JPWO2020008957A1 - 組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、化合物 - Google Patents

Abstract

高屈折率性及び高透明性を示し、且つ、外観特性にも優れた膜を形成することができる組成物を提供する。また、高屈折率性及び高透明性を示し、且つ、外観特性にも優れた膜を提供する。また、上記膜を用いたレンズ、並びに上記膜又は上記レンズを用いた固体撮像素子を提供する。また、新規化合物を提供する組成物は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する化合物Ｘと、溶剤と、を含む。但し、Ｒ1が水素原子を表し、且つ、上記残基が、上記水素原子を除いて形成された場合、上記残基は芳香族炭化水素環とは連結しない。

Description

本発明は、組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、及び化合物に関する。

カルバゾール系化合物は、種々の用途に適用できることから、その開発研究が盛んに行われている。例えば、特許文献１には、有機ＥＬ（electro luminescence）素子に適用する機能性ポリマーとして、カルバゾール誘導体基を含む繰り返し単位を含むポリマーが開示されている。

特開２００４−１８５９６７号公報

ところで、例えば、イメージセンサ上に搭載するマイクロレンズ形成材料、及び、カラーフィルタの屈折率調整剤等の光学材料に使用される化合物に対して、高透明性及び高屈折率等の諸特性が求められている。

本発明者らは、特許文献１を参照してカルバゾール誘導体基を含む繰り返し単位を含むポリマーを作製して、上述したような光学材料用途に対するカルバゾール系化合物の適用性について検討を行ったところ、カルバゾール系化合物を含む組成物から形成される膜の屈折率及び透明性（特に、加熱後における透明性）を更に改善する必要があることを明らかとした。また、上記膜は亀裂により外観特性が劣る場合があることを知見し、上記膜の外観特性を更に改善する必要があることも明らかとした。

そこで、本発明は、高屈折率性及び高透明性を示し、且つ、外観特性にも優れた膜を形成することができる組成物を提供することを課題とする。

そこで、本発明は、高屈折率性及び高透明性を示し、且つ、外観特性にも優れた膜を提供することを課題とする。

また、本発明は、上記膜を用いたレンズ、並びに上記膜又は上記レンズを用いた固体撮像素子を提供することを目的とする。

また、本発明は、新規化合物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の組成物を用いることにより上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、以下の構成により上記課題を達成できることを見出した。

〔１〕 後述する一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する化合物Ｘと、

溶剤と、を含む組成物。

〔２〕 上記Ａ¹が、単結合を表す、〔１〕に記載の組成物。

〔３〕 上記ｍ¹が２〜４の整数を表す、〔１〕又は〔２〕に記載の組成物。

〔４〕 上記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち１個以上が、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される基及び後述する一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、〔３〕に記載の組成物。

〔５〕 上記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち２個以上が、上記一般式（ＩＩＩ）で表される基及び上記一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、〔４〕に記載の組成物。

〔６〕 更に、重合性化合物を含む、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の組成物。

〔７〕 更に、重合開始剤を含む、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の組成物。

〔８〕 上記化合物Ｘが、後述する一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物、後述する一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物、後述する一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物、及び後述する一般式（Ｄ）で表される化合物からなる群より選ばれる１種以上である、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の組成物。

〔９〕 上記化合物Ｘが、上記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物及び上記一般式（Ｄ）で表される化合物からなる群より選ばれる１種以上である、〔８〕に記載の組成物。

〔１０〕 後述する一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する化合物Ｘを含む膜。

〔１１〕 上記Ａ¹が、単結合を表す、〔１０〕に記載の膜。

〔１２〕 上記ｍ¹が２〜４の整数を表す、〔１０〕又は〔１１〕に記載の膜。

〔１３〕 上記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち１個以上が、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される基及び後述する一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、〔１２〕に記載の膜。

〔１４〕 上記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち２個以上が、上記一般式（ＩＩＩ）で表される基及び上記一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、〔１３〕に記載の膜。

〔１５〕 上記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物及び上記一般式（Ｄ）で表される化合物からなる群より選ばれる１種以上を含む、〔１０〕〜〔１４〕のいずれか１項に記載の膜。

〔１６〕 〔１０〕〜〔１５〕のいずれかに記載の膜からなるレンズ。

〔１７〕 〔１０〕〜〔１５〕のいずれかに記載の膜、又は〔１６〕に記載のレンズを備える固体撮像素子。

〔１８〕 後述する一般式（Ａ）で表される繰り返し単位、後述する一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位、又は後述する一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物。

〔１９〕 後述する一般式（Ｄ）で表される化合物。

〔２０〕 上記一般式（Ｉ）で表される化合物が、後述する一般式（Ｖ）で表される化合物である、〔１８〕又は〔１９〕に記載の化合物。

本発明によれば、高屈折率性及び高透明性を示し、且つ、外観特性にも優れた膜を形成することができる組成物を提供できる。

また、本発明によれば、高屈折率性及び高透明性を示し、且つ、外観特性にも優れた膜を提供できる。

また、本発明によれば、上記膜を用いたレンズ、並びに上記膜又は上記レンズを用いた固体撮像素子を提供できる。

また、本発明によれば、新規化合物を提供できる。

以下、本発明について詳細に説明する。

本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、及び、電子線等を意味する。また本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、及び、ＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線及びイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。

本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタアクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタアクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。

本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。

本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、測定装置としてＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。

本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基をいう。

本明細書において、全固形分とは、組成物の全体から溶剤を除いた成分の合計質量をいう。

本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。置換基としては、例えば、下記置換基群Ｔから選択される基が挙げられる。

（置換基Ｔ）

置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基及びアニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、及び、シリル基などが挙げられる。以下詳細に記述する。

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子）、

直鎖若しくは分岐のアルキル基（直鎖若しくは分岐の置換若しくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、及び、２−エチルヘキシル基等）、

シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルキル基。例えば、シクロヘキシル基及びシクロペンチル基が挙げられ、多シクロアルキル基（例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基で、より具体的には、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基及びビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等）及び、トリシクロアルキル基等の多環構造の基）でもよい。中でも、単環のシクロアルキル基又はビシクロアルキル基が好ましく、単環のシクロアルキル基がより好ましい）、

直鎖若しくは分岐のアルケニル基（直鎖若しくは分岐の置換若しくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基。例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、及び、オレイル基）、

シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、及び、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられ、多シクロアルケニル基（ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基。より具体的には、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基及びビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等）及びトリシクロアルケニル基等の多環構造の基）でもよい。中でも、単環のシクロアルケニル基が好ましい）、

アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基、及び、トリメチルシリルエチニル基）、

アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリール基。例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ピレニル基、ビフェニル基、及び、ターフェニル基）、

ヘテロ環基（５〜７員の置換若しくは無置換のヘテロ環基が好ましい。ヘテロ環基は、飽和若しくは不飽和である。ヘテロ環は、芳香族若しくは非芳香族である。ヘテロ環は、単環若しくは縮環である。ヘテロ環基においては、環構成原子が炭素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子及び硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基がより好ましく、炭素数３〜３０の５若しくは６員の芳香族のヘテロ環基が更に好ましい。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、及び、２−ベンゾチアゾリル基）、

シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、

アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、及び、２−メトキシエトキシ基）、

アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、及び、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、

シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基。例えば、トリメチルシリルオキシ基及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、

ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基。ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基及び２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、

アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、及び、メタクリロイルオキシ基）、

カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、及び、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、

アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基。例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、及び、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、

アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、及び、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアミノ基、又は、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基。例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、及び、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ基）、

アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基、アクリロイルアミノ基、及び、メタクリロイルアミノ基）、

アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基。例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、及び、モルホリノカルボニルアミノ基）、

アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、及び、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基）、

アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、及び、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、

スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、及び、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、

アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、及び、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、

メルカプト基、

アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、及び、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、

アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基。

例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、及び、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、

ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環チオ基。

ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、及び、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、

スルファモイル基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基。例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、及び、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、

スルホ基、

アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルフィニル基、又は、６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、及び、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、

アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、及び、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、

アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基。例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、アクリロイル基、及び、メタクリロイル基）、

アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、及び、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、

アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、及び、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、

カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、及び、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、

アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、又は、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環アゾ基のヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）。例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、及び、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、

イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のイミド基。例えば、Ｎ−スクシンイミド基、及び、Ｎ−フタルイミド基）、

ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、及び、メチルフェノキシホスフィノ基）、

ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、及び、ジエトキシホスフィニル基）、

ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、及び、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、

ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、及び、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、並びに、

シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシリル基。例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、及び、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。

上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、官能基中の水素原子の部分が、上記いずれかの基で置換されていてもよい。置換基として導入可能な官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、及び、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、より具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、及び、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

［組成物］

本発明の組成物は、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する化合物Ｘと、溶剤と、を含む。

化合物Ｘは、例えば高屈折率材料である。

上記化合物Ｘは、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する。この一般式（Ｉ）で表される化合物は、その構造に起因して分子の捩れが小さく、且つ分極率が高いため、結果として、上記一般式（Ｉ）で表される化合物から誘導される残基を含む化合物Ｘは、高い屈折率を示す。

また、化合物Ｘを含む組成物により形成される膜は、化合物Ｘ同士が優れた相溶性を示すため、透明性に優れており（言い換えると、凝集による白濁が生じにくく）、更に化合物Ｘ同士が優れた分子間相互作用を示すため、耐熱性にも優れている。このため、化合物Ｘを含む組成物により形成された膜は、加熱後であっても高い透明性を示し、更に加熱による亀裂が抑制されるため外観特性にも優れる。

以下に、上記組成物中に含まれる各成分について詳述する。

〔化合物Ｘ〕

上記組成物は、化合物Ｘを含む。

上記化合物Ｘは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する化合物である。

以下、一般式（Ｉ）で表される化合物について詳述する。

＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞

一般式（Ｉ）中、Ａ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、又は−ＣＯ−を表す。

上記Ａ¹としては、上記組成物により形成される膜が、屈折率、透明性、及び耐熱性からなる群のいずれか１つ以上の効果がより優れる（以下「本発明の効果がより優れる」ともいう。）点で、単結合、−Ｏ−、又は−Ｓ−が好ましく、単結合がより好ましい。

Ｂ¹は、単結合、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ₂−、又は−ＮＨ−を表す。

上記Ｂ¹としては、上記組成物により形成される膜が本発明の効果がより優れる点で、単結合、又は−ＣＯ−が好ましい。

Ｃ¹は、下記一般式（ＩＩ）で表される基、又はヘテロ環基を表す。

一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹は、１価の置換基を表す。

Ｄ¹で表される１価の置換基としては特に制限されず、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられ、なかでも、屈折率がより高くなる点で、例えば、共役二重結合を有する基（例えば、アリール基が挙げられる。アリール基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、置換基群Ｔに例示された基が挙げられるが、なかでもフェニル基が好ましい。）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子）、シアノ基、アルキル基（炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。）、アルコキシ基（炭素数１〜１５のアルコキシ基が好ましい。）、メルカプト基、又は−ＳＲ¹¹（Ｒ¹¹としては、炭素数１〜１５のアルキル基及び炭素数６〜２０のアリール基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。上記アルキル基及びアリール基は、更に置換基（置換基としては、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられる。）を有していてもよい。））が好ましい。

Ｄ¹で表される１価の置換基としては、なかでも、共役二重結合を有する基、ハロゲン原子、シアノ基、又は−ＳＲ¹¹がより好ましく、フェニル基、ビフェニル基、シアノ基、又は−ＳＲ¹¹が特に好ましい。

ｎ¹は、０〜４の整数を表す。

ｎ¹としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１〜４が好ましく、１又は２が更に好ましい。

＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。

一般式（ＩＩ）中、ｎ¹が１以上である場合、屈折率がより高くなる点で、Ｄ¹の置換位置の少なくとも１つは、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置に対してパラ位であることが好ましい。

なお、一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹が複数存在する場合、複数のＤ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。

複数のＤ¹同士が互いに結合して形成する環としては、芳香環（芳香族炭化水素環、又は芳香族複素環）、及び非芳香環が挙げられる。また、ヘテロ原子を含んでいてもよい。

芳香環としては、例えば、ベンゼン環が挙げられる。

上記一般式（ＩＩ）で表される基は、本発明の効果がより優れる点で、なかでも、下記一般式（ＩＩＩ）で表される基、又は下記一般式（ＩＶ）で表される基が好ましい。

一般式（ＩＩＩ）中、Ｄ²は、１価の置換基を表す。

Ｄ²で表される１価の置換基としては特に制限されず、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられ、なかでも、屈折率がより高くなる点で、例えば、共役二重結合を有する基（例えば、アリール基が挙げられる。アリール基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、置換基群Ｔに例示された基が挙げられるが、なかでもフェニル基が好ましい。）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子）、シアノ基、アルキル基（炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。）、アルコキシ基（炭素数１〜１５のアルコキシ基が好ましい。）、メルカプト基、又は−ＳＲ¹¹（Ｒ¹¹としては、炭素数１〜１５のアルキル基及び炭素数６〜２０のアリール基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。上記アルキル基及びアリール基は、更に置換基（置換基としては、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられる。）を有していてもよい。）が好ましい。

Ｄ¹で表される１価の置換基としては、なかでも、共役二重結合を有する基、ハロゲン原子、シアノ基、又は−ＳＲ¹¹、がより好ましく、フェニル基、ビフェニル基、シアノ基、又は−ＳＲ¹¹が特に好ましい。

ｎ²は、１〜４の整数を表す。

ｎ²としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１又は２が好ましい。

ｎ³は、０〜５の整数を表す。

ｎ³としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０〜３が好ましく、１又は２がより好ましい。

Ｅ¹は、１価の置換基を表す。

Ｅ¹で表される１価の置換基としては、上述したＤ¹で表される１価の置換基と同義であり、好適態様も同じである。

ｎ⁴は、０〜３の整数を表す。

ｎ⁴としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０又は１が好ましく、０がより好ましい。

但し、ｎ²＋ｎ⁴は、１〜４の整数である。

＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。

なお、一般式（ＩＩＩ）中、Ｄ²が複数存在する場合、複数のＤ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。

また、Ｅ¹が複数存在する場合、複数のＥ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。

また、複数のＥ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。

複数のＤ²同士及び複数のＥ¹同士が互いに結合して形成する環としては、芳香環（芳香族炭化水素環、又は芳香族複素環）、及び非芳香環が挙げられる。また、ヘテロ原子を含んでいてもよい。

芳香環としては、例えば、ベンゼン環が挙げられる。

屈折率がより高くなる点で、一般式（ＩＩＩ）中、Ｅ¹が置換し得るベンゼン環において、Ｄ²が置換し得るベンゼン環の結合位置は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置に対してパラ位であることが好ましい。

また、屈折率がより高くなる点で、一般式（ＩＩＩ）中、ｎ³が１以上である場合、Ｄ²の置換位置の少なくとも１つは、Ｅ¹が置換し得るベンゼン環との連結位置に対してパラ位であることが好ましい。

一般式（ＩＩＩ）で表される基としては、本発明の効果がより優れる点で、下記一般式（ＩＩＩ−１）で表される基が好ましい。

一般式（ＩＩＩ−１）中、Ｄ²、Ｅ¹、ｎ³、ｎ⁴、及び＊は、一般式（ＩＩＩ）中のＤ²、Ｅ¹、ｎ³、ｎ⁴、及び＊と各々同義であり、好適態様も同じである。

屈折率がより高くなる点で、一般式（ＩＩＩ−１）中、ｎ³が１以上である場合、Ｄ²の置換位置の少なくとも１つは、Ｅ¹が置換し得るベンゼン環との連結位置に対してパラ位であることが好ましい。

一般式（ＩＶ）中、Ｄ³は、シアノ基、又は−ＳＲ¹¹を表す。

Ｒ¹¹は、炭素数１〜１５のアルキル基、又は炭素数６〜２０のアリール基を表し、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。なお、上記アルキル基及びアリール基は、更に置換基（置換基としては、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられる。）を有していてもよい。

ｎ⁵は、１〜４の整数を表す。

ｎ⁵としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１又は２が好ましい。

Ｅ²は、１価の置換基を表す。

Ｅ²で表される１価の置換基としては、上述したＤ¹で表される１価の置換基と同義であり、好適態様も同じである。

ｎ⁶は、０〜３の整数を表す。

ｎ⁶としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０又は１が好ましく、０がより好ましい。

但し、ｎ⁵＋ｎ⁶は、１〜４の整数である。

＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。

なお、一般式（ＩＶ）中、Ｄ³が複数存在する場合、複数のＤ³は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ³同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また、Ｅ²が複数存在する場合、複数のＥ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＥ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。

屈折率がより高くなる点で、一般式（ＩＶ）中、Ｄ³の置換位置の少なくとも１つは、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置に対してパラ位であることが好ましい。

上記一般式（ＩＩ）中、Ｃ¹で表されるヘテロ環基としては特に制限されないが、例えば、脂肪族ヘテロ環基、及び芳香族ヘテロ環基が挙げられる。

上記脂肪族ヘテロ環基を形成する脂肪族ヘテロ環としては、５員環、６員環若しくは７員環、又は、その縮合環が挙げられる。また、上記芳香族ヘテロ環基を形成する芳香族ヘテロ環としては、５員環、６員環若しくは７員環、又はその縮合環が挙げられる。なお、上記縮合環においては、ベンゼン環等のヘテロ環基以外の環が含まれていてもよい。

上記脂肪族ヘテロ環基が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子が挙げられる。脂肪族ヘテロ環の炭素数は特に制限されないが、３〜２０が好ましい。

上記脂肪族ヘテロ環の具体例としては、特に制限されないが、例えば、オキソラン環、オキサン環、ピぺリジン環、及びピペラジン環等が挙げられる。なお、上記脂肪族ヘテロ環は、環上の水素原子が１つ除かれることにより、脂肪族ヘテロ環基を構成する。

上記芳香族ヘテロ環基が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子が挙げられる。芳香族ヘテロ環基の炭素数は特に制限されないが、３〜２０が好ましい。

上記芳香族ヘテロ環の具体例としては特に制限されないが、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、ナフチリジン環、プリン環、及びプテリジン環等が挙げられる。なお、上記芳香族ヘテロ環は、環上の水素原子が１つ除かれることにより、芳香族ヘテロ環基を構成する。

Ｃ¹で表されるヘテロ環基としては、本発明の効果がより優れる点で、芳香族ヘテロ環基が好ましい。

Ｃ¹としては、なかでも、本発明の効果がより優れる点で、一般式（ＩＩ）で表される基が好ましく、一般式（ＩＩＩ）で表される基、又は一般式（ＩＶ）で表される基がより好ましい。

また、一般式（Ｉ）で表される化合物において、後述するｍ¹が２〜４の整数を表す場合（言い換えると、一般式（Ｉ）で表される化合物中の−Ｂ¹−Ｃ¹で表される基が２〜４個である場合）、本発明の効果がより優れる点で、Ｃ¹の１個以上が一般式（ＩＩＩ）で表される基及び一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基であることが好ましく、Ｃ¹の２個以上が一般式（ＩＩＩ）で表される基及び一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基であることがより好ましい。

Ｒ¹は、水素原子、又は、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基を表す。

Ｒ¹で表されるヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、炭素数１〜２０が好ましく、炭素数１〜１５がより好ましく、炭素数１〜１０が更に好ましく、炭素数１〜６が特に好ましい。

また、ヘテロ原子の種類は特に制限されないが、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子等が挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、−Ｙ¹−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｃ（＝Ｙ²）−、−ＣＯＮ（Ｒｂ）−、−Ｃ（＝Ｙ³）Ｙ⁴−、−ＳＯｔ−、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒｃ）−、又はこれらを組み合わせた基の態様で含まれることが好ましい。

Ｙ¹〜Ｙ⁴は、各々独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。ｔは、１〜３の整数を表す。

上記Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃは、各々独立に、水素原子、又は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。

なお、上記アルキル基がヘテロ原子を含む場合、−ＣＨ₂−がヘテロ原子で置換される。

ｍ¹は、１〜４の整数を表す。

ｍ¹としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２〜４が好ましく、２がより好ましい。

なお、一般式（Ｉ）中、Ｂ¹が複数存在する場合、複数のＢ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、Ｃ¹が複数存在する場合、複数のＣ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。

また、一般式（Ｉ）で表される化合物は、本発明の効果がより優れる点で、下記一般式（ＩＡ）又は一般式（ＩＢ）に示す＊の位置に−Ｂ¹−Ｃ¹で表される基を少なくとも有していることが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（Ｖ）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｖ）中、Ｂ²は、単結合又は−ＣＯ−を表す。

ｍ²は、１〜４の整数を表し、本発明の効果がより優れる点で、２〜４が好ましく、２がより好ましい。

一般式（Ｖ）中、Ｒ¹は、一般式（Ｉ）中のＲ¹と同義であり、好適態様も同じである。

また、一般式（Ｖ）中、Ｄ²及びｎ³は、一般式（ＩＩＩ）中のＤ²及びｎ³と同義であり、好適態様も同じである。

なお、一般式（Ｖ）中、Ｂ²が複数存在する場合、複数のＢ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、Ｄ²が複数存在する場合、複数のＤ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。更に、複数のＤ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。

＜化合物Ｘ＞

上記化合物Ｘは、上記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基（以下「一般式（Ｉ）残基」ともいう。）を複数個有する化合物である。

化合物Ｘは、複数の一般式（Ｉ）残基同士が直接結合した構造であってもよいし、複数の一般式（Ｉ）残基が連結基を介して結合した構造であってもよい。また、化合物Ｘ中に存在する複数の一般式（Ｉ）残基は、各々同一であっても、異なっていてもよい。

化合物Ｘ中、一般式（Ｉ）残基の数は、特に制限されないが、２〜１００００個が好ましい。

化合物Ｘの分子量（分子量分布を有する場合には重量平均分子量）は特に制限されないが、例えば、４５０〜５００，０００であり、４５０〜２０，０００が好ましく、４５０〜１５，０００がより好ましい。なお、化合物Ｘが分子量分布を有する場合、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣによるポリスチレン換算値として定義される。

以下に、まず、一般式（Ｉ）残基について説明する。

一般式（Ｉ）残基は、上述したとおり、上記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除くことにより形成される基である。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物から上記一般式（Ｉ）残基を形成するために除かれる水素原子の位置は特に制限されないが、上記一般式（Ｉ）中のＲ¹（但し、Ｒ¹が水素原子を有する場合に限る。）、Ｃ¹（但し、Ｃ¹が水素原子を有する場合に限る。）、及び一般式（Ｉ）中に明示されるベンゼン環上の水素原子からなる群より選ばれる位置が好ましい。

なかでも、上記一般式（Ｉ）残基が１価である場合、一般式（Ｉ）残基は、上記一般式（Ｉ）中のＲ¹（但し、Ｒ¹が水素原子を有する場合に限る。）の水素原子を除くことにより形成される基であることがより好ましい。

また、上記一般式（Ｉ）残基が２価である場合、一般式（Ｉ）残基は、上記一般式（Ｉ）中のＣ¹（但し、Ｃ¹が水素原子を有する場合に限る。）及び一般式（Ｉ）中に明示されるベンゼン環上の水素原子を１つずつ除くことにより形成される基であることがより好ましい。

但し、Ｒ¹が水素原子を表し、且つ、上記一般式（Ｉ）残基が、上記水素原子（すなわちＲ¹が表す水素原子）を除いて形成された場合、上記一般式（Ｉ）残基は芳香族炭化水素環とは連結しない。

化合物Ｘとしては、本発明の効果がより優れる点で、下記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物、下記一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物、及び下記一般式（Ｄ）で表される化合物からなる群より選ばれる１種以上であることが好ましい。

なお、下記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物、及び下記一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物は、オリゴマー及びポリマーのいずれの形態であってもよい。

下記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物がオリゴマーの形態である場合、化合物中における一般式（Ａ）で表される繰り返し単位の数は３以上が好ましく、５以上がより好ましい。なお、その上限値は特に制限されないが、例えば２０である。なお、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物及び下記一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物がオリゴマーの形態である場合についても同様である。

また、下記一般式（Ｄ）で表される化合物は、後述するように、オリゴマー又はポリマーの形態であってもよい。

以下、各々の化合物について説明する。

（一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物）

一般式（Ａ）中、Ｘ¹は、重合して形成される連結基を表す。

本明細書において「重合して形成される連結基」とは、重合反応で形成される主鎖に相当する繰り返し単位を形成する部分を意図する。

Ｘ¹としては、公知の重合可能なモノマーから形成される連結基が挙げられ、例えば、以下に示す（ＸＸ−１）〜（ＸＸ−２４）で表される連結基が好ましく、（ＸＸ−１）、（ＸＸ−２）、（ＸＸ−１０）〜（ＸＸ−１７）、又は（ＸＸ−２４）がより好ましい。

なお、以下に示す（ＸＸ−１）〜（ＸＸ−２４）中、＊は、Ｌ¹との連結位置を表す。

また、Ｍｅはメチル基を表し、（ＸＸ−１８）及び（ＸＸ−１９）中のＲは、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、又はフェニル基を表す。

Ｌ¹は、単結合又は２価の連結基を表す。

Ｌ¹で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、２価の炭化水素基（２価の脂肪族炭化水素基であっても、２価の芳香族炭化水素環基であってもよい。２価の脂肪族炭化水素基（直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれであってもよい。）としては、例えば、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基、及び炭素数２〜２０のアルキニレン基が挙げられる。また、２価の芳香族炭化水素環基としては、炭素数６〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ^A−、−ＣＯ−、及びこれらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^Aは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。

なお、上記複素環基としては、少なくとも１つの窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を環構造内に有する５〜７員環であることが好ましく、５〜６員環がより好ましい。また、上記複素環基としては、芳香族性及び非芳香族性のいずれであってもよい。

上述した２価の連結基は、更に置換されていてもよい。置換基としては特に制限されないが、上記置換基群Ｔで例示されるものが挙げられる。

Ｗは、一般式（Ｉ）残基を表し、具体的には、上記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。

≪その他の繰り返し単位≫

上記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物は、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位以外のその他の繰り返し単位を含んでいてもよい。

上記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物が含み得るその他の繰り返し単位としては特に制限されず、例えば下記一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位が好ましい。

上記一般式（Ｐ）中、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｃは、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表す。

Ｒ^ａ〜Ｒ^ｃで表される１価の置換基としては特に制限されず、例えば、上述した置換基群Ｔで例示された基が挙げられ、なかでも炭素数１〜１０（好ましくは炭素数１〜６）のアルキル基が好ましい。

Ｌ^ａは、単結合又は２価の連結基を表す。

Ｌ^ａで表される２価の連結基としては、上述した一般式（Ａ）中のＬ¹と同義であり、好適態様も同じである。

Ｌ^ａとしては、単結合、又は、−Ｏ−、−ＮＲ^A−、及び−ＣＯ−からなる群より選ばれる１種又は２種以上組み合わせた基が好ましい。ここで、Ｒ^Aは、水素原子、又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。

Ｙ^ａは、１価の置換基を表す。

Ｙ^ａで表される１価の置換基としては特に制限されないが、膜の基板密着性がより優れる点で、酸基（例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、及びリン酸基等）又はヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基を表すことが好ましい。なお、ヘテロ原子を含むアルキル基としては、一般式（Ｉ）中のＲ¹と同義であり、好適態様も同じである。

上記Ｙ^aは、上記Ｙ^ｂと互いに結合して結合して、一般式（Ｐ）に明示される主鎖中の２つの炭素原子と共に環を形成してもよい。上記環の環員数としては特に制限されないが、５〜６員であることが好ましい。

上記一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位としては、なかでも、膜の基板密着性がより優れる点で、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、及びイタコン酸等に由来する繰り返し単位、（メタ）アクリレートモノマー（例えば、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ ≒ ２）モノアクリレート、及び２−メタクリロイロキシエチルフタル酸等）に由来する繰り返し単位、又は（メタ）アクリルアミド系モノマーに由来する繰り返し単位であることが好ましい。

一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物中、全繰り返し単位に対する、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位の含有量は、例えば、３０モル％以上であり、５０モル％以上が好ましく、７０モル％以上がより好ましく、８０モル％以上が更に好ましい。また、その上限は、例えば１００モル％以下である。

一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物が一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位を含む場合、全繰り返し単位に対する、一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位の含有量は、例えば、５モル％以上であり、１０モル％以上が好ましい。また、その上限は、例えば４０モル％以下であり、３０モル％以下が好ましい。

一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物において、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位は、１種以上含まれていても、２種以上含まれていてもよい。また、一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位は、１種以上含まれていても、２種以上含まれていてもよい。

一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物は、公知の手法に準じて合成することができる。

（一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物）

一般式（Ｂ）中、Ｘ²、Ｌ²、及びＷは、一般式（Ａ）中のＸ¹、Ｌ¹、及びＷと各々同義であり、好適態様も同じである。

Ｙ²は、イオン性構造部位を表す。

イオン性構造部位とは、陰イオン性基と陽イオン性基とがイオン結合により塩構造を形成した部位（＊−（Ｍ^ｎ−）（Ｎ^ｎ＋）−＊：Ｍ^ｎ−は陰イオン性基を表し、Ｎ^ｎ＋は陽イオン性基を表し、ｎは価数を表し、＊は、Ｌ²又はＷとの結合位置を表す。）を意図する。

陰イオン性基としては、例えば、スルホン酸基（−ＳＯ₃ ⁻）、カルボン酸基（−ＣＯ₃ ⁻）、リン酸基（−ＰＯ₄ ^3-）、イミド基（−ＳＯ₂Ｎ⁻ＳＯ₂−Ｒ^X、−ＣＯＮ⁻ＣＯ−Ｒ^Y、−ＣＯＮ⁻ＳＯ₂−Ｒ^Z、又は−ＳＯ₂Ｎ⁻ＣＯ−Ｒ^Z）等が挙げられる。なお、上記Ｒ^X、Ｒ^Y、及びＲ^Zは、各々独立に、１価の置換基を表す。上記Ｒ^X、Ｒ^Y、及びＲ^Zで表される１価の置換基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が挙げられる。上記アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔで例示した基が挙げられ、ハロゲン原子が好ましい。

）を有していてもよい。Ｒ^X、Ｒ^Y、及びＲ^Zとしては、なかでも、炭素数１〜１５のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基がより好ましい。

陽イオン性基としては、例えば、４級アンモニウム基、及び４級ホスホニウム基等が挙げられる。

イオン性構造部位としては、なかでも、下記一般式（Ｂ１）〜一般式（Ｂ４）で表される構造部位であることが好ましい。

一般式（Ｂ１）及び一般式（Ｂ３）中、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰³は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表す。

Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰³で表される１価の置換基としては特に制限されないが、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。）が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましい。また、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰³のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内にヘテロ原子を含んでいてもよい。

一般式（Ｂ２）及び一般式（Ｂ４）中、Ｒ²⁰¹〜Ｒ²⁰³は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表す。

Ｒ²⁰¹〜Ｒ²⁰³で表される１価の置換基としては特に制限されないが、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基（直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。）が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましい。また、Ｒ²⁰¹〜Ｒ²⁰³のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内にヘテロ原子を含んでいてもよい。

一般式（Ｂ３）及び一般式（Ｂ４）中、Ｒ^Xは、１価の置換基を表す。

上記Ｒ^Xで表される１価の置換基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が挙げられる。上記アルキル基は、更に置換基（例えば、置換基群Ｔで例示した基が挙げられ、ハロゲン原子が好ましい。）を有していてもよい。Ｒ^Xとしては、なかでも、炭素数１〜１５のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基がより好ましい。

一般式（Ｂ１）〜（Ｂ４）中、＊は、Ｌ²又はＷとの結合位置を表す。

≪その他の繰り返し単位≫

上記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物は、一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位以外のその他の繰り返し単位を含んでいてもよい。

上記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物が含み得るその他の繰り返し単位としては特に制限されず、例えば、上述した一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位が好ましい。

一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物中、全繰り返し単位に対する、一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位の含有量は、例えば、３０モル％以上であり、５０モル％以上が好ましく、７０モル％以上がより好ましく、８０モル％以上が更に好ましい。また、その上限は、例えば１００モル％以下である。

一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物が一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位を含む場合、全繰り返し単位に対する、一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位の含有量は、例えば、５モル％以上であり、１０モル％以上が好ましい。また、その上限は、例えば４０モル％以下であり、３０モル％以下が好ましい。

一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物中、一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位は、１種以上含まれていても、２種以上含まれていてもよい。また、一般式（Ｐ）で表される繰り返し単位は、１種以上含まれていても、２種以上含まれていてもよい。

一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物は、公知の手法に準じて合成することができる。

（一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物）

一般式（Ｃ）中、Ｗは、一般式（Ｉ）残基を表し、具体的には、上記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を２つ除いて形成される残基を表す。

Ｌ³は、２価の連結基を表す。

Ｌ³で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、上述した一般式（Ａ）のＬ¹で例示した２価の連結基、及び、下記一般式（Ｃ１）で表される２価の連結基等が挙げられる。

一般式（Ｃ１）中、Ａｒ²⁰¹及びＡｒ²⁰²は、各々独立に、芳香環基を表す。

芳香環基としては、芳香族炭化水素基及び芳香族ヘテロ環基が挙げられる。

芳香族炭化水素基を構成する環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ピレン環、ナフタセン環、ビフェニル環（２個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい）、及びターフェニル環（３個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい）等が挙げられる。

芳香族ヘテロ環基としては、上述した一般式（Ｉ）中のＣ¹で表される芳香族ヘテロ環基と同義であり、好適態様も同じである。

なお、上記芳香環基は、置換基を有していてもよい。

Ａｒ²⁰¹及びＡｒ²⁰²で表される芳香環基は、本発明の効果がより優れる点で、各々独立に、芳香族炭化水素環基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａｒ²⁰³及びＡｒ²⁰⁴は、各々、一般式（Ｃ１）中の２つの炭素原子を含む形で芳香環を構成する。上記芳香環としては、Ａｒ²⁰¹及びＡｒ²⁰²で表される芳香環基を構成する芳香環として例示したものが挙げられる。なお、上記芳香環は、置換基を有していてもよい。

Ａｒ²⁰³及びＡｒ²⁰⁴で表される芳香環は、本発明の効果がより優れる点で、各々独立に、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。

Ｌ²⁰¹及びＬ²⁰²で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、上述した一般式（Ａ）のＬ¹で例示した２価の連結基が挙げられる。

一般式（Ｃ）中、Ｌ⁴は、単結合、又は２価の連結基を表す。

Ｌ⁴で表される２価の連結基としては、上述した一般式（Ｃ）中のＬ³で表される２価の連結基と同義であり、好適態様も同じである。なお、一般式（Ｃ）中、Ｌ³とＬ⁴がいずれも２価の連結基を表す場合、Ｌ³とＬ⁴は同一であっても異なっていてもよい。

＊は、結合位置を表す。

一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物は、公知の手法に準じて合成することができる。

（一般式（Ｄ）で表される化合物）

一般式（Ｄ）中、Ｗは、一般式（Ａ）中のＷと同義であり、好適態様も同じである。

一般式（Ｄ）中、Ｌ⁵は、ｐ＋ｑ価の連結基を表す。

ｐは、０〜１００の整数を表す。ｐとしては、本発明の効果がより優れる点で、１〜５０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜４が更に好ましく、１〜３が特に好ましい。

ｑは、２〜１００の整数を表す。ｑとしては、本発明の効果がより優れる点で、２〜５０が好ましく、２〜１０がより好ましく、２〜４が更に好ましく、２〜３が特に好ましい。

ｐ＋ｑとしては、本発明の効果がより優れる点で、３〜１００が好ましく、３〜２０がより好ましく、３〜１０が更に好ましく、３〜６が特に好ましい。

Ｌ⁵で表される連結基としては特に制限されないが、例えば下記に示す連結基が挙げられる。なお、以下においては、Ｌ⁵が２価の連結基である場合と、３価以上の連結基である場合とに分けて説明する。

（２価の連結基）

Ｌ⁵で表される２価の連結基は特に制限されないが、例えば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基であっても、２価の芳香族炭化水素環基であってもよい。２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、例えば、アルキレン基が挙げられる。また、２価の芳香族炭化水素環基としては、炭素数６〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、アルケニレン基（好ましくは炭素数２〜２０）、アルキニレン基（好ましくは炭素数２〜２０）であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ^A−、−ＣＯ−、及びこれらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。ここで、Ｒ^Aは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、アシル基（好ましくは炭素数２〜１２）、アリール基（好ましくは炭素数１〜１６）、又はヘテロアリール基（好ましくは炭素数２〜１３）を表す。

なお、上記複素環及びヘテロアリール基としては、少なくとも１つの窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を環構造内に有する５〜７員環であることが好ましく、５〜６員環がより好ましい。

上述した２価の連結基は、更に置換されていてもよい。置換基としては特に制限されないが、上記置換基群Ｔで例示されるものが挙げられる。

（３価以上の連結基）

Ｌ⁵で表される３価以上の連結基は特に制限されないが、例えば、炭素原子、珪素原子、窒素原子、ｐ＋ｑ価（但し、この場合、ｐ＋ｑは３以上の整数である。）の脂肪族炭化水素環、ｐ＋ｑ価の芳香族炭化水素環、又はｐ＋ｑ価の複素環が挙げられる。

上記脂肪族炭化水素環に含まれる炭素数は、３〜１５が好ましく、３〜１０がより好ましく、５〜１０が更に好ましい。

上記芳香族炭化水素環に含まれる炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１４がより好ましく、６〜１０が更に好ましい。

上記複素環としては、少なくとも１つの窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を環構造内に有する５〜７員環であることが好ましく、５〜６員環がより好ましい。

Ｌ⁵で表される３価以上の連結基としては、例えば、下記式（Ｍ１）〜式（Ｍ１０）で表される基が挙げられる。

なお、下記式（Ｍ１）〜式（Ｍ１１）中、Ｌ³⁰¹〜Ｌ³⁴³は、各々独立に、単結合、又は２価の連結基を表す。Ｌ³⁰¹〜Ｌ³⁴³で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、上述したＬ⁵で表される２価の連結基と同様のものが挙げられる。

Ｒ^Bは、１価の置換基を表す。Ｒ^Bで表される１価の置換基としては特に制限されないが、例えば、上述した置換基群Ｔに例示されるものが挙げられる。

ｒは、１〜２０の整数を表し、１〜３の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。

＊は、上述したＺ又はＷとの連結位置を表す。

Ｚは、繰り返し単位を含む１価の置換基を表す。

Ｚで表される繰り返し単位を含む１価の置換基としては、膜の基板密着性がより優れる点で、ビニル系繰り返し単位を含む１価の置換基、エステル系繰り返し単位を含む１価の置換基、エーテル系繰り返し単位を含む１価の置換基、ウレタン系繰り返し単位を含む１価の置換基、又は、アミド系繰り返し単位を含む１価の置換基等が挙げられるが、膜の基板密着性がより優れる点で、ビニル系繰り返し単位を含む１価の置換基が好ましく、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、及びイタコン酸等のモノマーに由来する繰り返し単位、（メタ）アクリレートモノマー（例えば、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ ≒ ２）モノアクリレート、及び２−メタクリロイロキシエチルフタル酸等）に由来する繰り返し単位、並びに（メタ）アクリルアミド系モノマーに由来する繰り返し単位からなる群より選ばれる１種以上を含む１価の置換基がより好ましい。

なお、一般式（Ｄ）で表される化合物は、オリゴマー又はポリマーの形態であってもよい。一般式（Ｄ）で表される化合物がＺで表される繰り返し単位を含む１価の置換基を有するオリゴマーである場合、Ｚ中に含まれる繰り返し単位数は例えば、３〜２０である。

以下に、化合物Ｘの具体例を示すが、本発明はこれに制限されるものではない。

なお、下記具体例において、ａ及びｂは、各々の基の個数を表し、ａ＋ｂ＝６である。また、＊は任意の＃との結合位置を表す。

上記組成物中、化合物Ｘは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

上記組成物中、化合物Ｘの含有量（複数種存在する場合はその合計）は、組成物の全固形分に対して、一般的に８０．０質量％以上の場合が多く、８５．０質量％以上が好ましく、９０．０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９質量％以下が好ましく、９９．５質量％以下がより好ましい。

〔溶媒〕

上記組成物は、溶媒を含む。

上記溶媒としては、例えば、エチルセロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、γ−ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸シクロヘキシル等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、３−メトキシプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、及びジエチレングリコールジエチルエーテル等のアルコール類；ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン、トルエン、及びアニソール等の芳香族炭化水素類；シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、シクロペンタノン、及びジアセトンアルコール等のケトン類；エチレンジクロライド等のハロゲン化合物；シクロヘキシルメチルエーテル、及びジブチルエーテル等のエーテル類；３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、及び３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド等のアミド類；等が挙げられる。

なお、上記溶媒の詳細は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。ただし、上記溶媒としての芳香族炭化水素類は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、溶媒全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。

上記組成物中、上記溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明において、金属含有量の少ない溶媒を用いることが好ましく、溶媒の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶媒を用いてもよく、そのような高純度溶媒は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

溶媒から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留、及び薄膜蒸留等）、又は、フィルタを用いたろ過が挙げられる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレン、又はナイロンが好ましい。

溶媒は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

本発明において、溶媒は、過酸化物の含有量が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

溶媒の含有量は、組成物の固形分濃度が１．０〜９０質量％となる量が好ましく、組成物の固形分濃度が１〜５０質量％となる量がより好ましく、組成物の固形分濃度が５．０〜３０質量％となる量が更に好ましく、５．０〜２０質量％となる量が特に好ましい。

なお、組成物の固形分濃度とは、組成物全質量に対する全固形分の濃度を意図する（つまり、組成物中における、膜を形成する成分の濃度を意図する）。なお、全固形分の定義については、上述した通りである。

〔その他成分〕

上記組成物は、上述した成分以外のその他の成分を含んでもよい。その他の成分としては、硬化性化合物（重合性化合物を含む。）、重合開始剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、充填材（例えば、無機粒子）、硬化促進剤、可塑剤、低分子量有機カルボン酸等の現像性向上剤、及び凝集防止剤等の各種添加剤が挙げられる。

＜硬化性化合物＞

上記組成物は、硬化性化合物を含むことが好ましい。

硬化性化合物としては、ラジカル、酸、又は、熱により硬化可能な公知の化合物を使用できる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、並びに、メチロール基及びチオール基等の反応性基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロイル基、及び（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。硬化性化合物は、重合性化合物であることが好ましく、ラジカル重合性化合物であることがより好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物等が挙げられる。

硬化性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対し、１〜８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、４質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。

上記組成物中、硬化性化合物は、１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、硬化性化合物を２種以上含む場合、合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

・エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（重合性化合物）

本発明において、硬化性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（以下、重合性化合物ともいう）を使用できる。重合性化合物は、モノマーであることが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００〜３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。重合性化合物は、３〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。

重合性化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３４〜００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ−４６０；東亞合成（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ−ＴＭＭＴ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）等が挙げられる。

重合性化合物は、カルボキシ基、スルホ基、及びリン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル等が挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基をもたせた重合性化合物が好ましく、より好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成（株）製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、及びＭ−５２０等が挙げられる。

酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に制限されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、及びトリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げられる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００４２〜００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、及びＤＰＣＡ−１２０等、並びに、サートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、及び、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０等が挙げられる。

重合性化合物としては、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、及び特公平２−１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類、並びに、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、及び特公昭６２−３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、及び特開平１−１０５２３８号公報に記載されている、分子内にアミノ構造及び／又はスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を使用できる。市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、及びＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬（株）製）、並びに、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、及びＡＩ−６００（共栄社化学（株）製）等が挙げられる。

・エポキシ基を有する化合物

硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物は、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、１分子内にエポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は１分子内に１〜１００個有することが好ましい。上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／当量以下であることが好ましく、１００〜４００ｇ／当量であることがより好ましく、１００〜３００ｇ／当量であることが更に好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００〜１０００００が好ましく、５００〜５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下がより好ましく、５０００以下が更に好ましく、３０００以下が特に好ましい。

エポキシ基を有する化合物は、市販品を用いることもできる。例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、及びＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。また、エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３−０１１８６９号公報の段落番号００３４〜００３６、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０１４７〜０１５６、及び特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８５〜００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。

＜重合開始剤＞

上記組成物は、重合開始剤を含んでいてもよく、光重合開始剤を含むことが好ましい。

光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択できる。例えば、光重合開始剤は、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、及びオキサジアゾール骨格を有する化合物等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、並びに、ヒドロキシアセトフェノン等が挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物、及び３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましく、オキシム化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、及びアシルホスフィン化合物からなる群より選択される化合物がより好ましい。得られる膜がより優れる点で、なかでも、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４−１３０１７３号公報の段落番号００６５〜０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

光重合開始剤としては、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に使用できる。例えば、特開平１０−２９１９６９号公報に記載のα−アミノケトン化合物、及び、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン化合物も使用できる。α−ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。α−アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９、及びＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（（株）ＡＤＥＫＡ製）、並びに、アデカオプトマーＮ−１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２−１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）等が挙げられる。

本発明においては、光重合開始剤としてフルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４−１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

本発明においては、光重合開始剤としてフッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、及び、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）等が挙げられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。

本発明においては、光重合開始剤としてニトロ基を有するオキシム化合物を使用できる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落番号００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号０００８〜００１２及び００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７〜００２５に記載されている化合物、並びに、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。

オキシム化合物は、３５０〜５００ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物が好ましく、３６０〜４８０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。

オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１,０００〜３００，０００であることが好ましく、２,０００〜３００，０００であることがより好ましく、５,０００〜２００，０００であることが更に好ましい。

化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定できる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

光重合開始剤は、オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α−アミノケトン化合物を５０〜６００質量部含むことが好ましく、１５０〜４００質量部がより好ましい。

重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が更に好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。

重合開始剤の含有量が上記範囲の場合、感度により優れ、且つ、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。上記組成物は、重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。上記組成物が、重合開始剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

（酸化防止剤）

上記組成物は、酸化防止剤を含んでもよい。

酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、及びチオエーテル化合物等が挙げられる。酸化防止剤としては、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物、又は分子量５００以上のチオエーテル化合物が好ましい。これらは２種以上を混合して使用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができ、多置換フェノール系化合物が好ましい。多置換フェノール系化合物は、大きく分けてその置換位置及び構造の異なる３種類（ヒンダードタイプ、セミヒンダードタイプ、及びレスヒンダードタイプ）がある。また、酸化防止剤としては、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物が好ましく用いられる。また、酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤も好ましく用いられる。酸化防止剤は市販品を用いることもできる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ ＡＯ−２０、アデカスタブ ＡＯ−３０、アデカスタブ ＡＯ−４０、アデカスタブ ＡＯ−５０、アデカスタブ ＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ−６０、アデカスタブ ＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ−８０、及びアデカスタブ ＡＯ−３３０（（株）ＡＤＥＫＡ）等が挙げられる。また、酸化防止剤としては、特開２０１４−０３２３８０号公報の段落番号００３３〜００４３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．３〜１５質量％がより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、酸化防止剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

（シランカップリング剤）

上記組成物は、シランカップリング剤を含んでもよい。

本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。

加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、及びアシルオキシ基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂との間で相互作用若しくは結合を形成して親和性を示す基が好ましい。例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、及びフェニル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又はエポキシ基が好ましい。

シランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。また、シランカップリング剤としては、特開２００９−２８８７０３号公報の段落番号００１８〜００３６に記載の化合物、及び特開２００９−２４２６０４号公報の段落番号００５６〜００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤は市販品を用いることもできる。シランカップリング剤の市販品としては、信越シリコーン（株）製のＫＢＭ−１３、ＫＢＭ−２２、ＫＢＭ−１０３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＫＢＭ−３０３３、ＫＢＥ−３０３３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−３０８６、ＫＢＥ−３０６３、ＫＢＥ−３０８３、ＫＢＭ−３１０３、ＫＢＭ−７１０３、ＳＺ−３１、ＫＰＮ−３５０４、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−９６５９、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、Ｘ−４０−１０５３、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１８、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−５１３、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、ＫＲ−５１６、ＫＲ−５１７、Ｘ−４０−９２９６、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、ＫＲ−４０１Ｎ、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１３、Ｘ−４０−２３０８、及びＸ−４０−９２３８等が挙げられる。

シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜１５．０質量％が好ましく、０．０５〜１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、シランカップリング剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

＜重合禁止剤＞

上記組成物は、重合禁止剤を含んでもよい。

重合禁止剤は、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、及びＮ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、及び第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。

重合禁止剤の含有量は、重合開始剤１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．０１〜８質量部がより好ましく、０．０１〜５質量部が更に好ましい。

＜界面活性剤＞

上記組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含んでもよい。

界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及びシリコーン系界面活性剤等の各種界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８〜０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

上記組成物がフッ素系界面活性剤を含むことで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性及び省液性をより改善できる。フッ素系界面活性剤を含む組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に実施できる。

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５〜３０質量％であり、特に好ましくは７〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性及び省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号００６０〜００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、及び特開２０１１−１３２５０３号公報の段落番号０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、及び同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、及び同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ−３９３、及び同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、並びに、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及びＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含む官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含む官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられる。

フッ素系界面活性剤としては、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、又はプロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく使用できる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

上記の化合物の重量平均分子量は、例えば、３，０００〜５０，０００が好ましく、具体的には、１４，０００が挙げられる。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。

また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落番号００５０〜００９０及び段落番号０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、及びＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落番号００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、及びグリセロールエトキシレート等）等が挙げられる。また、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、及び２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、及び１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、及びＮＣＷ−１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ−６１１２、Ｄ−６１１２−Ｗ、及びＤ−６３１５（竹本油脂（株）製）、並びに、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、及び４４０（日信化学工業（株）製）等も挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤としては、ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤を用いることもできる。ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤としては、例えば、特開２０１６−２１６６０２号公報の実施例欄に記載されたもの（例えば、フッ素系界面活性剤（１））等が挙げられる。

界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０００１〜５．０質量％が好ましく、０．０００５〜３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、界面活性剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

＜紫外線吸収剤＞

上記組成物は、紫外線吸収剤を含んでもよい。

紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、及びヒドロキシフェニルトリアジン化合物等が挙げられる。これらの詳細については、特開２０１２−２０８３７４号公報の段落番号００５２〜００７２、及び特開２０１３−６８８１４号公報の段落番号０３１７〜０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ−５０３（大東化学（株）製）等が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。

紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましく、０．１〜３質量％が更に好ましい。また、紫外線吸収剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。上記組成物が、紫外線吸収剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。

＜充填材＞

充填材としては、例えば無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、屈折率が高く、無色、白色又は透明な無機粒子が好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、又はマグネシウム（Ｍｇ）等の酸化物粒子が好ましく、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）粒子、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）粒子、又は二酸化珪素（ＳｉＯ₂）粒子がより好ましい。

無機粒子の一次粒子径は特に制限されず、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜８０ｎｍがより好ましく、１〜５０ｎｍが更に好ましい。無機粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、分散性がより優れると共に、屈折率及び透過率がより向上する。

無機粒子の屈折率は特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、１．７５〜２．７０が好ましく、１．９０〜２．７０がより好ましい。

無機粒子の比表面積は特に制限はないが、１０〜４００ｍ²／ｇが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇがより好ましく、３０〜１５０ｍ²／ｇが更に好ましい。

また、無機粒子の形状には特に制限はなく、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、及び不定形状等が挙げられる。

無機粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物としては、例えば、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤、及びチタネートカップリング剤が挙げられる。なかでも、ステアリン酸又はシランカップリング剤が好ましい。

また、無機粒子の表面は、耐候性がより向上する点で、アルミニウム、ケイ素、及びジルコニア等の酸化物により覆われていることも好ましい。

無機粒子としては、市販されているものを好ましく使用できる。

上記組成物中、無機粒子は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

＜硬化促進剤＞

上記組成物が、硬化性化合物として、カチオン重合性基を含む化合物（例えば、エポキシ基を有する化合物）を含む場合、組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。

硬化速度を向上させる硬化促進剤としては、酸無水物、塩基（脂肪族アミン、芳香族アミン、及び変性アミン等）、酸（スルホン酸、リン酸、及びカルボン酸等）、及びポリメルカプタン等が挙げられる。なかでも、酸無水物が好ましく、脂肪族酸無水物が更に好ましい。

〔組成物の調製方法〕

上記組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶媒に溶解又は分散した後に逐次配合してもよい。例えば、全成分を同時に溶媒に溶解又は分散して組成物を調製してもよい。また、粒子性を示す成分を溶媒及び樹脂中で分散させて組成物を調製し、得られた組成物と他の成分（例えば、化合物Ｘ及び硬化性化合物等）とを混合してもよい。

上記組成物が粒子性を示す成分を含む場合、組成物の調製方法において、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、及びキャビテーション等が挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、及び超音波分散等が挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくすること等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離等で粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセス及び分散機としては、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」及び「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５−１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用できる。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、及び処理条件等は、例えば特開２０１５−１９４５２１号公報、及び特開２０１２−０４６６２９号公報の記載を参酌できる。

上記組成物の調製にあたり、異物の除去及び欠陥の低減等の目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に制限されることなく使用できる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６、及びナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、並びに、ポリエチレン及びポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度及び／又は超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。

フィルタの孔径は、０．０１〜７．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜３．０μｍ程度がより好ましく、０．０５〜０．５μｍ程度が更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。

ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、及びグラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８等）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、及びＴＰＲ００５等）、及びＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３等）等のフィルタカートリッジが挙げられる。

フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタ等）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照できる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹ等）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）、及び株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択できる。第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用できる。また、第１のフィルタでのろ過は、樹脂、及び溶媒のみを混合した混合液に対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。

＜用途＞

上記組成物及び本発明の化合物（化合物Ｘ）の用途は特に制限されないが、例えば、固体撮像素子の高屈折部材（マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層及び隣接層等の透明膜、並びに、カラーフィルタのホワイトピクセル等）、レンズ（眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及びプリズムレンズ等）、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバ、光導波路、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）用封止材料、ＬＥＤ用平坦化材料、及び太陽光電池用コーティング材として有用である。

［膜］

本発明の膜は、上述した化合物Ｘを含む。

上記膜は、上述した組成物を用いて形成することができる。

ここで、上記「膜」は、塗布膜（未硬化の膜）、及び塗布膜を硬化して形成される硬化膜をいずれも意図している。つまり、例えば、上記膜が上述した組成物を用いて形成される場合、上述した組成物の塗布膜であってもよいし、塗布膜を硬化して形成される硬化膜であってもよい。なお、硬化膜は、組成物中に硬化性化合物が含まれる場合、上記組成物により形成される塗布膜に対して硬化処理を施すことによって得られる。

上記膜の屈折率（波長５８９ｎｍ）は特に制限されないが、１．５５以上であることが好ましく、１．６〜２．０であることがより好ましい。

上記膜の光透過率は特に制限されないが、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましく、１００％であることが更に好ましい。

上記膜の厚みは特に制限されないが、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．１〜１０μｍであることがより好ましく、０．５〜４μｍであることが更に好ましい。

上記組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱及び露光等が挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、及び加熱ドラム等を使用できる。露光に使用装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン（Ｘｅ）ランプ、ケミカルランプ、及びカーボンアーク灯等を使用できる。

上記膜中、化合物Ｘは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

上膜中、化合物Ｘの含有量（複数種存在する場合はその合計）は、膜に対して、一般的に８０．０質量％以上の場合が多く、８５．０質量％以上が好ましく、９０．０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９質量％以下が好ましく、９９．５質量％以下がより好ましい。

また、上記膜は、上述した成分以外のその他の成分を含んでもよい。その他の成分としては、バインダー成分、酸化防止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、充填材（例えば、無機粒子）、可塑剤、低分子量有機カルボン酸等の現像性向上剤、及び凝集防止剤等の各種添加剤が挙げられる。

〔パターン状硬化膜の製造方法〕

以下、硬化膜の製造方法の一例として、パターン状の硬化膜を製造する方法について詳述する。

パターン状の硬化膜の製造方法は、基板上に、上記組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する工程（以下、適宜「組成物層形成工程」と略称する。）と、上記組成物層を、マスクを介して露光する工程（以下、適宜「露光工程」と略称する。）と、露光後の組成物層を現像してパターン状の硬化膜を形成する工程（以下、適宜「現像工程」と略称する。）と、を含む。

なお、上記で使用される組成物には、通常、硬化性化合物及び光重合開始剤が含まれる。

具体的には、上記組成物を、直接又は他の層を介して基板上に塗布して、組成物層を形成し（組成物層形成工程）、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された組成物層部分だけを硬化させ（露光工程）、現像液で現像することによって（現像工程）、画素からなるパターン状の硬化膜を形成できる。

以下、各工程について説明する。

・組成物層形成工程

組成物層形成工程では、基板上に、上記組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する。

基板としては特に制限されず、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、及びこれらに透明導電膜を付着させたもの、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板（例えば、シリコン基板等）、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）基板、並びに、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）基板等が挙げられる。

基板上への上記組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、又はスクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用できる。

組成物の塗布膜厚としては、用途により適宜選択され得るが、例えば、０．１〜２０μｍであり、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．５〜４μｍが更に好ましい。

基板上に塗布された組成物は、通常、７０〜１１０℃で２〜４分程度の条件下で乾燥する。これにより、組成物層を形成できる。

・露光工程

露光工程では、組成物層形成工程において形成された組成物層（塗布膜）を、マスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。

露光は、活性光線又は放射線の照射により行うことが好ましく、特に、ｇ線、ｈ線、又はｉ線等の紫外線がより好ましい。照射強度は５〜１５００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましい。

・現像工程

露光工程に次いで、アルカリ現像処理（現像工程）を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分（光照射された塗布膜部分）だけが残る。

現像液としては、下地の回路等にダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０〜３０℃であり、現像時間は２０〜９０秒である。

アルカリ性の水溶液としては、例えば、無機系現像液及び有機系現像液が挙げられる。無機系現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、又は、メタ硅酸ナトリウムを、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。有機系現像液としては、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、又は、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール又はエタノール等の水溶性有機溶媒及び／又は界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）する。

現像方法としては、例えば、パドル現像方法又はシャワー現像方法等を使用できる。

［レンズ］

本発明の膜（好ましくは硬化膜）は、レンズとして使用することもできる。レンズとしては、なかでも、上述した固体撮像素子のマイクロレンズに好適に使用できる。

［固体撮像素子］

本発明の膜（好ましくは硬化膜）は、固体撮像素子に好適に適用できる。

本発明の固体撮像素子の構成としては、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有するとともに、カラーフィルタの下に本発明の膜である下塗り膜を備えた構成等が挙げられる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔合成例〕

＜合成例１：化合物（Ａ−１）の合成＞

化合物（ＩＭ−１）２４．０質量部、エチレンクロリド２００質量部、テトラブチルアンモニウムブロミド０．５２質量部、水酸化カリウム２８質量部、炭酸カリウム２２．１質量部の混合溶液を５０℃で８時間加熱した。冷却後、固体を濾過で除去し、ろ液を水２５質量部で２回洗浄した。得られた有機溶液をエバポレータ−で濃縮し、エタノール１２０質量部を添加し、室温で１時間撹拌した。析出した固体をろ取し、乾燥することで化合物（Ａ−１）を１７．５質量部得た。

＜合成例２：化合物（Ａ−２）の合成＞

化合物（ＩＭ−１）２４．０質量部、化合物（ＩＭ−２）２３．６質量部、トルエン２００質量部、テトラブチルアンモニウムブロミド０．５２質量部、５０質量％水酸化カリウム溶液５６質量部の混合溶液を８０℃で８時間加熱した。冷却後、有機層を水５０質量部で２回洗浄した。得られた有機溶液をエバポレータ−で濃縮し、エタノール１２０質量部を添加し、室温で１時間撹拌した。析出した固体をろ取し、乾燥することで化合物（Ａ−２）を２９．３質量部得た。

＜合成例３〜１７：化合物（Ａ−３）〜（Ａ−１７）の合成＞

合成例１の化合物（ＩＭ−１）を化合物（Ａ−３）〜（Ａ−１７）に対応する各原料に変更した以外は、合成例１と同様の操作を実施し、化合物（Ａ−３）〜（Ａ−１７）を得た。

以下に、化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１７）の構造を示す。

＜合成例１８〜２６：化合物（Ａ−１８）〜（Ａ−２６）の合成＞

合成例２の化合物（ＩＭ−１）及び化合物（ＩＭ−２）を化合物（Ａ−１８）〜（Ａ−２６）に対応する各原料に変更した以外は、合成例２と同様の操作を実施し、化合物（Ａ−１８）〜（Ａ−２６）を得た。なお、合成例１８、合成例２５、及び合成例２６は化合物（ＩＭ−２）を用い、合成例１９及び合成例２４は化合物（ＩＭ−３）、合成例２０及び合成例２３は化合物（ＩＭ−４）、合成例２１は（ＩＭ−５）、合成例２２は（ＩＭ−６）を用いた。

以下に、化合物（Ａ−１８）〜（Ａ−２６）、及び、化合物（Ａ−１８）〜（Ａ−２６）合成に際して使用される化合物（ＩＭ−２）〜（ＩＭ−６）の構造を示す。

＜合成例２７：化合物（Ｊ−１）の合成＞

窒素気流下、化合物（Ａ−１）５．０質量部及びシクロヘキサノン４５質量部からなる混合液を１１０℃に加熱した。次に、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）０．１質量部を添加し、２時間加熱した。さらに２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）０．１質量部を添加し、２時間加熱した後、室温まで冷却した。この溶液をメタノール２００質量部に添加し、固体をろ取し、乾燥することで化合物（Ｊ−１）を４．９質量部得た。

＜合成例２８〜５４：化合物（Ｊ−２）〜（Ｊ−２８）の合成＞

以下に示す第１表に記載される重合モノマー及び共重合モノマーを用いた以外は合成例２７と同様の操作を実施し、化合物（Ｊ−２）〜化合物（Ｊ−２８）を得た。

なお、表中、「アロニックスＭ５３００」は、東亞合成社製のアクリレート系モノマーである。

以下の第１表に、化合物（Ｊ−１）〜（Ｊ−２８）の組成及びＧＰＣにより測定した重量平均分子量（ポリスチレン換算値）を示す。

＜合成例５５：化合物（Ａ−２７）の合成＞

化合物（ＩＭ−１）２４．０質量部をテトラヒドロフラン２００質量部に溶解させ、０℃に冷却した。次に、水素化ナトリウム４．８質量部（５０質量％）を分割で添加し、３時間撹拌した。ブタンサルトン１０．２質量部を添加し、外温７０℃で２４時間加熱した。放冷後、析出した固体をろ取し、アセトンで洗浄した後、乾燥することで化合物（Ａ−２７）を１８．５質量部得た。

＜合成例５６、５７：化合物（Ａ−２８）及び（Ａ−２９）の合成＞

合成例５５の化合物（ＩＭ−１）を化合物（Ａ−２８）及び（Ａ−２９）に対応する原料に変更した以外は、合成例５５と同様の操作を実施し、化合物（Ａ−２８）及び化合物（Ａ−２９）を得た。

以下に、化合物（Ａ−２８）及び化合物（Ａ−２９）の構造を示す。

＜合成例５８：化合物（Ｊ−２９）の合成＞

窒素気流下、メタクロイルコリンクロリド（８０質量％水溶液）２６質量部、メタクリル酸２−エチルヘキシル２０質量部、イソプロパノール３６０質量部を外温８５℃で加熱した。次に２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）１質量部を添加し、２時間加熱した。さらに、に２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸メチル）１質量部を添加し、２時間加熱した。５０℃に冷却後、化合物（Ａ−２７）４８質量部及びイソプロパノール３６０質量部添加し、３時間撹拌した。室温まで冷却後、得られた反応液を水１０００質量部に添加し、固体をろ取、乾燥することで化合物（Ｊ−２９）を６５質量部得た。重量平均分子量は７８００であった。

＜合成例５９及び合成例６０：化合物（Ｊ−３０）及び化合物（Ｊ−３１）の合成＞

合成例５８の化合物（Ａ−２７）を、化合物（Ａ−２８）及び化合物（Ａ−２９）に変更した以外は同様の操作を実施し、化合物（Ｊ−３０）（重量平均分子量６９００）及び化合物（Ｊ−３１）（重量平均分子量７５００）を得た。

＜合成例６１：化合物（Ｊ−３２）の合成＞

化合物（Ａ−３０）５６．０質量部、ピロメリット酸無水物２１．８質量部、Ｎ−メチルピロリドン１４５．８質量部の混合溶液を外温１３０℃で４８時間加熱した。放冷後、３．５質量％塩酸水溶液１０００質量部に添加し、固体を濾過、水洗後、乾燥することで化合物（Ｊ−３２）を５９．２質量部（重量平均分子量７３００）得た。

＜合成例６２：化合物（Ｊ−３３）の合成＞

化合物（Ａ−３１）５８．８質量部、９，９−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）

フルオレン４６．２質量部、Ｎ−メチルピロリドン４２０質量部、テトラブチルアンモニウムブロミド１．０質量部の混合溶液を１２０℃に加熱し、４８時間加熱撹拌した。放冷後、３．５質量％塩酸水溶液２０００質量部に添加し、固体を濾過、水洗後、乾燥することで化合物（Ｊ−３３）を９７．９質量部（重量平均分子量１２，３００）得た。

＜合成例６３及び合成例６４：化合物（Ａ−３２）及び化合物（Ａ−３３）の合成＞

合成例２の化合物（ＩＭ−１）を化合物（Ａ−３２）及び化合物（Ａ−３３）に対応する各原料に変更し、化合物（ＩＭ−２）をそれぞれアリルブロミド及び２−ブロモエタノールに変更した以外は、合成例２と同様の操作を実施し、化合物（Ａ−３２）及び化合物（Ａ−３３）を得た。

＜合成例６５：化合物（Ｊ−３４）の合成＞

窒素気流下、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）７．８質量部、化合物（Ａ−３２）２０．４質量部、シクロヘキサノン１８０質量部を１４０℃に加熱した。次に、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）０．１質量部を添加し、２時間撹拌した。さらに、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）０．１質量部を添加し、４時間加熱した。室温まで冷却した後、ヘキサン２０００質量部に添加し、固体を濾過、乾燥することで化合物（Ｊ−３４）を２４．５質量部得た。化合物中、＊は任意の＃との結合位置であり、ａ：ｂ＝２：４である。なお、ａ及びｂは、各々の基の個数を表す。

＜合成例６６：化合物（Ｊ−３５）の合成＞

合成例６１の化合物（Ａ−３２）を３０．６質量部用いた以外は同様の操作を実施し、化合物（Ｊ−３５）（ａ：ｂ＝０：６）を得た。

＜合成例６７：化合物（Ｊ−３６）の合成＞

化合物（Ｊ−３４）１４．２質量部、メタクリル酸０．８質量部、メタクリル酸メチル５．０質量部、シクロヘキサノン１２８質量部を添加し、１２０℃に加熱した。２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）０．１質量部を添加し、２時間撹拌した。さらに、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）０．１質量部添加し、４時間撹拌した後、放冷した。得られた溶液を、水３００質量部、メタノール７００質量部の混合溶液に加えた。固体を濾過し、乾燥することで化合物（Ｊ−３６）を１８．３質量部（重量平均分子量４，５００、酸価０．６２ｍｍｏｌ／ｇ）を得た。

＜合成例６８：化合物（Ｊ−３７）の合成＞

化合物（Ａ−３３）５１．６質量部、ピロメリット酸無水物１０．９質量部、Ｎ−メチルピロリドン１４５．８質量部の混合溶液を外温１３０℃で４８時間加熱した。放冷後、３．５質量％塩酸水溶液１０００質量部に添加し、固体を濾過、水洗後、乾燥することで化合物（Ｊ−３７）を６０．０質量部得た。

＜比較例用合成：化合物（Ｈ−１）及び化合物（Ｈ−２）の合成＞

合成例２７と同様の操作を実施し、化合物（Ｈ−１）（重量平均分子量：７．３００）

及び化合物（Ｈ−２）（重量平均分子量：８，９００）を得た。

〔実施例１〜４８、比較例１〜４〕

＜組成物１〜４８、比較組成物１〜４の調製＞

第２表に記載の配合比で各成分を溶解混合し、口径０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルタで濾過して、組成物１〜４８及び比較組成物１〜４を各々調製した。溶剤は、シクロヘキサノン／γブチロラクトン＝５０：５０（質量％）混合溶媒であり、界面活性剤はメガファックＲ−４０（ＤＩＣ株式会社製）である。

得られた組成物１〜４８及び比較組成物１〜４を、実施例１〜４８及び比較例１〜４として、後述する各種評価（耐熱試験後の透明性評価、屈折率評価、及び外観特性評価）を実施した。

第２表にて使用される重合性化合物（Ｍ−１〜Ｍ−４）及び重合開始剤（Ｉ−１又はＩ−２）を以下に示す。

以下に第２表を示す。

なお、表中の備考欄において、「化合物Ｘの構造」とは、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物、一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物、一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物、及び一般式（Ｄ）で表される化合物のうち、化合物Ｘが該当する構造を示す。

また、「Ｃ¹の種類」とは、一般式（ＩＩ）で表される基及びヘテロ環基のうち、Ｃ¹が該当する基を示す。

〔組成物の評価〕

実施例及び比較例の各組成物について、透明性、屈折率、及び外観特性（膜面特性）を評価した。

＜耐熱試験後の透明性評価＞

実施例及比較例の各組成物を、エポキシ樹脂（ＪＥＲ−８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した１０ｃｍ×１０ｃｍのガラス基板上にスピン塗布した後、得られた組成物層を１００℃にて３分間ベーク（加熱）し、さらに２６０℃にて５分間ベークをすることで、膜厚３μｍの膜を得た。上記膜を有するガラス基材の波長４００〜８００ｎｍにおける透過率を、Ｕ−４１５０（株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定し、下記評価基準により評価を実施した。結果を第３表に示す。

なお、リファレンスとしては膜が形成されていない点以外は、同条件のエポキシ樹脂層を有するガラス基板を用いた。

（評価基準）

「Ａ」：４００〜８００ｎｍの最低透過率が９９％以上である。

「Ｂ」：４００〜８００ｎｍの最低透過率が９８％以上９９％未満である。

「Ｃ」：４００〜８００ｎｍの最低透過率が９５％以上９８％未満である。

「Ｄ」：４００〜８００ｎｍの最低透過率が９５％未満である。

＜屈折率評価＞

上記透明性評価で得られた膜をＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて、波長３００〜１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率ｎ_{５８９ｎｍ}を求めた。測定された屈折率（ｎ_{５８９ｎｍ}）に基づき、下記評価基準により評価を実施した。結果を第３表に示す。

（評価基準）

「Ａ」：屈折率（ｎ_{５８９ｎｍ}）が１．７５以上である。

「Ｂ」：屈折率（ｎ_{５８９ｎｍ}）が１．７０以上１．７５未満である。

「Ｃ」：屈折率（ｎ_{５８９ｎｍ}）が１．６５以上１．７０未満である。

「Ｄ」：屈折率（ｎ_{５８９ｎｍ}）が１．６５未満である。

＜外観特性評価（膜面評価）＞

上記透明性評価で得られた膜を光学顕微鏡で観察し、下記評価基準により評価を実施した。結果を第３表に示す。

（評価基準）

「Ａ」：膜面が滑らかである。

「Ｂ」：膜面に小さな亀裂が少し見られるが実用上問題ないレベルである。

「Ｃ」：膜面に大きな亀裂が少し見られるが実用上問題ないレベルである。

「Ｄ」：膜面に亀裂が見られ、実用上問題となるレベルである。

＜密着性（基板密着性）評価＞

組成物３６〜４４、組成物４７、組成物４８、比較組成物３、及び比較組成物４を、実施例４９〜５９、比較例５、及び比較例６として、以下の手順により、基板密着性（膜の基板に対する密着性）を実施した。

エポキシ樹脂（ＪＥＲ−８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した１０ｃｍ×１０ｃｍのガラス基板上に、組成物３６〜４４、組成物４７、組成物４８、比較組成物３、及び比較組成物４を膜厚３μｍとなるように各々塗布し、高圧水銀灯を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ²照射した。

次に、１．０ｍｍ間隔で１０×１０個のマス目を作成し、セロハンテープを貼り、上方に引っ張り剥離状況を確認した。剥がれなかったマス目を数えた。残存マス目数が多いほど基板密着性が良好であると評価した。結果を第４表に示す。

（評価基準）

「Ａ」：残存マスが１００個

「Ｂ」：残存マスが９６〜９９個

「Ｃ」：残存マスが９１〜９５個

「Ｄ」：残存マスが９０個以下

第３表及び第４表の結果から、本発明の組成物によれば、高屈折率及び高透明性を示し、且つ、外観特性にも優れる膜を形成できることが明らかである。また、本発明の組成物により得られる膜は、基板密着性にも優れることが明らかである。

また、実施例１〜４８の結果から、化合物Ｘが、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物、一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物、又は一般式（Ｄ）で表される化合物である場合（好ましくは、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物又は一般式（Ｄ）で表される化合物である場合）、得られる膜の外観特性がより優れることが確認された。

また、実施例４９〜５７の結果から、化合物Ｘが、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物、一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物、又は一般式（Ｄ）で表される化合物である場合（好ましくは、一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物又は一般式（Ｄ）で表される化合物である場合）、得られる膜の基板密着性がより優れることが確認された。

また、実施例１〜４８の結果から、化合物Ｘ中の一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基において、一般式（Ｉ）で表される化合物中のｍ¹が２〜４であり（言い換えると、一般式（Ｉ）で表される化合物中の−Ｂ¹−Ｃ¹で表される基が２〜４個であり）、且つ、Ｃ¹の１つ以上が一般式（ＩＩＩ）で表される基を表す（言い換えると、Ｃ¹の１つ以上が、一般式（ＩＩ）で表される基を表し、且つ上記一般式（ＩＩ）中のＤ¹が、置換基を有していてもよいフェニル基又はビフェニル基を表し、ｎ¹が１〜４の整数を表す）か、又は、Ｃ¹の１つ以上が一般式（ＩＶ）で表される基を表す（言い換えると、Ｃ¹の１つ以上が、一般式（ＩＩ）で表される基を表し、且つ、上記一般式（ＩＩ）中のＤ¹がシアノ基又は−ＳＲ¹¹を表し、ｎ¹が１〜４の整数を表す）場合、得られる膜の屈折率がより優れることが確認された。

また、化合物Ｘ中の一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基において、一般式（Ｉ）で表される化合物中のＡ¹が単結合である場合、得られる膜は、加熱後においても高い透明性を示すことが確認された。

一方、比較例の組成物を用いた場合、得られる膜は、屈折率、透明性、及び外観特性のいずれについても所望の要求を満足しなかった。また、基板密着性についても所望の要求を満足しなかった。

Claims (20)

1. 
   下記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する化合物Ｘと、
   
   溶剤と、を含む組成物。
   
   

   

   
   一般式（Ｉ）中、Ａ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、又は−ＣＯ−を表す。Ｂ¹は、単結合、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ₂−、又は−ＮＨ−を表す。Ｃ¹は、下記一般式（ＩＩ）で表される基、又はヘテロ環基を表す。Ｒ¹は、水素原子、又は、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基を表す。ｍ¹は、１〜４の整数を表す。なお、一般式（Ｉ）中、Ｂ¹が複数存在する場合、複数のＢ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、Ｃ¹が複数存在する場合、複数のＣ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。
   
   

   

   
   一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹は、１価の置換基を表す。ｎ¹は、０〜４の整数を表す。＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。なお、一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹が複数存在する場合、複数のＤ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
   
   但し、Ｒ¹が水素原子を表し、且つ、前記残基が、Ｒ¹が表す水素原子を除いて形成された場合、前記残基は芳香族炭化水素環とは連結しない。
   
2. 
   前記Ａ¹が、単結合を表す、請求項１に記載の組成物。
   
3. 
   前記ｍ¹が２〜４の整数を表す、請求項１又は２に記載の組成物。
   
4. 
   前記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち１個以上が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される基及び下記一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
   
   

   

   
   一般式（ＩＩＩ）中、Ｄ²及びＥ¹は、各々独立に、１価の置換基を表す。ｎ²は、１〜４の整数を表す。ｎ³は、０〜５の整数を表す。ｎ⁴は、０〜３の整数を表す。但し、ｎ²＋ｎ⁴は、１〜４の整数である。＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。なお、
   
   一般式（ＩＩＩ）中、Ｄ²が複数存在する場合、複数のＤ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また、Ｅ¹が複数存在する場合、複数のＥ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＥ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
   
   

   

   
   一般式（ＩＶ）中、Ｄ³は、シアノ基、又は−ＳＲ¹¹を表す。Ｅ²は、１価の置換基を表す。ｎ⁵は、１〜４の整数を表す。ｎ⁶は、０〜３の整数を表す。但し、ｎ⁵＋ｎ⁶は、１〜４の整数である。＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。Ｒ¹¹は、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１５のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基を表す。なお、一般式（ＩＶ）中、Ｄ³が複数存在する場合、複数のＤ³は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ³同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また、Ｅ²が複数存在する場合、複数のＥ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＥ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
   
5. 
   前記ｍ¹が２〜４の整数を表し、
   
   前記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち２個以上が、前記一般式（ＩＩＩ）で表される基及び前記一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、請求項４に記載の組成物。
   
6. 
   更に、重合性化合物を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
   
7. 
   更に、重合開始剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
   
8. 
   前記化合物Ｘが、下記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む化合物、下記一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物、及び下記一般式（Ｄ）で表される化合物からなる群より選ばれる１種以上である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
   
   

   

   
   一般式（Ａ）中、Ｘ¹は、重合して形成される連結基を表す。Ｌ¹は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。
   
   

   

   
   一般式（Ｂ）中、Ｘ²は、重合して形成される連結基を表す。Ｌ²は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｙ²は、イオン性構造部位を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。
   
   

   

   
   一般式（Ｃ）中、Ｌ³は、２価の連結基を表す。Ｌ⁴は、単結合、又は２価の連結基を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を２つ除いて形成される残基を表す。
   
   

   

   
   一般式（Ｄ）中、Ｌ⁵は、ｐ＋ｑ価の連結基を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。Ｚは、繰り返し単位を含む１価の置換基を表す。ｐは、０〜１００の整数を表す。ｑは、２〜１００の整数を表す。
   
9. 
   前記化合物Ｘが、前記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物及び前記一般式（Ｄ）で表される化合物からなる群より選ばれる１種以上である、請求項８に記載の組成物。
   
10. 
    下記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ以上除いて形成される残基を複数個有する化合物Ｘを含む膜。
    
    

    

    
    一般式（Ｉ）中、Ａ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、又は−ＣＯ−を表す。Ｂ¹は、単結合、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ₂−、又は−ＮＨ−を表す。Ｃ¹は、下記一般式（ＩＩ）で表される基、又はヘテロ環基を表す。Ｒ¹は、水素原子、又は、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基を表す。ｍ¹は、１〜４の整数を表す。なお、一般式（Ｉ）中、Ｂ¹が複数存在する場合、複数のＢ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、Ｃ¹が複数存在する場合、複数のＣ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。
    
    

    

    
    一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹は、１価の置換基を表す。ｎ¹は、０〜４の整数を表す。＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。なお、一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹が複数存在する場合、複数のＤ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
    
    但し、Ｒ¹が水素原子を表し、且つ、前記残基が、Ｒ¹が表す水素原子を除いて形成された場合、前記残基は芳香族炭化水素環とは連結しない。
    
11. 
    前記Ａ¹が、単結合を表す、請求項１０に記載の膜。
    
12. 
    前記ｍ¹が２〜４の整数を表す、請求項１０又は１１に記載の膜。
    
13. 
    前記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち１個以上が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される基及び下記一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の膜。
    
    

    

    
    一般式（ＩＩＩ）中、Ｄ²及びＥ¹は、各々独立に、１価の置換基を表す。ｎ²は、１〜４の整数を表す。ｎ³は、０〜５の整数を表す。ｎ⁴は、０〜３の整数を表す。但し、ｎ²＋ｎ⁴は、１〜４の整数である。＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。なお、一般式（ＩＩＩ）中、Ｄ²が複数存在する場合、複数のＤ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また、Ｅ¹が複数存在する場合、複数のＥ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＥ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
    
    

    

    
    一般式（ＩＶ）中、Ｄ³は、シアノ基、又は−ＳＲ¹¹を表す。Ｅ²は、１価の置換基を表す。ｎ⁵は、１〜４の整数を表す。ｎ⁶は、０〜３の整数を表す。但し、ｎ⁵＋ｎ⁶は、１〜
    
    ４の整数である。＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。Ｒ¹¹は、置換基を有していてもよい、炭素数１〜１５のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基を表す。
    
    なお、一般式（ＩＶ）中、Ｄ³が複数存在する場合、複数のＤ³は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ³同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また、Ｅ²が複数存在する場合、複数のＥ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＥ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
    
14. 
    前記ｍ¹が２〜４の整数を表し、
    
    前記一般式（Ｉ）中のＣ¹のうち２個以上が、前記一般式（ＩＩＩ）で表される基及び前記一般式（ＩＶ）で表される基からなる群より選ばれる基を表す、請求項１３に記載の膜。
    
    
    
15. 
    前記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む化合物及び前記一般式（Ｄ）で表される化合物からなる群より選ばれる１種以上を含む、請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の膜。
    
    

    

    
    一般式（Ａ）中、Ｘ¹は、重合して形成される連結基を表す。Ｌ¹は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。
    
    

    

    
    一般式（Ｂ）中、Ｘ²は、重合して形成される連結基を表す。Ｌ²は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｙ²は、イオン性構造部位を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。
    
16. 
    請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の膜からなるレンズ。
    
17. 
    請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の膜、又は請求項１６に記載のレンズを備える固体撮像素子。
    
18. 
    下記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位、下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位、又は下記一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む化合物。
    
    

    

    
    一般式（Ａ）中、Ｘ¹は、重合して形成される連結基を表す。Ｌ¹は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｗは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。
    
    

    

    
    一般式（Ｉ）中、Ａ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、又は−ＣＯ−を表す。
    
    Ｂ¹は、単結合、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ₂−、又は−ＮＨ−を表す。Ｃ¹は、
    
    下記一般式（ＩＩ）で表される基、又はヘテロ環基を表す。Ｒ¹は、水素原子、又は、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基を表す。ｍ¹は、１〜４の整数を表す。なお、一般式（Ｉ）中、Ｂ¹が複数存在する場合、複数のＢ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、Ｃ¹が複数存在する場合、複数のＣ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。
    
    

    

    
    一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹は、１価の置換基を表す。ｎ¹は、０〜４の整数を表す。＊は、
    
    一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。なお、一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹が複数存在する場合、複数のＤ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
    
    但し、Ｒ¹が水素原子を表し、且つ、前記残基が、Ｒ¹が表す水素原子を除いて形成された場合、前記残基は芳香族炭化水素環とは連結しない。
    
    

    

    
    一般式（Ｂ）中、Ｘ²は、重合して形成される連結基を表す。Ｌ²は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｙ²は、イオン性構造部位を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。
    
    

    

    
    一般式（Ｃ）中、Ｌ³は、２価の連結基を表す。Ｌ⁴は、単結合、又は２価の連結基を表す。Ｗは、前記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を２つ除いて形成される残基
    
    を表す。
    
19. 
    下記一般式（Ｄ）で表される化合物。
    
    

    

    
    一般式（Ｄ）中、Ｌ⁵は、ｐ＋ｑ価の連結基を表す。Ｚは、繰り返し単位を含む１価の置換基を表す。ｐは、０〜１００の整数を表す。ｑは、２〜１００の整数を表す。Ｗは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から水素原子を１つ除いて形成される残基を表す。
    
    

    

    
    一般式（Ｉ）中、Ａ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、又は−ＣＯ−を表す。Ｂ¹は、単結合、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＳＯ₂−、又は−ＮＨ−を表す。Ｃ¹は、下記一般式（ＩＩ）で表される基、又はヘテロ環基を表す。Ｒ¹は、水素原子、又は、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基を表す。ｍ¹は、１〜４の整数を表す。なお、一般式（Ｉ）中、Ｂ¹が複数存在する場合、複数のＢ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、Ｃ¹が複数存在する場合、複数のＣ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。
    
    

    

    
    一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹は、１価の置換基を表す。ｎ¹は、０〜４の整数を表す。＊は、一般式（Ｉ）中のＢ¹との連結位置を表す。なお、一般式（ＩＩ）中、Ｄ¹が複数存在する場合、複数のＤ¹は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、複数のＤ¹同士は、互いに結合して環を形成してもよい。
    
    但し、Ｒ¹が水素原子を表し、且つ、前記残基が、Ｒ¹が表す水素原子を除いて形成された場合、前記残基は芳香族炭化水素環とは連結しない。
    
20. 
    前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（Ｖ）で表される化合物である、請求項１８又は１９に記載の化合物。
    
    

    

    
    一般式（Ｖ）中、Ｂ²は、単結合又は−ＣＯ−を表す。Ｒ¹は、水素原子、又は、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキル基を表す。Ｄ²は、１価の置換基を表す。ｎ³は、０〜５の整数を表す。ｍ²は、１〜４の整数を表す。なお、一般式（Ｖ）中、Ｂ²が複数存在する場合、複数のＢ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。また、Ｄ²が複数存在する場合、複数のＤ²は、各々同一であっても異なっていてもよい。更に、複数のＤ²同士は、互いに結合して環を形成してもよい。