JPWO2020017626A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2020017626A5
JPWO2020017626A5 JP2020531378A JP2020531378A JPWO2020017626A5 JP WO2020017626 A5 JPWO2020017626 A5 JP WO2020017626A5 JP 2020531378 A JP2020531378 A JP 2020531378A JP 2020531378 A JP2020531378 A JP 2020531378A JP WO2020017626 A5 JPWO2020017626 A5 JP WO2020017626A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ring
carbon atoms
arz
ary
bonded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020531378A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7252522B2 (ja
JPWO2020017626A1 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2019/028414 external-priority patent/WO2020017626A1/ja
Publication of JPWO2020017626A1 publication Critical patent/JPWO2020017626A1/ja
Publication of JPWO2020017626A5 publication Critical patent/JPWO2020017626A5/ja
Priority to JP2023021196A priority Critical patent/JP7545125B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7252522B2 publication Critical patent/JP7252522B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020531378A 2018-07-20 2019-07-19 レジスト下層膜形成組成物 Active JP7252522B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023021196A JP7545125B2 (ja) 2018-07-20 2023-02-14 レジスト下層膜形成組成物の製造方法、パターニングされた基板の製造方法および半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018137157 2018-07-20
JP2018137157 2018-07-20
PCT/JP2019/028414 WO2020017626A1 (ja) 2018-07-20 2019-07-19 レジスト下層膜形成組成物

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023021196A Division JP7545125B2 (ja) 2018-07-20 2023-02-14 レジスト下層膜形成組成物の製造方法、パターニングされた基板の製造方法および半導体装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2020017626A1 JPWO2020017626A1 (ja) 2021-08-05
JPWO2020017626A5 true JPWO2020017626A5 (https=) 2022-06-29
JP7252522B2 JP7252522B2 (ja) 2023-04-05

Family

ID=69164523

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020531378A Active JP7252522B2 (ja) 2018-07-20 2019-07-19 レジスト下層膜形成組成物
JP2023021196A Active JP7545125B2 (ja) 2018-07-20 2023-02-14 レジスト下層膜形成組成物の製造方法、パターニングされた基板の製造方法および半導体装置の製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023021196A Active JP7545125B2 (ja) 2018-07-20 2023-02-14 レジスト下層膜形成組成物の製造方法、パターニングされた基板の製造方法および半導体装置の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20210271169A1 (https=)
JP (2) JP7252522B2 (https=)
KR (1) KR102702755B1 (https=)
CN (1) CN112470076A (https=)
TW (1) TWI884137B (https=)
WO (1) WO2020017626A1 (https=)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7082087B2 (ja) * 2019-05-08 2022-06-07 信越化学工業株式会社 有機膜形成用組成物、パターン形成方法及び重合体
CN116057095A (zh) * 2020-08-05 2023-05-02 日产化学株式会社 抗蚀剂下层膜形成用组合物
JP7824580B2 (ja) * 2021-03-11 2026-03-05 Jsr株式会社 半導体基板の製造方法、組成物、重合体及び重合体の製造方法
WO2023243426A1 (ja) * 2022-06-17 2023-12-21 日産化学株式会社 レジスト下層膜形成組成物
KR102723460B1 (ko) * 2022-09-14 2024-10-29 주식회사 켐폴 반사방지용 하드마스크 조성물
WO2025205091A1 (ja) * 2024-03-25 2025-10-02 Jsr株式会社 半導体基板の製造方法、組成物及び化合物の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5223602A (en) * 1992-01-24 1993-06-29 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Naphthol aralkyl resins and cured products thereof
JP4252872B2 (ja) 2003-10-06 2009-04-08 信越化学工業株式会社 レジスト下層膜材料およびパターン形成方法
CN103827159B (zh) * 2011-09-29 2016-07-06 日产化学工业株式会社 二芳基胺酚醛清漆树脂
US8993215B2 (en) * 2012-03-27 2015-03-31 Nissan Chemical Industries, Ltd. Resist underlayer film forming composition containing phenylindole-containing novolac resin
US9244353B2 (en) * 2012-08-10 2016-01-26 Nissan Chemical Industries, Ltd. Resist underlayer film forming composition
WO2014171193A1 (ja) * 2013-04-19 2014-10-23 Dic株式会社 変性フェノール樹脂、変性フェノール樹脂の製造方法、変性エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂の製造方法、硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプリント配線基板
WO2014185335A1 (ja) * 2013-05-13 2014-11-20 日産化学工業株式会社 ビスフェノールアルデヒドを用いたノボラック樹脂含有レジスト下層膜形成組成物
JPWO2015122296A1 (ja) * 2014-02-12 2017-03-30 日産化学工業株式会社 フッ素含有界面活性剤を含む膜形成組成物
KR102367638B1 (ko) * 2014-03-31 2022-02-28 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 방향족 비닐화합물이 부가된 노볼락수지를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물
KR102417838B1 (ko) * 2014-08-08 2022-07-06 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 방향족 메틸올 화합물이 반응된 노볼락 수지를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물
JP6462602B2 (ja) * 2016-01-12 2019-01-30 信越化学工業株式会社 多層膜形成方法及びパターン形成方法
CN109154778B (zh) * 2016-05-20 2022-08-02 日产化学株式会社 抗蚀剂下层膜形成用组合物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2020017626A5 (https=)
JP1725654S (ja) トラベルオーガナイザー
JP1725653S (ja) トラベルオーガナイザー
CN114269746A (zh) 一种螺芳环化合物、其制备及应用
JP2013147490A5 (ja) イリジウム錯体
JP2015181191A5 (https=)
JP2017119663A5 (https=)
JP2015518463A5 (https=)
JP2016503300A5 (https=)
RU2015149009A (ru) 19-нор нейроактивные стероиды и способы их применения
JP2010254680A5 (ja) 複素環化合物、及び発光素子
JP2013512915A5 (https=)
JP2013102146A5 (ja) 化合物
JP2008545631A5 (https=)
JP2014063155A5 (https=)
JP2016501520A5 (https=)
JP2013136567A5 (ja) 有機金属錯体
JP2020504434A5 (https=)
JP2015510508A5 (https=)
JP2022540353A5 (https=)
JP2018076394A5 (https=)
JP2007314506A5 (https=)
JP2023509880A5 (https=)
JP2021520357A5 (https=)
JPWO2024135580A5 (https=)