JPWO2021131227A5 - - Google Patents

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JPWO2021131227A5
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  1. 少なくとも一つの伝送線路と、
    少なくとも一つの導電性パターン層と、を備え、
    前記導電性パターン層の表面側から観察した際に、前記伝送線路の少なくとも一部と前記導電性パターン層の少なくとも一部とが重なっており、
    前記導電性パターン層の表面抵抗値が0.005Ω/□~30Ω/□の範囲にあり、前記導電性パターン層の幅が0.2mm~5mmである導波路構造。
  2. 前記導電性パターン層の少なくとも一部と前記伝送線路の少なくとも一部とが接している請求項1に記載の導波路構造。
  3. 前記導電性パターン層と前記伝送線路とは接しておらず、かつ、前記導電性パターン層と前記伝送線路との間の最短距離は1000μm以下であり、
    前記導電性パターン層と前記伝送線路との間に誘電体層をさらに備える請求項1に記載の導波路構造。
  4. 前記導電性パターン層は、細線構造、ミアンダ構造又はスパイラル構造を有する請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の導波路構造。
  5. 前記導電性パターン層に含まれる導電性材料は、金属材料、カーボン材料、酸化物材料、及び有機導電材料からなる群より選択される少なくとも一つである請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の導波路構造。
  6. 前記導電性パターン層の表面側から観察した際に、前記伝送線路の少なくとも一部と前記導電性パターン層の少なくとも一部とが2個所以上で重なっている請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の導波路構造。
  7. 前記導電性パターン層は、電流が前記伝送線路内を流れる際に発生する特定周波数の電磁波を選択的に吸収する請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の導波路構造。
  8. 前記導電性パターン層は、電流が前記伝送線路内を流れる際に発生する特定周波数の電磁波に対する吸収率のピークを有し、ピーク吸収率の周波数f(GHz)に対してピーク吸収率の半値幅(GHz)が2.0/f以下である請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の導波路構造。
  9. 前記導電性パターン層は、導電性インクにより形成されている請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の導波路構造。
  10. 前記導電性インクは、粒子非含有導電性インクである請求項9に記載の導波路構造。
  11. 請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の導波路構造を製造する導波路構造の製造方法であって、
    前記導電性パターン層の表面側から観察した際に前記伝送線路の少なくとも一部と重なるように前記導電性パターン層を形成する工程を有し、
    前記導電性パターン層は、印刷法により形成される導波路構造の製造方法。
  12. 前記印刷法は、インクジェット印刷法である請求項11に記載の導波路構造の製造方法。
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JP3626354B2 (ja) * 1998-09-21 2005-03-09 株式会社東芝 配線基板
JP2002317280A (ja) * 2001-04-18 2002-10-31 Toyo Metallizing Co Ltd 金属化プラスチックフィルム
KR20110103835A (ko) * 2008-12-02 2011-09-21 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 전자기파 차폐재, 및 그 제조 방법
JP2011066094A (ja) * 2009-09-15 2011-03-31 Nitta Corp 電磁波吸収体、パーティション、電波暗箱、建材、無線通信システムおよび無線通信方法
JP5689609B2 (ja) * 2010-03-24 2015-03-25 三菱製紙株式会社 光透過型電波吸収体
JP2011172281A (ja) * 2011-05-23 2011-09-01 Central Glass Co Ltd 車両用ガラスアンテナ形成用部品
KR20180134034A (ko) * 2017-06-08 2018-12-18 충북대학교 산학협력단 스크린 인쇄공정으로 제조된 그리드 전도막 전자기 노이즈 흡수체의 제조방법

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