JPWO2020110268A1 - 試料測定装置、プログラムおよび測定パラメータ設定支援装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1〜図5を参照して、本実施形態による試料測定装置100の構成について説明する。
R=2(rt2−rt1)/(W1+W2)・・・(1)
分離度は、値が大きくなるほど分離されていることを意味する。たとえば、分離度が1.5以上の場合に完全分離されているとみなされる。また、保持時間は、検出される最も遅いピークの保持時間から算出される。
rt(x)=exp(p0+p1*x0+p2*x1)+p3・・・(2)
ただし、p0、p1、p2およびp3は、保持時間を推定する場合のモデル式の係数(パラメータ)である。なお、p0、p1、p2およびp3は、分布を持つため、推定される保持時間rt(x)も分布を持つ。
w(x)=exp(q0+q1*x0+q2*x1)+q3・・・(3)
ただし、q0、q1、q2およびq3は、ピーク幅を推定する場合のモデル式の係数(パラメータ)である。なお、q0、q1、q2およびq3は、分布を持つため、推定されるピーク幅w(x)も分布を持つ。
図6を参照して、制御装置2によるデザインスペース作成処理について説明する。
図7を参照して、制御装置2による保持時間・ピーク幅予測処理について説明する。図7の保持時間・ピーク幅予測処理は、図6のステップ201の処理を詳細に説明するものである。
本実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく請求の範囲によって示され、さらに請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更(変形例)が含まれる。
2 制御装置(制御部、測定パラメータ設定支援装置)
21 CPU(演算装置)
23 記憶部
100 試料測定装置
Claims (10)
- 試料の測定を行う測定部と、
前記測定部による測定結果を分析する制御部と、を備え、
前記制御部は、測定パラメータの条件が互いに異なる複数の測定条件による測定結果に基づいてモデル式を用いて他の測定条件における測定結果を推定して取得するとともに、推定した測定結果に基づいて測定パラメータに対する測定品質指標の分布を推定するように構成されている、試料測定装置。 - 前記制御部は、測定品質指標の分布に基づいて、測定品質指標の許容範囲に応じた測定パラメータの範囲を算出するように構成されている、請求項1に記載の試料測定装置。
- 前記制御部は、測定品質指標の分布に基づいて、測定品質指標の許容範囲に応じた測定パラメータの範囲をベイジアンデザインスペースを用いて表示するように構成されている、請求項2に記載の試料測定装置。
- 前記制御部は、測定品質指標の分布に基づいて、互いに異なる複数の測定品質指標の許容範囲に応じた測定パラメータの複数の範囲を表示するように構成されている、請求項2または3に記載の試料測定装置。
- 前記制御部は、測定指標の分布または算出した測定パラメータの範囲に基づいて、測定パラメータの範囲を更新するために次に測定する測定条件の候補を算出するように構成されている、請求項2〜4のいずれか1項に記載の試料測定装置。
- 前記測定部は、クロマトグラフを含み、
前記制御部は、クロマトピーク分離度および保持時間のうち少なくとも1つを測定品質指標として推定するように構成されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の試料測定装置。 - 測定パラメータは、温度、溶媒濃度、pHのうち少なくとも1つを含む、請求項6に記載の試料測定装置。
- 前記制御部は、ベイズ推定を用いて測定品質指標の分布を推定するように構成されている、請求項1〜7のいずれか1項に記載の試料測定装置。
- 試料の測定を行うための測定パラメータの条件が互いに異なる複数の測定条件による測定結果に基づいてモデル式を用いて他の測定条件における測定結果を推定して取得し、推定した測定結果に基づいて測定パラメータに対する測定品質指標の分布を推定することをコンピュータに実行させる、プログラム。
- 試料の測定を行うための測定パラメータの条件が互いに異なる複数の測定条件による測定結果に基づいてモデル式を用いて他の測定条件における測定結果を推定して取得するとともに、推定した測定結果に基づいて測定パラメータに対する測定品質指標の分布を推定する演算装置を備える、測定パラメータ設定支援装置。
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