JPWO2019216161A1 - パワー半導体モジュール及びその製造方法並びに電力変換装置 - Google Patents

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Abstract

パワー半導体モジュール(1)は、第1のリード端子(11)と、第2のリード端子(12)と、チップコンデンサ(27)と、電子素子(25)とを備える。電子素子(25)は、第1の導電性接着部(35)で、第1のリード端子(11)に接合されている。チップコンデンサ(27)の第1の電極(28a)と第2の電極(28b)とは、第2の導電性接着部(37)で、第1のリード端子(11)と第2のリード端子(12)とにそれぞれ接合されている。第2の導電性接着部(37)は、第1の導電性接着部(35)よりも高い導電性フィラーの含有率を有する。そのため、パワー半導体モジュール(1)は、高い信頼性を有する。

Description

本発明は、パワー半導体モジュール及びその製造方法並びに電力変換装置に関する。
特開2012−104633号公報(特許文献1)は、トランスファーモールドパッケージ内において、リードフレームと、リードフレーム上に配置されたパワーチップと、リードフレーム上に配置され、かつ、パワーチップを駆動させるICチップと、ICチップに接続されたブートストラップコンデンサとを備える半導体装置を開示している。ブートストラップコンデンサは、リードフレーム上に、絶縁性接着剤を介して接合されている。
特開2012−104633号公報
本発明の目的は、高い信頼性を有するパワー半導体モジュールを提供することである。本発明の目的は、高い信頼性を有する電力変換装置を提供することである。
本発明の第1の局面のパワー半導体モジュールは、複数のリード端子と、チップコンデンサと、電子素子とを備える。複数のリード端子は、第1のリード端子と、第1のリード端子から離間されている第2のリード端子とを含む。チップコンデンサは、第1の電極と第2の電極とを含む。電子素子は、第1の導電性接着部で、複数のリード端子の1つに接合されている。第1の導電性接着部は、第1の含有率で導電性フィラーを含んでいる。チップコンデンサの第1の電極と第2の電極とは、第2の導電性接着部で、第1のリード端子と第2のリード端子とにそれぞれ接合されている。第2の導電性接着部は、第1の含有率よりも高い第2の含有率で導電性フィラーを含んでいる。
本発明の第2の局面のパワー半導体モジュールは、複数のリード端子と、チップコンデンサと、電子素子とを備える。複数のリード端子は、第1のリード端子と、第1のリード端子から離間されている第2のリード端子とを含む。チップコンデンサは、第1の電極と第2の電極とを含む。電子素子は、第1の導電性接着部で、複数のリード端子の1つに接合されている。第1の導電性接着部は、第1の導電性フィラーを含んでいる。チップコンデンサの第1の電極と第2の電極とは、第2の導電性接着部で、第1のリード端子と第2のリード端子とにそれぞれ接合されている。第2の導電性接着部は、第2の導電性フィラーを含んでいる。第2の導電性接着部は、第1の導電性接着部よりも低い電気抵抗率を有している。
本発明のパワー半導体モジュールの製造方法は、パワー半導体チップを複数のリード端子の少なくとも1つに接合することを備える。複数のリード端子は、第1のリード端子と、第1のリード端子から離間されている第2のリード端子とを含む。本発明のパワー半導体モジュールの製造方法は、電子素子を、第1の導電性接着部で、複数のリード端子の1つに接合することを備える。第1の導電性接着部は、第1の含有率で導電性フィラーを含んでいる。本発明のパワー半導体モジュールの製造方法は、第1のリード端子の複数の第1箇所と第2のリード端子の複数の第2箇所とに導電性接着剤を供給することを備える。本発明のパワー半導体モジュールの製造方法は、チップコンデンサの第1の電極を複数の第1箇所上の導電性接着剤上に、かつ、チップコンデンサの第2の電極を複数の第2箇所上の導電性接着剤上に載置することを備える。チップコンデンサは電子素子と種類が異なっている。本発明のパワー半導体モジュールの製造方法は、導電性接着剤を硬化させて、チップコンデンサの第1の電極と第2の電極を第1のリード端子と第2のリード端子とにそれぞれ接合する第2の導電性接着部を形成することを備える。第2の導電性接着部は、第1の含有率よりも高い第2の含有率で導電性フィラーを含んでいる。本発明のパワー半導体モジュールの製造方法は、パワー半導体チップとチップコンデンサと電子素子とを封止部材で封止することを備える。
本発明の電力変換装置は、本発明のパワー半導体モジュールを有し、かつ、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、主変換回路を制御する制御信号を主変換回路に出力する制御回路とを備える。
本発明の第1の局面のパワー半導体モジュール及び本発明のパワー半導体モジュールの製造方法では、第2の導電性接着部における導電性フィラーの第2の含有率は、第1の導電性接着部における導電性フィラーの第1の含有率よりも高い。本発明の第2の局面のパワー半導体モジュールでは、第2の導電性接着部は、第1の導電性接着部よりも低い電気抵抗率を有している。そのため、第2の導電性接着部の電気抵抗とチップコンデンサの接合部に一般的に求められる許容電気抵抗との間のマージンを大きくすることができる。さらに、第2の導電性接着部に印加される応力によって第2の導電性接着部に部分的な剥離及びクラックの少なくとも1つが導入されても、第2の導電性接着部の電気抵抗の増分を小さくすることができる。第2の導電性接着部の電気的接続の信頼性が向上され得る。本発明の第1及び第2の局面のパワー半導体モジュールは、高い信頼性を有する。本発明のパワー半導体モジュールの製造方法によれば、高い信頼性を有するパワー半導体モジュールが製造され得る。
本発明の電力変換装置は、本発明のパワー半導体モジュールを有する主変換回路を備える。本発明の電力変換装置によれば、高い信頼性を有する。
実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの概略平面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの、図1に示される領域IIの概略部分拡大平面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの、図1に示される断面線III−IIIにおける概略部分拡大断面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールに含まれる電子素子の回路を示す図である。 実施の形態1に係る半導体装置の概略断面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの製造方法のフローチャートを示す図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの製造方法のフローチャートを示す図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの製造方法の一工程を示す概略平面図である。 実施の形態1のパワー半導体モジュールの製造方法における図8に示される工程の、断面線IX−IXにおける概略部分拡大断面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの製造方法の一工程の概略部分拡大平面図である。 比較例のパワー半導体モジュールの概略部分拡大平面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの製造方法における、図8に示される工程の次工程を示す概略平面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの製造方法における、図12に示す工程の、断面線XIII−XIIIにおける概略部分拡大断面図である。 実施の形態1の変形例に係るパワー半導体モジュールの製造方法の一工程の概略部分拡大平面図である。 実施の形態1に係る半導体装置の製造方法のフローチャートを示す図である。 実施の形態2に係るパワー半導体モジュールの概略断面図である。 実施の形態2に係る半導体装置の概略断面図である。 実施の形態3に係るパワー半導体モジュールの概略断面図である。 実施の形態4に係る電力変換システムの構成を示すブロック図である。
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
実施の形態1.
図1から図4を参照して、実施の形態1のパワー半導体モジュール1を説明する。パワー半導体モジュール1は、複数のリード端子と、パワー半導体チップ20と、チップコンデンサ27と、電子素子25と、封止部材40とを主に備える。パワー半導体モジュール1は、制御用半導体チップ23をさらに備えてもよい。
複数のリード端子は、第1のリード端子11と、第2のリード端子12と、第3のリード端子13と、第4のリード端子14と、第5のリード端子15とをさらに含む。第1のリード端子11、第2のリード端子12、第3のリード端子13、第4のリード端子14及び第5のリード端子15は、互いに離間されている。
複数のリード端子は、複数のパッド(例えば、第1のパッド11a、第2のパッド12a、第3のパッド14a、第4のパッド15a)を含んでもよい。第1のリード端子11は、第1のリード端子11のうち幅広の部分である第1のパッド11aを含んでもよい。第2のリード端子12は、第2のリード端子12のうち幅広の部分である第2のパッド12aを含んでもよい。第4のリード端子14は、第4のリード端子14のうち幅広の部分である第3のパッド14aを含んでもよい。第5のリード端子15は、第5のリード端子15のうち幅広の部分である第4のパッド15aを含んでもよい。第5のリード端子15は、第4のパッド15aと第3の突出部15cとの間に段差部15bを含む。段差部15bは、第4のパッド15aに接続されている第1端部と、第1端部とは反対側の第2端部を含む。第2端部は、第1端部よりも上方にある。
複数のリード端子の少なくとも一部は、封止部材40から突出する複数の突出部を含む。複数の突出部は、折り曲げられている。例えば、第1のリード端子11は、封止部材40から突出する第1の突出部11cを含む。第1の突出部11cは、第1のパッド11aから水平に延在する第1突出部分11dと、第1突出部分11dから上方に延在する第2突出部分11eとを含む。第2のリード端子12は、封止部材40から突出する第2の突出部12cを含む。第2の突出部12cは、第2のパッド12aから水平に延在する第3突出部分12dと、第3突出部分12dから上方に延在する第4突出部分12eとを含む。第5のリード端子15は、封止部材40から突出する第3の突出部15cを含む。第3の突出部15cは、段差部15bの第2端部から水平に延在する第5突出部分15dと、第5突出部分15dから上方に延在する第6突出部分15eとを含む。パワー半導体モジュール1では、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)はデュアルインラインパッケージ(DIP)方式でパッケージされている。
複数のリード端子は、例えば、銅のような導電性材料で形成されている。複数のリード端子の一部は、銀めっき部のようなめっき部17で被覆されてもよい。めっき部17は、複数のリード端子を構成する材料よりも酸化されにくい材料で形成されてもよい。複数のリード端子を構成する材料よりも酸化されにくい材料は、例えば、銀のような貴金属材料である。例えば、第1のリード端子11の最も内側の部分に、めっき部17が形成されてもよい。第2のリード端子12の最も内側の部分に、めっき部17が形成されてもよい。第5のリード端子15の第4のパッド15aの一部に、めっき部17が形成されてもよい。
第1のリード端子11は、第1の貫通孔16aを含んでもよい。本実施の形態では、第1の貫通孔16aは、チップコンデンサ27に対して外側(第1の突出部11c側)に形成されている。第1の貫通孔16aは、チップコンデンサ27に対して内側(第1の突出部11cとは反対側)に形成されてもよいし、チップコンデンサ27に対して外側と内側とに形成されてもよい。第2のリード端子12は、第2の貫通孔16bを含んでもよい。本実施の形態では、第2の貫通孔16bは、チップコンデンサ27に対して外側(第2の突出部12c側)に形成されている。第2の貫通孔16bは、チップコンデンサ27に対して内側(第2の突出部12cとは反対側)に形成されてもよいし、チップコンデンサ27に対して外側と内側とに形成されてもよい。
パワー半導体チップ20は、例えば、逆導通IGBT(RC−IGBT)、フリーホイールダイオード(FWD)を含む絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)、金属酸化物半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)またはダイオードであってもよい。パワー半導体チップ20は、例えば、1A以上の定格電流と100V以上の定格電圧とを有している。パワー半導体チップ20は、シリコン(Si)、シリコンカーバイド(SiC)または窒化ガリウム(GaN)のような半導体材料で形成されてもよい。パワー半導体モジュール1は、1つのパワー半導体チップ20を含んでもよいし、複数のパワー半導体チップ20を含んでもよい。本実施の形態では、パワー半導体モジュール1は、高圧用のパワー半導体チップ20と、低圧用のパワー半導体チップ20とを含んでいる。高圧用のパワー半導体チップ20は、第5のリード端子15の第4のパッド15aに接合されている。
パワー半導体チップ20は、複数のリード端子の少なくとも1つ(第5のリード端子15)に接合されている。パワー半導体チップ20が接合されている複数のリード端子の少なくとも1つ(第5のリード端子15)は、第1のリード端子11、第2のリード端子12、第3のリード端子13及び第4のリード端子14とは異なっている。パワー半導体チップ20は、はんだ接合部30で、第5のリード端子15の第4のパッド15a(特に、めっき部17)に接合されている。はんだ接合部30は、パワー半導体チップ20で発生する熱を第5のリード端子15に効率的に伝達させ得る。パワー半導体チップ20は、導電ワイヤ29を介して、複数のリード端子(特に、めっき部17)に電気的に接続されている。
制御用半導体チップ23は、パワー半導体チップ20を制御するように構成されている。制御用半導体チップ23は、パワー半導体チップ20を制御する制御回路の一部を構成している。例えば、制御用半導体チップ23は、パワー半導体チップ20のゲート電圧を制御するように構成されてもよい。制御用半導体チップ23は、パワー半導体チップ20を流れる電流を検知するように構成されてもよい。パワー半導体モジュール1は、パワー半導体チップ20と、パワー半導体チップ20を制御するように構成されている制御用半導体チップ23とを内蔵するインテリジェントパワーモジュール(IPM)である。制御用半導体チップ23は、導電ワイヤ29を介して、パワー半導体チップ20に電気的に接続されている。制御用半導体チップ23は、導電ワイヤ29を介して、第1のリード端子11及び第2のリード端子12に電気的に接続されている。
パワー半導体モジュール1は、1つの制御用半導体チップ23を含んでもよいし、複数の制御用半導体チップ23を含んでもよい。本実施の形態では、パワー半導体モジュール1は、高圧用のパワー半導体チップ20を制御するように構成されている高圧用の制御用半導体チップ23と、低圧用のパワー半導体チップ20を制御するように構成されている低圧用の制御用半導体チップ23とを含んでいる。
制御用半導体チップ23は、複数のリード端子の少なくとも1つ(第4のリード端子14)に接合されている。制御用半導体チップ23が接合されている複数のリード端子の少なくとも1つ(第4のリード端子14)は、第1のリード端子11、第2のリード端子12、第3のリード端子13及び第5のリード端子15とは異なっている。制御用半導体チップ23は、導電接合部33で、第4のリード端子14の第3のパッド14aに接合されている。導電接合部33は、例えば、はんだ接合部であってもよいし、後述する第1の導電性接着部35であってもよい。
電子素子25は、チップコンデンサ27とは異なる種類の電子部品である。電子素子25は、パワー半導体チップ20を制御する制御回路の一部を構成している。電子素子25は、受動型の電子部品であってもよい。受動型の電子部品は、例えば、チップダイオードのようなダイオード25a、または、チップ抵抗器のような抵抗器25bである。受動型の電子部品の一例であるダイオード25aは、例えば、1A未満の定格電流と100V未満の定格電圧とを有している。
本実施の形態では、電子素子25は、整流用半導体チップである。図4に示されるように、整流用半導体チップは、ダイオード25aに加えて、抵抗器25bを内蔵している。抵抗器25bを内蔵する整流用半導体チップと、チップコンデンサ27とは、ブートストラップ回路を構成してもよい。電子素子25は、ブートストラップダイオード(BSD)であってもよい。ブートストラップ回路は、N側のゲート駆動電源のみでP側のゲート駆動電源を作り出す回路である。ブートストラップ回路は、ゲート駆動部の回路に整流用半導体チップとコンデンサとにより構成される。ブートストラップ回路は、スイッチング素子(例えば、パワー半導体チップ20)の出力側(ドレイン−ソース間、コレクタ−エミッタ間)に配置されるスナバ回路とは異なる。電子素子25は、導電ワイヤ29及び第1のリード端子11を介して、制御用半導体チップ23に電気的に接続されてもよい。電子素子25は、導電ワイヤ29を介して、第3のリード端子13(特に、めっき部17)に電気的に接続されてもよい。
電子素子25は、第1の導電性接着部35で、複数のリード端子の1つに接合されている。特定的には、電子素子25は、第1の導電性接着部35で、第1のリード端子11に接合されている。第1の導電性接着部35は、第1の含有率で第1の導電性フィラーを含んでいる。第1の導電性接着部35は、第1の樹脂と、第1の樹脂に分散された第1の導電性フィラーとを含む。第1の導電性フィラーは、例えば、銀、ニッケル及び銅からなる群から選択される1つ以上の導電性材料で構成されてもよい。本明細書において、導電性フィラーは、導電性粒子も含む。第1の樹脂は、例えば、エポキシ樹脂であってもよい。
チップコンデンサ27は、例えば、表面実装型の積層セラミックコンデンサであってもよい。チップコンデンサ27は、パワー半導体チップ20を制御する制御回路の一部を構成している。チップコンデンサ27は、ブートストラップ回路の一部を構成するブートストラップコンデンサ(BSC)であってもよい。チップコンデンサ27の容量は、制御用半導体チップ23の消費電力、パワー半導体チップ20のゲート容量並びにチップコンデンサ27の充電時間及び放電時間に応じて、適切に定められる。チップコンデンサ27は、第1の電極28aと第2の電極28bとを含む。複数のリード端子に接合される電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)の中で、チップコンデンサ27が最も背が高い。
チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bとは、第2の導電性接着部37で、第1のリード端子11と第2のリード端子12とにそれぞれ接合されている。第2の導電性接着部37は、第2の樹脂と、第2の樹脂に分散された第2の導電性フィラーとを含む。第2の導電性フィラーは、例えば、銀、ニッケル及び銅からなる群から選択される1つ以上の導電性材料で構成されてもよい。本実施の形態では、第2の導電性接着部37に含まれる第2の導電性フィラーは、第1の導電性接着部35に含まれる第1の導電性フィラーと同じ材料で構成されてもよいし、第1の導電性フィラーと異なる材料で構成されてもよい。第2の樹脂は、例えば、エポキシ樹脂であってもよい。第2の樹脂は、第1の樹脂と同じ材料で構成されてもよいし、異なる材料で構成されてもよい。
第2の導電性接着部37は、第1の導電性接着部35よりも低い電気抵抗率を有している。第2の導電性フィラーが第1の導電性フィラーと同じ材料で構成されている場合、第2の導電性接着部37は、第1の含有率よりも高い第2の含有率で導電性フィラーを含んでいる。第1の含有率は、65重量%以下であってもよく、60重量%以下であってもよい。第2の含有率は、例えば、75重量%以上であってもよく、80重量%以上であってもよい。本明細書において、第1の含有率は、第1の導電性接着部35の重量に対する第1の導電性フィラーの重量の比を、重量%の単位で表したものである。本明細書において、第2の含有率は、第2の導電性接着部37の重量に対する第2の導電性接着部37に含まれる導電性フィラーの重量の比を、重量%の単位で表したものである。第2の含有率と第1の含有率との間の差は、10重量%以上であってもよく、15重量%以上であってもよく、20重量%以上であってもよい。第1の導電性接着部35における第1の導電性フィラーの第1の含有率は相対的に低いため、第1の導電性接着部35のコストが低減され得る。
パワー半導体モジュール1の使用中にパワー半導体チップ20などが発熱する。そのため、第1のリード端子11の熱膨張係数と第2のリード端子12の熱膨張係数とチップコンデンサ27の熱膨張係数との間の差に起因する熱応力が、第2の導電性接着部37に印加される。また、パワー半導体モジュール1の使用中に、または、パワー半導体モジュール1の製造工程において、機械的応力が第2の導電性接着部37に印加されることがある。例えば、第1のリード端子11と第2のリード端子12は、リードフレーム10(図8を参照)の製造時の寸法ばらつき、または、第1のリード端子11と第2のリード端子12との間の撓み量の差によって、第1のリード端子11と第2のリード端子12との間に高さの差(図8の紙面垂直方向における第1のリード端子11と第2のリード端子12との間の位置の差)が生じることがある。第1のリード端子11と第2のリード端子12との間に高さの差が生じた状態で、チップコンデンサ27が第1のリード端子11と第2のリード端子12とに接合されることがある。図13に示されるように、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)が接合されたリードフレーム10を金型45でクランプすると、第1のリード端子11と第2のリード端子12との高さが揃えられて、第2の導電性接着部37に機械的応力が印加されることがある。これら熱応力及び機械的応力は、第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックの少なくとも1つを導入し、第2の導電性接着部37における電気抵抗を増加させる。
しかし、第2の導電性接着部37は、第1の導電性接着部35よりも低い電気抵抗率を有している。第2の導電性フィラーが第1の導電性フィラーと同じ材料で構成されている場合には、第2の導電性接着部37における導電性フィラーの第2の含有率は、第1の導電性接着部35における導電性フィラーの第1の含有率よりも高い。そのため、第2の導電性接着部37の第2の電気抵抗とチップコンデンサ27の接合部に一般的に求められる許容電気抵抗との間のマージンを大きくすることができる。さらに、第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックの少なくとも1つが導入されても、第2の導電性接着部37の電気抵抗の増分を小さくすることができる。こうして、第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
第1の含有率及び第2の含有率は、以下の方法によって得られる。パワー半導体モジュール1から、封止部材40と電子素子25とリード端子(第1のリード端子11、第2のリード端子12)を除去して、導電性接着部(第1の導電性接着部35、第2の導電性接着部37)を取り出す。導電性接着部の重量を測定する。導電性フィラー(第1の導電性フィラー、第2の導電性フィラー)の融点未満の温度で導電性接着部を熱処理する。例えば、導電性フィラーが962℃の融点を有する銀で構成されている場合には、導電性接着部を800℃で熱処理してもよい。導電性接着部に含まれている樹脂を揮発させて、導電性接着部に含まれる導電性フィラーを抽出する。抽出された導電性フィラーの重量を測定する。導電性接着部の重量に対する導電性フィラーの重量の比を算出する。こうして、第1の含有率及び第2の含有率が得られる。
第1の導電性接着部35の電気抵抗率及び第2の導電性接着部37の電気抵抗率は、以下の方法によって得られる。パワー半導体モジュール1から、封止部材40と電子素子25とリード端子(第1のリード端子11、第2のリード端子12)を除去して、導電性接着部(第1の導電性接着部35、第2の導電性接着部37)を取り出す。四端子法により、導電性接着部の抵抗を測定する。導電性接着部の接合面積及び厚さを測定する。電気抵抗に接合面積を掛けて厚さで割る。こうして、第1の導電性接着部35の電気抵抗率及び第2の導電性接着部37の電気抵抗率が得られる。
第1の導電性接着部35の電気抵抗率及び第2の導電性接着部37の電気抵抗率は、別の方法によっても得られる。パワー半導体モジュール1から、パワー半導体モジュール1の一部を切り出す。パワー半導体モジュール1の一部は、導電性接着部(第1の導電性接着部35、第2の導電性接着部37)と、リード端子(第1のリード端子11、第2のリード端子12)の一部と、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)の少なくとも一部とを含む。パワー半導体モジュール1の一部の電気抵抗から、リード端子の一部及び電子部品の少なくとも一部の電気抵抗を減算して、導電性接着部の電気抵抗を算出する。導電性接着部の接合面積及び厚さを測定する。電気抵抗に接合面積を掛けて厚さで割る。こうして、第1の導電性接着部35の電気抵抗率及び第2の導電性接着部37の電気抵抗率が得られる。
第1の導電性接着部35は、絶縁性無機材料で構成されている絶縁性粒子をさらに含んでもよい。絶縁性粒子は、例えば、シリカ、アルミナ及び窒化アルミニウムからなる群から選択される1つ以上の無機材料で構成されている。第1の導電性接着部35への絶縁性粒子の添加は、以下の第1の作用と第2の作用とをもたらす。第1の作用は、絶縁性粒子が、第1の導電性接着部35における通電可能な領域の体積を減少させて、第1の導電性接着部35の電気抵抗を増加させることである。第2の作用は、絶縁性粒子が、第1の導電性接着部35における通電可能な領域における第1の導電性フィラーの含有率を高めて、第1の導電性フィラー同士の接触が増加する等のために、第1の導電性接着部35の電気抵抗を減少させることである。
本実施の形態では、第1の作用よりも第2の作用が大きくなるように、絶縁性粒子は第1の導電性接着部35に添加されている。そのため、絶縁性粒子は第1の導電性接着部35の電気抵抗を減少させる。第1の導電性接着部35の第1の導電性フィラーの第1の含有率が相対的に低くても、絶縁性粒子は、第1の導電性接着部35の電気的接続の信頼性を向上させることができる。例えば、絶縁性粒子がシリカ粒子である場合、第1の導電性接着部35は、シリカ粒子を、3重量%以上含んでもよく、6重量%以上含んでもよい。第1の導電性接着部35は、例えば、シリカ粒子を、18重量%以下含んでもよく、12重量%以下含んでもよい。導電性フィラーの含有率が高いほど、第2の作用の程度はより小さくなる。絶縁性粒子は、第2の導電性接着部37に添加されることなく、第1の導電性接着部35に選択的に添加されてもよい。
さらに、絶縁性粒子は、第1の導電性接着部35の弾性率を増加させるとともに、第1の導電性接着部35の線膨張係数を減少させる。そのため、第1のリード端子11の反りが減少する。第1のリード端子11と第2のリード端子12との間の高さの差が低減する。第2の導電性接着部37に導入される剥離及びクラックが減少する。第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
第1の電極28aに対向する第1のリード端子11の第1の表面11sは、銅または錫で構成されてもよい。第2の電極28bに対向する第2のリード端子12の第2の表面12sは、銅または錫で構成されてもよい。言い換えると、第1のリード端子11の第1の表面11s及び第2のリード端子12の第2の表面12sは、酸化されにくい材料で形成されているめっき部17から露出してもよい。第1のリード端子11の第1の表面11s及び第2のリード端子12の第2の表面12sは、めっき部17よりも酸化されやすい。しかし、第2の導電性接着部37は相対的に低い電気抵抗を有する。そのため、第1のリード端子11の第1の表面11s及び第2のリード端子12の第2の表面12sにめっき部17を施さなくても、第2の導電性接着部37を介した第1のリード端子11とチップコンデンサ27との間の低抵抗かつ信頼性を有する電気的接続と、第2の導電性接着部37を介した第2のリード端子12とチップコンデンサ27との間の低抵抗かつ信頼性を有する電気的接続とを得ることができる。
チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bとは、金、銀、パラジウムまたはニッケルで構成されてもよいし、銅または錫で構成されてもよい。言い換えると、第1の電極28aの表面と第2の電極28bの表面とは、銀のような酸化されにくい材料で形成されていなくてもよい。第1の電極28aの表面と第2の電極28bの表面とは、めっき部17よりも酸化されやすい。しかし、第2の導電性接着部37は相対的に低い電気抵抗を有する。そのため、第1の電極28aと第2の電極28bとが銅または錫で構成されていても、第1の導電性接着部35を介した第1のリード端子11とチップコンデンサ27との間の低抵抗かつ信頼性を有する電気的接続と、第2の導電性接着部37を介した第2のリード端子12とチップコンデンサ27との間の低抵抗かつ信頼性を有する電気的接続とを得ることができる。
電子素子25とチップコンデンサ27とは、第1のリード端子11に接合されてもよい。そのため、電子素子25とチップコンデンサ27との間の第1の間隔が狭くなる。電子素子25とチップコンデンサ27との間の配線抵抗を減少させることができる。また、電子素子25とチップコンデンサ27との間の第1の間隔をチップコンデンサ27とパワー半導体チップ20との間の第2の間隔よりも狭くすることができる。チップコンデンサ27に対する、パワー半導体チップ20から発生する電磁ノイズ及び熱の悪影響が抑制される。電子素子25(例えば、ダイオード25a及び抵抗器25bを内蔵する整流用半導体チップ)とチップコンデンサ27とを含む電気回路(例えば、ブートストラップ回路)の動作が安定化する。
封止部材40は、複数のリード端子の一部と、パワー半導体チップ20と、制御用半導体チップ23と、チップコンデンサ27と、電子素子25と、導電ワイヤ29とを封止する。封止部材40は、電気的絶縁性を有する。封止部材40は、モールド樹脂で形成されてもよい。封止部材40は、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素系樹脂、イソシアネート系樹脂、シリコーン樹脂及びこれらの組み合わせからなる群から選択される樹脂材料で構成されてもよい。
第1の突出部11cは、封止部材40の部分41aから突出している。封止部材40の部分41aとチップコンデンサ27との間の最短距離dは、第1のリード端子11の厚さの5倍以下であってもよい。第1のリード端子11の厚さは、例えば、0.2mm以上であってもよい。第1のリード端子11の厚さは、例えば、2.0mm以下であってもよい。第2の突出部12cは、封止部材40の部分41bから突出している。封止部材40の部分41bとチップコンデンサ27との間の最短距離dは、第2のリード端子12の厚さtの5倍以下であってもよい。第2のリード端子12の厚さtは、例えば、0.2mm以上であってもよい。第2のリード端子12の厚さtは、例えば、2.0mm以下であってもよい。
そのため、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)を封止部材40で封止する工程(図6、図12及び図13を参照)において、金型45の空洞45a内に延在する第1のリード端子11の長さと、金型45の空洞45a内に延在する第2のリード端子12の長さとが減少する。一般に、その一端が固定端である板部材に荷重が加わる場合、板部材の撓み量は、固定端から延在する板部材の長さの3乗に比例し、板部材の厚さの3乗に反比例する。金型45の空洞45a内に延在する第1のリード端子11の長さが減少するため、第1のリード端子11の撓み量が減少する。金型45の空洞45a内に延在する第2のリード端子12の長さが減少するため、第2のリード端子12の撓み量が減少する。第1のリード端子11と第2のリード端子12との間の高さの差が低減する。第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックが導入されることが抑制されて、第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
第1のリード端子11の第1の貫通孔16aと第2のリード端子12の第2の貫通孔16bとは、封止部材40によって充填されている。そのため、封止部材40の熱膨張係数と第1のリード端子11及び第2のリード端子12の熱膨張係数との間の差に起因して、第1のリード端子11及び第2のリード端子12が変形しても、第1のリード端子11及び第2のリード端子12は、第1の貫通孔16a及び第2の貫通孔16bを起点にして実質的に同じ形状に変形する。そのため、第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックが導入されることが抑制されて、第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
第1の貫通孔16a及び第2の貫通孔16bに充填された封止部材40を通じて、第1のリード端子11及び第2のリード端子12の上側にある封止部材40と、第1のリード端子11及び第2のリード端子12の下側にある封止部材40とが一体化されている。第1のリード端子11及び第2のリード端子12を封止部材40から引き抜く力に対して、第1の貫通孔16a及び第2の貫通孔16bに充填された封止部材40はアンカーとして機能する。そのため、第1のリード端子11及び第2のリード端子12が封止部材40から引き抜かれることが阻止されるとともに、第2の導電性接着部37にせん断応力が加わることが抑制される。第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックが導入されることが抑制されて、第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
図5を参照して、本実施の形態の半導体装置2を説明する。半導体装置2は、パワー半導体モジュール1と、複数の配線(例えば、配線54,55)と複数の貫通孔(例えば、貫通孔52,53)とを含む配線基板51とを備える。配線基板51は、第1の主面51aと、第1の主面51aとは反対側の第2の主面51bとを有する。第1の主面51aは、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)に面している。複数の貫通孔は、第1の主面51aから第2の主面51bまで延在している。複数の配線は、第2の主面51b上に形成されている。
複数のリード端子は、配線基板51の複数の貫通孔に挿入されている。複数のリード端子の突出部分は、はんだ接合部(例えば、はんだ接合部57,58)で複数の配線に接合されている。具体的には、第1のリード端子11の第2突出部分11e(図1を参照)は、配線基板51の貫通孔(図示せず)に挿入されている。第1のリード端子11の第2突出部分11eは、はんだ接合部(図示せず)で配線(図示せず)に接合されている。第2のリード端子12の第4突出部分12eは、貫通孔52に挿入されている。第2のリード端子12の第4突出部分12eは、はんだ接合部57で配線54に接合されている。第5のリード端子15の第6突出部分15eは、貫通孔53に挿入されている。第5のリード端子15の第6突出部分15eは、はんだ接合部58で配線55に接合されている。
図6から図10及び図12から図14を参照して、実施の形態1のパワー半導体モジュール1の製造方法を説明する。
図6から図9を参照して、パワー半導体モジュール1の製造方法は、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)をリードフレーム10に接合すること(S1)を備える。具体的には、リードフレーム10が準備される。リードフレーム10は、フレーム部10aと、複数のリード端子とを含む。複数のリード端子は、第1のリード端子11と、第2のリード端子12と、第3のリード端子13と、第4のリード端子14と、第5のリード端子15とを含む。複数のリード端子は、フレーム部10aから、フレーム部10aの開口10bの内側に向けて延在している。リードフレーム10は、さらに端子接続部18を含んでもよい。端子接続部18は、フレームの開口10b内において、複数のリード端子同士と接続するとともに、複数のリード端子とフレーム部10aとを接続している。端子接続部18は、フレーム部10aの開口10b内において、複数のリード端子が撓むことを抑制する。
それから、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)をリードフレーム10に接合する。具体的には、図7に示されるように、パワー半導体チップ20を、はんだ接合部30で、複数のリード端子の一つである第5のリード端子15に接合する(S1a)。制御用半導体チップ23を、導電接合部33で、複数のリード端子の一つである第4のリード端子14に接合する(S1b)。導電接合部33は、はんだ接合部であってもよいし、第1の導電性接着部35であってもよい。整流用半導体チップのような電子素子25を、第1の導電性接着部35で、複数のリード端子の一つである第1のリード端子11に接合する(S1c)。
チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bとを、第2の導電性接着部37で、複数のリード端子に含まれる第1のリード端子11と第2のリード端子12とにそれぞれ接合する(S1d)。具体的には、図10に示されるように、スクリーン印刷法、または、インクジェット法のようなディスペンサ法によって、導電性接着剤37aが、第1のリード端子11の第1の表面11s及び第2のリード端子12の第2の表面12s上に供給される(S1e)。導電性接着剤37aは、第2の樹脂と、第2の樹脂に分散された第2の導電性フィラーとを含む。
それから、チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bとを、それぞれ、第1のリード端子11と第2のリード端子12上に載置する(S1f)。導電性接着剤37aは、チップコンデンサ27によって押し広げられる。導電性接着剤37aが硬化されて、チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bを第1のリード端子11と第2のリード端子12とにそれぞれ接合する第2の導電性接着部37が形成される(S1g)。第2の導電性接着部37(導電性接着剤37a)は、第1の含有率よりも高い第2の含有率で導電性フィラーを含んでいる。
図9に示されるように、第2の導電性接着部37は、第1のリード端子11の第1縁部11p及び第2のリード端子12の第2縁部12pまで延在してもよい。第2の導電性接着部37は、第1のリード端子11の第1縁部11p及び第2のリード端子12の第2縁部12pからはみ出していない。第1のリード端子11の第1縁部11pと第2のリード端子12の第2縁部12pとは、互いに対向しており、かつ、第1のリード端子11の第1の表面11s及び第2のリード端子12の第2の表面12sの平面視において、チップコンデンサ27の下方にある。
第1領域11r及び第2領域12r上にある第2の導電性接着部37は、第1の電極28a及び第2の電極28bを除くチップコンデンサ27の本体部に接合されている。第1領域11rは、チップコンデンサ27に対向する第1のリード端子11の第1の表面11sのうち、第1の電極28aと第1のリード端子11の第1縁部11pとの間にある領域である。第2領域12rは、チップコンデンサ27に対向する第2のリード端子12の第2の表面12sのうち、第2の電極28bと第2のリード端子12の第2縁部12pとの間にある領域である。第1領域11r及び第2領域12rは、チップコンデンサ27の本体部の下方にある。
工程S1eは、図10に示されるように、導電性接着剤37aを、第1のリード端子11の第1の表面11sの複数の第1箇所と第2のリード端子12の第2の表面12sの複数の第2箇所とに供給することであってもよい。工程S1fは、チップコンデンサ27の第1の電極28aを複数の第1箇所上の導電性接着剤37a上に載置し、かつ、チップコンデンサ27の第2の電極28bを複数の第2箇所上の導電性接着剤37a上に載置することであってもよい。チップコンデンサ27は、導電性接着剤37aを押し広げる。導電性接着剤37aが第1のリード端子11の複数の第1箇所と第2のリード端子12の複数の第2箇所とに供給されているため、チップコンデンサ27が導電性接着剤37aを押し広げる際に、導電性接着剤37aが、第1縁部11p及び第2縁部12pからはみ出すことが防止される。第2の導電性接着部37が、第1縁部11p及び第2縁部12pからはみ出すことが防止される。パワー半導体モジュール1の絶縁信頼性が低下することがより確実に防止され得る。
これに対し、図11に示される比較例のパワー半導体モジュールでは、第2の導電性接着部37(導電性接着剤37a)が第1縁部11pまたは第2縁部12pからはみ出している。第1のリード端子11上の第2の導電性接着部37と第2のリード端子12上の第2の導電性接着部37との間の最小間隔Gが短くなりすぎて、パワー半導体モジュールの絶縁信頼性が低下する。
それから、導電ワイヤ29は、パワー半導体チップ20、第1のリード端子11、第2のリード端子12及び第3のリード端子13を含む複数のリード端子、制御用半導体チップ23並びに電子素子25にボンディングされる。導電ワイヤ29は、ワイヤボンダを用いて、ボンディングされる。
図6、図12及び図13を参照して、パワー半導体モジュール1の製造方法は、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)を封止部材40で封止すること(S2)を備える。具体的には、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)が接合されたリードフレーム10を金型45にセットする。トランスファーモールド法またはコンプレッションモールド法を用いて、金型45の空洞45a内に封止樹脂を注入する。電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)が封止部材40で封止される。フレーム部10a、端子接続部18、複数のリード端子の突出部(例えば、第1の突出部11c、第2の突出部12c及び第3の突出部15c)は、封止部材40から露出している。
第1のリード端子11が突出する金型45の部分46aとチップコンデンサ27との間の最短距離は、第1のリード端子11の厚さの5倍以下であってもよい。第2のリード端子12が突出する金型45の部分46bとチップコンデンサ27との間の最短距離dは、第2のリード端子12の厚さtの5倍以下であってもよい。一般に、その一端が固定端である板部材に荷重が加わる場合、板部材の撓み量は、固定端から延在する板部材の長さの3乗に比例し、板部材の厚さの3乗に反比例する。金型45の空洞45a内に延在する第1のリード端子11の長さが減少するため、第1のリード端子11の撓み量が減少する。金型45の空洞45a内に延在する第2のリード端子12の長さが減少するため、第2のリード端子12の撓み量が減少する。第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックが導入されることが抑制されて、第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
図6を参照して、パワー半導体モジュール1の製造方法は、リードフレーム10を加工すること(S3)を備える。具体的には、フレーム部10a及び端子接続部18が除去される。複数のリード端子の複数の突出部の一部(例えば、第3のリード端子13及び第4のリード端子14の複数の突出部の一部)がさらに除去されてもよい。複数のリード端子の複数の突出部の一部(例えば、第1の突出部11c、第2の突出部12c及び第3の突出部15c)を折り曲げる。こうして、図1から図3に示されるパワー半導体モジュール1が得られる。
本実施の形態の変形例では、図14に示されるように、第2の導電性接着部37は、チップコンデンサ27の下方にある第1のリード端子11の第1領域11rの80%以上100%以下と、チップコンデンサ27の下方にある第2のリード端子12の第2領域12rの80%以上100%以下とを覆っている。本明細書において、第1領域11rの80%以上100%以下は、チップコンデンサ27に対向する第1のリード端子11の第1の表面11sの平面視における第1領域11rの面積の、80%以上100%以下を意味する。第2のリード端子12の第2領域12rの80%以上100%以下は、チップコンデンサ27に対向する第2のリード端子12の第2の表面12sの平面視における第2領域12rの面積の、80%以上100%以下を意味する。
第2の導電性接着部37は、チップコンデンサ27の下方にある第1のリード端子11の第1領域11rの90%以上100%以下と、チップコンデンサ27の下方にある第2のリード端子12の第2領域12rの90%以上100%以下とを覆ってもよい。第2の導電性接着部37は、チップコンデンサ27の下方にある第1のリード端子11の第1領域11rの全てと、チップコンデンサ27の下方にある第2のリード端子12の第2領域12rの全てとを覆ってもよい。
第1領域11r及び第2領域12r上にある第2の導電性接着部37は、第1の電極28a及び第2の電極28bを除くチップコンデンサ27の本体部に接合されている。第2の導電性接着部37は、第1縁部11p及び第2縁部12pからはみ出していない。
第2の導電性接着部37の熱膨張係数と封止部材40の熱膨張係数との間の差に起因する熱応力が、第2の導電性接着部37に印加される。この熱応力は、例えば、封止樹脂をモールドして封止部材40を形成する工程において、封止部材40が冷却される際に発生する。第1領域11r及び第2領域12r上にある第2の導電性接着部37は、第1の電極28a及び第2の電極28bを除くチップコンデンサ27の本体部に接合されており、封止部材40に接触していない。そのため、第1領域11r及び第2領域12r上にある第2の導電性接着部37は、この熱応力を増加させることなく、第2の導電性接着部37の体積を増加させる。こうして、第2の導電性接着部37の単位体積当たりの熱応力は減少する。第2の導電性接着部37にクラックが発生することが抑制される。第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
本実施の形態の変形例のように、第1領域11rの80%以上100%以下と、第2領域12rの80%以上100%以下とを覆い、かつ、第1縁部11p及び第2縁部12pからはみ出していない第2の導電性接着部37は、図10に示されるように、導電性接着剤37aを、第1のリード端子11の第1の表面11sの複数の第1箇所と第2のリード端子12の第2の表面12sの複数の第2箇所とに供給することによって、容易に形成され得る。
図15を参照して、本実施の形態の半導体装置2の製造方法を説明する。半導体装置2の製造方法は、パワー半導体モジュール1を準備すること(S11)を備える。本実施の形態のパワー半導体モジュール1の製造方法によって、パワー半導体モジュール1は準備される。
半導体装置2の製造方法は、パワー半導体モジュール1を配線基板51に実装すること(S12)をさらに備える。具体的には、複数のリード端子の突出部分(例えば、第2のリード端子12の第4突出部分12e、第5のリード端子15の第6突出部分15e)を、配線基板51の複数の貫通孔(例えば、貫通孔52,53)に挿入する。パワー半導体モジュール1では、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)はデュアルインラインパッケージ(DIP)方式でパッケージされている。そのため、フロー式はんだ付けによって、複数のリード端子の突出部分(例えば、第2のリード端子12の第4突出部分12e、第5のリード端子15の第6突出部分15e)を、配線基板51の複数の配線(例えば、配線54,55)にはんだ接合する。こうして、図5に示される半導体装置2が得られる。
本実施の形態のパワー半導体モジュール1及びその製造方法の効果を説明する。
本実施の形態のパワー半導体モジュール1は、複数のリード端子と、パワー半導体チップ20と、チップコンデンサ27と、チップコンデンサ27とは異なる種類の電子素子25と、封止部材40とを備える。複数のリード端子は、第1のリード端子11と、第1のリード端子11から離間されている第2のリード端子12とを含む。チップコンデンサ27は、第1の電極28aと第2の電極28bとを含む。封止部材40は、パワー半導体チップ20とチップコンデンサ27と電子素子25とを封止している。パワー半導体チップ20は、複数のリード端子の少なくとも1つ(例えば、第5のリード端子15)に接合されている。電子素子25は、第1の導電性接着部35で、複数のリード端子の1つ(例えば、第1のリード端子11)に接合されている。第1の導電性接着部35は、第1の含有率で導電性フィラーを含んでいる。チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bとは、第2の導電性接着部37で、第1のリード端子11と第2のリード端子12とにそれぞれ接合されている。第2の導電性接着部37は、第1の含有率よりも高い第2の含有率で前記導電性フィラーを含んでいる。
本実施の形態のパワー半導体モジュール1は、複数のリード端子と、パワー半導体チップ20と、チップコンデンサ27と、チップコンデンサ27とは異なる種類の電子素子25と、封止部材40とを備える。複数のリード端子は、第1のリード端子11と、第1のリード端子11から離間されている第2のリード端子12とを含む。チップコンデンサ27は、第1の電極28aと第2の電極28bとを含む。封止部材40は、パワー半導体チップ20とチップコンデンサ27と電子素子25とを封止している。パワー半導体チップ20は、複数のリード端子の少なくとも1つ(例えば、第5のリード端子15)に接合されている。電子素子25は、第1の導電性接着部35で、複数のリード端子の1つ(例えば、第1のリード端子11)に接合されている。第1の導電性接着部35は、第1の導電性フィラーを含んでいる。チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bとは、第2の導電性接着部37で、第1のリード端子11と第2のリード端子12とにそれぞれ接合されている。第2の導電性接着部37は、第2の導電性フィラーを含んでいる。第2の導電性接着部は、第1の導電性接着部よりも低い電気抵抗率を有している。
第2の導電性接着部37は、第1の導電性接着部35よりも低い電気抵抗率を有している。第2の導電性フィラーが第1の導電性フィラーと同じ材料で構成されている場合、第2の導電性接着部37における導電性フィラーの第2の含有率は、第1の導電性接着部35における前記導電性フィラーの第1の含有率よりも高い。そのため、第2の導電性接着部37の電気抵抗とチップコンデンサ27の接合部に一般的に求められる許容電気抵抗との間のマージンを大きくすることができる。さらに、第2の導電性接着部37に印加される応力によって第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックの少なくとも1つが導入されても、第2の導電性接着部37の電気抵抗の増分を小さくすることができる。第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。本実施の形態のパワー半導体モジュール1は、高い信頼性を有する。
第1の導電性接着部35における導電性フィラーの第1の含有率は、第2の導電性接着部37における前記導電性フィラーの第2の含有率よりも低いため、第1の導電性接着部35のコストが低減される。本実施の形態のパワー半導体モジュール1によれば、パワー半導体モジュール1のコストが低減され得る。
複数のリード端子に接合される電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)の中で最も背が高いチップコンデンサ27は、導電ワイヤ29を用いることなく、第2の導電性接着部37によって第1のリード端子11と第2のリード端子12とに接合されている。そのため、パワー半導体モジュール1の高さを減少させることができる。本実施の形態のパワー半導体モジュール1によれば、パワー半導体モジュール1が小型化され得る。
本実施の形態のパワー半導体モジュール1では、第2の導電性接着部37は、チップコンデンサ27の下方にある第1のリード端子11の第1領域11rの80%以上100%以下と、チップコンデンサ27の下方にある第2のリード端子12の第2領域12rの80%以上100%以下とを覆っている。第1領域11rは、チップコンデンサ27に対向する第1のリード端子11の第1の表面11sのうち、第1の電極28aと第1のリード端子11の第1縁部11pとの間にある領域である。第2領域12rは、チップコンデンサ27に対向する第2のリード端子12の第2の表面12sのうち、第2の電極28bと第2のリード端子12の第2縁部12pとの間にある領域である。第1縁部11pと第2縁部12pとは、互いに対向しており、かつ、第1のリード端子11の第1の表面11s及び第2のリード端子12の第2の表面12sの平面視において、チップコンデンサ27の下方にある。第1領域11r及び第2領域12r上にある第2の導電性接着部37は、第1の電極28a及び第2の電極28bを除くチップコンデンサ27の本体部に接合されている。第2の導電性接着部37は、第1縁部11p及び第2縁部12pからはみ出していない。
第2の導電性接着部37の熱膨張係数と封止部材40の熱膨張係数との間の差に起因する、第2の導電性接着部37の単位体積当たりの熱応力が減少する。第2の導電性接着部37にクラックが発生することが抑制される。パワー半導体モジュール1の絶縁信頼性が低下することが防止され得る。第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
本実施の形態のパワー半導体モジュールの製造方法は、パワー半導体チップ20を複数のリード端子の少なくとも1つに接合すること(S1a)を備える。複数のリード端子は、第1のリード端子11と、第1のリード端子11から離間されている第2のリード端子12とを含む。本実施の形態のパワー半導体モジュールの製造方法は、電子素子25を、第1の導電性接着部35で、複数のリード端子の1つに接合すること(S1c)を備える。第1の導電性接着部35は、第1の含有率で導電性フィラーを含んでいる。本実施の形態のパワー半導体モジュールの製造方法は、第1のリード端子11の複数の第1箇所と第2のリード端子12の複数の第2箇所とに導電性接着剤37aを供給すること(S1e)を備える。本実施の形態のパワー半導体モジュールの製造方法は、チップコンデンサ27の第1の電極28aを複数の第1箇所上の導電性接着剤37a上に、かつ、チップコンデンサ27の第2の電極28bを複数の第2箇所上の導電性接着剤37a上に載置すること(S1f)とを備える。チップコンデンサ27は、電子素子25と種類が異なっている。本実施の形態のパワー半導体モジュールの製造方法は、導電性接着剤37aを硬化させて、チップコンデンサ27の第1の電極28aと第2の電極28bを第1のリード端子11と第2のリード端子12とにそれぞれ接合する第2の導電性接着部37を形成すること(S1g)を備える。第2の導電性接着部37は、第1の含有率よりも高い第2の含有率で導電性フィラーを含んでいる。本実施の形態のパワー半導体モジュールの製造方法は、パワー半導体チップ20とチップコンデンサ27と電子素子25とを封止部材40で封止すること(S2)を備える。
第2の導電性接着部37が、第1縁部11p及び第2縁部12pからはみ出すことなく、第1領域11rの半分以上の部分及び第2領域12rの半分以上の部分上に容易に形成され得る。パワー半導体モジュール1の絶縁信頼性が低下することがより確実に防止され得る。第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。
実施の形態2.
図16を参照して、実施の形態2のパワー半導体モジュール1bを説明する。本実施の形態のパワー半導体モジュール1bは、実施の形態1のパワー半導体モジュール1と同様の構成を備え、同様の効果を奏するが、以下の点で主に異なる。
パワー半導体モジュール1bでは、複数のリード端子の少なくとも一部は、封止部材40から突出する複数の突出部を含む。複数の突出部は、ガルウィング形状に曲げられている。例えば、第1のリード端子11は、封止部材40から突出する第1の突出部11c(図16に示さず)を含む。第2のリード端子12は、封止部材40から突出する第2の突出部12cを含む。第5のリード端子15は、封止部材40から突出する第3の突出部15cを含む。第1の突出部11c、第2の突出部12c及び第3の突出部15cは、ガルウィング形状に曲げられている。
複数のリード端子は、複数のパッド(例えば、第1のパッド11a、第2のパッド12a、第3のパッド14a、第4のパッド15a)に沿って延在する複数の端子部を含んでいる。例えば、第1のリード端子11の第1の突出部11cは、第1突出部分11d及び第2突出部分11e(図1を参照)に加えて、第7突出部分(図示せず)をさらに含む。第7突出部分は、第2突出部分11eから、第1突出部分11dとは反対方向に、かつ、水平に延在している。第7突出部分は、第2突出部分11eに対して折り曲げられている。第7突出部分は、第1のリード端子11の第1端子部として機能する。第2のリード端子12の第2の突出部12cは、第3突出部分12d及び第4突出部分12eに加えて、第8突出部分12fをさらに含む。第8突出部分12fは、第4突出部分12eから、第3突出部分12dとは反対方向に、かつ、水平に延在している。第8突出部分12fは、第4突出部分12eに対して折り曲げられている。第8突出部分12fは、第2のリード端子12の第2端子部として機能する。
第5のリード端子15の第3の突出部15cは、第5突出部分15d及び第6突出部分15eに加えて、第9突出部分15fをさらに含む。第9突出部分15fは、第6突出部分15eから、第5突出部分15dとは反対方向に、かつ、水平に延在している。第9突出部分15fは、第6突出部分15eに対して折り曲げられている。第9突出部分15fは、第5のリード端子15の第3端子部として機能する。パワー半導体モジュール1bでは、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)はスモールアウトラインパッケージ(SOP)方式でパッケージされている。パワー半導体モジュール1bは、表面実装型のモジュールである。
本実施の形態のパワー半導体モジュール1bの製造方法は、実施の形態1のパワー半導体モジュール1の製造方法(図6を参照)と同様の工程を備えているが、主に以下の点で異なる。パワー半導体モジュール1bの製造方法では、リードフレーム10を加工する工程(S3)において、複数のリード端子の突出部(例えば、第1の突出部11c、第2の突出部12c及び第3の突出部15c)をガルウィング形状に折り曲げている。複数のリード端子の突出部に、複数の端子部(例えば、第7突出部分、第8突出部分12f及び第9突出部分15f)を形成している。複数の端子部は、複数のパッド(例えば、第1のパッド11a、第2のパッド12a、第3のパッド14a、第4のパッド15a)に沿って延在している。こうして、図16に示されるパワー半導体モジュール1bが得られる。
図17を参照して、実施の形態2の半導体装置2bを説明する。本実施の形態の半導体装置2bは、実施の形態1の半導体装置2と同様の構成を備え、同様の効果を奏するが、以下の点で主に異なる。
半導体装置2bは、パワー半導体モジュール1bと、複数の配線(例えば、配線54,55)を含む配線基板51とを備える。複数の配線は、配線基板51の第1の主面51a上に形成されている。複数のリード端子の端子部が、はんだ接合部で配線に接合される。具体的には、第1のリード端子11の第7突出部分(図示せず)は、はんだ接合部(図示せず)で配線(図示せず)に接合される。第2のリード端子12の第8突出部分12fは、はんだ接合部57で配線54に接合される。第5のリード端子15の第9突出部分15fは、はんだ接合部58で配線55に接合される。
本実施の形態の半導体装置2bの製造方法を説明する。本実施の形態の半導体装置2bの製造方法は、実施の形態1の半導体装置2の製造方法(図15を参照)と同様の工程を備えているが、主に以下の点で異なる。
パワー半導体モジュール1bでは、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)はスモールアウトラインパッケージ(SOP)方式でパッケージされている。そのため、パワー半導体モジュール1bを配線基板51に実装する際に、リフロー式はんだ付けによって、複数のリード端子の複数の端子部(例えば、第8突出部分12f及び第9突出部分15f)を、配線基板51の複数の配線(例えば、配線54,55)にはんだ接合する。こうして、図17に示される半導体装置2bが得られる。本実施の形態におけるリフロー式はんだ付けは、実施の形態1におけるフロー式はんだ付けよりも、はんだ付け時のパッケージの到達温度が高く、かつ、はんだ付けに要する時間が長い。そのため、リフロー式はんだ付けによってパワー半導体モジュール1bを配線基板51に実装する際に、より大きな熱応力が、第2の導電性接着部37に印加される。
しかし、第2の導電性接着部37は、第1の導電性接着部35よりも低い電気抵抗率を有している。第2の導電性フィラーが第1の導電性フィラーと同じ材料で構成されている場合、第2の導電性接着部37における導電性フィラーの第2の含有率は、第1の導電性接着部35における前記導電性フィラーの第1の含有率よりも高い。そのため、第2の導電性接着部37の電気抵抗とチップコンデンサ27の接合部に一般的に求められる許容電気抵抗との間のマージンを大きくすることができる。さらに、第2の導電性接着部37に印加される応力によって第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックの少なくとも1つが導入されても、第2の導電性接着部37の電気抵抗の増分を小さくすることができる。第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。本実施の形態のパワー半導体モジュール1bは、高い信頼性を有する。
実施の形態3.
図18を参照して、実施の形態3のパワー半導体モジュール1cを説明する。本実施の形態のパワー半導体モジュール1cは、実施の形態1のパワー半導体モジュール1と同様の構成を備え、同様の効果を奏するが、以下の点で主に異なる。
パワー半導体モジュール1cは、放熱板60をさらに備える。複数のリード端子の少なくとも1つ(第5のリード端子15)は、パワー半導体チップ20に対向する第3の表面15sと、第3の表面15sとは反対側の第4の表面15tとを含む。放熱板60は、第4の表面15tに取り付けられている。放熱板60は、銅またはアルミニウムのような高い熱伝導性を有する材料で構成されている。放熱板60は、封止部材40から露出する放熱面61を有している。放熱面61は、パワー半導体チップ20において発生する熱をパワー半導体モジュール1cの外部に効率的に放散させる。放熱面61は、封止部材40の表面42と面一であってもよい。放熱面61以外の放熱板60の複数の表面は、封止部材40に面してもよい。
放熱板60は、封止部材40に一体化されている。例えば、電子部品(パワー半導体チップ20、制御用半導体チップ23、チップコンデンサ27、電子素子25)及び複数のリード端子とともに放熱板60を封止部材40でモールドすることによって、放熱板60は封止部材40に一体化されてもよい。あるいは、封止部材40に形成された凹部に放熱板60を嵌合することによって、放熱板60は封止部材40に一体化されてもよい。ねじのような固定部材を用いて放熱板60を封止部材40に取り付けることによって、放熱板60は封止部材40に一体化されてもよい。
特定的には、パワー半導体モジュール1cは、絶縁層62をさらに備えてもよい。放熱板60は、絶縁層62を介して、第4の表面15tに取り付けらてもよい。絶縁層62は、高い熱伝導性を有する絶縁性粒子が分散された絶縁性樹脂層であってもよい。絶縁性粒子は、例えば、シリカ、アルミナまたは窒化アルミニウムのような絶縁性無機材料で構成されてもよい。絶縁性樹脂層は、例えば、エポキシ樹脂層であってもよい。放熱板60は、封止部材40及び絶縁層62によって、複数のリード端子から絶縁されてもよい。
本実施の形態のパワー半導体モジュール1cの効果を説明する。
本実施の形態のパワー半導体モジュール1cは、放熱板60をさらに備える。複数のリード端子の少なくとも1つ(第5のリード端子15)は、パワー半導体チップ20に対向する第3の表面15sと、第3の表面15sとは反対側の第4の表面15tとを含む。放熱板60は、第4の表面15tに取り付けられている。そのため、パワー半導体チップ20から発生する熱が、放熱板60を通して、パワー半導体モジュール1cの外部に効率的に放散され得る。
パワー半導体チップ20及び複数のリード端子の少なくとも1つ(第5のリード端子15)は、封止部材40と放熱板60との間にある。封止部材40と放熱板60とは、互いに異なる熱膨張係数を有している。そのため、本実施の形態のパワー半導体モジュール1cは、実施の形態1のパワー半導体モジュール1よりも、複数のリード端子がより大きく反って、より大きな熱応力が第2の導電性接着部37に印加される。
しかし、第2の導電性接着部37は、第1の導電性接着部35よりも低い電気抵抗率を有している。第2の導電性フィラーが第1の導電性フィラーと同じ材料で構成されている場合、第2の導電性接着部37における導電性フィラーの第2の含有率は、第1の導電性接着部35における前記導電性フィラーの第1の含有率よりも高い。そのため、第2の導電性接着部37の電気抵抗とチップコンデンサ27の接合部に一般的に求められる許容電気抵抗との間のマージンを大きくすることができる。さらに、第2の導電性接着部37に印加される応力によって第2の導電性接着部37に部分的な剥離及びクラックの少なくとも1つが導入されても、第2の導電性接着部37の電気抵抗の増分を小さくすることができる。第2の導電性接着部37の電気的接続の信頼性が向上され得る。本実施の形態のパワー半導体モジュール1cは、高い信頼性を有する。
実施の形態4.
本実施の形態は、実施の形態1から実施の形態3のいずれか1つに係るパワー半導体モジュール1,1b,1cを電力変換装置に適用したものである。本実施の形態の電力変換装置200が、特に限定されるものではないが、三相のインバータである場合について以下説明する。
図19に示される電力変換システムは、電源100、電力変換装置200、負荷300から構成される。電源100は、直流電源であり、電力変換装置200に直流電力を供給する。電源100は、特に限定されないが、例えば、直流系統、太陽電池または蓄電池で構成されてもよいし、交流系統に接続された整流回路またはAC/DCコンバータで構成されてもよい。電源100は、直流系統から出力される直流電力を別の直流電力に変換するDC/DCコンバータによって構成されてもよい。
電力変換装置200は、電源100と負荷300の間に接続された三相のインバータであり、電源100から供給された直流電力を交流電力に変換し、負荷300に交流電力を供給する。電力変換装置200は、図19に示されるように、直流電力を交流電力に変換して出力する主変換回路201と、主変換回路201を制御する制御信号を主変換回路201に出力する制御回路203とを備えている。
負荷300は、電力変換装置200から供給された交流電力によって駆動される三相の電動機である。なお、負荷300は、特に限定されるものではないが、各種電気機器に搭載された電動機であり、例えば、ハイブリッド自動車、電気自動車、鉄道車両、エレベーター、または、空調機器向けの電動機として用いられる。
以下、電力変換装置200の詳細を説明する。主変換回路201は、スイッチング素子(図示せず)と還流ダイオード(図示せず)を備えている。スイッチング素子が電源100から供給される電圧をスイッチングすることによって、主変換回路201は、電源100から供給される直流電力を交流電力に変換して、負荷300に供給する。主変換回路201の具体的な回路構成は種々のものがあるが、本実施の形態に係る主変換回路201は2レベルの三相フルブリッジ回路であり、6つのスイッチング素子とそれぞれのスイッチング素子に逆並列された6つの還流ダイオードとから構成され得る。主変換回路201の各スイッチング素子及び各還流ダイオードの少なくともいずれかに、上述した実施の形態1から実施の形態3のいずれかのパワー半導体モジュール1,1b,1cを適用する。6つのスイッチング素子は2つのスイッチング素子ごとに直列接続され上下アームを構成し、各上下アームはフルブリッジ回路の各相(U相、V相及びW相)を構成する。そして、各上下アームの出力端子、すなわち主変換回路201の3つの出力端子は、負荷300に接続される。
また、上述した実施の形態1で説明したように、各スイッチング素子を駆動する駆動回路(例えば、制御用半導体チップ23)がパワー半導体モジュール202に内蔵されているため、主変換回路201は駆動回路を備えている。駆動回路は、主変換回路201に含まれるスイッチング素子を駆動する駆動信号を生成して、主変換回路201のスイッチング素子の制御電極に駆動信号を供給する。具体的には、制御回路203からの制御信号に従い、スイッチング素子をオン状態にする駆動信号とスイッチング素子をオフ状態にする駆動信号とを各スイッチング素子の制御電極に出力する。スイッチング素子をオン状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以上の電圧信号(オン信号)であり、スイッチング素子をオフ状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以下の電圧信号(オフ信号)となる。
制御回路203は、負荷300に所望の電力が供給されるよう主変換回路201のスイッチング素子を制御する。具体的には、負荷300に供給すべき電力に基づいて主変換回路201の各スイッチング素子がオン状態となるべき時間(オン時間)を算出する。例えば、出力すべき電圧に応じてスイッチング素子のオン時間を変調するパルス幅変調(PWM)制御によって、主変換回路201を制御することができる。そして、各時点においてオン状態となるべきスイッチング素子にはオン信号を、オフ状態になるべきスイッチング素子にはオフ信号が出力されるよう、主変換回路201が備える駆動回路に制御指令(制御信号)を出力する。駆動回路は、この制御信号に従い、各スイッチング素子の制御電極にオン信号又はオフ信号を駆動信号として出力する。
本実施の形態に係る電力変換装置200では、主変換回路201に含まれるパワー半導体モジュール202として、実施の形態1から実施の形態3のいずれかに係るパワー半導体モジュール1,1b,1cが適用される。そのため、本実施の形態に係る電力変換装置200は、高い信頼性を有する。
本実施の形態では、2レベルの三相インバータに本発明を適用する例を説明したが、これに限られるものではなく、種々の電力変換装置に適用することができる。本実施の形態では2レベルの電力変換装置としたが、3レベルの電力変換装置であってもよいし、マルチレベルの電力変換装置であってもよい。電力変換装置が単相負荷に電力を供給する場合には、単相のインバータに本発明が適用されてもよい。電力変換装置が直流負荷等に電力を供給する場合には、DC/DCコンバータまたはAC/DCコンバータに本発明が適用されてもよい。
本発明が適用された電力変換装置は、負荷が電動機の場合に限定されるものではなく、例えば、放電加工機もしくはレーザー加工機の電源装置、または、誘導加熱調理器もしくは非接触器給電システムの電源装置に組み込まれ得る。本発明が適用された電力変換装置は、太陽光発電システムまたは蓄電システム等のパワーコンディショナーとして用いられ得る。
今回開示された実施の形態1−4はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。矛盾のない限り、今回開示された実施の形態1−4の少なくとも2つを組み合わせてもよい。本発明の範囲は、上記した説明ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。
1,1b,1c パワー半導体モジュール、2,2b 半導体装置、10 リードフレーム、10a フレーム部、10b 開口、11 第1のリード端子、11a 第1のパッド、11c 第1の突出部、11d 第1突出部分、11e 第2突出部分、11p 第1縁部、11r 第1領域、11s 第1の表面、12 第2のリード端子、12a 第2のパッド、12c 第2の突出部、12d 第3突出部分、12e 第4突出部分、12f 第8突出部分、12p 第2縁部、12r 第2領域、12s 第2の表面、13 第3のリード端子、14 第4のリード端子、14a 第3のパッド、15 第5のリード端子、15a 第4のパッド、15b 段差部、15c 第3の突出部、15d 第5突出部分、15e 第6突出部分、15f 第9突出部分、15s 第3の表面、15t 第4の表面、16a 第1の貫通孔、16b 第2の貫通孔、17 めっき部、18 端子接続部、20 パワー半導体チップ、23 制御用半導体チップ、25 電子素子、25a ダイオード、25b 抵抗器、27 チップコンデンサ、28a 第1の電極、28b 第2の電極、29 導電ワイヤ、30 はんだ接合部、33 導電接合部、35 第1の導電性接着部、37 第2の導電性接着部、37a 導電性接着剤、40 封止部材、41a,41b 部分、42 表面、45 金型、46a,46b 部分、51 配線基板、51a 第1の主面、51b 第2の主面、52,53 貫通孔、54,55 配線、57,58 はんだ接合部、60 放熱板、61 放熱面、62 絶縁層、100 電源、200 電力変換装置、201 主変換回路、202 パワー半導体モジュール、203 制御回路、300 負荷。

Claims (19)

  1. 第1のリード端子と、前記第1のリード端子から離間されている第2のリード端子とを含む複数のリード端子と、
    パワー半導体チップと、
    第1の電極と第2の電極とを含むチップコンデンサと、
    前記チップコンデンサとは異なる種類の電子素子と、
    前記パワー半導体チップと前記チップコンデンサと前記電子素子とを封止する封止部材とを備え、
    前記パワー半導体チップは前記複数のリード端子の少なくとも1つに接合されており、
    前記電子素子は、第1の導電性接着部で、前記第1のリード端子に接合されており、前記第1の導電性接着部は、第1の含有率で導電性フィラーを含んでおり、
    前記チップコンデンサの前記第1の電極と前記第2の電極とは、第2の導電性接着部で、前記第1のリード端子と前記第2のリード端子とにそれぞれ接合されており、前記第2の導電性接着部は、前記第1の含有率よりも高い第2の含有率で前記導電性フィラーを含んでいる、パワー半導体モジュール。
  2. 第1のリード端子と、前記第1のリード端子から離間されている第2のリード端子とを含む複数のリード端子と、
    パワー半導体チップと、
    第1の電極と第2の電極とを含むチップコンデンサと、
    前記チップコンデンサとは異なる種類の電子素子と、
    前記パワー半導体チップと前記チップコンデンサと前記電子素子とを封止する封止部材とを備え、
    前記パワー半導体チップは前記複数のリード端子の少なくとも1つに接合されており、
    前記電子素子は、第1の導電性接着部で、前記第1のリード端子に接合されており、前記第1の導電性接着部は、第1の導電性フィラーを含んでおり、
    前記チップコンデンサの前記第1の電極と前記第2の電極とは、第2の導電性接着部で、前記第1のリード端子と前記第2のリード端子とにそれぞれ接合されており、前記第2の導電性接着部は、第2の導電性フィラーを含んでおり、
    前記第2の導電性接着部は、前記第1の導電性接着部よりも低い電気抵抗率を有する、パワー半導体モジュール。
  3. 前記第1の導電性接着部は、絶縁性無機材料で構成されている絶縁性粒子をさらに含む、請求項1または請求項2に記載のパワー半導体モジュール。
  4. 前記絶縁性粒子は、シリカ、アルミナ及び窒化アルミニウムからなる群から選択される1つ以上の無機材料で構成されている、請求項3に記載のパワー半導体モジュール。
  5. 前記第1のリード端子は、第1の貫通孔を含み、
    前記第2のリード端子は、第2の貫通孔を含み、
    前記第1の貫通孔及び前記第2の貫通孔は前記封止部材によって充填されている、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  6. 前記第2の含有率は、75重量%以上である、請求項1に記載のパワー半導体モジュール。
  7. 前記第1の含有率は、65重量%以下である、請求項1に記載のパワー半導体モジュール。
  8. 前記導電性フィラーは、銀、ニッケル及び銅からなる群から選択される1つ以上の導電性材料で構成されている、請求項1に記載のパワー半導体モジュール。
  9. 前記第1の導電性フィラーは、銀、ニッケル及び銅からなる群から選択される1つ以上の導電性材料で構成されており、
    前記第2の導電性フィラーは、銀、ニッケル及び銅からなる群から選択される1つ以上の導電性材料で構成されている、請求項2に記載のパワー半導体モジュール。
  10. 前記第1の電極に対向する前記第1のリード端子の第1の表面と、前記第2の電極に対向する前記第2のリード端子の第2の表面とは、銅または錫で構成されている、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  11. 前記第1の電極と前記第2の電極とは、銅または錫で構成されている、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  12. 前記電子素子は、整流用半導体チップである、請求項1から請求項11のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  13. 前記整流用半導体チップは、抵抗器を内蔵しており、
    前記抵抗器を内蔵する前記整流用半導体チップと、前記チップコンデンサとは、ブートストラップ回路を構成している、請求項12に記載のパワー半導体モジュール。
  14. 前記第2のリード端子は、前記封止部材の部分から突出する突出部を含み、
    前記封止部材の前記部分と前記チップコンデンサとの間の最短距離は、前記第2のリード端子の厚さの5倍以下である、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  15. 前記複数のリード端子の少なくとも一部は、前記封止部材から突出する複数の突出部を含み、
    前記複数の突出部は、ガルウィング形状に曲げられている、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  16. 前記第2の導電性接着部は、前記チップコンデンサの下方にある前記第1のリード端子の第1領域の80%以上100%以下と、前記チップコンデンサの下方にある前記第2のリード端子の第2領域の80%以上100%以下とを覆っており、
    前記第1領域は、前記チップコンデンサに対向する前記第1のリード端子の第1の表面のうち、前記第1の電極と前記第1のリード端子の第1縁部との間にある領域であり、
    前記第2領域は、前記チップコンデンサに対向する前記第2のリード端子の第2の表面のうち、前記第2の電極と前記第2のリード端子の第2縁部との間にある領域であり、
    前記第1縁部と前記第2縁部とは、互いに対向しており、かつ、前記第1のリード端子の前記第1の表面及び前記第2のリード端子の前記第2の表面の平面視において、前記チップコンデンサの下方にあり、
    前記第1領域及び前記第2領域上にある前記第2の導電性接着部は、前記第1の電極及び前記第2の電極を除く前記チップコンデンサの部分に接合されており、
    前記第2の導電性接着部は、前記第1縁部及び前記第2縁部からはみ出していない、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  17. 放熱板をさらに備え、
    前記複数のリード端子の前記少なくとも1つは、前記パワー半導体チップに対向する第3の表面と、前記第3の表面とは反対側の第4の表面とを含み、
    前記放熱板は、前記第4の表面に取り付けられている、請求項1から請求項16のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  18. 請求項1から請求項17のいずれか1項記載の前記パワー半導体モジュールを有し、かつ、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、
    前記主変換回路を制御する制御信号を前記主変換回路に出力する制御回路とを備える、電力変換装置。
  19. パワー半導体チップを複数のリード端子の少なくとも1つに接合することを備え、前記複数のリード端子は、第1のリード端子と、前記第1のリード端子から離間されている第2のリード端子とを含み、さらに、
    電子素子を、第1の導電性接着部で、前記第1のリード端子に接合することを備え、前記第1の導電性接着部は、第1の含有率で導電性フィラーを含んでおり、さらに、
    前記第1のリード端子の複数の第1箇所と前記第2のリード端子の複数の第2箇所とに導電性接着剤を供給することと、
    チップコンデンサの第1の電極を前記複数の第1箇所上の前記導電性接着剤上に、かつ、前記チップコンデンサの第2の電極を前記複数の第2箇所上の前記導電性接着剤上に載置することとを備え、前記チップコンデンサは前記電子素子と種類が異なっており、さらに、
    前記導電性接着剤を硬化させて、前記チップコンデンサの前記第1の電極と前記第2の電極を前記第1のリード端子と前記第2のリード端子とにそれぞれ接合する第2の導電性接着部を形成することを備え、前記第2の導電性接着部は、前記第1の含有率よりも高い第2の含有率で前記導電性フィラーを含んでおり、さらに、
    前記パワー半導体チップと前記チップコンデンサと前記電子素子とを封止部材で封止することを備える、パワー半導体モジュールの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7308793B2 (ja) * 2020-05-28 2023-07-14 三菱電機株式会社 半導体装置
CN115148709B (zh) * 2022-06-28 2023-06-23 爱微(江苏)电力电子有限公司 电池组的电子式初始充电用功率模块及其的制造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006156660A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Denso Corp リードフレーム
JP2011238906A (ja) * 2010-04-14 2011-11-24 Denso Corp 半導体モジュール
JP2012104633A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032774A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Denso Corp 電子装置
JP5989124B2 (ja) * 2012-09-07 2016-09-07 三菱電機株式会社 パワー半導体装置
JP2014195039A (ja) * 2013-02-26 2014-10-09 Tokai Rika Co Ltd 電子部品の接続構造
JP6011574B2 (ja) * 2013-06-27 2016-10-19 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006156660A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Denso Corp リードフレーム
JP2011238906A (ja) * 2010-04-14 2011-11-24 Denso Corp 半導体モジュール
JP2012104633A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

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