루후 파리의 사망률을 측정하면 다음과 같다.

[실시예 44]

[실시예 45]

실시예 12의 화합물 100ppm에서 100%사망률.

[실시예 46]

실시예 1,2 및 5의 화합물 12.5ppm에서 100%사망률.

[실시예 47]

[남부 옥수수 뿌리 벌레에 대한 활성]

이 경우 단지 48.99g의 물이 사용되는 점을 제외하고 실시예 35에서 사용한 바와 동일한 방법으로 제제를 제조하고 시험 화합물의 최초 200ppm 농도를 제공한다. 이 제제의 분액을 다음의 시험 과정에 따라 중량 ppm (백만당 부)으로 요구하는 시험 농도에 따라 직접 사용한다.

60g의 사양토를 함유하는 용기에 200ppm 시험 화합물 제제 (시험 화합물의 최종 토양 농도에 적절하게)의 분액, 3.2㎖의 물 및 5개의 미리 발아시킨 옥수수 유묘를 첨가한다.

용기를 격렬하게 흔들어 균일한 분포의 시험 제제를 수득한다.

이후, 20개의 남부 옥수수 뿌리벌레알을 토양에 만든 구멍에 놓는다. 버미클라이트 (1㎖) 및 물 (1.7㎖)을 이 구멍에 첨가한다. 유사한 방법으로, 비처리 대조군을 시험 화합물을 함유하지 않는 물-아세톤-DMF 유화제 용액의 같은 크기의 분액의 시용에 의해 제조한다. 부가적으로 동일한 방법으로 제제된 상업적 화합물을 갖는 처리 대조균을 시험 표준으로서 사용한다. 7일후, 살아있는 뿌리벌레 유충을 잘 알려진 베롤레스 퍼넬 추출법을 사용하여 센다.

다음 화합물은 모두 1.45, 0.72 및 0.36ppm의 토양농도에서 100%방제를 제공한다 : 실시예 3B, 4 및 17-19 및 ASE 번호 98, 99, 101, 105, 113, 119, 121, 124, 125, 130 및 173의 화합물

Claims (49)

1. 하기 일반식 (I)의 화합물

   

   [상기식중, X는 할로겐, 시아노, 시아네이토, 티오시아네이토, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알킬카르보닐, 알케닐티오, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알케닐티오, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 할로알킬티오카르보닐, 페닐티오, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴술피닐 및 헤테로아릴술포닐의 군에서 선택되며; 여기서 페닐기는 할로겐, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환되며, 헤테로 아릴기는 산소, 황 또는 질소와 같은 동일 또는 상이한 헤테로원자를 1 또는 2개 함유하며 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 5 또는 6원 모노시클릭 고리이며; 알킬, 할로알킬, 알케닐, 할로알케닐, 알콕시 및 할로알콕시기는 10 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄의 것이며, 상술한 기 모두에 있어서 할로치환은 동일 또는 상이한 1개 이상의 할로겐 원자가 모노 내지 완전 폴리 치환되는 것이며, R¹, R²및 R³는 상기 X에서 설명된 기 또는 원자, 수소원자, 일킬기에서 선택될 수 있으며; 이들 (R¹, R², R³)중 하나의 치환체는 포르밀, 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐, 아지도, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 벤질리덴이미노, 알킬리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 비스(알킬티오) 메틸, 비스(아릴티오) 메틸, 알킬티오알킬리덴이미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 할로겐, 시아노 또는 할로알킬로 임의 치환된 페닐, 및 산소, 황 또는 질소와 같은 동일 또는 상이한 1 또는 2개의 헤테로 원자를 함유하며, 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 5 또는 6원 모노시클릭 고리를 갖는 헤테로 알릴기의 군에서 선택되며; 여기서 알킬, 할로알킬, 알케닐, 할로알케닐, 알콕시 및 할로알콕시기는 10 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄의 것이며, 이들기중의 할로치환은 동일 또는 상이한 1개 이상의 할로겐 원자가 모노 내지 완전 폴리 치환되는 것이며: Y는 할로겐, 시아노, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알킬티오, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 알킬카르보닐, 할로알킬카르보닐, 알케닐, 할로알케닐, 할로알키닐 및 알키닐기는 10 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄의 것이며, 이들 기에서 할로치환은 동일 또는 상이한 1개 이상의 할로겐 원자가 모노 내지 완전 폴리 치환되는 것이며; 또는 Y가 수소원자일 때 ; X는 할로겐 원자 또는 기 R⁵S(O)_n(식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 알킬, 할로알킬, 알케닐 또는 할로알케닐이며, 알킬 및 알케닐 탄소사슬 및 할로치환은 상기에 정의한 바와같다)이고, R¹및 R³은 각각 수소원자이며, R²는 시아노이고; X¹, X², X³및 X⁴는 각각 Y에서 설명된 치환체 및 수소원자중에서 선택되며; 단, X⁴= X¹= Y = R¹= X = R²= R³= Cl 및 동시에 X³= X²=H인 화합물은 제외되고, R¹, R²및 R³중 하나 이상은 X 에서 설명한 치환체 중에서 선택되며; X⁴ 및 X¹이 H이고, X가 할로겐 또는 시아노이면 R²는 X 와는 상이하며; X⁴ 및 X¹이 H이고, Y가 메틸이며, X는 브로모와는 상이하다.]
2. 제1항에 있어서, X가 할로겐원자, 또는 시아노, 시아네이토, 티오시아네이토, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 페닐티오, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴술피닐 및 헤테로아릴술포닐기의 군에서 선택되며; 여기서 페닐기는 할로겐, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환되며, 헤테로아릴기는 산소, 황 또는 질소와 같은 동일 또는 상이한 1 또는 2 헤테로원자를 함유하며 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 5 또는 6원 모노시클릭고리이며; 알킬, 할로알킬, 알콕시 및 할로알콕시기는 10 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 촉쇄의 것이며, 이들 기 중의 할로치환은 모노치환 내지 완전 폴리치환되는 것이며; R¹, R²및 R³는 X에서 설명한 치환체, 수수원자 및 알킬기에서 선택될수 있으며; R¹, R²및 R³중 하나의 치환체는 포르밀, 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노 알킬리데닐, 아지도, 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 벤질리덴이미노, 알킬리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노,할로겐, 시아노 또는 할로알킬로 임의 치환된 페닐, 및 산소, 황 또는 질소와 같은 동일 또는 상이한 1 또는 2헤테로원자를 함유하며 할로겐, 니트로, 시아노 또는 할로알킬기로 임의 치환된 5 또는 6원 모노시클릭 고리를 갖는 헤테로알릴기의 군에서 선택되며; 여기서 알킬, 할로알킬, 알콕시 및 할로알콕시기는 10 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 촉쇄의 것이며, 상술한 기 중의 할로치환은 모노치환 내지 완전 폴리치환이며; Y는 할로겐원자 또는 시아노, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알킬티오, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 알킬카르보닐, 할로알킬카르보닐, 알케닐, 할로알케닐, 알키닐 또는 할로알키닐기의 군에서 선택되며; 여기서 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알키닐 및 할로알키닐기는 10이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 촉쇄의 것이며, 이들 기 중의 할로치환은 모노치환 내지 완전 폴리치환되는 것이며; X¹, X², X³및 X⁴는 제1항에서 정의한 바와 같은, 일반식 (I)의 화합물.
3. 제1 또는 2항에 있어서, X, X¹, X², X³, X⁴, R¹, R², R³및 Y로 정의된 치환체의 알킬, 알케닐, 알키닐 및 알콕시 부분이 5 이하의 탄소원자를 갖는 일반식 (I)의 화합물.
4. 제3항에 있어서, X가 할로겐원자 또는 기 R⁵S(O)n(식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 알킬, 할로알킬, 알케닐 또는 할로알케닐이다)이고; R¹이 수소원자, 할로겐원자 또는 알킬티오이며; R²가 시아노이고; R³가 수소원자 또는 할로겐원자이며; Y가 수소원자, 할로겐원자, 할로알킬 또는 할로알콕시이며, Y가 수소원자인 경우의 단서는 제1항에 정의한 바와같고 ; X¹, X², X³및 X⁴는 각각 수소원자, 할로겐원자, C₁~₃알킬, C₁~₃알콕시 및 C₁~₃알킬티오의 군에서 선택되는 일반식(I)의 화합물.
5. 제4항에 있어서, 하기 일반식 (II)의 화합물.

   

   식중, X는 R⁵S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 CH₃, CF₃, CF₂Cl, CFCl₂, CF₂Br, CHF₂, CHCl₂또는 CHClF 이다)이고; R¹는 H, F, Cl 또는 Br이며 ; R³는 H, F, Cl 또는 Br이고 ; X¹은 H 또는 Cl이며 ; Y는 CF₃또는 CF₃O 이다.
6. 제5항에 있어서,

   

   

   

   
7. 제4항에 있어서, X가 할로겐원자 또는 기 R⁵S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 알킬, 할로알킬, 알케닐 또는 할로알케닐이다) 이고; R¹및 R³가 각각 수소원자이며; R²가 시아노이고; Y는 수소원자 또는 할로겐원자이며; X¹, X², X³및 X⁴는 각각 수소, 할로겐, C₁~₃알킬, C₁~₃알콕시 및 C₁~₃알킬티오의 군에서 선택되는 일반식 (I)의 화합물.
8. 제7항에 있어서, R⁵의 정의에서, 알킬이 C₁~₄알킬이고, 할로알킬이 트리할로메틸이며 ; Y의 정의에서 할로겐이 Cl 또는 Br 이고, X¹및 X⁴각 각각 H, F, Cl, Br 또는 CH₃를 나타내며, X²및 X³가 각각 수소인 화합물.
9. 제7 또는 8항에 있어서, R⁵가 CF₃, CCl₃, CF₂Cl, CFCl₂또는 CF₂Br인 화합물.
10. 제7항에 있어서,

    

    

    

    

    인 화합물.
11. 제1 내지 4, 7, 8 및 9항중 어느 한 항에 있어서, 알케닐 및 할로알케닐로 정의된 Y 치환체가 각각 알릴 및 할로알릴이며, 알키닐 및 할로알키닐로 정의된 Y 치환체가 각각 프로파르길 및 할로프로파르길인 일반식(I)의 화합물.
12. 제1, 2 또는 3항에 있어서, R¹이 수소원자 또는 할로겐 원자이고 ; R²가 시아노이며; X가 할로알킬 -S(O)n 기 (식중, n은 0, 1 또는 2이다) 이고 ; X¹및 X⁴는 수소원자 이외의 기이며 ; Y가 할로알킬 또는 할로알콕시기이고 ; X²및 X³가 수소원자인 일반식(I)의 화합물.
13. 제 12항에 있어서, 할로겐 원자로 정의된 R¹이 염소 또는 브롬 원자이고 ; 할로알킬 -S(O)n 기로 정의된 X가 트리플루오로메틸티오, 트리플루오로메틸술피닐 또는 트리플루오로메틸술포닐기인 화합물.
14. 제2항에 있어서, 하기 일반식 (II)의 화합물.

    

    [식중, X는 R⁵S(O)n (식중, n은 0, 1 또는 2이고, R⁵는 CH₃, CF₃, CF₂Cl 또는 CFCl₂이다) 이고 ; R²는 시아노이며 ; R¹은 H, F, Cl, Br 또는 NH₂이고; R³는 H, F, Cl, Br, CF₃또는 CN 이며; X¹는 H 또는 Cl이고 ; Y는 CF₃또는 CF₃O 이다.]
15. 제2항에 있어서,

    

    

    

    인 화합물.
16. 제1항에 있어서, 하기 일반식 (IIIa)의 화합물.

    

    [식중, Y는 H, Cl, Br, CF₃또는 OCF₃이고, X¹및 X⁴는 각각 H, Cl, F, CH₃또는 SCH₃이며, 단 X¹및 X⁴가 각각 H일 때, Y는 H 또는 Cl 이외의 기이다.]
17. 제16항에 있어서, X¹이 H 또는 Cl 이고, Y가 CF₃또는 CF₃O 인 화합물.
18. 하기 일반식

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에서 정의한 바와 같고, 아미노는 임의로 보호된다) 의 화합물을 (a) 임의로 용매 존재하에 할로겐화제와 반응시켜 X가 할로겐인 하기 일반식 (Ia)의 화합물을 수득하고,임의로 이 화합물을 공지의 방법으로 트리플루오로메틸 구리와 반응시켜 X가 트리플루오로메틸인 일반식 (Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (b) 루이스산 존재하에 트리스 (알킬티오) 메탄 또는 트리스 (아릴티오) 메탄과 반응시키고, 수득된 일반식(XI)

    

    (식중, X 는 비스 (알킬티오) 메틸 또는 비스 (아릴티오) 메틸이고, 다른 기호는 제1항에서 정의한 바와 같다) 의 화합물을 임의로 알킬 아질산염과 반응시키고 가수분해하여 X가 포르밀인 일반식 (XI)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 히드록실아민과접촉시킨후 공지의 방법으로 탈수시켜 X가 시아노기인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (c) 용매중에서 브롬 존재하에 일반식 MSCN (식중, M은 알칼리 금속이다) 의 화합물과 반응시켜 X가 티오시아네이토기인 일반식 (Ia)의 화합물을 수득하고, 임의로 이 화합물을 용매중에서 염기 존재하에 알킬할라이드 또는 디알킬술페이트와 반응시켜 X 가 알킬티오인 일반식 (Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (d) 유기액체 반응 매질중에서 임의로 산수용체 존재하에 일반식 RSHal (식중, R은 알킬, 할로알킬, 페닐 또는 헤테로아릴기이고, Hal 은 할로겐 원자이다)의 술페닐할라이드와 반응시켜 X가 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하고, 임의로 수득된 화합물을 공지의 방법으로 산화시켜 X가 RS(O)n (식중, n은 1 또는 2이다) 인 일반식 (Ia)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는 하기 일반식(Ia)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와 같고, X는 할로겐, 트리플루오로메틸, 시아노, 티오시아네이토, 알킬티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 할로알킬티오, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐티오, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴티오, 헤테로아릴술피닐 또는 헤테로아릴술포닐이다).
19. 하기 일반식 (XXVIII)

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에 정의한 바와 같고, 아미노 및 시아노기는 필요하다면 적당히 보호된다)의 화합물을 (a) 산 수용체 존재하에 시아노겐할라이드와 반응시켜 X가 시아네이토인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (b) 임의로 염기 존재하에 알킬화제와 반응시켜 X가 알콕시인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (c) 공지의 방법으로 할로알킬화하여 X가 할로알콕시인 일반식(Ia)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는, 하기 일반식(Ia)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와같고, X는 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시이다).
20. 하기 일반식 (VI)

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에서 정의한 바와 같고, 아미노 및 시아노는 필요하다면 적당히 보호된다)의 화합물을 (a) 공지의 방법으로 플루오르화제와 반응시켜 X가 디플루오로메틸기인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (b) 산화제와 반응시켜 기 - CHO 를 카르복실산기로 전환시키고, 수득된 화합물을 공지의 방법으로 플루오르화제와 반응시켜 X가 트리플루오로메틸인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (c) 기 - CHO 가 메틸기로 치환된 화합물로 전환시키고, 수득된 화합물을 용매중에서 할로겐화제와 반응시켜 X가 브로모메틸 또는 클로로메틸인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하거나 ; (d) 차례로 할로알킬금속 유도체 또는 트리플루오로트리메틸 실란과 반응시켜 -CHO 기를 할로알킬카르비놀로 전환시키고, 공지의 방법으로 산화시켜 X가 할로알킬카르보닐인 일반식(Ia)의 화합물을 수득한 후, 임의로(i)이 화합물을 라베슨의 시약과 반응시켜 X가 할로알킬 (티오카르보닐)인 화합물(Ia)의 화합물을 수득하거나, (ii) X가 할로알킬카르비놀인 화합물을 할로겐화제와 반응시켜 X가 α-할로알킬-α-할로메틸인 일반식(Ia)의 화합물을 수득하고, 필요하다면 탈보호 시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식 (Ia)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와 같고, X는 할로알킬 할로알킬 카르보닐, 또는 할로알킬티오카르보닐이다).
21. X, 시아노 및 아미노가 필요하다면 임의로 보호된 일반식 (Ia)의 화합물을 (a) 제18항 (a)에 따라 반응시켜 R³가 할로겐인 일반식 (Ib)의 화합물을 수득하고, 임의로 이 화합물을 (i) 공지의 방법으로 구리 존재하에 임의 치환된 헤테로아릴 또는 페닐할라이드와 반응시키거나, (ii) 공지의 방법으로 팔라듐 존재하에 임의 치환된 페닐 또는 헤테로아릴보론산과 반응시켜 R³가임의 치환된 페닐 또는 헤테로 아릴기인 일반식 (Ib)의 화합물을 수득하거나, (iii) 제 18항 (a) 에 따라 반응시켜 R³가 트리플루오로메틸인 일반식 (Ib)의 화합물을 수득하거나; (b) 제18항 (b)에 따라 반응시켜 R³가 비스 (알킬티오) 메틸기 또는 비스 (아릴티오) 메틸기인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, 이어서 임의로 R³가 포르밀인 일반식 (Ib)의 화합물을 수득하거나 ; (c) 공지의 방법으로 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴디아조늄염과 반응시켜 R³가 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하거나 ; (d) 제 18항 (c,d) 에 따라 반응시켜 R³가 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, 임의로 제 18항 (d)의 따라 산화시켜 R³가 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐 또는 헤테로아릴술포닐이며, 단 X는 바람직하지 못한 산화반응을 일으킬 수 있는 RS가 아닌 일반식(Ib)의 화합물을 수득한후 ; X가 할로겐일 때 공지의 방법에 의해 알킬리튬으로 임의 처리하고, 수성냉각시킨 다음 제 18항 (c,d)에 따라 술페닐화하여 X가 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식(Ib)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는, 하기 일반식 (Ib)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제 1항에서 정의한 바와같고, R³는 할로겐, 포르밀, 비스 (알킬티오 또는 아릴티오) 메틸, 할로알킬, 알킬, 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴, 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오, 헤테로아릴티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술피닐이다).
22. 하기 일반식 (XXIX)

    

    (식중, R³는 포르밀 또는 알킬카르보닐이고, 다른 기호는 제1항에서 정의한 바와 같고, X, 시아노 및 아미노는 필요하다면 보호된다)의 화합물을 (a) 용매중에서 히드록실아민 또는 0-알킬히드록실아민 또는 그의 부가염과 축합시켜, R³가 히드록시이미노알킬리데닐 또는 알콕시이미노알킬리데닐인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, R³가 히드록시이미노메틸리데닐 또는 알콕시이미노메틸리데닐일 때 상기 R³기를 시아노로 전환시켜 R³가 시아노기인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하거나 ; (b) R³가 포르밀일 때 제 20항 (a,b,c 또는 d)에 따라 반응시켜 R³가 메틸, 할로알킬, 할로알킬카르보닐 또는 할로알킬티오카르보닐기인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하거나 ; (c) R³가 포르밀일 때 알킬할라이드 또는 알킬리튬으로부터 유도된 그리나드 시약과 반응시켜 카르비놀을 제조하고 탈수시켜 R³가 알케닐인 화합물을 수득한 후, 환원시켜 R³가 알킬인 일반식(Ib)의 화합물을 수득하고, 임의로 탈 보호시킴을 특징으로 하는 하기 일반식 (Ib)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와 같고, R³는 히드록시이미노메틸리데닐, 알콕시이미노메틸리데닐, 시아노, 할로알킬, 할로알킬카르보닐 또는 할로알킬티오카르보닐 또는 알킬이다).
23. 하기 일반식 (XXX)

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에서 정의한 바와 같고, 아미노기는 적당한 방법으로 보호된다) 의 화합물을 환원시켜 R³가 아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 (a) 유기용매중에서 알킬화제와 반응시켜 모노 또는 디치환된 아미노기를 수득하거나, 아미노기를 알콕시알킬리덴이미노로 전환시키고 환원시켜 R³가 알킬아미노, 디알킬아미노 또는 아르알킬아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (b) 포스겐과 반응시킨후 암모니아와 반응시켜 R³가 아미노카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (c) 임의로 용매 및 / 또는 유기산 수용체 존재하에 알킬산 클로라이드 또는 할로알킬산 클로라이드 또는 아릴산클로라이드 또는 무수물과 반응시켜 R³가 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노 또는 아릴카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (d) 적당한 조건하에 알킬 또는 할로알킬술포닐할라이드 또는 그의 무수물과 반응시켜 R³가 알킬술포닐아미노 또는 할로알킬술포닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하는 방법; (e) 공지의 방법으로 알킬 또는 아릴이소시아네이트와 반응시켜 R³가 (알킬아미노 또는 아릴아미노) 카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (f) 공지의 방법으로 알킬클로로포트메이트 또는 할로알킬클로로포트메이트와 반응시켜 R³가 알콕시카르보닐아미노 또는 할로알콕시카르보닐아미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (g) 공지의 방법으로 알킬 또는 아릴알데히드와 반응시켜 R³가 알킬리덴이미노 또는 벤질리덴 이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (h) 알킬오르토에스테르와 반응시켜 R³가 알콕시알킬리덴이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (i) N,N-디알킬포름아미드 또는 그의 디알킬아세탈 유도체와 반응시켜 R³가 디알킬아미노알킬리덴이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (j) 유기용매중에서 트리스 (알킬티오) 메탄과 반응시켜 R³가 알킬티오알킬리덴이미노인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하거나 ; (k) 공지의 방법으로 p-톨루엔술포닐아지드와 반응시키거나 디아조늄염으로 전환시키고, 히드라지노기로 환원시킨후, 질산으로 처리하여 R³가 아지도기인 일반식(XXXIV)의 화합물을 수득하고, 필요하다면 탈보호시킴을 특징으로 하는 중간체 화합물로 유용한 하기 일반식 (XXXIV)의 화합물의 제조법.

    

    (식중, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y 는 제1항에서 정의된 바와같고, R³는 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노 또는 아지도이다).
24. 하기 일반식 (XXXI)

    

    (식중, 아미노, 시아노 및 X 는 임의로 보호된다) 의 화합물을 제19항 (a, b 또는 c) 에 따라 반응시켜 R³가 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식 (Ib)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는, 하기 일반식 (Ib)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와같고, R³는 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시이다).
25. 하기 일반식 (Ib)

    

    (식중, 아미노기는 필요하다면 X, R³또는 시아노기를 보호한 후 탈보호된다) 의 화합물을 (a) 불활성 용매중에서 디아조화제와 반응시켜 R¹이 H 인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하거나 ; (b) 할로겐 공여체 존재하에 디아조화제와 반응시켜 R¹이 할로겐인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하고, 임의로 이 화합물을 그리나드 시약 또는 리튬 유도체와 반응시킨 후, 지방족산 클로라이드 또는 그의 무수물과 반응시켜 R¹이 알킬카르보닐인 일반식(Ic)의 화합물로 전환시키거나 이 화합물을 제 21항 (e)에 따라 반응시켜 R¹이 페닐 또는 헤테로아릴인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하거나 ; (c) 용매중에서 (SCN)₂또는 디설파이드 존재하에 디아조화제와 반응시켜 R¹이 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 또는 헤테로아릴티오인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하고, 임의로 제18항 (d)에 따라 산화시켜 R¹이 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐 또는 헤테로아릴술포닐인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하거나 ; (d) 제 23항 (a-k)에 따라 반응시켜 R¹이 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노 또는 아지도인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하거나 ; (e) 공지의 방법에 따라 아질산 나트륨 및 포름알독심, 황산구리 및 HCl 과 반응시켜 R¹이 포르밀인 일반식 (Ic)의 화합물을 수득하고, 임의로 (i) 알킬 그리나드 시약과 반응시킨후 이어서 산화시켜 R¹이 알킬카르보닐인 일반식(Ic)의 화합물로 전환시키거나, (ii) 제22항 (a)에 따라 반응시켜 R¹이 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐 또는 시아노인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하거나, (iii) 제20항 (a-d)에 따라 반응시켜 R¹이 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 할로알킬 또는 메틸인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하고, 필요하다면 탈보호 시키거나; R¹이 포르밀인 상기의 화합물을 공지의 방법으로 R¹이 비스 (알킬티오 또는 아릴티오)메틸인 일반식(Ic)의 화합물로 전환시킴을 특징으로 하는 하기 일반식 (Ic)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X, R³, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와같고, R¹은 수소, 할로겐, 티오시아네이트, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 헤테로아릴티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술피닐, 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴, 알킬카르보닐, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노, 아지도, 비스(알킬티오 또는 아릴티오) 메틸, 포르밀, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 할로알킬 또는 알킬이다).
26. 하기 일반식 (XXXII)

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에서 정의한 바와 같고, X, 시아노 또는 R³가 공지방법으로 임의 보호된다) 의 화합물을 제19항 (a, b 및 c)에 따라 반응시켜 R¹이 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식(Ic)의 화합물을 수득하고, 임의로 탈보호시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ic)의 화합물의 제조방법.

    

    (식중, X, R³, R², X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와 같고, R¹이 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시이다).
27. 일반식(Ic)의 화합물을 용매중에서 환원제로 처리하여 기 CN을 기 CHO로 전환시켜 R²가 CHO인 화합물을 수득하고, 이 화합물을 공지방법으로 임의 산화시켜 상응하는 하기 일반식(XXXV)

    

    의 화합물을 수득함을 특징으로 하는, X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 제1항에서 정의한 바와같고, R²가 CHO인 일반식 (I)의 화합물의 제조방법.
28. R²가 CHO인 일반식(I)의 화합물을 필요하다면 공지의 방법으로 X, R¹또는 R³를 보호한 후, 제20항 (a,b,c 및 d), 제22항 (a 및 b) 또는 제25항 (e)에 따라 반응시키고, 필요하다면 탈보호시킴을 특징으로 하는, X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와같고, R²가 히드록시이미노알킬리데닐, 알콕시이미노알킬리데닐, 시아노, 할로알킬카르보닐, 할로알킬티오카르보닐, 알킬, 할로알킬, 또는 비스(알킬티오 또는 아릴티오) 메틸인 일반식(I)의 화합물의 제조방법.
29. 제27항에 기재된 일반식(XXXV)의 화합물을 필요하다면 공지의 방법으로 X, R¹또는 R³를 임의로 보호한 후, 커티우스 재배열조건하에 반응시켜 예를 들면 산클로라이드로 전환시키고, 알칼리 금속 아지드와 반응시키거나 알콜성 용매중에서 유기염기 존재하에 디페닐포스포릴 아지드와 반응시켜 카르바메이트를 제조한 다음 가수분해시켜 R²가 아미노인 상응하는 화합물을 수득하고, 임의로 제23항 (a-k) 또는 제25항 (a-c)에 따라 반응시킨후, R²가 할로겐일 때, 임의로 제21항 (a)에 따라 반응시키고, 필요하다면 탈보호시킴을 특징으로 하는 X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 제1항에서 정의한 바와같고, R²가 아미노, 알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아미노카르보닐아미노, 알킬카르보닐아미노, 할로알킬카르보닐아미노, 아릴카르보닐아미노, 알킬술포닐아미노, 할로알킬술포닐아미노, 알킬아미노카르보닐아미노, 아릴아미노카르보닐아미노, 알콕시카르보닐아미노, 할로알콕시카르보닐아미노, 알킬리덴이미노, 벤질리덴이미노, 알콕시알킬리덴이미노, 디알킬아미노알킬리덴이미노, 알킬티오알킬리덴이미노, 아지도, 수소, 할로겐, 티오시아네이토, 알킬티오, 할로알킬티오, 알케닐티오, 할로알케닐티오, 페닐티오 헤테로아릴티오, 알킬술피닐, 알킬술포닐, 알케닐술피닐, 알케닐술포닐, 할로알킬술피닐, 할로알킬술포닐, 할로알케닐술피닐, 할로알케닐술포닐, 페닐술피닐, 페닐술포닐, 헤테로아릴술피닐, 헤테로아릴술포닐, 임의로 치환된 페닐 또는 헤테로아릴 또는 트리플루오로메틸인 일반식(I)의 화합물의 제조방법.
30. 하기 일반식 (XXXVI)

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에서 정의한 바와 같다) 의 화합물을 필요하다면 X, R¹또는 R³기를 임의로 보호한 후, 제24항에 따라 반응시키고, 필요하다면 탈보호시킴을 특징으로 하는 X, R¹, R³, X¹, X², X³, X⁴및 Y가 제1항에서 정의한 바와같고, R²는 시아네이토, 알콕시 또는 할로알콕시인 일반식 (I)의 화합물의 제조방법.
31. 제18항 (a), 제21항 (a), 제25항 (b) 또는 제29항에 따른 상응하는 화합물을 존재한다면 아미노기 보호 후, 그리나드 시약 또는 리튬 유도체로 전환시키고, 트리알킬보레이트와 반응시킨후, 공지의 방법으로 산화시키고, 필요하다면 탈보호시킴을 특징으로 하는, 제19, 24, 28 또는 30항에 따른 일반식 (XXVIII), (XXXI), 및 (XXXII) (XXXV) 의 화합물의 제조방법.
32. 하기 일반식(IV)의 디시아노프로펜 유도체를 염기성 시약과 반응시킴을 특징으로 하는, 하기 일반식(III)의 화합물의 제조방법.

    

    

    (식중, X¹, X², X³및 X⁴및 Y는 제1항에서 정의한 바와 같다).
33. (a) 하기 일반식 (XXXVIII)

    

    (식중, X 는 수소이고, 다른 기호는 제1항에서 정의한 바와 같다) 의 화합물을 0℃~150℃의 온도에서 임의로 유기 용매 중에서 클로로술폰산 (ClSO₃H)과 반응시켜, 하기 일반식 (XXXIX)

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에서 정의한 바와 같다) 의 화합물을 제조하고 ; (b) 일반식 (XXXIX)의 화합물을 0℃~110℃의 온도에서 유기 용매중에서 환원제와 반응시켜 하기 일반식 (XLI)

    

    (식중, 각종 기호는 제1항에서 정의한 바와 같다)의 디설파이드 화합물을 형성하고 ; (c) 일반식 (XLI)의 디설파이드 화합물을 자유 라디칼 촉진 환원제 존재하에 및 임의로 염기 존재하에 유기 용매 중에서 25℃~85℃의 온도에서 임의로 가압하에서 일반식 (XLII)

    ZCFR⁷R⁸

    (식중, Z 는 Cl, Br 또는 I 이고, R⁷은 F, Cl 또는 Br 이고, R⁸은 F, Cl, Br 또는 퍼플루오로알킬기이다)의 퍼할로알칸과 반응시켜 X 가 퍼할로알킬티오기이고, 다른 기호는 제1항에서 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물을 제조함을 특징으로 하는, R¹, R², Y, X¹, X², X³및 X⁴는 제1항에서 정의한 바와 같고, X 는 퍼할로알킬티오기인 일반식 (I)의 화합물의 제조방법.
34. 제18 내지 22항중 어느 한 항에 있어서, 수득된 화합물을 제1항에서 정의된 일반식 (I)의 화합물로 전환시키는 방법.
35. 제18 내지 34항중 어느 한 항에 있어서, 실제로 상술한 바와 같은 방법.
36. 제18 내지 22항, 제24 내지 30 항 및 제32 내지 34항중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 제1항에서 정의된 일반식 (I)의 화합물.
37. 제1 내지 17항 및 제36항중 어느 한 항에서 정의된 일반식 (I)의 화합물을 일종 이상의 병용 가능한 희석제 또는 담체와 함께 함유하는 항절지동물, 살식물선충, 구충 또는 항원생동물 조성물.
38. 유효량의 제1 내지 17항 및 제36항중 어느 한 항에 따른 일반식 (I)의 화합물을 함유하는 살충, 살비 또는 살선충 조성물.
39. 제38항에 있어서, 0.05 내지 95중량%의 일종 이상의 활성성분, 1 내지 95중량%의 일종 이상의 농업적으로 허용 가능한 담체, 및 0.1 내지 50중량%의 일종 이상의 농업적으로 허용 가능한 표면 활성제를 함유하는 조성물.
40. 제38항 또는 제39항에 있어서, 보호클로이드, 부착제, 농화제, 틱소트로프제, 침투제, 분무오일, 안정화제, 보존제, 형태보존제, 포촉제 및 기타 살충 활성 성분의 군에서 선택된 일종 이상의 성분을 더 함유하는 조성물.
41. 제 38, 39 또는 40 항에 있어서, 담체가 액체 또는 고체인 조성물.
42. 유효량의 제1내지 17항 및 제36항중 어느 한 항에 따른 일반식(I) 화합물을 병소에 살포함을 특징으로 하는 병소에서 절지동물, 식물선충, 기생충 또는 원생동물의 방제방법.
43. 제42항에 있어서, 유효량의 일반식(I)의 화합물을 절지동물 또는 식물선충이 성장하는 배지 또는 식물에 살포함을 특징으로 하는 절지동물 또는 식물선충의 방제를 위한 방법.
44. 제42항에 있어서, 처리될 병소 1 헥타아르당 0.005 내지 15㎏의 화합물을 절지동물 또는 선층의 만연을 억제할 병소에 살포함을 특징으로 하는, 절지동물 및 선충의 억제 방법.
45. 제42항에 있어서, 화합물을 1 헥타아르당 0.02 내지 2㎏의 양으로 살포하는 방법.
46. 제45항에 있어서, 화화물을 1 헥타아르당 0.01 내지 1㎏의 양으로 살포하는 방법.
47. 일반식 (I)의 화합물이 제 7,8,9 및 10항에 따른 화합물인, 제42항 내지 46항중 어느 한 항에 따른 응애류의 방제방법.
48. 각종 치환체가 전술한 항에서와 동일한 의미를 가지며, 단, X¹= X²= X³= X⁴= R¹= R²= H 이고, X = CN 및 R³= NH₂이고, Y 는 CH₃또는 OCH₃또는 Cl인 화합물을 제외한 일반식 (III), (XXVIII) 내지 (XXXIX) 및 (XLI) 의 화합물.
49. 제 1 또는 2항에 있어서, X, X¹, X², X³, X⁴, R¹, R², R³및 Y 로 정의된 기의 알킬 및 알콕시 부분은 5개 이하의 탄소원자를 가지는 일반식(I)의 화합물.