JPWO2024009502A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2024009502A5
JPWO2024009502A5 JP2022560307A JP2022560307A JPWO2024009502A5 JP WO2024009502 A5 JPWO2024009502 A5 JP WO2024009502A5 JP 2022560307 A JP2022560307 A JP 2022560307A JP 2022560307 A JP2022560307 A JP 2022560307A JP WO2024009502 A5 JPWO2024009502 A5 JP WO2024009502A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
substrate
disposed
reflector
lower clad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2022560307A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2024009502A1 (ja
JP7199617B1 (ja
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/027114 external-priority patent/WO2024009502A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7199617B1 publication Critical patent/JP7199617B1/ja
Publication of JPWO2024009502A1 publication Critical patent/JPWO2024009502A1/ja
Publication of JPWO2024009502A5 publication Critical patent/JPWO2024009502A5/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (11)

  1. 基板と、
    前記基板上に形成されている活性部と、
    前記基板上に形成されている受動部とを備え、
    前記活性部は、電極と、活性層を含み、前記電極から前記活性層に電流が注入され、
    前記受動部は、前記活性層に光学的に結合されている第1コア層と、反射部と、前記第1コア層に対して前記基板とは反対側にある頂面とを含み、
    前記第1コア層に、第1グレーティングカプラが形成されており、
    前記第1グレーティングカプラは、前記活性層から出力された光を回折して、前記第1グレーティングカプラから前記頂面に向かう第1回折光と、前記第1グレーティングカプラから前記基板に向かう第2回折光とを生成し、
    前記反射部は、前記受動部のみに形成されており、前記第1グレーティングカプラと前記基板との間に配置されており、前記第2回折光を前記頂面に向けて反射し、かつ、少なくとも一つの空気層を含む、半導体光利得素子。
  2. 前記少なくとも一つの空気層は、複数の空気層であり、
    前記反射部は、前記複数の空気層と少なくとも一つの半導体層とを含む多層反射膜である、請求項1に記載の半導体光利得素子。
  3. 前記反射部は、分布ブラッグ反射器である、請求項2に記載の半導体光利得素子。
  4. 前記受動部は、前記第1コア層と前記基板との間に配置されている下部クラッド層と、支持部材とを含み、
    前記下部クラッド層は、前記反射部と前記基板との間に配置されている第1下部クラッド部分層と、前記反射部と前記第1コア層との間に配置されている第2下部クラッド部分層とを含み、
    前記支持部材は、前記第1下部クラッド部分層から前記第2下部クラッド部分層まで延在し、前記第2下部クラッド部分層を支持し、かつ、前記頂面の平面視において前記反射部の中に配置されている、請求項1に記載の半導体光利得素子。
  5. 前記受動部は、前記第1コア層と前記基板との間に配置されている下部クラッド層と、支持部材とを含み、
    前記下部クラッド層は、前記反射部と前記基板との間に配置されている第1下部クラッド部分層と、前記反射部と前記第1コア層との間に配置されている第2下部クラッド部分層とを含み、
    前記支持部材は、前記第1下部クラッド部分層から前記第2下部クラッド部分層まで延在し、前記第2下部クラッド部分層と前記少なくとも一つの半導体層とを支持し、かつ、前記頂面の平面視において前記反射部の中に配置されている、請求項2に記載の半導体光利得素子。
  6. 前記受動部は、前記第1コア層と前記基板との間に配置されている下部クラッド層と、支持部材とを含み、
    前記下部クラッド層は、前記反射部と前記基板との間に配置されている第1下部クラッド部分層と、前記反射部と前記第1コア層との間に配置されている第2下部クラッド部分層とを含み、
    前記支持部材は、前記第1下部クラッド部分層から前記第2下部クラッド部分層まで延在し、前記第2下部クラッド部分層を支持し、かつ、前記頂面の平面視において前記反射部の周りに配置されている、請求項1に記載の半導体光利得素子。
  7. 前記受動部は、前記第1コア層と前記基板との間に配置されている下部クラッド層と、支持部材とを含み、
    前記下部クラッド層は、前記反射部と前記基板との間に配置されている第1下部クラッド部分層と、前記反射部と前記第1コア層との間に配置されている第2下部クラッド部分層とを含み、
    前記支持部材は、前記第1下部クラッド部分層から前記第2下部クラッド部分層まで延在し、前記第2下部クラッド部分層と前記少なくとも一つの半導体層とを支持し、かつ、前記頂面の平面視において前記反射部の周りに配置されている、請求項2に記載の半導体光利得素子。
  8. 前記支持部材に、前記少なくとも一つの空気層に連通する穴が設けられている、請求項6に記載の半導体光利得素子。
  9. 前記第1グレーティングカプラは、0.58μm未満のグレーティングピッチを有する、請求項1に記載の前記半導体光利得素子。
  10. 請求項1から請求項9のいずれかに記載の前記半導体光利得素子と、
    前記頂面に面して配置される光導波路チップとを備え、
    前記光導波路チップは、第2コア層を含み、
    前記第2コア層に、前記第1グレーティングカプラに光学的に結合する第2グレーティングカプラが形成されている、光半導体装置。
  11. 前記第1コア層は、化合物半導体で形成されており、
    前記第2コア層は、シリコンまたは窒化シリコンで形成されている、請求項10に記載の光半導体装置。
JP2022560307A 2022-07-08 2022-07-08 半導体光利得素子及び光半導体装置 Active JP7199617B1 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2022/027114 WO2024009502A1 (ja) 2022-07-08 2022-07-08 半導体光利得素子及び光半導体装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP7199617B1 JP7199617B1 (ja) 2023-01-05
JPWO2024009502A1 JPWO2024009502A1 (ja) 2024-01-11
JPWO2024009502A5 true JPWO2024009502A5 (ja) 2024-06-11

Family

ID=84784189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022560307A Active JP7199617B1 (ja) 2022-07-08 2022-07-08 半導体光利得素子及び光半導体装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7199617B1 (ja)
WO (1) WO2024009502A1 (ja)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3566184B2 (ja) * 2000-06-12 2004-09-15 日本電信電話株式会社 面発光レーザ
US9583353B2 (en) * 2012-06-28 2017-02-28 Yale University Lateral electrochemical etching of III-nitride materials for microfabrication
US9176291B2 (en) * 2012-08-17 2015-11-03 Oracle International Corporation Grating coupler for inter-chip optical coupling
US20180081118A1 (en) * 2014-07-14 2018-03-22 Biond Photonics Inc. Photonic integration by flip-chip bonding and spot-size conversion
WO2017106880A1 (en) * 2015-12-17 2017-06-22 Finisar Corporation Surface coupled systems
US10495815B2 (en) * 2016-12-22 2019-12-03 Nokia Of America Corporation Optical grating coupler with back-side reflector

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4156206A (en) Grating coupled waveguide laser apparatus
US8358892B2 (en) Connection structure of two-dimensional array optical element and optical circuit
JP6200642B2 (ja) 光学装置
JP3150070B2 (ja) 受光モジュール及びその製造方法
JP4704125B2 (ja) 光デバイス
JP2618875B2 (ja) 導波路
JPH08171020A (ja) 光結合デバイス
JP3040721B2 (ja) 光結合モジュール
KR100871252B1 (ko) 광섬유를 이용한 광/전기 배선을 갖는 연성 인쇄회로기판
US6862388B2 (en) High density fibre coupling
CN115903140A (zh) 光栅耦合器及光学设备
JPWO2024009502A5 (ja)
JP4506216B2 (ja) 光結合装置及びその製造方法
JP4609311B2 (ja) 光送受信器
JP2007178950A (ja) 光配線基板および光配線モジュール
JP7199617B1 (ja) 半導体光利得素子及び光半導体装置
JP6977669B2 (ja) 光モジュール
JP3803575B2 (ja) 光波回路モジュールおよびその製造方法
JP2004233894A (ja) 光配線基板、その製造方法及び光配線基板の光素子の製造方法
JP4793490B2 (ja) 光結合装置及びその製造方法
JPH02226783A (ja) 半導体レーザと光導波路との結合方法およびその結合方法によって得られる光学デバイス
JP3403832B2 (ja) 発光素子
JP5772436B2 (ja) 光結合器及び光デバイス
WO2022176987A1 (ja) 発光装置
JPH0728092B2 (ja) 半導体レ−ザ装置