JPWO2019208191A1 - ウエハ支持台 - Google Patents
ウエハ支持台 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2019208191A1 JPWO2019208191A1 JP2019541365A JP2019541365A JPWO2019208191A1 JP WO2019208191 A1 JPWO2019208191 A1 JP WO2019208191A1 JP 2019541365 A JP2019541365 A JP 2019541365A JP 2019541365 A JP2019541365 A JP 2019541365A JP WO2019208191 A1 JPWO2019208191 A1 JP WO2019208191A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rod
- electrode
- thin film
- wafer
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
ウエハ載置面を有し、RF電極とヒータ電極とが前記ウエハ載置面側からこの順に埋設されたセラミック基体と、
前記セラミック基体のうち前記ウエハ載置面とは反対側の面から前記RF電極に向けて設けられた穴と、
前記穴の底面に露出した前記RF電極又は前記RF電極と接続している導電性部材と接合され、高周波電力を前記RF電極へ供給するNi製又はコバール製のロッドと、
前記ロッドの外周面のうち前記ロッドの基端部から前記穴に挿入されていない所定位置までの領域に設けられた銅族元素薄膜と、
を備えたものである。
T(x)=Ts−(ΔT/L)*x …(1)
Claims (3)
- ウエハ載置面を有し、RF電極とヒータ電極とが前記ウエハ載置面側からこの順に埋設されたセラミック基体と、
前記セラミック基体のうち前記ウエハ載置面とは反対側の面から前記RF電極に向けて設けられた穴と、
前記穴の底面に露出した前記RF電極又は前記RF電極と接続している導電性部材と接合され、高周波電力を前記RF電極へ供給するNi製又はコバール製のロッドと、
前記ロッドの外周面のうち前記ロッドの基端部から前記穴に挿入されていない所定位置までの領域に設けられた銅族元素薄膜と、
を備えたウエハ支持台。 - 前記銅族元素薄膜は、厚さが3μm以上6μm以下である、
請求項1に記載のウエハ支持台。 - 前記所定位置は、前記銅族元素薄膜が設けられた前記ロッドの代わりに前記銅族元素薄膜が設けられていない前記ロッドを用い、前記ヒータ電極の温度をTs[℃](但し、Tsは前記ロッドの材質のキュリー点を超える)、前記ロッドの長さをL[cm]、前記ロッドの両端部の温度差をΔT[℃]、前記ロッドの先端部から前記所定位置までの長さをx[cm]、前記ロッドの前記所定位置における温度をT(x)[℃]としたとき、
T(x)=Ts−(ΔT/L)*x
で表されるT(x)が前記ロッドの材質のキュリー点以下になるように定められている、
請求項1又は2に記載のウエハ支持台。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018086780 | 2018-04-27 | ||
JP2018086780 | 2018-04-27 | ||
PCT/JP2019/015385 WO2019208191A1 (ja) | 2018-04-27 | 2019-04-09 | ウエハ支持台 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6586259B1 JP6586259B1 (ja) | 2019-10-02 |
JPWO2019208191A1 true JPWO2019208191A1 (ja) | 2020-05-07 |
Family
ID=68095406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019541365A Active JP6586259B1 (ja) | 2018-04-27 | 2019-04-09 | ウエハ支持台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6586259B1 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3728078B2 (ja) * | 1997-11-28 | 2005-12-21 | 京セラ株式会社 | プラズマ発生用部材 |
JP4421595B2 (ja) * | 2006-11-16 | 2010-02-24 | 日本碍子株式会社 | 加熱装置 |
JP5056029B2 (ja) * | 2007-01-26 | 2012-10-24 | 住友電気工業株式会社 | 半導体製造装置用ウェハ保持体、その製造方法およびそれを搭載した半導体製造装置 |
-
2019
- 2019-04-09 JP JP2019541365A patent/JP6586259B1/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6586259B1 (ja) | 2019-10-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4672597B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5117146B2 (ja) | 加熱装置 | |
US8884524B2 (en) | Apparatus and methods for improving reliability of RF grounding | |
US11469129B2 (en) | Wafer support table | |
KR100717108B1 (ko) | 급전 부재 및 가열 장치 | |
TWI643832B (zh) | 陶瓷構件 | |
JP6653535B2 (ja) | ヒータユニット | |
JP2006302888A (ja) | 給電部材及び加熱装置 | |
JP4005268B2 (ja) | セラミックスと金属との接合構造およびこれに使用する中間挿入材 | |
JP4321857B2 (ja) | セラミックスの接合構造 | |
JPWO2019208191A1 (ja) | ウエハ支持台 | |
JP7444946B2 (ja) | ヒータ | |
JP3906087B2 (ja) | ウエハ支持部材 | |
JP7129587B1 (ja) | ウエハ支持台及びrfロッド | |
JPH1050811A (ja) | 半導体基板の温度調節機構 | |
WO2022209619A1 (ja) | ウエハ支持台及びrfロッド | |
JP7143256B2 (ja) | ウエハ載置台及びその製法 | |
JP2018185972A (ja) | 試料保持具 | |
JP3854145B2 (ja) | ウエハ支持部材 | |
JP4069875B2 (ja) | ウェハ保持部材 | |
JP2017224641A (ja) | 抵抗器及びヒータ | |
JP6558184B2 (ja) | 静電チャック装置 | |
JPH08162519A (ja) | 静電チャック及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190730 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20190730 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20190828 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6586259 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |