JPWO2019133302A5 - - Google Patents
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- 239000011295 pitch Substances 0.000 claims description 14
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims description 8
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Description
本開示の要約は、読者が技術的開示の本質を素早く確かめることができるように記載されている。要約は、特許請求の範囲を説明または限定するために用いられないという理解で提出されている。また、前述の発明を実施するための形態では、本開示を合理化するために、様々な特徴が1つの実施形態においてグループ化されてよいことがわかるだろう。この開示方法は、特許請求の範囲を限定していると解釈されるべきでない。よって、以下の特許請求の範囲は、これにより発明を実施するための形態に組み込まれ、各形態は、別々の実施形態として独立している。例えば本開示は、以下の形態で実現できる。
[形態1]
無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、連続的な構成で配置される複数の略平面螺旋フィルタを備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態2]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、実質的に互いに平行に積み重ねられる、無線周波数フィルタ装置。
[形態3]
形態2に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、空芯をさらに備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態4]
形態2に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、強磁性コア材料をさらに備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態5]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、約500ワットから約50キロワットを処理可能な撚線構造を備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態6]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、約500オームから約10キロオームのインピーダンス値を提供する、無線周波数フィルタ装置。
[形態7]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、約100kHzから約3MHzの範囲の低周波RF電力を低減させる、無線周波数フィルタ装置。
[形態8]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の距離は、実質的に等しい、無線周波数フィルタ装置。
[形態9]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の距離は、異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態10]
形態9に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の前記距離は、前記複数の略平面螺旋フィルタの各々からの対流冷却を向上させるために異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態11]
形態9に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する前記略平面螺旋フィルタ間の前記距離は、前記RFフィルタ装置の合計インピーダンス値を変更するために異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態12]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの略平面螺旋フィルタのピッチは、前記螺旋フィルタの全ての部分において径方向に均一である、無線周波数フィルタ装置。
[形態13]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの略平面螺旋フィルタのピッチは、前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタのピッチとは異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態14]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの前記略平面螺旋フィルタのピッチは、前記螺旋フィルタの一区画から別の区画まで径方向に異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態15]
システムであって、
プラズマ処理システムの静電チャックに結合された低周波無線周波数(RF)フィルタであって、約100kHzから約3MHzの周波数範囲のRF周波数を実質的にブロックし、間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタを有する低周波RFフィルタと、
約3MHzを超えるRF周波数を実質的にブロックするためのソレノイド配置の高周波RFフィルタと、
を備える、システム。
[形態16]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタに結合される、システム。
[形態17]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、第1部分および第2部分を含み、前記第1部分から前記第2部分に略平行な曲線を有する実質的に一定のピッチを有する、システム。
[形態18]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、第1部分および第2部分を含み、前記第1部分から前記第2部分に異なるピッチを有する、システム。
[形態19]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各略平面螺旋フィルタのピッチは、アルキメデスの螺旋に近似する、システム。
[形態20]
形態15に記載のシステムであって、
前記低周波RFフィルタおよび前記高周波RFフィルタは、プラズマ型処理システムのRFフィルタ筐体内に設置されるような物理的サイズにされる、システム。
[形態21]
無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに平行に電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、約500ワットから約50キロワットを処理可能な撚線構造を有する複数の略平面螺旋フィルタを備える、RFフィルタ装置。
[形態22]
形態21に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、前記複数の略平面螺旋フィルタの連続する略平面螺旋フィルタの配置に基づいて、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタに結合される、RFフィルタ装置。
[形態23]
形態21に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の磁路の強め合い干渉を増加させるように配置される、RFフィルタ装置。
[形態24]
形態21に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、空芯設計に基づく、RFフィルタ装置。
[形態25]
無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、隣接する略平面螺旋フィルタ同士は、互いに逆方向に巻き付けられ、連続的な構成で配置される複数の略平面螺旋フィルタを備える、RFフィルタ装置。
[形態26]
装置であって、
約100kHzから約3MHzの周波数範囲のRF周波数を、約500ワットから約50キロワットの電力レベルで実質的にブロックするための低周波無線周波数(RF)フィルタであって、空芯装置として配置された複数の略平面螺旋フィルタを有する低周波RFフィルタを備える、装置。
[形態1]
無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、連続的な構成で配置される複数の略平面螺旋フィルタを備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態2]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、実質的に互いに平行に積み重ねられる、無線周波数フィルタ装置。
[形態3]
形態2に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、空芯をさらに備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態4]
形態2に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、強磁性コア材料をさらに備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態5]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、約500ワットから約50キロワットを処理可能な撚線構造を備える、無線周波数フィルタ装置。
[形態6]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、約500オームから約10キロオームのインピーダンス値を提供する、無線周波数フィルタ装置。
[形態7]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、約100kHzから約3MHzの範囲の低周波RF電力を低減させる、無線周波数フィルタ装置。
[形態8]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の距離は、実質的に等しい、無線周波数フィルタ装置。
[形態9]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の距離は、異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態10]
形態9に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の前記距離は、前記複数の略平面螺旋フィルタの各々からの対流冷却を向上させるために異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態11]
形態9に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する前記略平面螺旋フィルタ間の前記距離は、前記RFフィルタ装置の合計インピーダンス値を変更するために異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態12]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの略平面螺旋フィルタのピッチは、前記螺旋フィルタの全ての部分において径方向に均一である、無線周波数フィルタ装置。
[形態13]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの略平面螺旋フィルタのピッチは、前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタのピッチとは異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態14]
形態1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの前記略平面螺旋フィルタのピッチは、前記螺旋フィルタの一区画から別の区画まで径方向に異なる、無線周波数フィルタ装置。
[形態15]
システムであって、
プラズマ処理システムの静電チャックに結合された低周波無線周波数(RF)フィルタであって、約100kHzから約3MHzの周波数範囲のRF周波数を実質的にブロックし、間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタを有する低周波RFフィルタと、
約3MHzを超えるRF周波数を実質的にブロックするためのソレノイド配置の高周波RFフィルタと、
を備える、システム。
[形態16]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタに結合される、システム。
[形態17]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、第1部分および第2部分を含み、前記第1部分から前記第2部分に略平行な曲線を有する実質的に一定のピッチを有する、システム。
[形態18]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、第1部分および第2部分を含み、前記第1部分から前記第2部分に異なるピッチを有する、システム。
[形態19]
形態15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各略平面螺旋フィルタのピッチは、アルキメデスの螺旋に近似する、システム。
[形態20]
形態15に記載のシステムであって、
前記低周波RFフィルタおよび前記高周波RFフィルタは、プラズマ型処理システムのRFフィルタ筐体内に設置されるような物理的サイズにされる、システム。
[形態21]
無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに平行に電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、約500ワットから約50キロワットを処理可能な撚線構造を有する複数の略平面螺旋フィルタを備える、RFフィルタ装置。
[形態22]
形態21に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、前記複数の略平面螺旋フィルタの連続する略平面螺旋フィルタの配置に基づいて、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタに結合される、RFフィルタ装置。
[形態23]
形態21に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の磁路の強め合い干渉を増加させるように配置される、RFフィルタ装置。
[形態24]
形態21に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、空芯設計に基づく、RFフィルタ装置。
[形態25]
無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、隣接する略平面螺旋フィルタ同士は、互いに逆方向に巻き付けられ、連続的な構成で配置される複数の略平面螺旋フィルタを備える、RFフィルタ装置。
[形態26]
装置であって、
約100kHzから約3MHzの周波数範囲のRF周波数を、約500ワットから約50キロワットの電力レベルで実質的にブロックするための低周波無線周波数(RF)フィルタであって、空芯装置として配置された複数の略平面螺旋フィルタを有する低周波RFフィルタを備える、装置。
Claims (24)
- 無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、交互の前記内側同士および前記外側同士の接続は、強め合うように干渉する磁路を形成する、略平面螺旋フィルタを備え、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、連続的な構成で配置され、前記略平面螺旋フィルタの各々は、コイルである前記略平面螺旋フィルタの特定の端から見て同一方向に巻き付けられている、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、実質的に互いに平行に積み重ねられる、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項2に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、空芯をさらに備える、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項2に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、強磁性コア材料をさらに備える、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、約500ワットから約50キロワットを処理可能な撚線構造を備える、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、約500オームから約10キロオームのインピーダンス値を提供する、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、約100kHzから約3MHzの範囲の低周波RF電力を低減させる、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の距離は、実質的に等しい、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の距離は、異なる、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項9に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の前記距離は、前記複数の略平面螺旋フィルタの各々からの対流冷却を向上させるために異なる、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項9に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する前記略平面螺旋フィルタ間の前記距離は、前記RFフィルタ装置の合計インピーダンス値を変更するために異なる、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの略平面螺旋フィルタのピッチは、前記螺旋フィルタの全ての部分において径方向に均一である、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの略平面螺旋フィルタのピッチは、前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタのピッチとは異なる、無線周波数フィルタ装置。 - 請求項1に記載の無線周波数フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの少なくとも1つの前記略平面螺旋フィルタのピッチは、前記螺旋フィルタの一区画から別の区画まで径方向に異なる、無線周波数フィルタ装置。 - システムであって、
プラズマ処理システムの静電チャックに結合された低周波無線周波数(RF)フィルタであって、約100kHzから約3MHzの周波数範囲のRF周波数を実質的にブロックし、間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタを有する低周波RFフィルタと、
約3MHzを超えるRF周波数を実質的にブロックするためのソレノイド配置の高周波RFフィルタと、を備え、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、交互の前記内側同士および前記外側同士の接続は、強め合うように干渉する磁路を形成し、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、連続的な構成で配置され、前記略平面螺旋フィルタの各々は、コイルである前記略平面螺旋フィルタの特定の端から見て同一方向に巻き付けられている、システム。 - 請求項15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、第1部分および第2部分を含み、前記第1部分から前記第2部分に略平行な曲線を有する実質的に一定のピッチを有する、システム。 - 請求項15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、第1部分および第2部分を含み、前記第1部分から前記第2部分に異なるピッチを有する、システム。 - 請求項15に記載のシステムであって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各略平面螺旋フィルタのピッチは、アルキメデスの螺旋に近似する、システム。 - 請求項15に記載のシステムであって、
前記低周波RFフィルタおよび前記高周波RFフィルタは、プラズマ型処理システムのRFフィルタ筐体内に設置されるような物理的サイズにされる、システム。 - 無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに平行に電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、約500ワットから約50キロワットを処理可能な撚線構造を有する複数の略平面螺旋フィルタを備え、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、交互の前記内側同士および前記外側同士の接続は、強め合うように干渉する磁路を形成し、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、連続的な構成で配置され、前記略平面螺旋フィルタの各々は、コイルである前記略平面螺旋フィルタの特定の端から見て同一方向に巻き付けられている、RFフィルタ装置。 - 請求項20に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタ間の磁路の強め合い干渉を増加させるように配置される、RFフィルタ装置。 - 請求項20に記載の無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、空芯設計に基づく、RFフィルタ装置。 - 無線周波数(RF)フィルタ装置であって、
間隔をおいた配置で互いに電気結合された複数の略平面螺旋フィルタであって、各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして前記複数の略平面螺旋フィルタの隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、隣接する略平面螺旋フィルタ同士は、互いに逆方向に巻き付けられ、連続的な構成で配置される複数の略平面螺旋フィルタを備える、RFフィルタ装置。 - 装置であって、
約100kHzから約3MHzの周波数範囲のRF周波数を、約500ワットから約50キロワットの電力レベルで実質的にブロックするための低周波無線周波数(RF)フィルタであって、空芯装置として配置された複数の略平面螺旋フィルタを有する低周波RFフィルタを備え、
前記複数の略平面螺旋フィルタの各々は、内側同士の電気的接続または外側同士の電気的接続のいずれかとして隣接する略平面螺旋フィルタに結合され、交互の前記内側同士および前記外側同士の接続は、強め合うように干渉する磁路を形成し、
前記複数の略平面螺旋フィルタは、連続的な構成で配置され、前記略平面螺旋フィルタの各々は、コイルである前記略平面螺旋フィルタの特定の端から見て同一方向に巻き付けられている、装置。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201762612015P | 2017-12-29 | 2017-12-29 | |
US62/612,015 | 2017-12-29 | ||
US15/933,213 | 2018-03-22 | ||
US15/933,213 US10812033B2 (en) | 2017-12-29 | 2018-03-22 | High-power radio-frequency spiral-coil filter |
PCT/US2018/065824 WO2019133302A1 (en) | 2017-12-29 | 2018-12-14 | High-power radio-frequency spiral-coil filter |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021509557A JP2021509557A (ja) | 2021-03-25 |
JPWO2019133302A5 true JPWO2019133302A5 (ja) | 2022-03-16 |
JP7422077B2 JP7422077B2 (ja) | 2024-01-25 |
Family
ID=67058619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020536177A Active JP7422077B2 (ja) | 2017-12-29 | 2018-12-14 | 高電力無線周波数の螺旋コイルフィルタ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10812033B2 (ja) |
JP (1) | JP7422077B2 (ja) |
KR (1) | KR102610976B1 (ja) |
CN (1) | CN111512404B (ja) |
WO (1) | WO2019133302A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10715095B2 (en) * | 2017-10-06 | 2020-07-14 | Lam Research Corporation | Radiofrequency (RF) filter for multi-frequency RF bias |
US11659650B2 (en) * | 2020-12-18 | 2023-05-23 | Western Digital Technologies, Inc. | Dual-spiral common-mode filter |
CN115602406A (zh) * | 2021-07-09 | 2023-01-13 | 北京北方华创微电子装备有限公司(Cn) | 用于产生等离子体的线圈装置及半导体工艺设备 |
DE102021131439A1 (de) | 2021-11-30 | 2023-06-01 | TDK Europe GmbH | Drosselmodul |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55122308U (ja) * | 1979-02-23 | 1980-08-30 | ||
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- 2018-03-22 US US15/933,213 patent/US10812033B2/en active Active
- 2018-12-14 JP JP2020536177A patent/JP7422077B2/ja active Active
- 2018-12-14 WO PCT/US2018/065824 patent/WO2019133302A1/en active Application Filing
- 2018-12-14 KR KR1020207021597A patent/KR102610976B1/ko active IP Right Grant
- 2018-12-14 CN CN201880084322.5A patent/CN111512404B/zh active Active
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