JPWO2019180773A1 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2019180773A1 JPWO2019180773A1 JP2018540171A JP2018540171A JPWO2019180773A1 JP WO2019180773 A1 JPWO2019180773 A1 JP WO2019180773A1 JP 2018540171 A JP2018540171 A JP 2018540171A JP 2018540171 A JP2018540171 A JP 2018540171A JP WO2019180773 A1 JPWO2019180773 A1 JP WO2019180773A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder
- semiconductor device
- manufacturing
- face
- laser chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0239—Combinations of electrical or optical elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Description
図1は、実施の形態1の半導体装置の斜視図である。少なくとも一部が半導体で形成されたレーザチップ10はサブマウント19に実装されている。サブマウント19はヒートシンク14に実装されている。ヒートシンク14はステム16に固定されている。ステム16を貫通する端子18が複数設けられている。この端子18とレーザチップ10が電気的に接続されている。例えばレーザチップ10の上面と端子18がワイヤで接続され、サブマウント19と別の端子18が別のワイヤで接続される。
図7A、7B、図8A、8Bは実施の形態2に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図7A、7Bは、レーザチップ10をサブマウントに半田付けする前の状態を示す図である。図7Aは平面図である。図7Bは図7AのA−A´線における断面図である。
図9A、9B、9Cと図10A、10B、10Cは、実施の形態3に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図9A、9B、9Cは、レーザチップ10をサブマウントに半田付けする前の状態を示す図である。図9Aは平面図である。図9Bは図9AのA−A´線における断面図である。図9Cは図9AのB−B´線における断面図である。
図11A、11B、11Cと図12A、12B、12Cは実施の形態4に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図11A、11B、11Cは、レーザチップ10をサブマウントに半田付けする前の状態を示す図である。図11Aは平面図である。図11Bは図11AのA−A´線における断面図である。図11Cは図11AのB−B´線における断面図である。
図13A、13Bと図14A、14Bは実施の形態5に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図13A、13Bは、レーザチップ10をサブマウントに半田付けする前の状態を示す図である。図13Aは平面図である。図13Bは図13AのA−A´線における断面図である。
図15A、15Bと図16A、16Bは実施の形態6に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図15A、15Bは、レーザチップ10をサブマウントに半田付けする前の状態を示す図である。図15Aは平面図である。図15Bは図15AのA−A´線における断面図である。
図17A、17Bと図18A、18Bは実施の形態7に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図17A、17Bは、レーザチップ10をサブマウントに半田付けする前の状態を示す図である。図17Aは平面図である。図17Bは図17AのA−A´線における断面図である。
図19A、19Bと図20A、20Bは実施の形態8に係る半導体装置の製造方法を示す図である。図19A、19Bは、レーザチップ10をサブマウントに半田付けする前の状態を示す図である。図19Aは平面図である。図19Bは図19AのA−A´線における断面図である。
Claims (19)
- 第1端面と前記第1端面に対向する第2端面とを有するサブマウント基板と、前記サブマウント基板の上に設けられた電極層と、前記電極層の上に設けられたバリア層と、前記バリア層に接し前記第1端面と前記第2端面からは後退して設けられた半田と、を有するサブマウントを用意することと、
発光ストライプ領域と、前記発光ストライプ領域の左右の隣接領域と、を有するレーザチップを、前記半田の上にのせ、前記第1端面の直上と前記第2端面の直上に前記レーザチップを位置させることと、
前記半田を加熱し、前記半田が前記第1端面又は前記第2端面の方向に濡れ広がってできた延伸部で前記レーザチップと前記電極層を直接接続することと、を備えた半導体装置の製造方法。 - 前記加熱前の前記半田の一部は前記電極層に接し、前記延伸部は前記電極層に接する前記半田が濡れ広がってできたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記延伸部は、前記発光ストライプ領域の直下にあることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記発光ストライプ領域の下では、前記半田が前記発光ストライプ領域と前記電極層を直接接続し、
前記隣接領域の直下では、前記半田が前記隣接領域と前記バリア層を直接接続することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記発光ストライプ領域の下では、前記延伸部より内側で前記半田の一部である第1半田が前記発光ストライプ領域と前記電極層を直接接続し、前記第1半田より内側で前記半田の一部である第2半田が前記発光ストライプ領域と前記バリア層を直接接続していることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 平面視で前記第1半田は前記第2半田を挟み、前記延伸部は前記第1半田を挟むことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記延伸部は前記半田が前記レーザチップの金メッキ層と反応することで濡れ広がってできたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記加熱前の前記半田の幅は前記レーザチップの幅より小さいことを特徴とする請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記加熱前の前記半田は、平面視で前記第1端面側の幅が前記第2端面側の幅より小さいことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記加熱前の前記半田は、平面視でテーパ形状であることを特徴とする請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記加熱前の前記半田は、前記第1端面側の幅が前記発光ストライプ領域の幅より大きいことを特徴とする請求項9又は10に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記加熱前の前記半田の幅は、前記第1端面側で前記レーザチップの幅より小さく、前記第2端面側で前記レーザチップの幅より大きいことを特徴とする請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記加熱前の前記半田の幅は、前記第2端面側で前記レーザチップの幅より大きいことを特徴とする請求項10に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記加熱前の前記半田は、前記第1端面側で前記第2端面側より厚くなっていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記レーザチップの前端面が前記第1端面側に位置し、前記レーザチップの後端面が前記第2端面側に位置することを特徴とする請求項9から14のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 第1端面と前記第1端面に対向する第2端面とを有するサブマウント基板と、前記サブマウント基板の上に設けられた電極層と、前記電極層の上に設けられ前記第1端面の直上から前記第2端面の直上に達するバリア層と、前記バリア層に接し前記第1端面の直上から前記第2端面の直上に達する半田と、を有するサブマウントを用意することと、
発光ストライプ領域と、前記発光ストライプ領域の左右の隣接領域と、を有するレーザチップを、前記半田の上にのせ、前記第1端面の直上と前記第2端面の直上に前記レーザチップを位置させることと、
前記半田を加熱し、前記第1端面の直上から前記第2端面の直上にわたって、前記半田で前記レーザチップと前記バリア層を直接接続することと、を備え、
前記加熱前の前記半田は、前記第1端面の直上と、前記第2端面の直上で、前記サブマウントの中央の直上よりも薄いことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記バリア層はPt、Ni、Cu、Pd又はCoを含むことを特徴とする請求項1から16のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記電極層はTi、Ta、Mo、Pt又はAuを含むことを特徴とする請求項1から16のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記電極層は前記サブマウント基板の全面に形成されたことを特徴とする請求項1から18のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/010782 WO2019180773A1 (ja) | 2018-03-19 | 2018-03-19 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019180773A1 true JPWO2019180773A1 (ja) | 2020-04-23 |
Family
ID=67986883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018540171A Pending JPWO2019180773A1 (ja) | 2018-03-19 | 2018-03-19 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2019180773A1 (ja) |
WO (1) | WO2019180773A1 (ja) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05183239A (ja) * | 1992-01-06 | 1993-07-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2002359425A (ja) * | 2002-02-18 | 2002-12-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | サブマウントおよび半導体装置 |
JP2002359427A (ja) * | 2002-02-18 | 2002-12-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | サブマウントおよび半導体装置 |
JP2003347650A (ja) * | 2002-05-29 | 2003-12-05 | Rohm Co Ltd | 半導体発光装置 |
JP2013115240A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-06-10 | Nichia Chem Ind Ltd | レーザ装置 |
US20130250994A1 (en) * | 2010-09-29 | 2013-09-26 | Mathias Moenster | Semiconductor laser assembly and method for producing a semiconductor laser assembly |
JP2013197445A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Seiko Epson Corp | 半導体光源、投影表示装置及び半導体光源の製造方法 |
JP2013225654A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-10-31 | Nichia Chem Ind Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2015173218A (ja) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ光源 |
-
2018
- 2018-03-19 JP JP2018540171A patent/JPWO2019180773A1/ja active Pending
- 2018-03-19 WO PCT/JP2018/010782 patent/WO2019180773A1/ja active Application Filing
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05183239A (ja) * | 1992-01-06 | 1993-07-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2002359425A (ja) * | 2002-02-18 | 2002-12-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | サブマウントおよび半導体装置 |
JP2002359427A (ja) * | 2002-02-18 | 2002-12-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | サブマウントおよび半導体装置 |
JP2003347650A (ja) * | 2002-05-29 | 2003-12-05 | Rohm Co Ltd | 半導体発光装置 |
US20130250994A1 (en) * | 2010-09-29 | 2013-09-26 | Mathias Moenster | Semiconductor laser assembly and method for producing a semiconductor laser assembly |
JP2013115240A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-06-10 | Nichia Chem Ind Ltd | レーザ装置 |
JP2013197445A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Seiko Epson Corp | 半導体光源、投影表示装置及び半導体光源の製造方法 |
JP2013225654A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-10-31 | Nichia Chem Ind Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2015173218A (ja) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ光源 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019180773A1 (ja) | 2019-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10490970B2 (en) | Semiconductor laser device | |
KR101561203B1 (ko) | 반도체 발광소자 | |
JP2011222675A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP5426081B2 (ja) | 基板接合方法及び半導体装置 | |
US8138663B2 (en) | Light emitting device and method of manufacturing the same | |
US9692204B2 (en) | Semiconductor laser element and method of making semiconductor laser device | |
KR101638120B1 (ko) | 반도체 발광소자 | |
US20080191365A1 (en) | Optical semiconductor device | |
JPWO2019180773A1 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP6512375B1 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3339369B2 (ja) | レーザダイオード | |
JP2003023200A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JP2006332521A (ja) | 半導体レーザー装置 | |
JP2008091768A (ja) | 半導体レーザ装置および電子機器 | |
CN114204407B (zh) | 激光器管芯的封装结构及封装方法 | |
CN114204407A (zh) | 激光器管芯的封装结构及封装方法 | |
JP2019525470A (ja) | 半導体レーザの製造方法および半導体レーザ | |
JP2008294421A (ja) | 半導体レーザ素子およびその製造方法 | |
US20220166186A1 (en) | Semiconductor laser element | |
JP2008288500A (ja) | 半導体光デバイス、及びその製造方法 | |
JP2008021762A (ja) | 半導体レーザ素子および半導体レーザ装置 | |
CN115917897A (zh) | 半导体激光元件的制造方法、半导体激光元件及半导体激光装置 | |
JP4916330B2 (ja) | 窒化物半導体レーザ装置の製造方法 | |
JP2005142224A (ja) | 半導体レーザ素子の実装方法 | |
JP2008060180A (ja) | 半導体レーザ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180801 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20180801 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20180914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190305 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190417 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190611 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190731 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20191008 |