JPWO2020028208A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020028208A5 JPWO2020028208A5 JP2021505410A JP2021505410A JPWO2020028208A5 JP WO2020028208 A5 JPWO2020028208 A5 JP WO2020028208A5 JP 2021505410 A JP2021505410 A JP 2021505410A JP 2021505410 A JP2021505410 A JP 2021505410A JP WO2020028208 A5 JPWO2020028208 A5 JP WO2020028208A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- illumination
- pump
- plasma lamp
- broadband
- correction plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Description
図11は、本開示の1つ以上の実施形態による、プラズマ源ランプハウス補正システム100を実装する光学特性付けシステム1100の簡略化された概略図を示す。一実施形態では、システム1100は、システム100、照明アーム1103、収集アーム1105、検出器アセンブリ1114、及び1つ以上のプロセッサ1120とメモリ1122とを含んだコントローラ1118を含む。
本明細書では、システム1100は、任意の結像、検査、計測、リソグラフィ、又は当技術分野で周知の他の特性付けシステムを含み得ることに留意する。この点に関して、システム1100は、検査、光学計測、リソグラフィ、及び/又は試験片1107上での任意の形態の結像を実行するように構成され得る。試験片1107は、当技術分野で周知の任意のサンプルを含み得て、限定するものではないが、ウェーハ、レチクル/フォトマスクなどを含む。システム1100は、本開示全体を通して説明されるシステム100の様々な実施形態のうちの1つ以上を組み込んでもよいことに留意する。
一実施形態では、試験片1107は、ステージアセンブリ1112上に配置されて、試験片1107の移動を容易にする。ステージアセンブリ1112は、当技術分野で周知の任意のステージアセンブリ1112を含み得て、限定するものではないが、X-Yステージ、R-θステージなどが挙げられる。別の実施形態では、ステージアセンブリ1112は、検査又は結像中に試験片1107の高さを調整して、試験片1107への焦点を維持することができる。
別の実施形態では、照明アーム1103は、特性付け照明109をシステム100から試験片1107に向けるように構成される。照明アーム1103は、当技術分野で周知の任意の数及びタイプの光学素子を含んでもよい。一実施形態では、照明アーム1103は、1つ以上の光学素子1102、ビームスプリッタ1104、及び対物レンズ1106を含む。これに関して、照明アーム1103は、特性付け照明109をシステム100から試験片1107の表面に集束させるように構成され得る。1つ以上の光学素子1102は、当技術分野で周知の任意の光学素子又は光学素子の組み合わせを含み得て、限定するものではないが、1つ以上のミラー、1つ以上のレンズ、1つ以上の偏光子、1つ以上の格子、1つ以上のフィルタ、1つ以上のビームスプリッタなどが挙げられる。
別の実施形態では、収集アーム1105は、試験片1107から反射、散乱、回折、及び/又は放出された光を集めるように構成される。別の実施形態では、収集アーム1105は、試験片1107からの光を検出器アセンブリ1114のセンサ1116に向け、及び/又は集束してもよい。センサ1116及び検出器アセンブリ1114は、当技術分野で周知の任意のセンサ及び検出器アセンブリを含み得ることに留意する。センサ1116は、電荷結合素子(CCD)検出器、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)検出器、時間遅延積分(TDI)検出器、光電子増倍管(PMT)、アバランシェフォトダイオード(APD)などを含み得るが、これらに限定されない。更に、センサ1116は、ラインセンサ又は電子衝撃ラインセンサを含み得るが、これらに限定されない。
別の実施形態では、検出器アセンブリ1114は、1つ以上のプロセッサ1120及びメモリ1122を含むコントローラ1118に通信可能に結合される。例えば、1つ以上のプロセッサ1120は、メモリ1122に通信可能に結合され得て、ここで1つ以上のプロセッサ1120は、メモリ1122に格納された1セットのプログラム命令を実行するように構成される。一実施形態では、1つ以上のプロセッサ1120は、検出器アセンブリ1114の出力を分析するように構成される。一実施形態では、1セットのプログラム命令は、1つ以上のプロセッサ1120に試験片1107の1つ以上の特性を分析させるように構成される。別の実施形態では、1セットのプログラム命令は、1つ以上のプロセッサ1120にシステム1100の1つ以上の特性を修正させ、試験片1107及び/又はセンサ1116への焦点を維持するように構成される。例えば、1つ以上のプロセッサ1120は、対物レンズ1106又は1つ以上の光学素子1102を調整して、システム100からの特性付け照明109を試験片1107の表面に集束させるように構成され得る。別の例として、1つ以上のプロセッサ1120は、対物レンズ1106及び/又は1つ以上の光学素子1110を調整して、試験片1107の表面から照明を収集し、収集された照明をセンサ1116に集束させるように構成され得る。
本明細書では、システム1100の1つ以上の構成要素は、システム1100の様々な別の構成要素に、当技術分野で周知の任意の方法で通信可能に結合されてもよい。例えば、システム100、検出器アセンブリ1114、コントローラ1118、及び1つ以上のプロセッサ1120は、有線(例えば、銅線、光ファイバケーブルなど)又は無線接続(例えば、RF結合、IR結合、データネットワーク通信(例えば、WiFi(登録商標)、WiMax(登録商標)、Bluetooth(登録商標)など))を介して、互いに及び別の構成要素に通信可能に結合され得る。
一実施形態では、システム1200は、システム100、照明アーム1116、収集アーム1118、検出器アセンブリ1228、及び1つ以上のプロセッサ1120とメモリ1122とを含んだコントローラ1118を含む。
この実施形態では、システム100からの特性付け照明109は、照明アーム1216を介して試験片1107に向けられる。別の実施形態では、システム1200は、収集アーム1218を介してサンプルから放出される放射を集める。照明アーム経路1216は、特性付け照明190を修正及び/又は調整するのに適した1つ以上のビーム調整構成要素1220を含み得る。例えば、1つ以上のビーム調整構成要素1220は、限定するものではないが、1つ以上の偏光子、1つ以上のフィルタ、1つ以上のビームスプリッタ、1つ以上のディフューザ、1つ以上のホモジナイザ、1つ以上のアポダイザ、1つ以上のビーム整形器、又は1つ以上のレンズを含み得る。
別の実施形態では、照明アーム1216は、第1の集束素子1222を利用して、特性付け照明109を、サンプルステージ1112上に配置された試験片1107に集束及び/又は向け得る。別の実施形態では、収集アーム1218は、第2の集束素子1226を含んで、試験片1107から放射を収集し得る。
別の実施形態では、検出器アセンブリ1228は、試験片1107から収集アーム12
18を介して放出される放射を捕捉するように構成される。例えば、検出器アセンブリ1228は、試験片1107から反射又は散乱された(例えば、鏡面反射、拡散反射などを介して)放射を受光し得る。別の例として、検出器アセンブリ1228は、試験片1107によって生成された放射(例えば、ビームの吸収に関連する発光など)を受光してもよい。検出器アセンブリ1228は、当技術分野で周知の任意のセンサ及び検出器アセンブリを含み得ることに留意する。センサは、限定的ではないが、CCD検出器、CMOS検出器、TDI検出器、PMT、APDなどを含み得る。
18を介して放出される放射を捕捉するように構成される。例えば、検出器アセンブリ1228は、試験片1107から反射又は散乱された(例えば、鏡面反射、拡散反射などを介して)放射を受光し得る。別の例として、検出器アセンブリ1228は、試験片1107によって生成された放射(例えば、ビームの吸収に関連する発光など)を受光してもよい。検出器アセンブリ1228は、当技術分野で周知の任意のセンサ及び検出器アセンブリを含み得ることに留意する。センサは、限定的ではないが、CCD検出器、CMOS検出器、TDI検出器、PMT、APDなどを含み得る。
収集アーム1218は、任意の数の収集ビーム調整要素1230を更に含んで、第2の集束素子1226によって収集される照明を方向付け及び/又は修正することができ、限定するものではないが、1つ以上のレンズ、1つ以上のフィルタ、1つ以上の偏光子、又は1つ以上のフェイズプレートが挙げられる。
本開示の1つ以上のプロセッサ1120は、当技術分野で周知の任意の1つ以上の処理要素を含んでもよい。この意味で、1つ以上のプロセッサ1120は、ソフトウェアアルゴリズム及び/又は命令を実行するように構成された任意のマイクロプロセッサタイプのデバイスを含み得る。本開示全体を通して説明されるステップは、単一のコンピュータシステム、又は代替的に複数のコンピュータシステムによって実行され得ることを認識すべきである。一般に、「プロセッサ」という用語は、1つ以上の処理及び/又は論理要素を有する任意のデバイスを包含するように広く定義され得て、それは非一時的なメモリ媒体1122からプログラム命令を実行し得る。更に、開示される様々なシステムの異なるサブシステムは、本開示全体を通して説明されるステップの少なくとも一部分を実行するのに適したプロセッサ及び/又は論理要素を含み得る。
メモリ媒体1122は、関連する1つ以上のプロセッサ1120によって実行可能なプログラム命令を格納するのに適した当技術分野で周知の任意の記憶媒体を含み得る。例えば、メモリ媒体1122は、非一時的なメモリ媒体を含み得る。例えば、メモリ媒体1122は、限定するものではないが、読み取り専用メモリ、ランダムアクセスメモリ、磁気又は光メモリデバイス(例えば、ディスク)、磁気テープ、ソリッドステートドライブなどを含み得る。別の実施形態では、メモリ1122は、本明細書に記載の様々なステップの1つ以上の結果及び/又は出力を格納するように構成される。更に、メモリ1122は、1つ以上のプロセッサ1120を備えた共通のコントローラハウジングに収容され得ることに留意する。代替の実施形態では、メモリ1122は、1つ以上のプロセッサ1120の物理的位置に関して遠隔に配置され得る。例えば、1つ以上のプロセッサ1120は、ネットワーク(例えば、インターネット、イントラネットなど)を介してアクセス可能なリモートメモリ(例えば、サーバ)にアクセスし得る。これに関して、コントローラ1118の1つ以上のプロセッサ1120は、本開示全体を通して説明される様々なプロセスステップのいずれかを実行し得る。
Claims (27)
- システムであって、
ポンプ照明を生成するように構成されたポンプ源と、
前記ポンプ照明を受光し、前記ポンプ照明の1つ以上の特性を修正して、システムの1つ以上の光学素子によって導入された前記ポンプ照明の1つ以上の収差を補正するように構成された補正板と、
前記ポンプ照明を受光し、プラズマランプ内に含有されるガス体積に前記ポンプ照明を向けるように構成される反射器要素であって、ここで前記ガス体積内にプラズマを維持して広帯域照明を生成するように前記プラズマランプが構成される反射器要素と、
を備えるシステム。 - 前記プラズマランプは円筒形プラズマランプを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記反射器要素は非球面反射器要素を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記プラズマランプは実質的に扁長楕円体形状のプラズマランプを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記補正板は、前記プラズマランプによって導入された前記ポンプ照明の1つ以上の収差を補正するように構成される非球面補正板を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記ポンプ照明を受光し、前記ポンプ照明を前記反射器要素に向けるように構成された補償板を更に含む、請求項1に記載のシステム。
- 1つ以上の光学素子及びホモジナイザを更に含み、ここで前記1つ以上の光学素子は前記プラズマランプから前記広帯域照明を受光し、前記広帯域照明を前記ホモジナイザに向けるように構成される、請求項1に記載のシステム。
- 前記ポンプ源はファイバレーザポンプ源を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記広帯域照明を受光し、前記広帯域照明を第2の補正板に向けるように構成されたコールドミラーを更に含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記補正板は第1の補正板及び第2の補正板を含み、ここで前記第1の補正板は1つ以上の奇数の非球面補正項を含み、前記第2の補正板は1つ以上の円筒形補正項を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記補正板は、1つ以上の奇数の非球面補正項及び1つ以上の円筒形補正項を有する表面を含む、請求項1に記載のシステム。
- システムが、
広帯域照明源であって、
ポンプ照明を生成するように構成されたポンプ源、
前記ポンプ照明を受光し、前記ポンプ照明の1つ以上の特性を修正するように構成された補正板、及び
前記ポンプ照明を受光し、プラズマランプ内に含有されるガス体積に前記ポンプ照明を向けるように構成される反射器要素であって、ここで前記ガス体積内にプラズマを維持して広帯域照明を生成するように前記プラズマランプが構成される反射器要素を含む、広帯域照明源と、
検出器アセンブリと、
前記広帯域照明源から前記広帯域照明の少なくとも一部分を集め、前記広帯域照明をサンプルに向けるように構成された1セットの特性付け光学系であって、前記サンプルから前記検出器アセンブリに放射を向けるように更に構成される1セットの特性付け光学系と、を備えるシステム。 - システムであって、
ポンプ照明を生成するように構成されたポンプ源と、
前記ポンプ照明を受光し、前記ポンプ照明の1つ以上の特性を修正するように構成された第1の補正板と、
前記ポンプ照明を受光し、前記ポンプ照明をプラズマランプ内に含有されるガス体積に向けるように構成される反射器要素であって、ここで前記ガス体積内にプラズマを維持して広帯域照明を生成するように前記プラズマランプが構成される反射器要素と、
前記広帯域照明を受光し、前記広帯域照明の1つ以上の収差を補正するように構成された第2の補正板であって、非球面補正板を含む第2の補正板と、
を備えるシステム。 - システムが、
広帯域照明源であって、
ポンプ照明を生成するように構成されたポンプ源、
前記ポンプ照明を受光し、前記ポンプ照明の1つ以上の特性を修正するように構成された第1の補正板、
前記ポンプ照明を受光し、前記ポンプ照明をプラズマランプ内に含有されるガス体積に向けるように構成された反射器要素であって、ここで前記ガス体積内にプラズマを維持して広帯域照明を生成するように前記プラズマランプが構成される反射器要素、及び、
前記広帯域照明を受光し、前記広帯域照明の1つ以上の収差を補正するように構成された第2の補正板であって、非球面補正板を含む第2の補正板を含む、広帯域照明源と、
検出器アセンブリと、
前記広帯域照明源から前記広帯域照明の少なくとも一部分を集め、前記広帯域照明をサンプルに向けるように構成された1セットの特性付け光学系であって、前記サンプルから前記検出器アセンブリに放射を向けるように更に構成される1セットの特性付け光学系と、を備えるシステム。 - 方法であって、
ポンプ照明を生成するステップと、
第1の補正板を用いて前記ポンプ照明を補正するステップと、
反射器要素を用いて前記ポンプ照明を集め、プラズマランプ内に含まれるガス体積に集束させるステップと、
前記プラズマランプ内に含有される前記ガス体積内でプラズマを生成するステップと、
前記プラズマを用いて広帯域照明を生成するステップと、
前記第2の補正板を用いて前記広帯域照明の1つ以上の収差を補正するステップと、を含む方法。 - 前記プラズマランプは円筒形プラズマランプを含む、請求項18に記載の方法。
- 前記反射器要素は非球面反射器要素を含む、請求項18に記載の方法。
- 前記プラズマランプは実質的に扁長楕円体形状のプラズマランプを含む、請求項18に記載の方法。
- 前記第1の補正板は、前記プラズマランプによって導入された前記ポンプ照明の1つ以上の収差を補正するように構成された非球面補正板を含む、請求項18に記載の方法。
- 補償板を用いて前記ポンプ照明を補償することを更に含む、請求項18に記載の方法。
- 前記広帯域照明を、1つ以上の光学素子を介してホモジナイザに向けることを更に含む、請求項18に記載の方法。
- ポンプ照明を生成する前記ステップは、ファイバレーザポンプ源を用いてポンプ照明を生成するステップを含む、請求項18に記載の方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023128988A JP7570470B2 (ja) | 2018-07-31 | 2023-08-08 | ランプハウス補正を備えるプラズマ源のシステム |
JP2024111903A JP2024133207A (ja) | 2018-07-31 | 2024-07-11 | ランプハウス補正を備えるプラズマ源のシステム及び方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862712391P | 2018-07-31 | 2018-07-31 | |
US62/712,391 | 2018-07-31 | ||
US16/165,842 | 2018-10-19 | ||
US16/165,842 US10823943B2 (en) | 2018-07-31 | 2018-10-19 | Plasma source with lamp house correction |
PCT/US2019/043833 WO2020028208A1 (en) | 2018-07-31 | 2019-07-29 | Plasma source with lamp house correction |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023128988A Division JP7570470B2 (ja) | 2018-07-31 | 2023-08-08 | ランプハウス補正を備えるプラズマ源のシステム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021533406A JP2021533406A (ja) | 2021-12-02 |
JPWO2020028208A5 true JPWO2020028208A5 (ja) | 2022-08-01 |
JP7330260B2 JP7330260B2 (ja) | 2023-08-21 |
Family
ID=69228534
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021505410A Active JP7330260B2 (ja) | 2018-07-31 | 2019-07-29 | ランプハウス補正を備えるプラズマ源 |
JP2024111903A Pending JP2024133207A (ja) | 2018-07-31 | 2024-07-11 | ランプハウス補正を備えるプラズマ源のシステム及び方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024111903A Pending JP2024133207A (ja) | 2018-07-31 | 2024-07-11 | ランプハウス補正を備えるプラズマ源のシステム及び方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10823943B2 (ja) |
JP (2) | JP7330260B2 (ja) |
KR (1) | KR102542726B1 (ja) |
CN (1) | CN112655070B (ja) |
IL (1) | IL280237B2 (ja) |
TW (1) | TWI808213B (ja) |
WO (1) | WO2020028208A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021076451A (ja) * | 2019-11-07 | 2021-05-20 | ソニー株式会社 | 検出光学系、検出装置、フローサイトメータ及びイメージングサイトメータ |
BR112022016227A2 (pt) * | 2020-02-21 | 2022-10-04 | Tornado Spectral Systems Inc | Configurações de sonda de espectroscopia óptica para focagem de luz para uma porção de uma amostra |
WO2022029187A1 (en) * | 2020-08-06 | 2022-02-10 | Rnd-Isan, Ltd | High-brightness laser-pumped plasma light source and method for reducing aberrations |
KR102687707B1 (ko) * | 2021-11-10 | 2024-08-13 | 참엔지니어링(주) | 리페어 장치 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608526A (en) | 1995-01-19 | 1997-03-04 | Tencor Instruments | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system |
US5999310A (en) | 1996-07-22 | 1999-12-07 | Shafer; David Ross | Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability |
US6278519B1 (en) | 1998-01-29 | 2001-08-21 | Therma-Wave, Inc. | Apparatus for analyzing multi-layer thin film stacks on semiconductors |
US6398374B1 (en) * | 1998-12-31 | 2002-06-04 | The Regents Of The University Of California | Condenser for ring-field deep ultraviolet and extreme ultraviolet lithography |
US7957066B2 (en) | 2003-02-21 | 2011-06-07 | Kla-Tencor Corporation | Split field inspection system using small catadioptric objectives |
US7869121B2 (en) | 2003-02-21 | 2011-01-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Small ultra-high NA catadioptric objective using aspheric surfaces |
EP2187251B1 (en) * | 2005-03-31 | 2016-06-01 | KLA-Tencor Technologies Corporation | Small ultra-high NA catadioptric objective using a Mangin mirror |
US7345825B2 (en) | 2005-06-30 | 2008-03-18 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system |
US7525649B1 (en) | 2007-10-19 | 2009-04-28 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Surface inspection system using laser line illumination with two dimensional imaging |
EP3241840B1 (en) | 2010-01-22 | 2022-07-27 | The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University | Inhibition of axl signaling in anti-metastatic therapy |
US8223443B2 (en) * | 2010-09-01 | 2012-07-17 | Kla-Tencor Corporation | Collection optics |
US9097577B2 (en) * | 2011-06-29 | 2015-08-04 | KLA—Tencor Corporation | Adaptive optics for compensating aberrations in light-sustained plasma cells |
DE102011086949A1 (de) * | 2011-11-23 | 2013-05-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungs- und Verlagerungsvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage |
IL234727B (en) * | 2013-09-20 | 2020-09-30 | Asml Netherlands Bv | A light source operated by a laser in an optical system corrected for deviations and the method of manufacturing the system as mentioned |
KR102088363B1 (ko) | 2013-12-05 | 2020-04-14 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 광원 장치 및 플라즈마 광 생성 방법 |
US9232623B2 (en) | 2014-01-22 | 2016-01-05 | Asml Netherlands B.V. | Extreme ultraviolet light source |
KR102197066B1 (ko) | 2014-07-01 | 2020-12-30 | 삼성전자 주식회사 | 플라즈마 광원, 그 광원을 구비한 검사 장치 및 플라즈마 광 생성 방법 |
US10948421B2 (en) * | 2014-08-28 | 2021-03-16 | Asml Netherlands B.V. | Laser-driven photon source and inspection apparatus including such a laser-driven photon source |
US10887974B2 (en) * | 2015-06-22 | 2021-01-05 | Kla Corporation | High efficiency laser-sustained plasma light source |
US10244613B2 (en) * | 2015-10-04 | 2019-03-26 | Kla-Tencor Corporation | System and method for electrodeless plasma ignition in laser-sustained plasma light source |
US9865447B2 (en) | 2016-03-28 | 2018-01-09 | Kla-Tencor Corporation | High brightness laser-sustained plasma broadband source |
-
2018
- 2018-10-19 US US16/165,842 patent/US10823943B2/en active Active
-
2019
- 2019-07-10 TW TW108124199A patent/TWI808213B/zh active
- 2019-07-29 JP JP2021505410A patent/JP7330260B2/ja active Active
- 2019-07-29 IL IL280237A patent/IL280237B2/en unknown
- 2019-07-29 CN CN201980057387.5A patent/CN112655070B/zh active Active
- 2019-07-29 KR KR1020217005916A patent/KR102542726B1/ko active IP Right Grant
- 2019-07-29 WO PCT/US2019/043833 patent/WO2020028208A1/en active Application Filing
-
2024
- 2024-07-11 JP JP2024111903A patent/JP2024133207A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI699523B (zh) | 光學特性檢測裝置及光學系統 | |
JP4908925B2 (ja) | ウェハ表面欠陥検査装置およびその方法 | |
JP6490042B2 (ja) | 非線形光学結晶中の結晶位置寿命の測定 | |
JP3404134B2 (ja) | 検査装置 | |
JP4744215B2 (ja) | 暗視野検査照明装置 | |
JP7330260B2 (ja) | ランプハウス補正を備えるプラズマ源 | |
KR20120073270A (ko) | 계측 시스템 및 계측 방법 | |
KR102102020B1 (ko) | 향상된 검출 감도를 위한 멀티 스팟 조명 | |
JP2015537218A (ja) | 検出感度改善のための検査ビームの成形 | |
KR101523336B1 (ko) | 웨이퍼 영상 검사 장치 | |
JP2024041915A (ja) | マルチミラーレーザ維持プラズマ光源システム及び方法 | |
JP2022517067A (ja) | 非円形瞳を有する検査システム | |
TW202022687A (zh) | 成像系統設計中之掃描差分干涉對比 | |
JP6847663B2 (ja) | ウェハ検査のためのロジックの中のパターン抑制 | |
EP2420881B1 (en) | Microscope and ghosting elimination method | |
JPWO2020028208A5 (ja) | ||
US9891422B2 (en) | Digital confocal optical profile microscopy | |
CN110869823A (zh) | 用于高功率光纤照明源的光谱滤波器 | |
CN209894701U (zh) | 基于液态透镜自动调焦激光诱导荧光光谱检测装置 | |
CN112748562B (zh) | 显微镜和用于确定显微镜中的像差的方法 | |
CN114813056A (zh) | 一种曲面屏缺陷检测装置及方法 | |
KR20220147533A (ko) | 파장 의존 측정광 반사율의 효과 및 리소그래피 마스크에 충돌하는 측정광에 대한 측정광의 편광의 효과 측정 방법 | |
JP7570470B2 (ja) | ランプハウス補正を備えるプラズマ源のシステム | |
JP2012181341A (ja) | 顕微鏡装置 | |
CN117233947B (zh) | 显微镜照明系统、控制方法及显微成像检测系统 |