JPWO2020021648A1 - 流水式超音波洗浄機及びそのノズル、超音波洗浄方法 - Google Patents

流水式超音波洗浄機及びそのノズル、超音波洗浄方法 Download PDF

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Abstract

洗浄液の供給開始とほぼ同時に超音波を始動でき、短時間であれば空焚きを許容できる流水式超音波洗浄機ノズルを提供する。本発明の流水式超音波洗浄機ノズル(11)は、超音波を重畳した洗浄液(W1)を流水として吐出して被洗浄物(2)を超音波洗浄するものであり、ノズル本体(12)、板状の超音波振動子(31)、振動体(41)を備える。ノズル本体(12)は、洗浄液(W1)が流れる流路(R1)の一部をなす先細り形状の空洞部(14)と、空洞部(14)内の洗浄液(W1)を吐出する吐出口(15)とを有する。板状の超音波振動子(31)は、空洞部(14)の基端側に配置されている。振動体(41)は、耐薬品性を有する非金属無機材料からなる。振動体(41)は、超音波振動子(31)の前端面(31b)に密着固定され、空洞部(14)の内部空間(18)の半分以上の容積を占有する。洗浄液(W1)は、振動体(41)の外表面と空洞部(14)の内壁面との隙間(46)を流れる。

Description

本発明は、超音波を伝搬させた洗浄液を流水として吐出することで被洗浄物を超音波洗浄する流水式超音波洗浄機ノズル、及びそれを備えた流水式超音波洗浄機、並びに当該洗浄機を用いた超音波洗浄方法に関するものである。
ICチップ等に代表される半導体を製造するプロセスでは、シリコンウェハやダイシングブレードなどに付着した微細な塵をきれいに除去しておく必要がある。そのため、例えば流水式の超音波洗浄機を用いて被洗浄物であるシリコンウェハやダイシングブレードなどを超音波洗浄することが従来行われている。
図8には、従来の流水式超音波洗浄機におけるノズル101が示されている。ノズル101を構成するノズル本体102は、洗浄液103が流れる流路104の一部をなす先細り形状の空洞部105を有している。空洞部105の先端には、空洞部105内の洗浄液103を吐出する吐出口106が設けられている。空洞部105の基端側には、例えばセラミック製の振動子本体に保護層を接着してなる板状の超音波振動子107が配置されている。このように構成されたノズル101の使用時には、超音波振動子107を駆動させるとともに、流路104を介して空洞部105内に洗浄液103を導入する。すると、空洞部105の内部空間108において超音波が畳重された洗浄液103が、吐出口106から流水として放出される。そして、この流水となった洗浄液103を被洗浄物に当てることにより、被洗浄物の表面に付着した塵等が超音波振動の作用により効率よく除去されるようになっている。なお、この種の流水式超音波洗浄機ノズルは従来いくつか提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。また、被洗浄物が歯や義歯である場合の流水式超音波洗浄機も従来提案されている(例えば、特許文献3参照)。
特開2000−334403号公報 特開2004−148179号公報 特許第5786166号公報
ところで、図8に示した上記従来の流水式超音波洗浄機ノズル101の場合、空洞部105内が洗浄液103で満たされた状態で超音波振動子107を駆動させないと、超音波振動子107が無負荷運転となって空焚き状態となる。その結果、振動による発熱の影響により超音波振動子107に接着剥離が生じて、ごく短時間のうちに超音波振動子107が破損してしまう。このため、最小流量をあらかじめ規定しておき、それ以下の流量となった場合には、超音波発振を止めるインターロック機構を設ける等の対策をとる必要があった。また、洗浄液103を必要以上に使うのを避けるため、電磁バルブで流路104の開閉制御を行う場合、流入開始から空洞部105の内部空間108が洗浄液103で満たされるまでの時間が長くかかるという問題があった。それゆえ、ランニングコストの低減のため、できるだけ短時間で始動可能な状態とすることができる装置が望まれていた。
また、シリコンウェハやダイシングブレードは高清浄度が求められるため、洗浄効果の高い発泡性の薬液を洗浄液103として用いて洗浄することが望ましいが、このような薬液を使用すると、気泡の存在によって超音波が伝達されなくなる。それゆえ、従来では有効な超音波洗浄を実施することができなかった。さらに、上記のような半導体洗浄用の発泡性薬液は比較的高価なものであるため、コスト低減の観点からできるだけ使用量を少なくしたいという要請があった。
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、洗浄液の供給開始とほぼ同時に超音波を始動することができるばかりでなく、短時間であれば空焚きを許容することができる流水式超音波洗浄機ノズル及びそれを備えた流水式超音波洗浄機を提供することにある。また、本発明の別の目的は、半導体ウェハまたは半導体製造用ツールを効率よく確実に洗浄することが超音波洗浄方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、超音波を重畳させた洗浄液を流水として吐出することで被洗浄物を超音波洗浄する流水式超音波洗浄機ノズルであって、前記洗浄液が流れる流路の一部をなす先細り形状の空洞部を有し、前記空洞部内の前記洗浄液を吐出する吐出口を前記空洞部の先端に有するノズル本体と、前記空洞部の基端側に配置された板状の超音波振動子と、耐薬品性を有する非金属無機材料からなり、前記超音波振動子の前端面に密着固定され、前記空洞部の内部空間の半分以上の容積を占有する振動体とを備え、前記振動体の外表面と前記空洞部の内壁面との隙間を介して、前記洗浄液が流れるように構成されていることを特徴とする流水式超音波洗浄機ノズルをその要旨とする。
請求項1に記載の発明によると、振動体の外表面と空洞部の内壁面との隙間を介して流れる洗浄液が吐出口から流水として吐出される際に、超音波振動子及び振動体によって洗浄液に超音波が重畳される。この場合、超音波振動子に密着固定された振動体によって、空洞部の内部空間の大部分があらかじめ埋められているため、流入開始からごく短時間のうちに空洞部内が洗浄液で満たされる。よって、洗浄液の供給開始とほぼ同時に超音波を始動することが可能となる。また、超音波振動子に密着固定された振動体は振動時に負荷となるため、空洞部内が洗浄液で満たされていない状態で超音波振動子を駆動したとしても、無負荷で空焚きを行ったときほど短時間では発熱しない。ゆえに、短時間であれば空焚きを許容することができる。なお、振動体は耐薬品性を有する非金属無機材料からなるものであるため、洗浄力を高めるために例えば腐食性の強い洗浄液を選択すること等が可能となる。
請求項2に記載の発明は、請求項1において、前記振動体は先端側に行くほど細くなる形状をなす中実体であり、前記振動体の基端面は前記超音波振動子の前記前端面の略全体に対して密着固定されていることをその要旨とする。
請求項2に記載の発明によると、振動体を超音波振動子に強固に密着固定することができるとともに、超音波振動子の振動を振動体に確実にかつ効率よく伝達することができる。
請求項3に記載の発明は、請求項2において、前記振動体は、錐体の形状をなす振動体主部を有することをその要旨とする。
請求項3に記載の発明によると、振動体の先端に超音波を集中させやすくなるとともに、先細り形状の空洞部の内壁面との間に大きさが略一定の隙間を形成しやすくなる。
請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項において、前記振動体は、石英製であることをその要旨とする。
請求項4に記載の発明によると、石英製の振動体であるため、好適な耐薬品性を有するばかりでなく、超音波を効率よく伝達させることができる。
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項において、前記振動体の前記基端面は、前記超音波振動子の前記前端面に対して耐熱性接着剤を介して接着されていることをその要旨とする。
請求項5に記載の発明によると、振動体と超音波振動子との接合部分が熱に強くなるため、空焚きに対する耐性が向上する。
請求項6に記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか1項において、前記隙間の大きさは略一定であることをその要旨とする。
請求項6に記載の発明によると、大きい振動体を用いた場合であっても隙間を介して洗浄液をスムーズに吐出口に導くことができる。
請求項7に記載の発明は、請求項1乃至6のいずれか1項において、前記振動体は、前記空洞部の内部空間の60%以上95%以下の容積を占有することをその要旨とする。
請求項7に記載の発明によると、洗浄液の流量をある程度確保したうえで、振動体によって空洞部の内部空間の大部分を確実に埋めるとともに、振動体を十分な負荷として機能させることができる。
請求項8に記載の発明は、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のノズルと、前記ノズルの前記空洞部内に前記洗浄液を供給する洗浄液供給装置と、前記ノズルの前記超音波振動子を駆動させる超音波発振器とを備えたことを特徴とする流水式超音波洗浄機をその要旨とする。
請求項8に記載の発明によると、洗浄液供給装置によりノズルの空洞部内に洗浄液を供給した状態で超音波発振器により超音波振動子を駆動することにより、超音波が重畳された洗浄液をノズルから流水として吐出させることができる。そして、この流水となった洗浄液を被洗浄物に当てることにより、被洗浄物を超音波洗浄することができる。
請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の流水式超音波洗浄機を用いて被洗浄物を洗浄する方法であって、前記被洗浄物が半導体ウェハまたは半導体製造用ツールであり、前記洗浄液が前記半導体ウェハまたは半導体製造用ツールを洗浄するための発泡性の薬液であることを特徴とする超音波洗浄方法をその要旨とする。
請求項9に記載の発明によると、半導体ウェハまたは半導体製造用ツールの洗浄に適した発泡性の薬液を用いた場合でも超音波を確実に重畳させることができるため、化学的な作用及び物理的な作用の両方によって被洗浄物を効率よく確実に洗浄することができる。
以上詳述したように、請求項1〜8に記載の発明によると、洗浄液の供給開始とほぼ同時に超音波を始動することができるばかりでなく、短時間であれば空焚きを許容することができる流水式超音波洗浄機ノズル及びそれを備えた流水式超音波洗浄機を提供することができる。また、請求項9に記載の発明によると、半導体ウェハまたは半導体製造用ツールを効率よく確実に洗浄することが超音波洗浄方法を提供することにある。
実施形態の流水式超音波洗浄機ノズルを示す要部断面図。 同ノズルが備える振動体を示す斜視図。 実施形態の流水式超音波洗浄機における電気的構成等を説明するためのブロック図。 実施形態の流水式超音波洗浄機ノズルの使用時の設置状態を説明するための概略斜視図。 別の実施の形態の流水式超音波洗浄機ノズルを示す要部断面図。 別の実施の形態の流水式超音波洗浄機ノズルを示す要部断面図。 別の実施の形態の流水式超音波洗浄機ノズルを示す要部断面図。 従来の流水式超音波洗浄機ノズルを示す要部断面図。
以下、本発明を流水式超音波洗浄機に具体化した実施形態を図面に基づき詳細に説明する。
図1は、本実施形態の流水式超音波洗浄機ノズル11を示す要部断面図である。このノズル11は、被洗浄物であるシリコンウェハ(半導体ウェハ)2を超音波洗浄するための装置である流水式超音波洗浄機1を構成する部品であって、超音波を重畳した洗浄液W1を流水として吐出する役割を果たす。
図1に示されるように、ノズル11を構成するノズル本体12は、有底円筒状に形成された部材であって、その後端部(図1の上端部)には開口を封止するキャップ13が螺着されている。このノズル本体12は、洗浄液W1が流れる流路R1の一部をなす先細り形状の空洞部14を有している。また、このノズル本体12は、空洞部14内の洗浄液W1を吐出する吐出口15を空洞部14の先端に有している。ノズル本体12の形成材料としては耐薬品性や耐熱性を有する材料であれば特に限定されないが、ここではふっ素樹脂(PTFE等)が用いられている。空洞部14の側面には供給口16が突設されており、その供給口16には供給配管17が接続されている。そして、この供給配管17及び供給口16を介して、空洞部14の内部空間18に洗浄液W1が供給されるようになっている。
図1に示されるように、ノズル11は、ノズル本体12内に超音波振動子31及び振動体41を備えている。本実施形態の超音波振動子31は、PZTなどの圧電セラミックスを用いて直径20mmφの円板状に形成されたいわゆるソリッド素子であり、200kHz以上の比較的高い周波数(ここでは1MHz)の超音波を発生するように構成されている。超音波振動子31の上端面31a側には図示しない一対の電極が形成され、それらの電極には給電ケーブル22を構成する配線23がそれぞれ電気的に接続されている。そして、この給電ケーブル22はキャップ13の中央部を貫通してノズル11の外部に引き出されている。
本実施形態の超音波振動子31は振動体41を備えたものとなっている。振動体41は、先端側に行くほど細くなる形状をなす中実体であって、図2に示されるように、略円錐の形状をなす振動体主部42と、振動体主部42の底部に設けられた円板状のフランジ部43とを有したものとなっている。フランジ部43の直径は超音波振動子31の直径と等しく、ここでは20mmφとなっている。
振動体41は超音波振動子31に密着固定されている。より具体的にいうと、 振動体41の基端面41bは、超音波振動子31の下端面31b(前端面)の全体に対して、耐熱性接着剤47を介して強固に接着されている。その結果、振動体41は超音波振動子31と一体で振動するようになっている。この振動体41は振動時における負荷としての役割を果たすものである。このような負荷が設けられていると、超音波振動子31と洗浄液W1とが直接接触する場合に比べて、インピーダンスの変動が小さくなるという利点がある。
本実施形態の振動体41は、耐薬品性及び耐熱性を有する非金属無機材料からなり、ここでは石英からなる。石英は好適な耐薬品性及び耐熱性を有することに加え、超音波を効率よく伝達させることが可能であるため、振動体41の形成材料として適しているからである。ここで「耐薬品性」とは、シリコンウェハ2の洗浄に用いるような強酸性あるいは強アルカリの薬液に晒されても腐食等が起こらないことを意味している。また、ここで「耐熱性」とは、例えば上記の強酸性あるいは強アルカリの薬液を100℃以上(望ましくは150℃以上)に加熱して使用した場合であっても、腐食、溶融、変性等が起こらないことを意味している。なお、シリコンウェハ2を洗浄する洗浄液W1として用いる強酸性あるいは強アルカリの薬液としては、例えば、硫酸と過酸化水素との混合液、塩酸と過酸化水素との混合液、ふっ酸と過酸化水素との混合液、アンモニアと過酸化水素との混合液などがあり、これらは発泡性を有している。ここでは、強酸性の薬液である硫酸と過酸化水素との混合液を洗浄液W1として使用している。
図1に示されるように、ノズル本体12の空洞部14の内壁面において供給口16のすぐ上側の位置には段部19が形成されており、その段部19の近傍には振動体41を下側に有する超音波振動子31が配置されている。より具体的にいうと、前記段部19上にはリング状のパッキング21が配設されるとともに、そのパッキング21上には振動体41のフランジ部43を介して超音波振動子31の下端面31b側の外周部が載置されている。一方、超音波振動子31の上端面31a側の外周部には、キャップ13の一部分をなすスリーブ形状の押圧部13aが当接している。その結果、超音波振動子31及び振動体41が、パッキング21と押圧部13aとにより上下方向から挟持された状態で保持固定されている。その結果、空洞部14の基端側に超音波振動子31が配置された状態となっている。
図1に示されるように、この振動体41は、空洞部14の内部空間18の半分以上の容積を占有するものであり、好ましくは内部空間の60%以上95%以下の容積を占有していることがよい。上記の占有容積比率が小さすぎると、負荷としての機能を十分に発揮することが難しくなるばかりでなく、振動体41によって空洞部14の内部空間18の大部分を確実に埋めることができず、流入開始からごく短時間のうちに内部空間18内を洗浄液W1で満たすことが難しくなる。逆に、上記の占有容積比率が大きすぎると、振動体41の外表面と空洞部14の内壁面との間の隙間46が狭くなり、洗浄液W1が流れにくくなる結果、洗浄液W1の流量を確保できなくなるおそれがある。このような事情に鑑みて、本実施形態では上記の占有容積比率を約70%程度に設定している。その結果、数mm程度であって略一定の大きさの隙間46が振動体41の外表面と空洞部14の内壁面との間に確保されている。そして、洗浄液W1はこの隙間46を介して流れることが可能となっている。
図3は、本実施形態の流水式超音波洗浄機1における電気的構成等を説明するためのブロック図である。この流水式超音波洗浄機1は、洗浄液供給装置51、超音波発振器61及び超音波制御装置62を備えている。洗浄液供給装置51は、洗浄液W1を貯留する洗浄液タンク52と、その洗浄液タンク52に接続されたポンプ53とを有している。洗浄液供給装置51は、供給配管17を介してノズル11の供給口16に接続されている。そして、このポンプ53を駆動することにより、ノズル11の空洞部14の内部空間18に洗浄液タンク52内の洗浄液W1が供給されるようになっている。
超音波発振器61は、ノズル11に設けられた超音波振動子31と給電ケーブル22を介して電気的に接続されている。超音波発振器61は、所定の発振周波数(ここでは1MHz)の駆動信号を出力することで超音波振動子31を駆動する。その結果、超音波振動子31は、超音波発振器61の発振周波数に応じた超音波を発生するようになっている。
超音波制御装置62は、CPU63、ROM64、RAM65等からなる周知のコンピュータにより構成されており、超音波発振器61及びポンプ53を制御するようになっている。
図4は、ノズル11の使用時の設置状態を説明するための概略斜視図である。図4に示されるように、ノズル11は、被洗浄物であるシリコンウェハ2の外周部近傍の上方にて斜め下方を向くようにして設置されるとともに、図示しないノズル支持体に対して固定される。
この流水式超音波洗浄機1を用いた超音波洗浄方法は以下のとおりである。上記のようにノズル11を設置した状態で、図示しない開始スイッチをオンし、流水式超音波洗浄機1を作動させる。すると、超音波制御装置62からの制御信号により超音波発振器61が動作を開始し、超音波振動子31に駆動信号を出力する。その結果、超音波振動子31が超音波振動するとともに、超音波振動子31に密着固定されている振動体41もそれと一体的に超音波振動する。超音波発振器61の動作開始から数秒後、超音波制御装置62からの制御信号によりポンプ53が動作を開始し、洗浄液タンク52内の洗浄液W1をノズル11に向けて圧送する。すると、ノズル11の供給口16から空洞部14内に入り込んだ洗浄液W1は、振動体41の外表面と空洞部14の内壁面との隙間46を流れ、ノズル11の先端側にある吐出口15に向かって移動する。そしてその移動の際に、超音波振動する振動体41によって洗浄液W1に超音波が畳重される。超音波が畳重された洗浄液W1は、吐出口15から流水として吐出され、その下方にあるシリコンウェハ2の表面が洗浄液W1に晒されて、超音波洗浄される。なお、ノズル11の先端からの流量は、特に限定されず被洗浄物のサイズや種類等に応じて適宜設定されるが、本実施形態では例えば0.1L/min〜0.5L/min程度となるように設定される。
従って、本実施の形態によれば以下の効果を得ることができる。
(1)本実施形態の流水式超音波洗浄機1では、振動体41の外表面と空洞部14の内壁面との隙間46を介して流れる洗浄液W1が吐出口15から流水として吐出される。そしてその吐出の際に、超音波振動子31及び振動体41によって洗浄液W1に超音波が重畳される。この場合、超音波振動子31に密着固定された振動体41によって、空洞部14の内部空間18の大部分があらかじめ埋められているため、流入開始からごく短時間のうちに空洞部14内が洗浄液W1で満たされる。よって、洗浄液W1の供給開始とほぼ同時に超音波を始動することが可能となる。また、超音波振動子31に密着固定された振動体41は振動時に負荷となるため、空洞部14内が洗浄液W1で満たされていない状態で超音波振動子31を駆動したとしても、無負荷で空焚きを行ったときほど短時間では発熱しない。ゆえに、短時間であれば空焚きを許容することができる。なお、振動体41は耐薬品性及び耐熱性を有する非金属無機材料からなるものであるため、洗浄力を高めるために、例えば腐食性の強い洗浄液W1を加熱した状態で使用することが可能となる。また、本実施形態によれば、半導体洗浄用の発泡性薬液の使用が可能となるばかりでなく、その使用量が少なくて済むため、洗浄コストの低減を図ることができる。さらに、廃液の量も減らすことができるため、環境に与える影響も小さいという利点がある。
(2)本実施形態では、振動体41は先端側に行くほど細くなる形状をなす中実体であり、振動体41の基端面41bは超音波振動子31の下端面31bの略全体に対して密着固定されている。従って、振動体41が超音波振動子31に強固に密着固定された状態とすることができるとともに、超音波振動子31の振動を振動体41に確実にかつ効率よく伝達することができる。
(3)本実施形態では、振動体41は円錐体の形状をなす振動体主部42を有している。このため、振動体41の先端に超音波を集中させやすくなるとともに、先細り形状の空洞部14の内壁面との間に大きさが略一定の隙間46を形成しやすくなる。
(4)本実施形態では、振動体41の基端面41bは、超音波振動子31の下端面31bに対して耐熱性接着剤47を介して接着されている。従って、振動体41と超音波振動子31との接合部分が熱に強くなるため、空焚きに対する耐性が向上し、超音波振動子31が破損しにくくなる。
(5)本実施形態では、隙間46の大きさは略一定であるため、比較的大きい振動体41を用いた場合であっても隙間46を介して洗浄液W1をスムーズに吐出口15に導くことができる。また、比較的大きい振動体41として、空洞部14の内部空間18の60%以上95%以下の容積を占有するものを使用しているため、洗浄液W1の流量をある程度確保したうえで、振動体41によって内部空間18の大部分を確実に埋めるとともに、振動体41を十分な負荷として機能させることができる。
(6)本実施形態では、流水式超音波洗浄機1を用いるとともに、被洗浄物をシリコンウェハ2とし、シリコンウェハ2の洗浄に適した発泡性の薬液を洗浄液W1として、超音波洗浄を行っている。この場合でも発泡性の薬液に超音波を確実に重畳させることができるため、化学的な作用及び物理的な作用の両方によって、シリコンウェハ2を効率よく確実に洗浄することができる。
なお、本発明の各実施の形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態のノズル11は、略円錐形状をなす振動体主部42を有するものであったが、略円錐形状に代えて、例えば、略三角錐、略四角錐、略六角錐、略八角錐などの角錐形状をなす振動体主部42を有するものとしても勿論よい。
・上記実施形態のノズル11の場合、振動体41が略円錐形状をなす振動体主部42を有していたが、振動体主部42の形状はこれに限定されない。例えば、図5に示す別の実施形態のノズル11Aのような形状としてもよい。このノズル11Aの振動体41Aの場合、振動体主部42Aの基端側半分が円柱形状をなしており、先端側半分が略円錐形状をなしている。その結果、上記実施形態のものよりもさらに隙間46が一定の大きさとなっている。また、図6に示す別の実施形態のノズル11Bのような形状としてもよい。このノズル11Bの振動体41Bの場合、振動体主部42Bの基端側半分が円柱形状をなしており、先端側半分が半球形状をなしている。さらに、図7に示す別の実施形態のノズル11Cのような形状としてもよい。このノズル11Cの振動体41Cの場合、振動体主部42Cは段差状に形成されており、先端側に行くほど細くなっている。
・上記実施形態では、振動体41がフランジ部43を有するものであったが、フランジ部43は必須の構造ではないため省略されてもよい。
・上記実施形態では、振動体41が石英製であったが、石英に代えて、石英以外の鉱物系材料(例えばサファイヤ等)を用いて振動体41を形成してもよい。また、鉱物系材料以外の非金属無機材料であるセラミック材料(例えばアルミナ、チタニア、シリカ、炭化珪素等)を用いて振動体41を形成してもよい。
・上記実施形態では、耐熱性接着剤47を用いて振動体41の基端面41bと超音波振動子31の下端面31bとを接合したが、耐熱性接着剤47以外の接着剤でこれらを接合してもよい。あるいは、接着剤を用いた接着以外の手法によりこれらを接合しても勿論よい。
・上記実施形態では、洗浄液W1として発泡性の薬液を用いてシリコンウェハ2の超音波洗浄を行ったが、非発泡性の薬液(例えば超純水など)を用いて超音波洗浄を行っても勿論よい。
・上記実施形態では、流水式超音波洗浄機1を用いてシリコンウェハ2の超音波洗浄を行う例を示したが、シリコンウェハ2以外のもの、例えばダイシングブレード等のような半導体製造用ツールの超音波洗浄を行ってもよい。また、シリコンウェハ2やダイシングブレード等のような板状物のみに限らず、種々の形状のものを被洗浄物としてもよい。
1…流水式超音波洗浄機
2…被洗浄物としてのシリコンウェハ
11、11A、11B、11C…流水式超音波洗浄機ノズル
12…ノズル本体
14…空洞部
15…吐出口
17…流路
18…内部空間
31…超音波振動子
31b…(超音波振動子の)前端面としての下端面
41、41A、41B、41C…振動体
42、42A、42B、42C…振動体主部
46…隙間
51…洗浄液供給装置
61…超音波発振器
W1…洗浄液

Claims (9)

  1. 超音波を重畳させた洗浄液を流水として吐出することで被洗浄物を超音波洗浄する流水式超音波洗浄機ノズルであって、
    前記洗浄液が流れる流路の一部をなす先細り形状の空洞部を有し、前記空洞部内の前記洗浄液を吐出する吐出口を前記空洞部の先端に有するノズル本体と、
    前記空洞部の基端側に配置された板状の超音波振動子と、
    耐薬品性を有する非金属無機材料からなり、前記超音波振動子の前端面に密着固定され、前記空洞部の内部空間の半分以上の容積を占有する振動体と
    を備え、
    前記振動体の外表面と前記空洞部の内壁面との隙間を介して、前記洗浄液が流れるように構成されている
    ことを特徴とする流水式超音波洗浄機ノズル。
  2. 前記振動体は先端側に行くほど細くなる形状をなす中実体であり、前記振動体の基端面は前記超音波振動子の前記前端面の略全体に対して密着固定されていることを特徴とする請求項1に記載の流水式超音波洗浄機ノズル。
  3. 前記振動体は、錐体の形状をなす振動体主部を有することを特徴とする請求項2に記載の流水式超音波洗浄機ノズル。
  4. 前記振動体は、石英製であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の流水式超音波洗浄機ノズル。
  5. 前記振動体の前記基端面は、前記超音波振動子の前記前端面に対して耐熱性接着剤を介して接着されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の流水式超音波洗浄機ノズル。
  6. 前記隙間の大きさは略一定であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の流水式超音波洗浄機ノズル。
  7. 前記振動体は、前記空洞部の内部空間の60%以上95%以下の容積を占有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の流水式超音波洗浄機ノズル。
  8. 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のノズルと、前記ノズルの前記空洞部内に前記洗浄液を供給する洗浄液供給装置と、前記ノズルの前記超音波振動子を駆動させる超音波発振器とを備えたことを特徴とする流水式超音波洗浄機。
  9. 請求項8に記載の流水式超音波洗浄機を用いて被洗浄物を洗浄する方法であって、前記被洗浄物が半導体ウェハまたは半導体製造用ツールであり、前記洗浄液が前記半導体ウェハまたは半導体製造用ツールを洗浄するための発泡性の薬液であることを特徴とする超音波洗浄方法。
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