JPH11204479A - 超音波洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 振動伝播用液体の流量を増大させることなく
洗浄槽の下面に付着する気泡を除去して、洗浄効率の向
上を図れるようにすること。 【解決手段】 半導体ウエハＷを浸漬する薬液Ｌを貯留
する洗浄槽１と、洗浄槽１の下部を浸漬する純水Ｐを貯
留する開口面が略矩形状の中間槽２と、中間槽２の底部
に配設される超音波発振手段３と、を具備する超音波洗
浄装置において、中間槽２の一辺側に、純水Ｐを洗浄槽
１の下部側に向かって供給する純水供給ノズル４を配設
し、中間槽２における純水供給ノズル４の配設側と対向
する辺側に、上端に適宜間隔をおいて切除される複数の
流出溝９を有する仕切板５を配設する。これにより、純
水供給ノズル４から洗浄槽１の内槽６の下面側に向かっ
て供給される純水Ｐが中間槽２の振動伝播領域２ａに充
満された後、仕切板５の流出溝９から均一に排出して、
内槽６の下面に付着する気泡を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は超音波洗浄装置に
関するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬ
ＣＤ用ガラス基板等の被処理体を、超音波を利用して洗
浄する超音波洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等を薬液や
リンス液等の洗浄液が貯留された洗浄槽に順次浸漬して
洗浄を行う洗浄処理方法が広く採用されている。

【０００３】このような洗浄処理方法を実施する洗浄処
理装置の一例として、超音波洗浄装置が使用されてい
る。従来の超音波洗浄装置は、図１０に示すように、被
処理体例えば半導体ウエハ（以下にウエハという）Ｗを
浸漬する洗浄液例えば薬液ａを貯留する洗浄槽ｂと、こ
の洗浄槽ｂの下部を浸漬する振動伝播用液体例えば純水
ｃを貯留する中間槽ｄと、この中間槽ｄの底部に配設さ
れ、下面に超音波振動素子ｅを装着してなる例えばステ
ンレス製の振動伝達板ｆとからなる超音波発振手段ｇと
で主に構成されている。なお、上記洗浄槽ｂは、薬液ａ
を貯留し、実際にウエハＷの洗浄処理が行われる内槽ｈ
と、この内槽ｈの上端開口部を包囲し、内槽ｈからオー
バーフローした薬液ａを受け止める外槽ｉとで構成され
ている。

【０００４】上記のように構成される超音波洗浄装置に
よれば、薬液ａを貯留した内槽ｈ内に、ウエハＷをウエ
ハガイドｊで保持した状態で浸漬し、超音波発振手段ｇ
の超音波振動素子ｅに適当な周波数の高周波電圧を印可
して励振することにより、超音波振動が発生し、その超
音波振動が純水ｃを伝播して内槽ｈ内に伝わって、ウエ
ハＷに付着したパーティクル等を除去することができ
る。

【０００５】ところで、上記超音波振動素子ｅの励振に
より発生した気泡が洗浄槽ｂの下面に付着すると、超音
波が反射されるため、洗浄槽ｂ内の薬液ａへの振動の伝
播効率が低下し、洗浄能力が低下する虞れがある。そこ
で、従来では、中間槽ｄ内にバブルイレイザーと称する
ノズルｋを配設し、このノズルｋから中間槽ｄ内に供給
される純水ｃを中間槽ｄからオーバーフローさせること
により、洗浄槽ｂの下面に付着する気泡を除去してい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、純水ｃ
には粘性と大きな表面張力があるため、中間槽ｄのある
一箇所でオーバーフローすると、他の場所ではオーバー
フローしないという現象が生じ、流れのある場所と淀み
の場所が生じてしまい、洗浄槽ｂの下面に付着する気泡
を十分に除去することができない。

【０００７】この問題を解決するためには、洗浄槽ｂの
下面を傾斜させたり、純水の供給流量を例えば４リット
ル／分のように増加させるなどの方法が考えられるが、
洗浄槽ｂの下面を傾斜させるにも限度があるため、洗浄
槽ｂの下面を傾斜させても気泡を除去するには至らな
い。また、純水の流量を増大させることにより、ある程
度の気泡の除去は可能であるが、気泡を完全に除去する
ことができないのが現状である。また、純水ｃの流量の
増加は排液の増加につながるので、好ましくない。

【０００８】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、振動伝播用液体の流量を多くすることなく洗浄槽の
下面への気泡の付着を除去して、洗浄効率の向上を図れ
るようにした超音波洗浄装置を提供することを目的とす
るものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の超音波洗浄装置は以下のように構成され
る。

【００１０】（１）請求項１記載の発明は、被処理体の
洗浄液を貯留する洗浄槽と、上記洗浄槽の下部を浸漬す
る振動伝播用液体を貯留する開口面が略矩形状の中間槽
と、上記中間槽の底部に配設される超音波発振手段と、
を具備する超音波洗浄装置において、上記中間槽の一辺
側に、上記振動伝播用液体を上記洗浄槽の下部側に向か
って供給する液供給手段を配設し、上記中間槽における
上記液供給手段の配設側と対向する辺側に、上部に適宜
間隔をおいて複数の流出部を有する仕切板を配設してな
る、ことを特徴とする。この場合、上記流出部の高さ
を、中間槽の側壁より低くすると共に、洗浄槽の下面よ
り高くする方が好ましい（請求項２）。この流出部は、
中間槽内に充満される振動伝播用液体を外部へ排出する
ものであれば、その形態は任意でよく、例えば仕切板に
穿設される透孔や、仕切板の上端に切除される流出溝に
て形成することができる（請求項３）。また、上記液供
給手段を、振動伝播用液体を洗浄槽の下部側に向かって
略均等に分散噴射するノズルにて形成する方が好ましい
（請求項７）。

【００１１】上記のように構成することにより、液供給
手段から洗浄槽の下面に向かって供給される振動伝播用
液体が中間槽を満たした後、仕切板に設けられた流出部
から均一に排出するので、振動伝播用液体の流量を多く
することなく洗浄槽の下面に付着する気泡を除去するこ
とができる（請求項１）。また、流出部の高さを、中間
槽の側壁より低くすると共に、洗浄槽の下面より高くす
ることにより、仕切板の流出部分で更に積極的に振動伝
播用液体を排出することができる（請求項２，３）。更
に、液供給手段を、振動伝播用液体を洗浄槽の下部側に
向かって略均等に分散供給するノズルにて形成すること
により、洗浄槽の下面に付着する気泡を更に確実に除去
することができる（請求項７）。

【００１２】（２）請求項４記載の発明は、被処理体の
洗浄液を貯留する洗浄槽と、上記洗浄槽の下部を浸漬す
る振動伝播用液体を貯留する開口面が略矩形状の中間槽
と、上記中間槽の底部に配設される超音波発振手段と、
を具備する超音波洗浄装置において、上記中間槽の一辺
側に、上記振動伝播用液体を上記洗浄槽の下部側に向か
って供給する液供給手段を配設し、上記中間槽における
上記液供給手段の配設側と対向する側壁の上部に、適宜
間隔をおいて複数の流出部を形成してなる、ことを特徴
とする。この場合、上記流出部の高さを、流出部を有す
る側壁以外の側壁より低くすると共に、洗浄槽の下面よ
り高くする方が好ましい（請求項５）。この流出部は、
中間槽内に充満される振動伝播用液体を外部へ排出する
ものであれば、その形態は任意でよく、例えば側壁に穿
設される透孔や、側壁の上端に切除される流出溝にて形
成することができる（請求項６）。また、上記液供給手
段を、振動伝播用液体を洗浄槽の下部側に向かって略均
等に分散供給するノズルにて形成する方が好ましい（請
求項７）。

【００１３】上記のように構成することにより、液供給
手段から洗浄槽の下面に向かって供給される振動伝播用
液体が中間槽を満たした後、液供給手段と対向する側の
側壁に設けられた流出部から均一に排出するので、洗浄
槽の下面に付着する気泡を除去することができる（請求
項４）。また、流出部の高さを、流出部を有する側壁以
外の側壁より低くすると共に、洗浄槽の下面より高くす
ることにより、側壁の流出部分で更に積極的に振動伝播
用液体を排出することができる（請求項５，６）。更
に、液供給手段を、振動伝播用液体を洗浄槽の下部側に
向かって略均等に分散供給するノズルにて形成すること
により、洗浄槽の下面に付着する気泡を更に確実に除去
することができる（請求項７）。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に、この発明に係る超音波洗
浄装置の実施形態について添付図面に基づいて詳細に説
明する。ここでは、半導体ウエハ用の超音波洗浄装置に
適用した場合について説明する。

【００１５】◎第一実施形態 図１はこの発明に係る超音波洗浄装置の第一実施形態を
示す概略断面図、図２は図１の側断面図である。

【００１６】上記超音波洗浄装置は、被処理体例えば半
導体ウエハ（以下にウエハという）Ｗを浸漬する洗浄液
例えば薬液Ｌが貯留される洗浄槽１と、この洗浄槽１の
下部を浸漬する振動伝播用液体例えば純水Ｐを貯留する
開口面が略矩形状の中間槽２と、この中間槽２の底部に
配設される超音波発振手段３と、中間槽２内の一側側に
配設される液供給手段例えば純水供給ノズル４とで主に
構成されており、中間槽２における純水供給ノズル４と
対向する側には仕切板５が配設されている。

【００１７】この場合、上記洗浄槽１は、例えば石英製
等にて形成され、貯留された薬液Ｌに複数例えば５０枚
のウエハＷが浸漬される内槽６と、内槽６の上端開口部
を包囲し、内槽６からオーバーフローした薬液Ｌを受け
止める外槽７とで構成されている。また、内槽６内に
は、ウエハガイド８が配設されており、このウエハガイ
ド８に複数例えば５０枚のウエハＷが保持された状態
で、ウエハＷが薬液Ｌに浸漬されるように構成されてい
る。更に、内槽６の底部は、側面から見たときに緩やか
に傾斜するように形成されている（図２参照）。このよ
うに内槽６の底部を傾斜させた理由は、純水Ｐに溶け込
んでいた酸素等の気体が超音波振動により純水Ｐから分
離されることにより気泡が発生し、これにより内槽６の
底部に付着した気泡を速やかに除去するためである。な
お、外槽７の底部には排出口７ａが設けられており、こ
の排出口７ａにドレン弁７ｂを介設したドレン管７ｃが
接続されている。また、内槽６の底部にも、薬液Ｌを排
液するためのドレン管（図示せず）が接続されている。
なお、内槽６付近には図示しない薬液供給手段が配設さ
れ、内槽６内に薬液を随時供給できるように形成されて
いる。

【００１８】上記中間槽２は例えばポリプロピレン樹脂
等にて形成され、内部に貯留された純水Ｐに洗浄槽１の
内槽６の下部が浸漬されるように配設されている。この
中間槽５内の一側部に配設される純水供給ノズル４は、
図２及び図３に示すように、パイプ状本体４ａの斜め上
部側に多数の噴射孔４ｂを等間隔に穿設したノズルにて
形成されており、中間槽２の側壁を貫通する純水供給管
４１を介して純水供給源４０に接続されている。なお、
純水供給管４１における純水供給源４０側には開閉バル
ブ４２が介設されている。このように純水供給ノズル４
を形成することにより、各噴射孔４ｂから分散噴射（供
給）される純水Ｐは洗浄槽１の内槽６の下面に向かって
噴射（供給）され、内槽６の下面に付着する気泡を積極
的に他方側に流すことができる。

【００１９】また、中間槽２内に配設される仕切板５
は、純水供給ノズル４及び超音波発振手段３を有する洗
浄槽１の下部を浸漬する振動伝播領域２ａと、純水供給
ノズル４と対向する側壁付近の領域２ｂとを区画するよ
うに配設されている。この仕切板５は、中間槽２の側壁
２１より低く、洗浄槽１の内槽６の下面より高く形成さ
れており、その上端には、適宜間隔をおいて複数の流出
部例えば略Ｖ形状の流出溝９が切除されている。このよ
うに、中間槽２内の純水供給ノズル４と対向する側壁付
近に、流出溝９（例えばＶ溝）を有する仕切板５を配設
することにより、純水供給ノズル４から洗浄槽１の内槽
６の下面に向かって噴射（供給）された純水Ｐが、中間
槽２の振動伝播領域２ａを満たした後、流出溝９から均
一に排出されて領域２ｂに流れる。したがって、純水Ｐ
の排出に伴って内槽６の下面に付着する気泡を除去する
ことができる。なお、領域２ｂ側の側壁２１にはドレン
弁２２を介設したドレン管２３が接続されており、領域
２ｂに貯留した純水Ｐを外部に排出し得るように構成さ
れている。

【００２０】また、上記中間槽５の底部には略矩形状の
開口部５ａが設けられており、この開口部５ａに超音波
発振手段３が配設されている。この超音波発振手段３
は、開口部５ａの周辺上面に接着剤等によって水密性が
保たれるように固着される振動伝達板３０と、この振動
伝達板３０の下面側に接着剤等によって固着される複数
（図面では二列に配列された８個の場合を示す）の超音
波振動素子３１とで構成されている（図４参照）。この
場合、振動伝達板３０は、例えばステンレス製の板部材
にて形成されており、超音波振動素子３１は、例えば矩
形状のセラミックス製板材にて形成されている。また、
各超音波振動素子３１は、発振源と電源ユニットを具備
する超音波発生器３２に接続されており、超音波発生器
３２の駆動によって超音波振動素子３１に高周波電圧が
印加されて励振し、その振動が振動伝達板３０に伝わっ
て超音波振動を発生するように構成されている。なお、
中間槽２の底部には、上記超音波発振手段３と重ならな
い位置に、排水のためのドレン管（図示せず）が接続さ
れている。

【００２１】また、上記超音波発振手段３には、超音波
振動の異常を検出する検出手段５０が設けられている。
この異常検出手段５０は、図４及び図５に示すように、
各超音波振動素子３１の表面（プラス極側）における側
辺部に接着剤等にて固着される出力検出センサ５１と、
この出力検出センサ５１からの検出信号を受けて予め記
憶された情報と比較演算処理して例えばアラーム等を発
する制御部例えば中央演算処理装置５２（ＣＰＵ）とで
構成されている。この場合、出力検出センサ５１は、超
音波振動素子３１と同様のセラミックス製のチップにて
形成されており、超音波振動素子３１の振動を電気信号
に変換し得るように形成されている。なお、超音波振動
素子３１の表面側（プラス極側）における出力検出セン
サ５１の装着部の近傍には絶縁部５３を介して裏面側と
同極（マイナス極）の電極部５４が露呈している。なお
この場合、これら出力検出センサ５１と電極部５４は、
洗浄槽１の内槽６の下部領域から外側の位置に設けられ
ている。

【００２２】上記のように超音波発振手段３を構成する
各超音波振動素子３１の裏面側に出力検出センサ５１を
装着することにより、使用中に超音波振動素子３１の劣
化や剥離、あるいはケーブルの断線等による異常が発生
して振動状態が変化した場合、その異常を出力検出セン
サ５１によって検知し、アラーム等によって知らせるこ
とができる。したがって、従来では、処理槽１あるいは
中間槽２内の液中に浸漬して音圧を測定する例えば石英
製のプローブによって検出していたため、使用中には検
出できなかった振動異常状態を確実に検知することがで
きる。なお、振動異常が検出された場合は、洗浄処理を
中断して、超音波発振手段３を交換すればよい。

【００２３】次に、上記のように構成される超音波洗浄
装置の動作態様について説明する。まず、純水供給源４
０から中間槽２内に純水Ｐを供給することにより、少な
くとも内槽６の底部下面全体を浸漬できるように貯留し
ておく。次に、内槽６内にはウエハＷを浸漬し、洗浄す
るための薬液Ｌを図示しない薬液供給手段により随時供
給し続け、上端開口縁付近まで予め貯留しておく。な
お、薬液Ｌには、例えばウエハＷ表面に付着した酸化膜
等を除去するためのフッ酸希釈液（ＤＨＦ液）や、金属
不純物等を除去するためのＨＰＭ液（塩酸及び過酸化水
素の混合水溶液）等が用いられる。

【００２４】次に、図示しないウエハ搬送手段によって
保持された複数例えば５０枚のウエハＷを、内槽６内に
配設されたウエハガイド８に受け渡して、ウエハＷを薬
液Ｌに浸漬する。その後、超音波振動素子３１に接続さ
れた超音波発生器３２を駆動して超音波振動素子３１に
高周波電源を印加して励振することにより、振動伝達板
３０が超音波振動を発生する。この超音波振動が中間槽
２内の純水Ｐを伝播して内槽６に貯留された薬液Ｌまで
伝わり、この超音波振動によってウエハＷに付着したパ
ーティクル等が除去されることにより、ウエハＷが超音
波洗浄される。なお、この間にも図示しない上記薬液供
給手段によって、内槽６内に薬液Ｌを適量ずつ随時供給
し続ける。このように、薬液Ｌを随時供給することによ
り、ウエハＷから除去されて液面に浮かんだパーティク
ル等を、オーバーフローする薬液Ｌと共に効果的に外槽
７へ流出させることができるので、内槽６内の薬液Ｌを
清浄な状態に保つことができる。また、外槽７内に流入
した使用済みの薬液Ｌは、ドレン弁７ｂを開状態にして
ドレン管７ｃから排液される。

【００２５】上述のようにしてウエハＷを洗浄処理して
いる間、純水供給ノズル４から純水Ｐが内槽６の下面に
向かって噴射（供給）されると共に、中間槽２の振動伝
播領域２ａ内に充満された純水Ｐが、仕切板５に設けら
れた各流出溝９から均一に排出されて中間槽２の別の領
域２ｂに流れるので、内槽６の下面に付着する気泡を除
去することができる。したがって、純水供給ノズル４か
ら噴射（供給）する純水の流量を必要以上に多くするこ
となく、例えば純水供給ノズル４から噴射（供給）され
る純水Ｐの流量を２リットル／分とすることで、内槽６
の下面に付着する気泡のほとんどを除去することができ
るので、超音波振動の伝播効率の向上が図れ、洗浄効率
の向上を図ることができる。また、この際、流出溝９の
高さを、中間槽２の側壁２１より低くすると共に、洗浄
槽１の内槽６の下面より高くすることにより、仕切板５
の流出溝９部分で更に積極的に純水Ｐをオーバーフロー
することができる。更に、純水供給ノズル４を、純水Ｐ
が内槽６の下部側に向かって略均等に分散噴射（供給）
するノズルにて形成することにより、内槽６の下面に付
着する気泡を更に効率よく除去することができる。

【００２６】◎第二実施形態 図６はこの発明に係る超音波洗浄装置の第二実施形態を
示す概略断面図、図７は第二実施形態における中間槽を
示す斜視図である。

【００２７】第二実施形態は、上記第一実施形態におけ
る仕切板５に代えて、中間槽２における純水供給ノズル
４を配設した側と対向する側の側壁２１Ａの上端に適宜
間隔をおいて複数の流出部例えば略Ｖ形状の流出溝９を
設けた場合である。この場合、流出溝９を有する側壁２
１Ａの高さ（具体的には流出溝９の高さ）は、中間槽２
の他の三辺の側壁２１よりも低く形成されると共に、洗
浄槽１の内槽６の下面より高く形成されている（図７参
照）。なお、第二実施形態において、その他の部分は上
記第一実施形態と同じであるので、同一部分には同一符
号を付して説明は省略する。

【００２８】上記のように構成することにより、上述と
同様にウエハＷの洗浄処理中に、純水供給ノズル４から
純水Ｐが内槽６の下面に向かって噴射（供給）されると
共に、中間槽２内に充満された純水Ｐが、側壁２１Ａに
設けられた各流出溝９から均一に排出されて外部に流れ
るので、内槽６の下面に付着する気泡を除去することが
できる。したがって、純水供給ノズル４から噴射（供
給）する純水の流量を必要以上に多くすることなく、内
槽６の下面に付着する気泡を確実に除去することがで
き、超音波振動の伝播効率の向上が図れ、洗浄効率の向
上を図ることができる。また、この際、流出溝９の高さ
を、流出溝９を有する側壁２１Ａ以外の側壁２１より低
くすると共に、洗浄槽１の内槽６の下面より高くするこ
とにより、側壁２１Ａの流出溝９部分で更に積極的に純
水Ｐを排出することができる。更に、純水供給ノズル４
を、純水Ｐが内槽６の下部側に向かって略均等に分散噴
射（供給）するノズルにて形成することにより、内槽６
の下面に付着する気泡を更に確実に除去することができ
る。

【００２９】◎その他の実施形態 なお、上記実施形態では、仕切板５又は中間槽２の側壁
２１Ａに設けられる流出部がＶ形状の流出溝９にて形成
される場合について説明したが、流出溝９の形状は必ず
しもＶ形状である必要はなく、例えば円弧状等任意の形
状にすることができる。

【００３０】また、上記流出部は必ずしも仕切板５又は
側壁２１Ａの上端に切除される流出溝９である必要はな
く、例えば図８又は図９に示すように、仕切板５又は側
壁２１Ａの上部に適宜間隔をおいて穿設される複数の透
孔にて形成される流出孔９Ａであってもよい。この場
合、流出孔９Ａの高さを、中間槽２の側壁２１より低く
すると共に、洗浄槽１の内槽６の下面より高くすること
により、流出孔９Ａ部分で更に積極的に純水Ｐを排出す
ることができる。なお、図８及び図９において、その他
の部分は上記第一実施形態及び第二実施形態と同じであ
るので、同一部分には同一符号を付して、説明は省略す
る。

【００３１】また、上記実施形態では、この発明を半導
体ウエハ用の超音波洗浄装置に適用する場合について説
明したが、必ずしも半導体ウエハに限定されるものでは
なく、例えばＬＣＤ用ガラス基板等を洗浄するための超
音波洗浄装置に適用してもよいし、それ以外の超音波洗
浄装置に適用してもよい。

【００３２】

【発明の効果】（１）請求項１〜３記載の発明によれ
ば、液供給手段から洗浄槽の下面に向かって供給される
振動伝播用液体が中間槽を満たした後、仕切板に設けら
れた流出部から均一に排出するので、振動伝播用液体の
流量を多くすることなく洗浄槽の下面に付着する気泡を
除去することができる。したがって、超音波振動の伝播
効率の向上が図れると共に、洗浄効率の向上を図ること
ができる。また、流出部の高さを、中間槽の側壁より低
くすると共に、洗浄槽の下面より高くすることにより、
仕切板の流出部分で更に積極的に振動伝播用液体を排出
することができる（請求項２，３）。

【００３３】（２）請求項４〜６記載の発明によれば、
液供給手段から洗浄槽の下面に向かって供給される振動
伝播用液体が中間槽を満たした後、液供給手段と対向す
る側の側壁に設けられた流出部から均一に排出するの
で、振動伝播用液体の流量を多くすることなく洗浄槽の
下面に付着する気泡を除去することができる。したがっ
て、超音波振動の伝播効率の向上が図れると共に、洗浄
効率の向上を図ることができる。また、流出部の高さ
を、流出部を有する側壁以外の側壁より低くすると共
に、洗浄槽の下面より高くすることにより、側壁の流出
部分で更に積極的に振動伝播用液体を排出することがで
きる（請求項５，６）。

【００３４】（３）請求項７記載の発明によれば、液供
給手段を、振動伝播用液体を洗浄槽の下部側に向かって
略均等に分散供給するノズルにて形成するので、洗浄槽
の下面に付着する気泡を更に確実に除去することができ
る。したがって、上記（１）及び（２）に加えて超音波
振動の伝播効率の向上が図れると共に、洗浄効率の向上
を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る超音波洗浄装置の第一実施形態
を示す概略断面図である。

【図２】図１の側断面図である。

【図３】第一実施形態における中間槽を示す斜視図であ
る。

【図４】この発明における超音波発振手段を示す概略平
面図である。

【図５】上記超音波発振手段を構成する超音波振動素子
を示す概略平面図である。

【図６】この発明に係る超音波洗浄装置の第二実施形態
を示す概略断面図である。

【図７】第二実施形態における中間槽を示す斜視図であ
る。

【図８】第一実施形態における流出部の別の形態を示す
斜視図である。

【図９】第二実施形態における流出部の別の形態を示す
斜視図である。

【図１０】従来の超音波洗浄装置の一例を示す概略断面
図である。

【符号の説明】

Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） Ｌ 薬液 Ｐ 純水（振動伝播用液体） １ 洗浄槽 ２ 中間槽 ３ 超音波発振手段 ４ 純水供給ノズル（液供給手段） ４ａ パイプ状本体 ４ｂ 噴射孔 ５ 仕切板 ６ 内槽 ９ 流出溝（流出部） ９Ａ 流出孔（流出部） ２１Ａ 側壁 ３０ 振動伝達板 ３１ 超音波振動素子 ３２ 超音波発振器

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体の洗浄液を貯留する洗浄槽と、
   上記洗浄槽の下部を浸漬する振動伝播用液体を貯留する
   開口面が略矩形状の中間槽と、上記中間槽の底部に配設
   される超音波発振手段と、を具備する超音波洗浄装置に
   おいて、 上記中間槽の一辺側に、上記振動伝播用液体を上記洗浄
   槽の下部側に向かって供給する液供給手段を配設し、 上記中間槽における上記液供給手段の配設側と対向する
   辺側に、上部に適宜間隔をおいて複数の流出部を有する
   仕切板を配設してなる、ことを特徴とする超音波洗浄装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の超音波洗浄装置におい
   て、 上記流出部の高さを、中間槽の側壁より低くすると共
   に、洗浄槽の下面より高くした、ことを特徴とする超音
   波洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の超音波洗浄装置に
   おいて、 上記流出部が、仕切板の上端に切除される流出溝であ
   る、ことを特徴とする超音波洗浄装置。
4. 【請求項４】 被処理体の洗浄液を貯留する洗浄槽と、
   上記洗浄槽の下部を浸漬する振動伝播用液体を貯留する
   開口面が略矩形状の中間槽と、上記中間槽の底部に配設
   される超音波発振手段と、を具備する超音波洗浄装置に
   おいて、 上記中間槽の一辺側に、上記振動伝播用液体を上記洗浄
   槽の下部側に向かって供給する液供給手段を配設し、 上記中間槽における上記液供給手段の配設側と対向する
   側壁の上部に、適宜間隔をおいて複数の流出部を形成し
   てなる、ことを特徴とする超音波洗浄装置。
5. 【請求項５】 請求項４記載の超音波洗浄装置におい
   て、 上記流出部の高さを、流出部を有する側壁以外の側壁よ
   り低くすると共に、洗浄槽の下面より高くした、ことを
   特徴とする超音波洗浄装置。
6. 【請求項６】 請求項４又は５記載の超音波洗浄装置に
   おいて、 上記流出部が、側壁の上端に切除される流出溝である、
   ことを特徴とする超音波洗浄装置。
7. 【請求項７】 請求項１又は４記載の超音波洗浄装置に
   おいて、 上記液供給手段を、振動伝播用液体を洗浄槽の下部側に
   向かって略均等に分散噴射するノズルにて形成してな
   る、ことを特徴とする超音波洗浄装置。