JPWO2019035164A1 - 遮熱部品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示すように、本実施形態の遮熱部品100は、基材10と、セラミックス多孔質層20と、を備える。図1は本実施形態に係る遮熱部品の一例を示す断面図である。また、図2は本実施形態に係る遮熱部品の断面における電子顕微鏡写真の一例である。本実施形態では、遮熱部品100がセラミックス多孔質層20を備えることで、外部から基材10へ伝わる熱を遮って、熱が伝達するのを抑制することができる。以下、各構成を詳細に説明する。
基材10を形成する材料としては特に限定されないが、例えばアルミニウム、マグネシウム、鉄などの金属が挙げられる。また、基材10の形状や厚みなどは特に限定されず、用途に応じて適宜変更することができる。
セラミックス多孔質層20は基材10の上に配置される。セラミックス多孔質層20は、基材10と直接接していてもよく、接着層などの他の層を介して配置されていてもよい。図1の実施形態では、セラミックス多孔質層20は基材10の表面上にセラミックス多孔質層20が直接接するように配置されている。
図3に示すように、本実施形態の遮熱部品100は、セラミックス多孔質層20の表面を被覆し、シリカにより形成された被覆層30をさらに備えることが好ましい。被覆層30は、は遮熱部品の耐熱性を向上させるだけでなく、セラミックス多孔質層20の表面において、熱可塑性樹脂によって被覆されていない開気孔を被覆して閉気孔を形成することができ、断熱性をさらに向上させることができるためである。
次に、本実施形態の内燃機関について説明する。本実施形態の内燃機関は、上記遮熱部品を備える。上述の通り、上記遮熱部品は、優れた断熱性を有することから、内燃機関に用いることで、内燃機関の熱効率を向上させることができる。上記遮熱部品は、内燃機関において、燃焼ガスに曝されて高温になる部材の表面に配置されることが好ましい。燃焼ガスに曝されて高温になる部材としては、例えば、燃焼室を構成するピストン、シリンダヘッド、バルブ、シリンダの他、シリンダヘッド排気ポート、エキゾーストマニホールド、排気管、過給機等の排気系部材が挙げられる。上記遮熱部品は、必ずしもこれらの部材の全表面に配置する必要はなく、燃焼ガスに曝されて高温になる面に配置されていればよい。
図4に示すように、本実施形態の遮熱部品の製造方法は、混合工程S1と、塗布工程S2と、加熱工程S3と、を備える。以下、各工程について詳細に説明する。
塗布工程S2では、混合溶液を基材に塗布して塗布物を得る。基材は、上述した基材と同様のものを用いることができる。
加熱工程S3では、塗布物を加熱し、セラミックス前駆体からセラミックスを含む基体21を形成する。例えば、セラミックス前駆体として上述したような金属又は半金属のアルコキシドを用いた場合、いわゆるゾル−ゲル法により、金属又は半金属のアルコキシドは個々の分子間の加水分解及び脱水縮合によりポリマー化される。そして、セラミックスを含む基体21が基材10の上に形成される。
まず、密着性を向上させるため、厚みが9.5mmのアルミニウム製の基材を100℃のお湯に10分浸漬させて基材を洗浄した。なお、基材の密度ρ1は2700kg/m3、基材の熱伝導率λ1は236W/(m・K)、比熱容量C1Pは910J/(kg・K)であった。
有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が98.1μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。
基体の材料としてジルコニウムアルコキシドに代え、窒化アルミニウムの前駆体である金属アルコキシドを用いた。また、上記混合溶液を、基体の材料85質量%及び粒子15質量%が含まれるように調製した。また、有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が80.4μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は、実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。
有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が103.0μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は実施例1と同様にして基材とセラミックス多孔質層とからなる積層体を作製した。
基体の材料としてジルコニウムアルコキシドに代え、窒化アルミニウムの前駆体である金属アルコキシドを用いた。また、上記混合溶液を、基体の材料85質量%及び粒子15質量%が含まれるように調製した。また、有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が85.0μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は、実施例1と同様にして基材とセラミックス多孔質層とからなる積層体を作製した。
アルミニウム基材にセラミックス多孔質層を形成せず、基材をそのまま用いた。
セラミックス多孔質層に代え、アルミニウム基材の表面を陽極酸化処理し、膜厚が70.0μmのアルマイト層を形成した。それ以外は、実施例1と同様にして基材とアルマイト層とからなる積層体を作製した。
セラミックス多孔質層に代え、部分安定化ジルコニア粒子(ZrO2−8Y2O3、体積平均粒子径:50μm〜60μm)を基材の表面に膜厚が500.0μmとなるように溶射してジルコニア溶射層を形成した。それ以外は、実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。なお、多孔質層に熱発泡性マイクロスフェアのような粒子は添加していない。
ジルコニア溶射層の膜厚を100.0μmとした以外は、比較例3と同様にして遮熱部品を作製した。なお、多孔質層に熱発泡性マイクロスフェアのような粒子は添加していない。
基体の材料としてジルコニウムアルコキシドに代え、窒化アルミニウムの前駆体である金属アルコキシドを用いた。また、有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が100.0μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は、実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。なお、多孔質層に熱発泡性マイクロスフェアのような粒子は添加していない。
上記混合溶液を、基体の材料85質量%及び粒子15質量%が含まれるように調製した。また、有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が36.4μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は、実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。
上記混合溶液を、基体の材料85質量%及び粒子15質量%が含まれるように調製した。また、有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が184.7μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は、実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。
熱発泡性マイクロスフェアに代えてシリカ中空ビーズを用いた。また、上記混合溶液を、基体の材料80質量%及び粒子20質量%が含まれるように調製した。また、有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が313.0μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は、実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。
基体の材料としてジルコニウムアルコキシドに代え、窒化アルミニウムの前駆体である金属アルコキシドを用いた。熱発泡性マイクロスフェアに代えてシリカ中空ビーズを用いた。また、上記混合溶液を、基体の材料80質量%及び粒子20質量%が含まれるように調製した。また、有機溶媒揮発後のセラミックス多孔質層の膜厚が47.0μmとなるように上記混合溶液を基材に塗布した。それ以外は、実施例1と同様にして遮熱部品を作製した。
実施例及び比較例の遮熱部品について、以下の評価を実施した。結果を表1に示す。
多孔質層の気孔率p(%)は、遮熱部品断面の走査型電子顕微鏡(SEM)写真を画像解析することにより算出した。具体的には、まず、切断した多孔質層の断面を走査型電子顕微鏡で撮影した。次に、小型汎用画像解析装置(株式会社ニレコ製 LUZEX(登録商標)AP)で上記電子顕微鏡写真をグレースケール化した。そして、気孔と気孔以外の部分との間に閾値を設定した二値化処理画像より、多孔質層全体の面積に対する気孔の面積の百分率を算出して気孔率とした。
基材の熱伝導率λ1(W/(m・K))は、λ1=ρ1C1pα1の式に従い算出した。なお、ρ1は基材の密度(kg/m3)、C1pは基材の比熱容量(J/(kg・K))、α1は基材の熱拡散率(m2/s)を表す。基材の密度ρ1、基材の比熱容量C1p、基材の熱拡散率α1の測定方法は以下の通りである。
基材の密度ρ1(kg/m3)は、直径10mm及び厚さ1mmの円板を基材から切り出し、大気中、室温(20℃)において、当該円板の重量を測定することにより算出した。
基材の比熱容量C1P(J/(kg・K))は、直径10mm及び厚さ1mmの円板を基材から切り出し、大気中、室温(20℃)において、レーザーフラッシュ法により測定した。なお、基材の比熱容量は、熱定数測定装置(アルバック理工株式会社製 TC−7000)を用いて測定した。
基材の熱拡散率α1(m2/s)は、直径10mm及び厚さ1mmの円板を基材から切り出し、大気中、室温(20℃)において、レーザーフラッシュ法により測定した。なお、基材の熱拡散率α1は、熱定数測定装置(アルバック理工株式会社製 TC−7000)を用いて測定した。
多孔質層の熱拡散率α2は以下のようにして算出した。まず、上述のようにして得られた各実施例及び比較例の遮熱部品における基材側の面を1mmまで研磨し、2層の積層板を準備した。次に、この積層板から直径10mmの円板を切り出して試験片とし、大気中、室温(20℃)において、レーザーフラッシュ法により、規格化された温度−時間曲線から、上記積層板の面積熱拡散時間Aを算出した。レーザーフラッシュ法は、熱定数測定装置(アルバック理工株式会社製 TC−7000)を用いて測定した。ここで、面積熱拡散時間Aは下記の数式(1)で表すことができる。
多孔質層の密度ρ2(kg/m3)は、以下のようにして測定した。まず、基材の上に厚さ約1mmの多孔質層を形成し、積層体を得た。次に、上記積層体から13mm×5mmの試験片を切り出してその重量を測定し、積層体の密度を算出した。そして、積層体の密度から上述のようにして得られた基材の密度を差し引くことにより、多孔質層の密度を算出した。なお、多孔質層の厚さは、積層体の厚さから基材の厚さを差し引くことにより算出した。また、積層体及び基材の厚さは、走査型電子顕微鏡(SEM)により測定した。なお、走査型電子顕微鏡(SEM)では、高倍率で5点、低倍率で3点の厚さを測定した平均値としている。
多孔質層の比熱容量C2p(J/(kg・K))は、以下のようにして測定した。まず、各例で得られた遮熱部品の多孔質層側にテフロン(登録商標)テープを貼り、塩酸に浸漬させ、基材を完全に溶解させた。次に、残った多孔質層をアセトンに浸漬させ、テフロン(登録商標)テープを多孔質層から剥離させ、粉末状の多孔質層の試料を得た。この試料12mgを示差走査熱量測定(DSC)によって測定し、多孔質層の比熱容量を得た。示差走査熱量測定(DSC)では、アルゴンガス雰囲気下、測定温度を20℃で測定した。なお、示差走査熱量測定(DSC)は、PerkinElmer製のDSC−7型を用いて測定した。
多孔質層の熱伝導率λ2(W/(m・K))は、λ2=ρ2C2pα2の式に従い算出した。なお、ρ2は多孔質層の密度、C2pは多孔質層の比熱容量、α2は多孔質層の熱拡散率を表す。多孔質層の密度ρ2、多孔質層の比熱容量C2p、多孔質層の熱拡散率α2の測定方法は、それぞれ上述の通りである。
多孔質層の容積比熱C2V(J/(m3・K))は、C2V=C2pd2の数式に従い算出した。なお、上記数式中、C2pは多孔質層の比熱容量(J/(kg・K))、d2は多孔質層の密度(kg/m3)を表す。多孔質層の比熱容量C2p及び多孔質層の密度d2の測定方法は上述の通りである。
図5に示すように、各例の遮熱部品を縦50mm、横50mm、厚さ9.5mmの大きさに切り出して試験片とし、試験片の基材10側をヒータ51の上に乗せた。そして、基材10側からヒータ51で加熱して多孔質層20の表面の温度を250℃にした後、20℃の空気52を0.002m3/秒の流量で多孔質層20の表面に吹き付け、多孔質層20の表面の温度を測定した。なお、多孔質層20の表面の温度は赤外線カメラ53により得られた温度分布の映像により測定した。空気52を吹き付けてから10秒後における多孔質層20の表面の低下温度差を表1に示す。なお、図5では、セラミックス多孔質層20が最表層である実施例1の場合について説明しているが、被覆層30が最表層である場合には、セラミックス多孔質層20を被覆層30と読み替えて冷却応答性試験を実施すればよい。
20 セラミックス多孔質層
21 基体
26 気孔
27 空洞部
28 熱可塑性樹脂層
100 遮熱部品
多孔質層の容積比熱C2V(J/(m3・K))は、C2V=C2p ρ 2 の数式に従い算出した。なお、上記数式中、C2pは多孔質層の比熱容量(J/(kg・K))、ρ 2 は多孔質層の密度(kg/m3)を表す。多孔質層の比熱容量C2p及び多孔質層の密度ρ 2 の測定方法は上述の通りである。
Claims (10)
- 基材と、
前記基材の上に配置され、セラミックスを含む基体と、前記基体に含有される気孔と、を含むセラミックス多孔質層と、
を備え、
前記気孔の内壁は熱可塑性樹脂により被覆されており、
前記セラミックス多孔質層の気孔率が40%〜70%である遮熱部品。 - 前記セラミックスの熱伝導率が5W/(m・K)以下であり、前記セラミックス多孔質層の熱伝導率が1W/(m・K)以下である請求項1に記載の遮熱部品。
- 前記セラミックスの熱伝導率が5W/(m・K)以下であり、前記セラミックス多孔質層の熱伝導率が0.5W/(m・K)以下である請求項1又は2に記載の遮熱部品。
- 前記セラミックス多孔質層の容積比熱が1500kJ/m3K以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載の遮熱部品。
- 前記セラミックス多孔質層の容積比熱が1000kJ/m3K以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の遮熱部品。
- 前記セラミックスがジルコニアである請求項1〜5のいずれか1項に記載の遮熱部品。
- 前記セラミックスが窒化アルミニウムである請求項1〜5のいずれか1項に記載の遮熱部品。
- 前記セラミックス多孔質層の表面を被覆し、シリカにより形成された被覆層をさらに備える請求項1〜7のいずれか1項に記載の遮熱部品。
- セラミックス前駆体を含むゾルと、熱可塑性樹脂により形成された外殻の内側に発泡剤が密封された熱発泡性マイクロスフェアと、を混合して混合溶液を得る混合工程と、
前記混合溶液を基材に塗布して塗布物を得る塗布工程と、
前記塗布物を加熱し、セラミックス前駆体からセラミックスを含む基体を形成するとともに、前記熱発泡性マイクロスフェアを発泡させて、前記基体の内部に閉気孔を含むセラミックス多孔質層を形成する加熱工程と、
を備え、
前記セラミックス多孔質層の気孔率が40%〜70%である遮熱部品の製造方法。 - 前記塗布物を加熱する温度が280℃以下である請求項9に記載の遮熱部品の製造方法。
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