JPWO2019176558A1 - 研磨組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態に係る研磨組成物は、アルミナ砥粒、分散剤及び水を含む。
本実施形態に係る研磨組成物は、アルミナ砥粒を含有する。前記アルミナ砥粒としては、特に限定されるものではなく、公知の各種アルミナ粒子の中から適宜選択して用いることができる。このような公知のアルミナ粒子としては、例えば、α−アルミナ、γ−アルミナ、δ−アルミナ、θ−アルミナ、η−アルミナ、κ−アルミナ、χ−アルミナ等が挙げられる。また、製法による分類に基づき、ヒュームドアルミナと称されるアルミナ(典型的にはアルミナ塩を高温焼成する際に生産されるアルミナ微粒子)、コロイダルアルミナ又はアルミナゾルと称されるアルミナ(例えばベーマイト等のアルミナ水和物)も、前記公知のアルミナ粒子の例に含まれる。これらのアルミナ粒子は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態に係る研磨組成物は、分散剤を含有する。
本実施形態に係る研磨組成物は、アルミナ砥粒、グリシン及び界面活性剤が水に溶解又は懸濁されている。前記水は、アルミナ砥粒、グリシン及び界面活性剤の各種作用を阻害しないように、イオン交換水等の不純物が少ないものを用いることが好ましい。
本実施形態に係る研磨組成物は、pHが、7.0以上11.0以下であることが好ましい。斯かる構成により、樹脂に対する機械的研磨力が向上し、樹脂の研磨速度を向上させることができる。pHを前記範囲に調整するため、本実施形態に係る研磨組成物は、必要に応じて、pH調整剤を含んでいてもよい。前記pH調整剤としては、例えば、有機酸、無機酸等の酸(例えば、グリシン、マロン酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸等の有機酸、硝酸、塩酸等の無機酸等)、アンモニア、KOH等の無機塩基、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)等の有機塩基等が挙げられる。
本実施形態に係る研磨組成物は、必要に応じて、消泡剤を含んでいてもよい。斯かる構成により、研磨組成物の泡立ちを抑制し、樹脂をより均一に研磨することができる。前記消泡剤としては、例えば、シリコーンエマルジョン、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。前記研磨組成物における、前記消泡剤の含有量は、0.05質量%以上であることが好ましく、0.3質量%以下であることが好ましい。
本実施形態に係る研磨組成物は、樹脂を研磨する。前記樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。
表1に示す組成の実施例及び比較例の研磨組成物を作製した。各成分の詳細を以下に示す。
アルミナ砥粒:A9225(サンゴバン(株)製)、一次平均粒子径=40.3nm
LAS:ドデシルベンゼンスルホン酸トリエタノールアミン(東邦化学工業(株)製)
KOH:東亞合成(株)製
グリシン:扶桑化学工業(株)製
シリコーン系消泡剤:シリコーンエマルジョン(センカ(株)製)
水:イオン交換水
各実施例及び各比較例の研磨組成物のpHは、pHメーターを用いて測定した。
アルミナ粒子の一次粒子径は、粒子を球状と仮定し、下記(i)式により算出した。なお、下記(i)式において、アルミナ密度は、4g/cm3とした。
d=6/ρS ・・・(i)
d:一次粒子径(μm)
ρ:アルミナ密度(g/cm3)
S:比表面積(m2/g)
前処理:アルミナ砥粒を測定セルに入れ、85℃で2時間真空脱気した。
測定原理:定容法
吸着ガス:窒素ガス
測定温度:77.35K(−195.8℃)
セルサイズ:スモールセル 1.5cm3(ステム外径9mm)
測定項目:P/P0=0〜0.3の吸着側数点
解析項目:BET多点法による比表面積
アルミナ粒子の平均粒子径は、ゼータ電位・粒径測定システムELSZ−2(大塚電子(株)製)を用いて、動的光散乱法により測定した。そして、得られたアルミナ粒子の体積粒度分布の累積体積頻度が50%となる粒子径を、アルミナ粒子の平均粒子径とした。なお、測定は、超純水で100倍に希釈したアルミナスラリーを測定セルに充填して行った。また、レーザーとしては、半導体レーザーを用いた。アルミナ粒子の平均粒子径、及び、アルミナ粒子の一次平均粒子径と前記平均粒子径との比を表1に示す。なお、比較例2及び3の研磨組成物では、アルミナ砥粒が沈降したため、アルミナ粒子の平均粒子径を測定することができなかった。
各実施例及び各比較例の研磨組成物を用いて、下記条件で被研磨物を研磨し、研磨速度を求めた。結果を表1及び図1に示す。
被研磨物:ポリイミド(シリコンウェハに成膜)
研磨機:FREX((株)荏原製作所製)
研磨圧:3psi
スラリー流量:300mL/min
プラテン回転数/キャリア回転数:103rpm/97rpm
研磨時間:1min
研磨パッド:IC1000(ニッタ・ハース(株)製)
各実施例及び各比較例の研磨組成物100mlを、側面が透明又は半透明であるプラスチック容器に取り分けて充分に撹拌した後、室温で10分間静置することにより、各研磨組成物のスラリーを得た。そして、各スラリーを目視観察することにより、分散安定性の評価を行った。評価基準は以下の通りである。評価結果を表1に示す。
○:砥粒が容器下部に沈降した様子が観察されない。
×:砥粒が容器下部に沈降している様子が観察される。
Claims (3)
- 樹脂を研磨する研磨組成物であって、
アルミナ砥粒と、分散剤と、水とを含み、
前記アルミナ砥粒におけるアルミナ粒子の一次平均粒子径と、動的光散乱法により測定された前記アルミナ粒子の平均粒子径との比が、1:6.0〜1:100である、研磨組成物。 - 前記分散剤が、界面活性剤である、請求項1に記載の研磨組成物。
- 前記界面活性剤が、アルキルベンゼンスルホン酸塩である、請求項2に記載の研磨組成物。
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