JPWO2025205584A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPWO2025205584A5 JPWO2025205584A5 JP2025563042A JP2025563042A JPWO2025205584A5 JP WO2025205584 A5 JPWO2025205584 A5 JP WO2025205584A5 JP 2025563042 A JP2025563042 A JP 2025563042A JP 2025563042 A JP2025563042 A JP 2025563042A JP WO2025205584 A5 JPWO2025205584 A5 JP WO2025205584A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- polyether
- represented
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024057119 | 2024-03-29 | ||
| PCT/JP2025/011414 WO2025205584A1 (ja) | 2024-03-29 | 2025-03-24 | ポリエーテル、化粧料用基剤および化粧料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2025205584A1 JPWO2025205584A1 (https=) | 2025-10-02 |
| JPWO2025205584A5 true JPWO2025205584A5 (https=) | 2026-03-09 |
Family
ID=97218809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025563042A Pending JPWO2025205584A1 (https=) | 2024-03-29 | 2025-03-24 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2025205584A1 (https=) |
| WO (1) | WO2025205584A1 (https=) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591403A (ja) * | 1982-04-13 | 1984-01-06 | Pola Chem Ind Inc | ポリグリセロール化合物およびそれを配合した化粧料 |
| JP3660656B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2005-06-15 | 株式会社資生堂 | 皮膚外用剤 |
| JP6603549B2 (ja) * | 2015-11-05 | 2019-11-06 | 株式会社ダイセル | ポリグリセリン誘導体、及びこれを含有する皮膚外用剤 |
| JP7127536B2 (ja) * | 2018-12-27 | 2022-08-30 | 日油株式会社 | 水性皮膚化粧料 |
| CA3228918A1 (en) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Polyalkylene-oxide-containing compound |
| JP7511798B1 (ja) * | 2022-09-05 | 2024-07-05 | 株式会社 資生堂 | 化粧料基剤 |
| JP2024115391A (ja) * | 2023-02-14 | 2024-08-26 | 株式会社日本触媒 | ポリアルキレンオキシド含有化合物 |
-
2025
- 2025-03-24 WO PCT/JP2025/011414 patent/WO2025205584A1/ja active Pending
- 2025-03-24 JP JP2025563042A patent/JPWO2025205584A1/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Maitra et al. | Oligomeric Poly (ethylene oxide)-Functionalized Silsesquioxanes: Interfacial Effects on T g, T m, and Δ H m | |
| EP1493746B1 (en) | Multi-functional cyclic siloxane compound, siloxane-based polymer prepared from the compound and process for preparing dielectric film by using the polymer | |
| JP4256756B2 (ja) | 官能基を有するかご型シルセスキオキサン樹脂の製造方法 | |
| Philippova et al. | Hydrogen bonds in dilute solutions of poly (ethylene glycol) | |
| JPH0420531A (ja) | 変性シリコーン化合物及びその製造方法 | |
| CN100348645C (zh) | 具有官能团的笼型倍半硅氧烷类树脂及其制造方法 | |
| CN114867730B (zh) | 含氟醚化合物、表面处理剂、含氟醚组合物、涂布液、物品和物品的制造方法 | |
| JP4465181B2 (ja) | 多孔性層間絶縁膜形成用組成物および層間絶縁膜の製造方法 | |
| TW202432712A (zh) | 聚有機矽氧烷 | |
| JPWO2025205584A5 (https=) | ||
| JP4632399B2 (ja) | 高純度ポリエーテルシリコーン | |
| JPWO2008099850A1 (ja) | 官能基を有するかご開裂型シロキサン樹脂とその製造方法 | |
| JP4464834B2 (ja) | シリコーンワックス | |
| JP5573784B2 (ja) | 両末端グリセロール(メタ)アクリレート変性シリコーン及びその製造方法 | |
| Sears et al. | Dielectric constants and viscosities of some mono-N-substituted amides and cyclic esters | |
| JP2019189564A (ja) | アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体 | |
| JPH02145651A (ja) | 硬化性シリコーン組成物 | |
| JP4414949B2 (ja) | 絶縁膜 | |
| JP4610379B2 (ja) | ケイ素含有化合物、該化合物を含有する組成物及び絶縁材料 | |
| JPH07179479A (ja) | アミドベタイン変性オルガノ(ポリ)シロキサン及びその製造方法 | |
| JPH04306235A (ja) | ポリシラン共重合体及びその製造方法 | |
| JP4863002B2 (ja) | シラノール化合物及びシラノール縮合体含有水溶液並びにその製造方法 | |
| KR20040084772A (ko) | 절연막 형성용 코팅액 및 절연막의 제조 방법 | |
| KR101107004B1 (ko) | 반도체 캐패시터용 충전제 및 상기 충전제를 사용한 반도체 캐패시터의 제조 방법 | |
| Gasanov et al. | Bis (trimethylcyclopentadienyldicarbonylchromium), crystal and molecular structure of [(CH3) 3C5H2Cr (CO) 2] 2 |