JPWO2019022107A1 - 蛍光ホイール、光源装置、および投影装置 - Google Patents

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Abstract

励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができる蛍光ホイールを提供する。励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイール100であって、ホイール基板110と、ホイール基板110上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体121を含む第1の蛍光体層131と、前記蛍光ホイール本体110上に配置され、前記第1の蛍光体層131に含まれる蛍光体121とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体122を含む第2の蛍光体層132と、を備え、前記第1の蛍光体層131および前記第2の蛍光体層132は隣接または一部重複して配置され、前記第1の蛍光体層131および前記第2の蛍光体層132の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である。

Description

本発明は、発光効率の低下を抑制することができる蛍光ホイール、光源装置、および投影装置に関する。
プロジェクタなどの投影装置で表示させた像は外光の影響を受けやすく、良質な表示を得る為には高照度が必要となる。高照度で投影するために、光源の光量を大きくする必要があり、レーザー光などの高エネルギー密度励起光と蛍光体とを組み合わせた光源が使用され始めている。
特許文献1では、円周方向に配置された複数のセグメント領域を有し、複数のセグメント領域の少なくとも一つは反射部とされ、反射部に励起光を受けて所定の波長帯域光を発する蛍光体層が形成され、複数のセグメント領域の少なくとも一つは光を透過させる透過部とされた円板形状の発光板の技術が開示されている。
特許第5655211号明細書
しかしながら、光学装置や投影装置でレーザー光などの高エネルギー密度励起光を用いて蛍光体を発光させるだけでは、所望の蛍光発光強度(明るさ)を得ることができないことがある。これは、蛍光体の励起エネルギー密度依存性により、低エネルギー密度励起光で発光した場合に比べ発光効率が低下するためである。特許文献1記載の技術では、蛍光体のエネルギー励起密度は考慮されていない。
本発明の一実施形態は、このような事情に鑑みてなされたものであり、励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができる蛍光ホイールを提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明の一実施形態は、以下のような手段を講じた。即ち、本発明の一実施形態の蛍光ホイールは、励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、ホイール基板と、前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第1の蛍光体層と、前記ホイール基板上に配置され、前記第1の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第2の蛍光体層と、を備え、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である。
本発明の一実施形態によれば、蛍光ホイールの蛍光体層において、励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができる。
第1の実施形態に係る蛍光ホイールの模式図である。 第1の実施形態に係る蛍光ホイールの蛍光体層部分の断面を拡大した模式図である。 第1の実施形態に係る蛍光ホイールをホイールモータの回転シャフトに固定した状態の断面を示す模式図である。 YAG(YAl12)の結晶構造を示す図である。 第1の実施形態に係る蛍光ホイールの一例を表す模式図である。 第1の実施形態に係る蛍光ホイールをホイールモータの回転シャフトに固定した状態の断面を示す模式図である。 蛍光体の外部発光効率の温度依存性の例を示すグラフである。 ガウシアンビームの強度分布の例を示すグラフである。 第2の実施形態に係る蛍光ホイールの一例を表す模式図である。 第2の実施形態に係る蛍光ホイールをホイールモータの回転シャフトに固定した状態の断面を示す模式図である。 第2の実施形態に係る蛍光ホイールの変形例を示す模式図である。 第2の実施形態に係る蛍光ホイールの変形例を示す模式図である。 第3の実施形態に係る蛍光ホイールの一例を表す蛍光体層を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。 図12の模式図と、発光中心元素濃度が異なる各蛍光体の断面方向の量を表すグラフとの関係を示す図である。 第3の実施形態に係る蛍光ホイールの変形例の蛍光体層を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。 第4の実施形態に係る光源装置を表す模式図である。 第4の実施形態に係る投影装置を表す概念図である。 第5の実施形態に係る投影装置を表す概念図である。
本発明者らは、励起光のエネルギー密度が高い部分と低い部分で蛍光体の発光中心元素濃度を変えることで、発光効率の低下を抑制することができることを見出し、本発明に至った。
これにより、本発明者らは、レーザー光などの高エネルギー密度励起光を用いて蛍光体を発光させたときに、所望の蛍光発光強度(明るさ)を得ることを可能とした。以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に対しては同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
[第1の実施形態]
[蛍光ホイールの構成]
図1は、本実施形態に係る蛍光ホイール100の模式図である。図1に示すように、本実施形態に係る蛍光ホイール100は、ホイール基板110、および蛍光体層130を備える。
ホイール基板110は、円板状に形成され、表面に蛍光体層130を有する。ホイール基板110は、これを用いる光源装置200の設計に応じて、反射型とするときは、アルミニウム、銅、鉄などの金属により形成することができる。また、このときは、ホイール基板110の表面に銀などの高反射膜がコーティングされていることが好ましい。また、ホイール基板110を励起光および蛍光の反射を考慮しない材料により形成し、励起光が照射される表面のみを反射材料で形成してもよい。
ホイール基板110は、透過型とするときは、励起光を透過するサファイア、ガラスなどの無機材料により形成することができる。また、蛍光体が発する蛍光はあらゆる方向に放射されるため、透過型とするときは、励起光を透過しつつ蛍光を反射することが好ましい。また、ホイール基板110は、反射型であっても透過型であっても、蛍光体の温度消光を抑制するため、熱伝導率が高いことが好ましい。そのため、ホイール基板110は、アルミニウム、サファイアで形成することが好ましい。また、ホイール基板110は、反射型と透過型を組み合わせたものとしてもよい。
図2は、本実施形態に係る蛍光ホイールの蛍光体層部分の断面を拡大した模式図である。蛍光体層130は、蛍光体粒子120とバインダ125とを備えており、蛍光体粒子120は、バインダ125に分散されている。蛍光体粒子120は、所定の励起光を吸収し、所定の波長帯域光を発光する。また、蛍光体粒子120は、同じ励起光に対して同じ波長帯域光を発光する蛍光体であって、発光中心元素濃度(後述)が異なる複数の蛍光体が用いられる。この発光中心元素濃度が異なる蛍光体が含まれる複数の蛍光体層が、励起光が照射される部分(励起光スポット)内の照射部分ごとの照度に応じて、ホイール基板110の表面上に設けられる。
このとき、発光中心元素濃度が異なる蛍光体が含まれ、隣接する蛍光体層は、一部重複していてもよい。また、隣接または一部重複する発光中心元素濃度が異なる蛍光体層どうしの境界は面をなしているが、蛍光体層表面に表れる境界(境界線)は少なくとも円周の一部である。ここでいう円周とは、ホイール基板110の回転の中心を中心とする円周である。このようにすることで、励起光の照射部分ごとの照度に応じて、ホイール基板110の表面上に、隣接または一部重複するように設けられた発光中心元素濃度が異なる蛍光体層の表面の境界は、蛍光ホイール100を回転させても、励起光の照射部分に対して同一の境界とすることができる。
例えば、発光中心元素濃度が異なる2種類の蛍光体を用いた場合を説明する。図2に示すように、発光中心元素濃度が異なる第1の蛍光体121および第2の蛍光体122をそれぞれ含む第1の蛍光体層131および第2の蛍光体層132がホイール基板110の表面上に設けられる。図3は、本実施形態に係る蛍光ホイール100を駆動装置(ホイールモータ)220の回転シャフト225にホイール固定具230を用いて固定した状態の断面を示す模式図である。図1および図3に示すように、隣接または一部重複するように設けられた第1の蛍光体層131および第2の蛍光体層132の表面の境界は少なくとも円周の一部となっている。そのため、回転の中心から境界までの距離が一定となり、蛍光ホイール100を回転させても、励起光の照射部分に対して同一の境界となる。
蛍光体は、アルミナを母材とするガーネット系材料で構成されている。ガーネット系材料としては、YAG:Ce(黄色発光蛍光体)、LuAG:Ce(緑色発光蛍光体)等を用いることができる。蛍光体は、一般式(RE1−xCeAl12で示される物質で構成され、REは希土類元素群より選ばれる少なくとも一つの元素を含んでいることが好ましい。発光中心元素Ceの希土類REに対する濃度xを、発光中心濃度という。蛍光体は、その他に、SiAlON、ZnSiO:Mn、(Y,Gd)BO:Tb、(Y,Gd)BO:Eu、YPVO:Eu等を用いることができる。なお、上記は一例であり、本発明の蛍光ホイール100に用いられる蛍光体は、上記の例に限られない。
(発光中心元素濃度の表記)
本発明では、一般にYAGやLuAGと簡略表記される蛍光体を例示しているが、それらの材料に含有される発光中心元素の濃度の表記を、以下のように定義する。
黄色発光蛍光体YAG:Ceにおいて、基本的な構成元素は、イットリウム(Y)、アルミニウム(Al)、酸素(O)、およびセリウム(Ce)の4つである。黄緑色発光蛍光体LuAG:Ceは、YAG:CeのYをすべてルテチウム(Lu)に代えたものである。発光色を意図的に変えること等を目的として、Yの一部を他の希土類元素等で、またAlの一部をGa等の同族元素で置換することが行なわれている。さらには、発光中心元素であるCe以外に、例えば発光効率の改善を目的として、共付活剤として適量を結晶中に導入することも多い。
図4は、YAG(YAl12)の結晶構造を示す図である。YAGは図4に示すようなガーネット構造を有する結晶であり、化学式としてはYAl12で表される。Yは8配位の位置を、Alは4配位および6配位の両位置に在る状態が最も安定であるとされている。発光中心元素のCeは、サイズが最も近いYの一部を置換している。
発光中心元素Ceの濃度xはYとの置換量と考えた場合、Ceで付活されたYAG蛍光体は一般式(Y1−xCeAl12で表される。本発明において、例えばx=0.030であるとしたとき、YとCeの占有するサイトに対するCeの比率として、「3.0mol%」と定義する。
またLuAGの場合もYAGと同様に、一般式(Lu1−yCeAl12で表すとき、LuとCeの占有するサイトに対するCeの比率として、「・・・mol%」と定義することになる。
図5は、本実施形態に係る蛍光ホイール100の一例を表す模式図である。また、図6は、蛍光ホイール100をホイールモータ220の回転シャフト225に固定した状態の断面を示す模式図である。以下の記載では、発光中心元素濃度が低い蛍光体を用いた蛍光体層133と、発光中心元素濃度が高い蛍光体を用いた蛍光体層134の2種類の蛍光体層を備える蛍光ホイール100の説明をするが、発光中心元素濃度の異なる蛍光体を用いた蛍光体層は、3種類以上あってもよい。なお、発光中心元素濃度が低い蛍光体を用いた蛍光体層133を発光中心元素濃度が低い蛍光体層133と、発光中心元素濃度が高い蛍光体を用いた蛍光体層134を発光中心元素濃度が高い蛍光体層134と表す。
蛍光体の温度特性は発光中心元素の濃度により変わることが知られている。図7は、YAG:Ceの外部発光効率の温度依存性の例を示すグラフである。一般的に、低温時は、発光中心元素濃度が高い蛍光体は、発光効率が高く、発光中心元素濃度が低い蛍光体は、それと比べて発光効率が低い。しかし、発光中心元素濃度が低い蛍光体は、高温になっても発光効率の低下が緩やかなので、高温時は、発光中心元素濃度が低い蛍光体の方が、発光効率が高くなる場合がある。
蛍光体に励起光を照射すると、蛍光発光と共に一部は熱エネルギーに変換されるため、励起光の照度が高い照射部分ほど高温になる。したがって、励起光の照度が高い照射部分には、発光中心元素濃度が低い蛍光体層133を設け、励起光の照度が低い照射部分には、発光中心元素濃度が高い蛍光体層134を設ける。このように配置することで、励起光の照射で高温になりやすい部分は、高温時の発光効率の低下を抑制しつつ発光し、励起光の照射でそれほど高温にならない部分は、低温時の高い発光効率で発光する。その結果、全体の発光効率の低下を抑制することができる。
図8は、ガウシアンビームの強度分布の例を示すグラフである。レーザー光は、ガウシアンビームに代表されるように、ビームの伝搬方向に対して直交する面における強度分布は一様ではなく、ビーム中心が強く、ビーム縁部では弱くなる。したがって、ビーム中心部が通過する部分には、発光中心元素濃度が低い蛍光体層133を設け、ビーム縁部が通過する部分には、発光中心元素濃度が高い蛍光体層134を設けることが好ましい。
そのため、図5および図6に示すように、発光中心元素濃度が低い蛍光体層133に対して、ホイール基板110の中心(回転の中心)に近い側および遠い側のそれぞれに、発光中心元素濃度が高い蛍光体層134を設けることが好ましい。このように配置することで、蛍光ホイールを回転させた際に、ビーム中心部が通過する部分には、発光中心元素濃度が低い蛍光体層133が配置され、ビーム縁部が通過する部分には、発光中心元素濃度が高い蛍光体層134が配置されることとなる。
本実施形態に係る蛍光ホイールは、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。また、励起光の中心付近の照度が高く高温になりやすい照射部分において、高温でも温度特性が低下しにくい蛍光体を配置することができ、発光効率の低下を抑制できる。
[第2の実施形態]
[蛍光ホイールの構成]
第1の実施形態は、ホイール基板110の円周方向全体に蛍光体層130を備えた構成であるが、本実施形態は、ホイール基板110が複数のセグメント領域を有し、そのうちの少なくとも1つのセグメント領域には、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層を備え、セグメント領域のそれぞれからは、同一の励起光を受けたとき波長の異なる光を取り出せる構成である。
また、複数のセグメント領域のうちの1つ以上を、蛍光体層130が設けられておらず、励起光を透過または反射する領域としてもよい。これにより、励起光をそのまま使用することができ、例えば、青色の励起光をそのまま青色の光として取り出すことができる。
また、ホイール基板110の少なくとも2つのセグメント領域は、同一の励起光を受けたとき異なる波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む蛍光体層130を備える。これにより、同一の励起光を用いて波長の異なる光を取り出せる。これらの蛍光体層130のうち、発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を備えるセグメント領域は、1つだけでもよい。少なくともその領域については、発光効率の低下を抑制することができるからである。
図9は、本実施形態に係る蛍光ホイール100の一例の模式図である。また、図10は、蛍光ホイール100をホイールモータ220の回転シャフト225に固定した状態の断面を示す模式図である。図9に示すように、本実施形態に係る蛍光ホイール100は、ホイール基板110および蛍光体層130、140を備え、ホイール基板110が扇形状の複数のセグメント領域を有し、1つのセグメント領域は励起光を透過する透過部160とした。
図9に示す蛍光体層130と蛍光体層140は同一の励起光を受けたときに異なる波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む。これにより、同一の励起光を用いて波長の異なる光を取り出せる。また、図9に示す例では、蛍光体層130のみ発光中心元素濃度の異なる蛍光体層(発光中心元素濃度が低い蛍光体層133と発光中心元素濃度が高い蛍光体層134)を備えるセグメント領域としたが、2以上のセグメント領域の蛍光体層について発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を設ける構成としてもよい。透過部160は、励起光を透過するため、励起光をそのまま使用することができる。
図11Aおよび図11Bは、本実施形態の変形例の蛍光ホイール100を示す模式図である。図11Aに示すように、円周方向に分割された領域を異なる2つの波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む蛍光体層130、140を備えるセグメントと透過部160とし、蛍光体層130、140の両方をそれぞれ発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を備える構成としてもよい。図11Aは、蛍光体層133と蛍光体層143は発光中心元素濃度が低く、蛍光体層134と蛍光体層144は発光中心元素濃度が高い。また、図11Bに示すように、セグメントを異なる3つの波長帯域光を発光する蛍光体をそれぞれ含む蛍光体層130、140、150を備えるセグメントと透過部160とし、すべての蛍光体層をそれぞれ発光中心元素濃度の異なる蛍光体層を備える構成としてもよい。図11Bは、蛍光体層133、蛍光体層143および蛍光体層153は発光中心元素濃度が低く、蛍光体層134、蛍光体層144および蛍光体層154は発光中心元素濃度が高い。また、蛍光ホイール100を用いる光源装置200や投影装置300の設計に応じて、透過部160は反射部としてもよいし、透過部160はなくてもよい。
本実施形態に係る蛍光ホイールは、1つのホイールで波長の異なる複数の発光を得られ、また、第1の蛍光体層と第2の蛍光体層とを備えるセグメントにおいて、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。
[第3の実施形態]
[蛍光ホイールの構成]
本実施形態では、第1の実施形態または第2の実施形態において、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層を備える部分について、隣接する発光中心元素濃度が異なる蛍光体層に一部重複する部分を設けている。そして、重複する部分の少なくとも一部は、少なくとも一方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている。
図12は、本実施形態に係る蛍光ホイール100の一例の蛍光体層130を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。図12に示すように、本実施例に係る蛍光ホイール100は、ホイール基板110および蛍光体層130を備え、さらに、隣接する発光中心元素濃度が異なる蛍光体層に一部重複する部分を有し、重複する部分の両方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている。図12は、蛍光体層133は発光中心元素濃度が低く、蛍光体層134は発光中心元素濃度が高い。
図13は、図12の模式図と、発光中心元素濃度が異なる各蛍光体の断面方向の量を表すグラフとの関係を示す図である。発光中心元素濃度が異なる蛍光体層133、134の重複する部分において、少なくとも一方の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層することで、図13のグラフからわかるように、発光中心元素濃度の異なる蛍光体の断面方向の存在量に傾斜が付き、発光に寄与する主な蛍光体の種類が面内の傾斜方向にそって徐々に切り替わる。その結果、励起光のエネルギー密度に依存する温度変化に対する外部量子収率の変化がより緩やかとなり、励起光スポット内における明るさの変化を小さくすることができる。
図14は、本実施形態の変形例の蛍光ホイール100の蛍光体層130を備えた部分の断面を拡大して表した模式図である。図14に示すように、本実施形態に係る蛍光ホイール100は、積層の形状は様々考えられ、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層の重複する部分において、少なくとも一方の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層させればよい。また、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層は、3種類以上であってもよい。
本実施形態に係る蛍光ホイールは、発光中心元素濃度の異なる蛍光体の断面方向の存在量に傾斜が付き、発光に寄与する主な蛍光体の種類が面内の傾斜方向にそって徐々に切り替わる。その結果、励起光のエネルギー密度に依存する温度変化に対する外部量子収率の変化がより緩やかとなり、励起光スポット内における明るさの変化を小さくすることができる。
[第4の実施形態]
[光源装置の構成]
本実施形態は、第1から第3の実施形態に係る蛍光ホイールを用いた光源装置、および、その光源装置を用いた投影装置の実施形態である。図15は、本実施形態に係る光源装置200を表す模式図である。本実施形態に係る光源装置200は、励起光源210、蛍光ホイール100、および駆動装置220を備える。図15には、上記以外にレンズおよびミラーを備えているが、これは光源装置200の設計に応じて備えなくてもよい。また、レンズおよびミラーは、投影装置300の導光光学系310(後述)と一体となっていてもよい。
励起光源210は、所定の波長帯域光(励起光)を蛍光ホイール100に照射する。励起光源210が照射する励起光の波長帯域は、光源装置200の設計に応じて様々な範囲を用いることができる。例えば、YAG、LuAG等の蛍光体粒子を励起する励起光源としては、青色光源を用いることができ、青色レーザダイオード(LD)であることが好ましい。
蛍光ホイール100は、励起光源210から照射された励起光を吸収して、所定の波長帯域光を放射し、または励起光をそのまま射出する。蛍光ホイール100は、上記第1から第3の実施形態に係る蛍光ホイール100である。
駆動装置(ホイールモータ)220は、電気信号により制御され、駆動装置220の回転シャフト225を通じて蛍光ホイール100を回転移動(回転および停止)させる。これにより、蛍光ホイール100の蛍光体層130の励起光に照射される位置が変化し、蛍光体層130が過度に加熱されることを防ぎ、蛍光体の温度消光を抑制できる。また、同じ励起光を受けたとき異なる光を放射する蛍光体層130や透過部160または反射部を備える蛍光ホイール100の場合は、異なる色を取り出すことができる。
ホイール固定具230は、蛍光ホイール100を駆動装置220の回転シャフト225に固定する。ホイール固定具230は、蛍光ホイール100の孔側周縁を厚み方向に挟んで固定している。回転シャフト225は、駆動装置220の駆動力により中心軸回りに回転し蛍光ホイール100を回転させる。ホイール固定具230は、金属製であることが好ましい。蛍光ホイール100を回転シャフト225に固定する方法は、どのようなものであってもよい。また、上記実施形態では、図3、図6、および図10に示すように、ホイール固定具230を用いて蛍光ホイール100を回転シャフト225に固定しているが、蛍光ホイール100を接着剤等により回転シャフト225に固定して、ホイール固定具230を用いない構成としてもよい。
[投影装置の構成]
図16は、本実施形態に係る投影装置300を表す概念図である。本実施形態に係る投影装置300は、光源装置200、導光光学系310、表示素子320、投影光学系330、入力部340、および制御部350を備える。光源装置200は、上記の本実施形態に係る光源装置200である。
導光光学系310は、光源装置200から放出された光を表示素子320に導光する。導光光学系310は、複数のミラー311またはダイクロイックミラー312、および図16に記載しない複数のレンズにより構成される。なお、図16では、ダイクロイックミラー312は光源装置200を構成する要素にもなっている。
表示素子320は、導光光学系310により導かれた光を用いて表示を行なう。表示素子320は、制御部350により制御され、入力部340が受け付けたデータに基づいた像の表示を行なう。表示素子320は、例えば、DMD(Digital Micromirror Device)、液晶ライトバルブなどを用いることができる。
投影光学系330は、表示素子320の表示を投影装置300の外部へ投射する。投影光学系330は、複数のレンズ(記載せず)により構成される。投影光学系330は、レンズの一部がモータ等により可動であり、制御部350により制御されることで、ズームやフォーカス等の調整が行なわれる。なお、図16の投影装置300を表す概念図は一例であり、導光光学系310も投影光学系330も、蛍光ホイール100、光源装置200、投影装置300の設計に応じて様々な形態に変更される。
入力部340は、投影する像のデータの入力を受け付け、入力されたデータを制御部350に引き渡す。入力部340は、投影装置300とは別の機器からのデータを受け付けてもよい。また、入力部340は、インターネット等に接続し、通信によってデータを受け付けてもよい。また、入力部340は、ユーザによる操作を受け付け、入力された操作データを制御部350に引き渡す。
制御部350は、入力部340が受け付けたデータに基づいて像を投影するために、光源装置200、表示素子320、および投影光学系330を制御する。導光光学系310は、固定されていてもよいが、制御部350に制御される構成としてもよい。
本実施形態に係る光源装置は、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させ、発光効率の低下を抑制できるため、高効率の光源装置とすることができる。また、本実施形態に係る投影装置は、高効率の光源装置を用いて投影照度を高く維持することが可能となり、外光のある環境においても良好な投影像を得ることができる。
[第5の実施形態]
[投影装置の構成]
図17は、本実施形態に係る投影装置300を表す概念図である。本実施形態に係る投影装置300は、光源装置200、導光光学系310、表示素子320、投影光学系330、センサ360、入力部340、および制御部350を備える。
光源装置200は、励起光源210、第2の実施形態に係る蛍光ホイール100、および駆動装置220を備える。これらの構成は、第2および第4の実施形態と同様である。
導光光学系310、表示素子320、投影光学系330、および入力部340の構成は、第4の実施形態と同様である。
センサ360は、光源装置200の蛍光ホイール100の回転位置の情報を取得する。センサ360は、取得した位置情報を、制御部350に通知する。
制御部350は、入力部340が受け付けたデータに基づいて像を投影するために、光源装置200、表示素子320、導光光学系310および投影光学系330を制御する。また、制御部350は、出力する投影像の色や明るさの階調と、センサ360により取得した蛍光ホイール100の位置情報に従い、励起光源210の出力を制御する。
本実施形態に係る投影装置は、色や明るさの階調に合わせて励起光の出力を制御することで、励起光源や蛍光ホイールの劣化を抑制することができる。また、不要な光を減衰させる必要が無いため、投影装置内部の発熱を抑制することができる。
[蛍光ホイールの製造方法]
次に、蛍光ホイールの製造方法について説明する。まず、円板状に形成されたホイール基板を準備する。ホイール基板は、一つの材料で一体として形成されたものでもよいし、複数の材料を組み合わせて形成されたものでもよい。次に、有機バインダまたは無機バインダに発光中心元素濃度が異なる蛍光体をそれぞれ分散させた複数の蛍光体ペーストを準備する。
そして、ホイール基板の励起光が照射される部分に、異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体ペーストを、隣接または重複するペーストの少なくとも表面の境界が円周の一部となるように塗布する。蛍光体ペーストの塗布は、どのような方法を用いてもよいが、例えば、液体定量吐出装置による描画法、スクリーン印刷法、スプレー法、インクジェット法等を用いることができる。第3の実施形態に係る蛍光ホイールを製造するときは、液体定量吐出装置による描画法を用いると、簡便に、発光中心元素濃度が異なる蛍光体層の重複する部分の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層することができるため、好ましい。
そして、ペーストを塗布したホイール基板を焼成または乾燥し、蛍光体層を作製する。このようにして、励起光の照射部分ごとの輝度に応じて蛍光体の温度特性を変化させた蛍光体ホイールを製造することができる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
本発明の一実施形態は、以下のような構成を採ることができる。即ち(1)本発明の一実施形態の蛍光ホイールは、励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、ホイール基板と、前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第1の蛍光体層と、前記ホイール基板上に配置され、前記第1の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第2の蛍光体層と、を備え、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である。
これにより、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。
(2)また、本発明の一実施形態の蛍光ホイールにおいて、前記第2の蛍光体層は、前記第1の蛍光体層に対して、前記ホイール基板の中心に近い側および遠い側のそれぞれに形成され、前記第1の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度は、前記第2の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度より低い。
これにより、励起光の中心付近の照度が高く高温になりやすい照射部分において、高温でも温度特性が低下しにくい蛍光体を配置することができ、発光効率の低下を抑制できる。
(3)また、本発明の一実施形態の蛍光ホイールにおいて、前記ホイール基板は円周方向に配置された複数のセグメント領域を有し、少なくとも1つのセグメント領域には、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層を備え、前記セグメント領域のそれぞれからは、同一の励起光を受けたとき波長の異なる光を取り出せる。
これにより、1つのホイールで波長の異なる発光が得られ、また、第1の蛍光体層と第2の蛍光体層とを備えるセグメントにおいて、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。
(4)また、本発明の一実施形態の蛍光ホイールにおいて、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層が重複する部分の少なくとも一部は、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層の少なくとも一方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている。
これにより、発光中心元素濃度の異なる蛍光体の断面方向の存在量に傾斜が付き、発光に寄与する主な蛍光体の種類が面内の傾斜方向にそって徐々に切り替わる。その結果、励起光のエネルギー密度に依存する温度変化に対する外部量子収率の変化がより緩やかとなり、励起光スポット内における明るさの変化を小さくすることができる。
(5)また、本発明の一実施形態の光源装置は、励起光を照射する励起光源と、前記照射された励起光を受ける上記(1)から(4)のいずれかに記載の蛍光ホイールと、前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える。
これにより、励起光の照射部分ごとの照度に応じて蛍光体の温度特性を変化させることができ、発光効率の低下を抑制できる。その結果、高効率の光源装置を構成できる。
(6)また、本発明の一実施形態の投影装置は、上記(5)記載の光源装置と、前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、前記導光光学系により導かれた光を用いて表示を行なう表示素子と、前記表示を外部へ投射する投影光学系と、投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、を備える。
これにより、高効率の光源装置を用いて投影照度を高く維持することが可能となり、外光のある環境においても良好な投影像を得ることができる。
(7)また、本発明の一実施形態の投影装置は、励起光を照射する励起光源と、前記照射された励起光を受ける上記(3)記載の蛍光ホイールと、前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置と、前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、前記導光光学系により導かれた光を用いて表示を行なう表示素子と、前記表示を外部へ投射する投影光学系と、投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、前記蛍光ホイールの回転位置を取得するセンサと、を備え、前記制御部は、出力する投影像の色や明るさの階調と、前記センサにより取得した前記蛍光ホイールの位置情報に従い、前記励起光源の出力を制御する。
これにより、色や明るさの階調に合わせて励起光の出力を制御することで、励起光源や蛍光ホイールの劣化を抑制することができる。また、不要な光を減衰させる必要が無いため、投影装置内部の発熱を抑制することができる。
なお、本国際出願は、2017年7月26日に出願した日本国特許出願第2017−144649号に基づく優先権を主張するものであり、日本国特許出願第2017−144649号の全内容を本国際出願に援用する。
100 蛍光ホイール
110 ホイール基板
120 蛍光体粒子
121 第1の蛍光体
122 第2の蛍光体
125 バインダ
130、140、150 蛍光体層
131 第1の蛍光体層
132 第2の蛍光体層
133、143、153 発光中心元素濃度が低い蛍光体層
134、144、154 発光中心元素濃度が高い蛍光体層
160 透過部
200 光源装置
210 励起光源
220 駆動装置
225 回転シャフト
230 ホイール固定具
300 投影装置
310 導光光学系
311 ミラー
312 ダイクロイックミラー
320 表示素子
330 投影光学系
340 入力部
350 制御部
360 センサ

Claims (7)

  1. 励起光を受けて蛍光する領域を有する円板状の蛍光ホイールであって、
    ホイール基板と、
    前記ホイール基板上に配置され、所定の発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第1の蛍光体層と、
    前記ホイール基板上に配置され、前記第1の蛍光体層に含まれる蛍光体とは異なる発光中心元素濃度を有する蛍光体を含む第2の蛍光体層と、を備え、
    前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層は隣接または一部重複して配置され、
    前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層の蛍光体層表面の境界は少なくとも円周の一部である蛍光ホイール。
  2. 前記第2の蛍光体層は、前記第1の蛍光体層に対して、前記ホイール基板の中心に近い側および遠い側のそれぞれに形成され、
    前記第1の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度は、前記第2の蛍光体層に含まれる蛍光体の発光中心元素濃度より低い請求項1記載の蛍光ホイール。
  3. 前記ホイール基板は円周方向に配置された複数のセグメント領域を有し、
    少なくとも1つのセグメント領域には、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層を備え、
    前記セグメント領域のそれぞれからは、同一の励起光を受けたとき異なる光を取り出せる請求項1または請求項2記載の蛍光ホイール。
  4. 前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層が重複する部分の少なくとも一部は、前記第1の蛍光体層および前記第2の蛍光体層の少なくとも一方の蛍光体層の積層方向の厚みに傾斜が付くように積層され形成されている請求項1から請求項3のいずれかに記載の蛍光ホイール。
  5. 励起光を照射する励起光源と、
    前記照射された励起光を受ける請求項1から請求項4のいずれかに記載の蛍光ホイールと、
    前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置。
  6. 請求項5記載の光源装置と、
    前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、
    投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、
    前記導光光学系により導かれた光を用いて前記入力部に入力されたデータの像の表示を行なう表示素子と、
    前記表示を外部へ投射する投影光学系と、
    前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、を備える投影装置。
  7. 励起光を照射する励起光源と、前記照射された励起光を受ける請求項3記載の蛍光ホイールと、前記蛍光ホイールを回転させる駆動装置と、を備える光源装置と、
    前記光源装置から放出された光を導光する導光光学系と、
    投影する像のデータの入力を受け付ける入力部と、
    前記導光光学系により導かれた光を用いて前記入力部に入力されたデータの像の表示を行なう表示素子と、
    前記表示を外部へ投射する投影光学系と、
    前記光源装置、前記表示素子および前記各光学系を制御する制御部と、
    前記蛍光ホイールの回転位置を取得するセンサと、を備え、
    前記制御部は、出力する投影像の色や明るさの階調と、前記センサにより取得した前記蛍光ホイールの位置情報に従い、前記励起光源の出力を制御する投影装置。
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