KR0128253Y1 - 반도체 제조 장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 제조장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치에 관한 것으로, 순수저장탱크(1)에 케미컬공급노즐을 경유하는 순수순환라인(3)이 설치된 것에 있어서, 상기 순수순환라인(3)의 일측에 순수의 방향을 선택적으로 변경시키는 쓰리웨이밸브(10)를 설치하여 이에 순수배수관(11)을 연장설치하고, 상기 순수저장탱크(1)에 에어오퍼레티드밸브(12)가 구비된 순수공급관(15)을 설치하며, 상기 쓰리웨이밸브(10) 및 에어오퍼레티드밸브(12)의 동작을 제어하는 솔레노이드(16)(16')와, 그 솔레노이드(16)(16')의 동작을 제어하는 스위치(17)을 구비하여, 항온수를 자동으로 교환함으로써 항온수 교환작업을 간편용이하게 행할 수 있게하고, 장비의 다운타임을 줄일 수 있도록 구성한 것이다. 또한, 상기 순수순환라인(3)의 펌프(4) 후방에 순환순수의 이물질들을 제거하기 위한 필터(18)가 설치되어, 필터(18)의 오염정도로 항온수 교환시기를 쉽게 알 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하고있다.

Description

반도체 제조 장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치

제1도는 일반적인 항온수 순환시스템의 구조를 보인 계통도.

제2도는 종래 수작업에 의한 항온수 교환방법을 보인 설명도.

제3도는 본 고안의 항온수 자동 교환장치가 적용된 항온수 순환 시스템과 구조를 보인 계통도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 순수저장탱크 3 : 순수순환라인

4 : 펌프 10 : 쓰리웨이밸브

11 : 순수배수관 12 : 에어오퍼레티드밸브

15 : 순수공급관 16,16' : 솔레노이드

17 : 스위치 18 : 필터

본 고안은 반도체 제조장비, 예컨대 포토레지스트(Photo Resist) 도포 및 현상 장비용 항온수 순환시스템에 있어서, 항온수를 자동으로 교환해주기 위한 장치에 관한 것으로, 특히 항온수를 자동으로 간편용이하게 교환함으로써 종래 수작업에 의한 항온수 교환작업에 따른 불편함을 해소하고 장비의 다운타임(Down time)감소에 적합하도록 한 반도체 제조장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체를 제조함에 있어서는, 웨이퍼 표면에 포토레지스트를 도포하고, 현상함으로써 웨이퍼 표면에 일정한 패턴을 형성하는 포토공정을 진행하게 되는데, 이와같은 공정에 사용되는 장비가 포토레지스트 도포 및 현상장비, 예컨데 텔트랙(TEL TRACK)장비이다.

이와같은 텔트랙 장비에는 공급되는 포토레지스트 및 현상액의 온도컨트롤(Control)을 위해 케미컬 공급노즐을 경유하는 항온수 순환시스템이 설치되어, 소정온도의 순수(DI Water)를 지속적으로 순환시킴으로써 피/알 및 현상액의 온도를 일정하게 유지시키도록 되어있다.

이러한 항온수 순환시스템은 제1도에 도시한 바와같이, 소정크기의 순수저장탱크(1)에 케미컬공급노즐(2)을 경유하는 순수순환라인(3)을 설치하고, 그 순환라인(3)의 도중에 펌프(4) 및 순환하는 순수의 온도유지를 위한 온도컨트롤러(5)를 설치한 구조로 되어있다.

또한, 상기 순수저장탱크(1)의 상,하부에는 정기적으로 순수를 교환시켜 주기 위한 순수공급관(6)과 배수관(7)이 설치되어 있다. 도면중 미설명 부호 8은 피/알 공급라인을 보인 것이고, 9는 프로세스 챔버를 보인 것이다.

이와같이 된 항온수 순환시스템은 순수저장탱크(1)내에 저장된 순수가 펌프(4)에 의하여 순환라인(3)을 순환하게 되고, 온도컨트롤러(5)에 의해 적정온도를 항시 유지하면서 케미컬공급노즐(2)의 온도를 일정하게 유지시키는 것이다.

한편, 상기한 바와같은 항온수 순환시스템에 있어서는 정기적(통상 3개월)으로 순수를 교환해주어야 하는데, 종래의 항온수 순환시스템에는 별도의 항온수 교환장치가 설치되어 있지않고 제2도에 도시한 바와같이, 작업자의 수작업에 의해 교환하도록 되어 있어 매우 번거로운 것이었다.

즉, 항온수를 교환함에 있어서, 작업자가 순수저장탱크(1)의 순수공급관(6)으로 순수를 공급한 후 탱크(1)의 하부와 배수관(7)으로 드레인시키는 것에 의하여 항온수를 교환하고 있었다.

따라서 수작업에 의한 비효율적인 교환방식으로 장비의 다운타임이 증가하게 되고(통상 80분정도가 소요됨) 작업부주의로 인한 순수 오버플로우(DI Water Over Flow)시 주변장치의 회로에 손상을 주게됨과 아울러 주위가 지저분해지는 문제가 있었고, 또한 1회 교환시 약 80ℓ의 양을 교환하게 되나 순환라인(3)내 이물의 완전한 제거가 이루어지지 않게되는 문제가 있었다.

이를 감안하여 안출한 본 고안의 주목적은 항온수 교환작업을 간편용이하게 하고, 장비가동중에도 항온수 교환작업을 할 수 있도록 함으로써 장비의 다운타임을 줄이도록 한 반도체 제조 장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환 장치를 제공함에 있다.

본 고안의 다른 목적은 순수 순환라인의 펌프 후방에 순수의 이물질들을 제거하기 위한 필터를 설치하여 순수의 오염여부를 용이하게 확인할 수 있도록 한 반도체 제조장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치를 제공함에 있다.

상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 순수저장탱크에 케미컬공급노즐을 경유하는 순수순환라인이 설치된 것에 있어서, 상기 순수순환라인의 일측에 순환순수의 방향을 선택적으로 전환시키는 쓰리웨이밸브를 설치하여 이에 순수배수관을 연장설치하고, 상기 순수저장탱크에 에어오퍼레티드밸브를 가지는 별도의 순수공급관을 설치하며, 상기 쓰리웨이밸브 및 에어오퍼레티드밸브의 동작을 제어하는 솔레노이드와 그 솔레노이드의 동작을 제어하는 스위치를 구비하여 항온수를 자동으로 교환하도록 구성함을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치가 제공된다.

상기 순수순환라인의 펌프 후방에는 순환하는 순수의 이물질들을 제거하기 위한 필터를 설치하여 필터의 오염정도를 확인함으로써 항온수 교환시기를 쉽게 알 수 있도록 구성된다.

이하, 상기한 바와같은 본 고안에 의한 반도체 제조장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치를 첨부도면에 도시한 실시예를 따라서 보다 상세히 설명한다.

제3도는 본 고안 장치를 설명하기 위한 항온수 순환시스템이 계통도로서 이에 도시한 바와같이, 본 고안에 의한 항온수 자동 교환장치는 순수저장탱크(1)에 케미컬공급노즐(도시되지 않음)을 경유하는 순수순환라인(3)이 설치된 것에 있어서, 상기 순수순환라인(3)의 일측에 순환순수의 방향을 선택적으로 전환시키는 쓰리웨이밸브(Three Way Valve)(10)를 설치하여 이에 순수배수관(11)을 연장 설치하고, 상기 순수저장탱크(1)에 에어오퍼레티드밸브(Air Operated Valve)(12), 플로우메터(Flow Meter)(13) 및 레귤레이터(Rsqulator)(14)가 구비된 별도의 순수공급관(15)을 설치하며, 상기 쓰리웨이밸브(10) 및 에어오퍼레티드밸브(12)의 동작을 제어하는 솔레노이드(16)(16')와, 그 솔레노이드(16)(16')의 동작을 제어하는 스위치(17)를 구비하여 순수를 자동으로 교환시킬 수 있도록 구성한 것으로, 도면에서 종래 구성과 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하였다.

또한, 상기 순수순환라인(3)의 펌프(4) 후방에 순환하는 순수의 이물질을 제거하기 위한 필터(18)를 설치하여, 필터(18)의 오염정도에 따라 교환시기를 알 수 있도록 하였다.

이 필터(18)는 드레인밸브(19)의 개재하에 순수배수관(11)에 연통되게 연결되어 필터(18)내의 버블(Bubble)을 벤트(Vent)시키도록 되어있다.

상기와 같은 본 고안 장치가 적용된 항온수 순환시스템은 정상 작동시에는 종래와 같이, 저장탱크(1)내의 순수가 펌프(4)와 펌핑 작용에 의해 순환라인(3)을 순환하면서 노즐의 온도를 일정하게 유지시켜 준다.

이와같은 작용 중 순수교환시기가 되어(일반적으로 3개월에 한번씩 교환하게 되어 있으나, 본 고안의 필터를 설치함으로써 필터의 오염정도에 따라 교환시기를 알 수 있음) 솔레노이드스위치(17)을 「온」하게 되면, 솔레노이드(16)(16')가 동작하여 쓰리웨이밸브(10) 및 순수공급관(15)의 에어오퍼레티드밸브(12)가 동작하게 된다.

이에따라 순수공급관(15)을 통해 새로운 순수가 순수저장탱크(1) 내로 공급되고, 기존의 순수는 쓰리웨이밸브(10)에 의해 유로가 변경되어 순수배수관(11)을 통해 배수되는 것에 의하여 순수를 자동으로 교환할 수 있는 것이다.

이상에서 상세히 설명한 바와같이, 본 고안에 의한 항온수 자동 교환장치에 의하면, 간단한 조작으로 항온수 순환시스템의 순수를 자동으로 교환할 수 있으므로, 항온수 교환작업을 간편용이하게 행할 수 있을 뿐만아니라 장비가동중에도 항온수 교환작업을 행할 수 있어 장비의 다운타임을 줄일 수 있고(종래 수작업시에는 80ℓ교환에 80분이상이 소요되나 본 고안에서는 100ℓ교환을 20분이내에 할 수 있게된다), 작업부주의로 인한 순수누출요소제거로 주위환경의 오염소지를 제거할 수 있으며, 수작업 교환시 발생되는 저장탱크의 앰프티(Empty)로 인한 펌프의 과부하 발생을 방지할 수 있다는 효과가 있다.

또한, 순수순환라인의 펌프 후방에 순수의 이물질들을 제거하기 위한 필터를 설치함으로써 필터의 오염정도를 확인하는 것으로 순수교환시기를 쉽게 알 수 있다는 효과도 있다.

Claims (2)

1. 순수저장탱크에 케미컬공급노즐을 경유하는 순수순환라인이 설치된 것에 있어서, 상기 순수순환라인의 일측에 순수의 방향을 선택적으로 변경시키는 쓰리웨이밸브를 설치하여 이에 순수배수관을 연장설치하고, 상기 순수저장탱크에 에어오퍼레티드밸브가 구비된 순수공급관을 설치하며, 상기 쓰리웨이밸브 및 에어오퍼레티드밸브의 동작을 제어하는 솔레노이드와, 그 솔레노이드의 동작을 제어하는 스위치를 구비하여, 항온수를 자동으로 교환하도록 구성함을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 항온수 순환시스템의 항온수 자동 교환장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 순수순환라인의 펌프 후방에 순환순수의 이물질들을 제거하기 위한 필터가 설치되어, 필터의 오염정도로 항온수 교환시기를 쉽게 알 수 있게 한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 항온수 순환 시스템의 항온수 자동 교환장치.