JPWO2019117969A5

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Publication number: JPWO2019117969A5
Application number: JP2020531462A
Authority: JP
Publication date: 2022-03-29
Anticipated expiration: 2037-12-15

Description

エッジリング１０８の底面は、熱伝導性ゲル層１１０Ａを介してサポートリング１１２の上面に結合され、サポートリング１１２をエッジリング１０８に熱的シンクする部分Ｐ１を有する。本明細書で使用される熱伝導性ゲルの例は、ポリイミド、ポリケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、フルオロエチレンプロピレンコポリマー、セルロース、トリアセテート、およびシリコンを含む。さらに、エッジリング１０８の底面は、熱伝導性ゲル層１１０Ｂを介してチャック１０４の上面に結合される別の部分Ｐ２を有する。加えて、エッジリング１０８の底面は、ベースリング１１６の上に位置するとともに隣接するさらに別の部分Ｐ３を有する。

いくつかの実施形態では、伝導性ゲル層の代わりに、両面に伝導性ゲルを有する両面伝導性テープが使用される。様々な実施形態において、伝導性ゲル層の代わりに、伝導性ゲルを有するコーキングビードが使用される。

前述の実施形態は、明確な理解のために多少詳しく説明されてきたが、一定の変更および修正が添付の特許請求の範囲の範囲内で実施されてもよいことは明らかであろう。したがって、本実施形態は、限定ではなく例示と見なされるべきであり、実施形態は本明細書に述べられる詳細に限定されるべきではない。本開示は以下の適用例としても実現できる。
［適用例１］
プラズマ処理チャンバ内で使用するためのエッジリングであって、前記エッジリングは、前記プラズマ処理チャンバの基板支持体を取り囲むように構成される環状本体を有し、
底側、頂側、内側、および外側を有する前記環状本体と、
前記底側に沿って前記環状本体に配置された複数の締結具孔であって、各締結具孔は、前記環状本体をサポートリングに取り付けるために使用される締結具を受け入れるためのねじ付き内面を有する複数の締結具孔と、
前記環状本体の前記内側に配置された段部であって、傾斜面によって前記頂側の上面から分離された下面を有する段部と、
前記頂側の前記上面と前記外側の側面との間に形成された湾曲エッジと
を備える、エッジリング。
［適用例２］
適用例１に記載のエッジリングであって、
前記エッジリングは、消耗品であり、交換可能である、エッジリング。
［適用例３］
適用例１に記載のエッジリングであって、
前記内側は、前記傾斜面、前記傾斜面と連続している水平配向面、および前記水平配向面と連続している垂直配向面を有し、
前記底側は、水平に配向し、前記外側および前記垂直配向面と連続しており、
前記外側は、垂直配向面であり、
前記湾曲エッジは、前記頂側および前記外側に隣接している、エッジリング。
［適用例４］
適用例１に記載のエッジリングであって、
前記基板支持体は、チャックであり、前記サポートリングは、調節可能なエッジシースリングであり、前記底側は、伝導性ゲルを介して前記チャックに伝導的に結合されるように構成される第１の部分と、伝導性ゲルを介して前記調節可能なエッジシースリングに伝導的に結合されるように構成される第２の部分と、ベースリングに隣接する第３の部分とを有する、エッジリング。
［適用例５］
適用例１に記載のエッジリングであって、
前記複数の締結具孔は、前記底側に等距離で離間されている、エッジリング。
［適用例６］
適用例１に記載のエッジリングであって、
前記複数の締結具孔の１つは、前記エッジリングの前記底側内に形成されたスロットの頂面および前記スロットの側面によって部分的に囲まれている、エッジリング。
［適用例７］
適用例６に記載のエッジリングであって、
前記締結具の１つが前記スロットに受け入れられたときの前記スロットの前記頂面と前記締結具の１つとの間のギャップは、前記ギャップでのアーク放電の可能性を低減するために１ミリメートル未満である、エッジリング。
［適用例８］
適用例１に記載のエッジリングであって、
前記エッジリングは、約１３．６インチ（約３５．５４４ｃｍ）以上、約１５インチ（約３８．１ｃｍ）以下の外径を有し、前記外径は、前記外側によって制限される、エッジリング。
［適用例９］
適用例１に記載のエッジリングであって、
カバーリングが前記外側に隣接して載置されたときに前記頂側から前記カバーリングへのアーク放電の可能性を低減するために、前記頂側が、１３．６インチ（３５．５４４ｃｍ）よりも大きく最大で１５インチ（３８．１ｃｍ）の外径を有する、エッジリング。
［適用例１０］
適用例１に記載のエッジリングであって、
カバーリングが前記外側に隣接して載置されたときに、前記湾曲エッジが、前記湾曲エッジから前記カバーリングへのアーク放電の可能性を低減する、エッジリング。
［適用例１１］
適用例１に記載のエッジリングであって、
前記エッジリングのすべてのエッジが弧状である、エッジリング。
［適用例１２］
プラズマ処理チャンバ内で使用するためのカバーリングであって、前記カバーリングは、エッジリングを取り囲むように構成されるとともに接地リングに隣接するように構成される環状本体を有し、
上本体部分、中間本体部分、および下本体部分を有する前記環状本体であって、前記中間本体部分は、前記中間本体部分が第１の環状幅を有するように、前記上本体部分からの縮幅段部を画定し、前記下本体部分は、前記下本体部分が前記第１の環状幅よりも小さい第２の環状幅を有するように、前記中間本体部分からの縮幅段部を画定する環状本体
を備える、カバーリング。
［適用例１３］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記カバーリングは、消耗品であり、交換可能である、カバーリング。
［適用例１４］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分、中間本体部分および前記下本体部分は、前記エッジリングから前記接地リングへの電圧の経路を提供する、カバーリング。
［適用例１５］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分からの前記中間本体部分の前記縮幅段部は、前記エッジリングから離れる方向に設けられ、前記中間本体部分からの前記下本体部分の前記縮幅段部は、前記エッジリングに向かう方向に設けられる、カバーリング。
［適用例１６］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分からの前記中間本体部分の前記縮幅段部は、前記エッジリングに向かう方向に設けられ、前記中間本体部分からの前記下本体部分の前記縮幅段部は、前記エッジリングから離れる方向に設けられる、カバーリング。
［適用例１７］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記中間本体部分は、第１の細長い深さを有し、前記下本体部分は、第２の細長い深さを有する、カバーリング。
［適用例１８］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分は、水平配向頂面、前記水平配向頂面と連続している湾曲エッジ、前記湾曲エッジと連続している垂直配向外面、前記水平配向頂面と連続している垂直配向内面、前記垂直配向内面と連続している水平配向内面、および前記垂直配向外面と連続している水平配向外面を有し、
前記中間本体部分が、前記上本体部分の前記水平配向内面と連続している垂直配向内面を有し、
前記中間本体部分が、前記上本体部分の前記水平配向外面と連続している垂直配向外面、および前記中間本体部分の前記垂直配向外面と連続している水平配向外面を有し、
前記下本体部分が、前記中間本体部分の前記水平配向外面と連続している垂直配向外面、前記下本体部分の前記垂直配向外面と連続している水平配向底面、および前記下本体部分の前記水平配向底面と連続し、かつ、前記中間本体部分の前記垂直配向内面と連続している垂直配向内面を有する、カバーリング。
［適用例１９］
適用例１８に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分は、前記上本体部分の前記垂直配向外面と前記上本体部分の前記水平配向外面との間に第２の湾曲エッジを有し、前記上本体部分は、前記上本体部分の前記水平配向頂面と前記上本体部分の前記垂直配向内面との間に第３の湾曲エッジを有し、前記上本体部分は、前記上本体部分の前記垂直配向内面と前記上本体部分の前記水平配向内面との間に第４の湾曲エッジを有する、カバーリング。
［適用例２０］
適用例１９に記載のカバーリングであって、
前記中間本体部分は、前記上本体部分の前記水平配向外面と前記中間本体部分の前記垂直配向外面との間に第５の湾曲エッジを有し、前記中間本体部分は、前記上本体部分の前記水平配向内面と前記中間本体部分の前記垂直配向内面との間に第６の湾曲エッジを有し、前記中間本体部分は、前記中間本体部分の前記垂直配向外面と前記中間本体部分の前記水平配向外面との間に第７の湾曲エッジを有する、カバーリング。
［適用例２１］
適用例２０に記載のカバーリングであって、
前記下本体部分は、前記中間本体部分の前記水平配向外面と前記下本体部分の前記垂直配向外面との間に第８の湾曲エッジを有し、前記下本体部分は、前記下本体部分の前記垂直配向外面および前記下本体部分の前記水平配向底面と連続している第９の湾曲エッジを有し、前記下本体部分は、前記下本体部分の前記垂直配向内面と前記下本体部分の前記水平配向底面との間に第１０の湾曲エッジを有する、カバーリング。
［適用例２２］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記カバーリングの内側エッジは、前記内側エッジと前記エッジリングとの間のアーク放電の可能性を低減するために湾曲している、カバーリング。
［適用例２３］
適用例１２に記載のカバーリングであって、
前記カバーリングのすべてのエッジが弧状である、カバーリング。
［適用例２４］
プラズマチャンバのエッジリングを固着するためのシステムであって、
サポートリングと、
前記サポートリング上で配向される前記エッジリングと、
前記エッジリングの底面と前記サポートリングの頂面との間に配置されたゲル層と、
前記エッジリングを前記サポートリングに固着するように構成された複数のねじであって、前記複数のねじの各々は、前記エッジリングの前記底面に配置され前記サポートリングを通過するねじ孔に取り付けられる複数のねじと、
前記サポートリングの底面に接続された複数の押さえ棒と、
複数の空気圧ピストンであって、前記複数のピストンの各々は、前記複数の押さえ棒のうち対応する１つに結合される複数の空気圧ピストンと
を備える、システム。
［適用例２５］
適用例２４に記載のシステムであって、
前記複数の空気圧ピストンは、前記プラズマチャンバ内での基板の処理中に前記エッジリングおよび前記サポートリングが絶縁体リングに固着されるように前記複数の押さえ棒に引き下げ力を加えるように構成される、システム。
［適用例２６］
適用例２４に記載のシステムであって、
前記複数の空気圧ピストンは、メンテナンスの際に前記プラズマチャンバから前記エッジリングおよび前記サポートリングを取り外すために前記複数の押さえ棒を押し上げるように構成される、システム。
［適用例２７］
適用例２４に記載のシステムであって、
前記サポートリングの下に位置する絶縁体リングと、
前記押さえ棒を有するように構成された複数のクラスプ機構であって、前記押さえ棒の各々は、前記サポートリング内に延びる部分と、前記絶縁体リング内に延びる部分とを有し、前記クラスプ機構の各々は、前記押さえ棒のうち対応する１つを引き下げて、前記プラズマチャンバでの処理動作中に前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングと係合させるよう構成されるとともに、前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに対して押し上げて前記サポートリングおよび前記エッジリングを解放するように構成される複数のクラスプ機構と
をさらに備える、システム。
［適用例２８］
適用例２７に記載のシステムであって、
前記複数のクラスプ機構の各々は、
エアシリンダと、
前記エアシリンダ内のピストン本体と、
前記ピストン本体に取り付けられたピストンロッドと、
前記押さえ棒のうち対応する１つを前記エアシリンダに対して装着するように構成されたマウントと
を含む、システム。
［適用例２９］
適用例２８に記載のシステムであって、
圧縮空気を前記エアシリンダの頂部に供給して前記複数の押さえ棒を引き下げるように構成された空気経路と、
圧縮空気を前記エアシリンダの底部に供給して前記複数の押さえ棒を押し上げるように構成された空気経路と
をさらに備える、システム。
［適用例３０］
適用例２４に記載のシステムであって、
前記複数のピストンの第１のピストンは、第１のクラスプ機構の一部であり、前記複数のピストンの第２のピストンは、第２のクラスプ機構の一部であり、前記複数のピストンの第３のピストンは、第３のクラスプ機構の一部であり、
前記システムは、
前記第１のクラスプ機構が前記サポートリングおよび前記エッジリングを絶縁体リングに固着する場所と比較して異なる場所で、前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着するように構成された前記第２のクラスプ機構と、
前記第２のクラスプ機構が前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着する前記場所、および前記第１のクラスプ機構が前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着する前記場所と比較して異なる場所で、前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着するように構成された前記第３のクラスプ機構と
をさらに備える、システム。

Claims

プラズマ処理チャンバ内で使用するためのエッジリングであって、前記エッジリングは、前記プラズマ処理チャンバの基板支持体を取り囲むように構成される環状本体を有し、
底側、頂側、内側、および外側を有する前記環状本体と、
前記底側に沿って前記環状本体内に製作された複数の締結具孔であって、前記複数の締結具孔のそれぞれは前記底側の水平配向面から前記頂側に向かって延びており、前記水平配向面は、前記内側の垂直配向内面から前記複数の締結具孔まで延びており、前記複数の締結具孔のそれぞれは、前記環状本体をサポートリングに取り付けるために使用される複数の締結具のそれぞれの一つを受け入れるための前記底側内に形成されたねじ付き内面を有する複数の締結具孔と、
を備える、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、
前記エッジリングは、消耗品であり、交換可能である、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、さらに、
前記頂側と前記外側との間に形成された湾曲エッジを有し、
前記内側は、傾斜面、前記傾斜面と連続している水平配向内面、および前記水平配向内面と連続している前記垂直配向内面を有し、
前記底側は、水平に配向し、前記外側および前記垂直配向内面と連続しており、
前記外側は、垂直配向面であり、
前記湾曲エッジは、前記頂側および前記外側に隣接している、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、
前記基板支持体は、チャックであり、前記サポートリングは、調節可能なエッジシースリングであり、前記底側は、伝導性ゲルを介して前記チャックに伝導的に結合されるように構成される第１の部分と、伝導性ゲルを介して前記調節可能なエッジシースリングに伝導的に結合されるように構成される第２の部分と、ベースリングに隣接する第３の部分とを有する、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、
前記複数の締結具孔は、前記底側に等距離で離間されている、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、
前記複数の締結具孔の１つは、前記エッジリングの前記底側内に形成されたスロットの頂面および前記スロットの側面によって部分的に囲まれている、エッジリング。
請求項６に記載のエッジリングであって、
前記複数の締結具の１つが前記スロットに受け入れられたときの前記スロットの前記頂面と前記締結具の１つとの間のギャップは、前記ギャップでのアーク放電の可能性を低減するために１ミリメートル未満である、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、
前記エッジリングは、１３．６インチ（３５．５４４ｃｍ）以上、１５インチ（３８．１ｃｍ）以下の外径を有し、前記外径は、前記外側によって制限される、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、
カバーリングが前記外側に隣接して載置されたときに前記頂側から前記カバーリングへのアーク放電の可能性を低減するために、前記頂側が、１３．６インチ（３５．５４４ｃｍ）よりも大きく最大で１５インチ（３８．１ｃｍ）の外径を有する、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、さらに、
前記頂側と前記外側との間に形成された湾曲エッジを有し、
カバーリングが前記外側に隣接して載置されたときに、前記湾曲エッジが、前記湾曲エッジから前記カバーリングへのアーク放電の可能性を低減する、エッジリング。
請求項１に記載のエッジリングであって、
前記エッジリングのすべてのエッジが弧状である、エッジリング。
プラズマ処理チャンバ内で使用するためのカバーリングであって、
前記カバーリングは、上本体部分、中間本体部分、および下本体部分を有する環状本体であって、エッジリングを取り囲むように構成されるとともに接地リングに隣接するように構成された環状本体を備え、前記中間本体部分は、前記中間本体部分が第１の環状幅を有するように、前記上本体部分からの縮幅段部を画定し、前記下本体部分は、前記下本体部分が前記第１の環状幅よりも小さい第２の環状幅を有するように、前記中間本体部分からの縮幅段部を画定する環状本体
を備え、
前記上本体部分からの前記中間本体部分の前記縮幅段部は、前記エッジリングに向かう方向に設けられ、前記中間本体部分からの前記下本体部分の前記縮幅段部は、前記エッジリングに向かう方向に設けられる、カバーリング。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記カバーリングは、消耗品であり、交換可能である、カバーリング。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分、中間本体部分および前記下本体部分は、前記エッジリングから前記接地リングへの電圧の経路を提供する、カバーリング。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記中間本体部分は、第１の細長い深さを有し、前記下本体部分は、第２の細長い深さを有する、カバーリング。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分は、水平配向頂面、前記水平配向頂面と連続している湾曲エッジ、前記湾曲エッジと連続している垂直配向外面、前記水平配向頂面と連続している垂直配向内面、前記垂直配向内面と連続している水平配向内面、および前記垂直配向外面と連続している水平配向外面を有し、
前記中間本体部分が、前記上本体部分の前記水平配向内面と連続している垂直配向内面を有し、
前記中間本体部分が、前記上本体部分の前記水平配向外面と連続している垂直配向外面、および前記中間本体部分の前記垂直配向外面と連続している水平配向外面を有し、
前記下本体部分が、前記中間本体部分の前記水平配向外面と連続している垂直配向外面、前記下本体部分の前記垂直配向外面と連続している水平配向底面、および前記下本体部分の前記水平配向底面と連続し、かつ、前記中間本体部分の前記垂直配向内面と連続している垂直配向内面を有する、カバーリング。
請求項１６に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分は、前記上本体部分の前記垂直配向外面と前記上本体部分の前記水平配向外面との間に第２の湾曲エッジを有し、前記上本体部分は、前記上本体部分の前記水平配向頂面と前記上本体部分の前記垂直配向内面との間に第３の湾曲エッジを有し、前記上本体部分は、前記上本体部分の前記垂直配向内面と前記上本体部分の前記水平配向内面との間に第４の湾曲エッジを有する、カバーリング。
請求項１７に記載のカバーリングであって、
前記中間本体部分は、前記上本体部分の前記水平配向外面と前記中間本体部分の前記垂直配向外面との間に第５の湾曲エッジを有し、前記中間本体部分は、前記上本体部分の前記水平配向内面と前記中間本体部分の前記垂直配向内面との間に第６の湾曲エッジを有し、前記中間本体部分は、前記中間本体部分の前記垂直配向外面と前記中間本体部分の前記水平配向外面との間に第７の湾曲エッジを有する、カバーリング。
請求項１８に記載のカバーリングであって、
前記下本体部分は、前記中間本体部分の前記水平配向外面と前記下本体部分の前記垂直配向外面との間に第８の湾曲エッジを有し、前記下本体部分は、前記下本体部分の前記垂直配向外面および前記下本体部分の前記水平配向底面と連続している第９の湾曲エッジを有し、前記下本体部分は、前記下本体部分の前記垂直配向内面と前記下本体部分の前記水平配向底面との間に第１０の湾曲エッジを有する、カバーリング。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記カバーリングの内側エッジは、前記内側エッジと前記エッジリングとの間のアーク放電の可能性を低減するために湾曲している、カバーリング。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記カバーリングのすべてのエッジが弧状である、カバーリング。
プラズマチャンバのエッジリングを固着するためのシステムであって、
サポートリングと、
前記サポートリング上で配向される前記エッジリングと、
前記エッジリングの底面と前記サポートリングの頂面との間に配置されたゲル層と、
前記エッジリングを前記サポートリングに固着するように構成された複数のねじであって、前記複数のねじの各々は、前記エッジリングの前記底面に配置され前記サポートリングを通過するねじ孔に取り付けられる複数のねじと、
前記サポートリングの底面に接続された複数の押さえ棒と、
複数の空気圧ピストンであって、前記複数の空気圧ピストンの各々は、前記サポートリングおよび前記エッジリングを垂直方向に同時に移動させるために前記複数の押さえ棒のうち対応する１つに結合される複数の空気圧ピストンと
を備え、
前記複数の空気圧ピストンは、メンテナンスの際に前記プラズマチャンバから前記エッジリングおよび前記サポートリングを取り外すために前記複数の押さえ棒を押し上げるように構成される、システム。
請求項２２に記載のシステムであって、
前記複数の空気圧ピストンは、前記プラズマチャンバ内での基板の処理中に前記エッジリングおよび前記サポートリングが絶縁体リングに固着されるように前記複数の押さえ棒に引き下げ力を加えるように構成される、システム。
請求項２２に記載のシステムであって、
前記サポートリングの下に位置する絶縁体リングと、
前記複数の押さえ棒を有するように構成された複数のクラスプ機構であって、前記複数の押さえ棒の各々は、前記サポートリング内に延びる部分と、前記絶縁体リング内に延びる部分とを有し、前記複数のクラスプ機構の各々は、前記複数の押さえ棒のうち対応する１つを引き下げて、前記プラズマチャンバでの処理動作中に前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングと係合させるよう構成されるとともに、前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに対して押し上げて前記サポートリングおよび前記エッジリングを解放するように構成される複数のクラスプ機構と
をさらに備える、システム。
請求項２４に記載のシステムであって、
前記複数のクラスプ機構の各々は、
エアシリンダと、
前記エアシリンダ内のピストン本体と、
前記ピストン本体に取り付けられたピストンロッドと、
前記複数の押さえ棒のうち対応する１つを前記エアシリンダに対して装着するように構成されたマウントと
を含む、システム。
請求項２５に記載のシステムであって、
圧縮空気を前記エアシリンダの頂部に供給して前記複数の押さえ棒を引き下げるように構成された空気経路と、
圧縮空気を前記エアシリンダの底部に供給して前記複数の押さえ棒を押し上げるように構成された空気経路と
をさらに備える、システム。
請求項２２に記載のシステムであって、
前記複数の空気圧ピストンの第１のピストンは、第１のクラスプ機構の一部であり、前記複数の空気圧ピストンの第２のピストンは、第２のクラスプ機構の一部であり、前記複数の空気圧ピストンの第３のピストンは、第３のクラスプ機構の一部であり、
前記システムは、
前記第１のクラスプ機構が前記サポートリングおよび前記エッジリングを絶縁体リングに固着する場所と比較して異なる場所で、前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着するように構成された前記第２のクラスプ機構と、
前記第２のクラスプ機構が前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着する前記場所、および前記第１のクラスプ機構が前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着する前記場所と比較して異なる場所で、前記サポートリングおよび前記エッジリングを前記絶縁体リングに固着するように構成された前記第３のクラスプ機構と
をさらに備える、システム。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記中間本体部分は、前記接地リングによって取り囲まれるように構成された垂直配向外面を有し、前記下本体部分は、ベースリングによって取り囲まれるように構成された垂直配向外面を有する、カバーリング。
請求項１２に記載のカバーリングであって、
前記上本体部分は、前記エッジリングを取り囲むように構成された垂直配向内面を有し、前記中間本体部分は、前記接地リングによって取り囲まれるように構成された垂直配向外面を有し、前記下本体部分は、ベースリングによって取り囲まれるように構成された垂直配向外面を有する、カバーリング。