JPWO2018190290A1 - キシリレンジイソシアネート組成物、キシリレンジイソシアネート変性体組成物、二液型樹脂原料および樹脂 - Google Patents

キシリレンジイソシアネート組成物、キシリレンジイソシアネート変性体組成物、二液型樹脂原料および樹脂 Download PDF

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Abstract

キシリレンジイソシアネート組成物は、キシリレンジイソシアネートと、下記化学式（１）に示す化合物とを含み、下記化学式（１）に示す化合物の含有割合が、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下である。化学式（１）

Description

本発明は、キシリレンジイソシアネート組成物、キシリレンジイソシアネート変性体組成物、二液型樹脂原料および樹脂に関する。
従来より、各種産業製品に用いられるポリウレタン樹脂の原料として、キシリレンジイソシアネートが知られている。
このようなキシリレンジイソシアネートは、キシリレンジアミンと塩化カルボニルとを反応させることにより得られ、この反応の際に塩素化物が副生することが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
特許文献１には、副生した塩素化物としてのクロルメチルベンジルイソシアネートを０．１重量％含有するキシリレンジイソシアネートが開示されている。
国際公開第２００７／０１０９９６Ａ１パンフレット
しかるに、ポリウレタン樹脂は、目的および用途によって、優れた耐変色性が要求される。しかし、特許文献１に記載のキシリレンジイソシアネートから製造されるポリウレタン樹脂では、十分な耐変色性を確保できない場合がある。
そこで、本発明は、耐変色性に優れる樹脂を安定して製造できるキシリレンジイソシアネート組成物、キシリレンジイソシアネート変性体組成物および二液型樹脂原料を提供する。
本発明［１］は、キシリレンジイソシアネートと、下記化学式（１）に示す化合物を含み、下記式（１）に示す化合物の含有割合が、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下である、キシリレンジイソシアネート組成物を含んでいる。
化学式（１）
Figure 2018190290
本発明［２］は、クロロメチルベンジルイソシアネートをさらに含み、前記クロロメチルベンジルイソシアネートの含有割合が、０．２ｐｐｍ以上３０００ｐｐｍ以下である、上記［１］に記載のキシリレンジイソシアネート組成物。
本発明［３］は、前記クロロメチルベンジルイソシアネートの含有割合が、０．２ｐｐｍ以上１６００ｐｐｍ以下である、上記［２］に記載のキシリレンジイソシアネート組成物を含んでいる。
本発明［４］は、上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載のキシリレンジイソシアネート組成物が変性された変性体組成物であり、下記（ａ）〜（ｉ）の官能基を少なくとも１種含有する、キシリレンジイソシアネート変性体組成物を含んでいる。
（ａ）イソシアヌレート基、
（ｂ）アロファネート基、
（ｃ）ビウレット基、
（ｄ）ウレタン基、
（ｅ）ウレア基、
（ｆ）イミノオキサジアジンジオン基、
（ｇ）ウレトジオン基、
（ｈ）ウレトンイミン基、
（ｉ）カルボジイミド基。
本発明［５］は、上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載のキシリレンジイソシアネート組成物および／または上記［４］に記載のキシリレンジイソシアネート変性体組成物を含有するイソシアネート成分と、活性水素基含有成分との反応生成物である、樹脂を含んでいる。
本発明［６］は、光学材料である、上記［５］に記載の樹脂を含んでいる。
本発明［７］は、光学レンズである、上記［６］に記載の樹脂を含んでいる。
本発明［８］は、上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載のキシリレンジイソシアネート組成物および／または上記［４］に記載のキシリレンジイソシアネート変性体組成物を含有するイソシアネート成分と、活性水素基含有成分と、を含む二液型樹脂原料を含んでいる。
本発明［９］は、コーティング原料である、上記［８］に記載の二液型樹脂原料を含んでいる。
本発明［１０］は、キシリレンジアミンと塩化水素とを混合してキシリレンジアミン塩酸塩を造塩する造塩工程と、キシリレンジアミン塩酸塩と塩化カルボニルとをイソシアネート化反応させて、キシリレンジイソシアネートを生成するとともに下記化学式（１）に示す化合物を生成して、キシリレンジイソシアネートおよび下記化学式（１）に示す化合物を含有する反応マスを調製するイソシアネート化工程と、前記反応マスを精製して、キシリレンジイソシアネート組成物を調製する精製工程と、を含み、前記キシリレンジイソシアネート組成物における、下記化学式（１）に示す化合物の含有割合が、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下である、キシリレンジイソシアネート組成物の製造方法を含む。
化学式（１）
Figure 2018190290
本発明［１１］は、前記反応マスを調製する工程において、反応圧力（ゲージ圧）は、大気圧を超過する、上記［１０］に記載のキシリレンジイソシアネート組成物の製造方法を含む。
本発明［１２］は、前記造塩工程および前記イソシアネート化工程は、連続して実施される、上記［１０］または［１１］に記載のキシリレンジイソシアネート組成物の製造方法を含む。
本発明のキシリレンジイソシアネート組成物は、キシリレンジイソシアネートと、上記化学式（１）に示す化合物とを含み、上記化学式（１）に示す化合物の含有割合が、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下である。
そのため、本発明のキシリレンジイソシアネート組成物、および、それを含む樹脂原料から製造される樹脂は、耐変色性に優れる。
図１は、本発明のキシリレンジイソシアネート組成物を製造するプラントの一実施形態の概略構成図である。 図２は、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、エラストマーのキセノン照射試験における色差との相関を示すグラフである。 図３は、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、フォームのＵＶ照射試験における色差との相関を示すグラフである。 図４Ａは、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、プラスチックレンズＡのイエローインデックス値との相関を示すグラフである。図４Ｂは、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、プラスチックレンズＢのイエローインデックス値との相関を示すグラフである。 図５は、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、二液硬化型シーリング材のＵＶ照射試験における色差との相関を示すグラフである。 図６は、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、コーティング材（Ａ剤１）のＵＶ照射試験における色差との相関を示すグラフである。 図７は、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、コーティング材（Ａ剤２）のＵＶ照射試験における色差との相関を示すグラフである。 図８は、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、ラミネート用接着剤のＵＶ照射試験における色差との相関を示すグラフである。 図９は、キシリレンジイソシアネート組成物におけるＤＣＩおよびＣＢＩのそれぞれの含有割合と、一液硬化型シーリング材のＵＶ照射試験における色差との相関を示すグラフである。
１．キシリレンジイソシアネート組成物
本発明のキシリレンジイソシアネート組成物は、主成分としてキシリレンジイソシアネートを９９質量％以上含有する、ほぼ単一化合物（つまり、キシリレンジイソシアネート）であるが、副成分として、下記化学式（１）に示す化合物を含有していることから、キシリレンジイソシアネート組成物として定義している。
つまり、本発明のキシリレンジイソシアネート組成物は、必須成分として、キシリレンジイソシアネートと、下記化学式（１）に示す化合物とを含有している。以下において、キシリレンジイソシアネート組成物をＸＤＩ組成物とし、キシリレンジイソシアネートをＸＤＩとし、下記化学式（１）に示す化合物（ジクロロメチルベンジルイソシアネート）をＤＣＩとする。
化学式（１）
Figure 2018190290
ＸＤＩは、構造異性体として、１，２−ＸＤＩ（ｏ−ＸＤＩ）、１，３−ＸＤＩ（ｍ−ＸＤＩ）、１，４−ＸＤＩ（ｐ−ＸＤＩ）を含んでいる。これらＸＤＩの構造異性体は、単独使用または２種類以上併用されてもよい。
ＸＤＩとして、好ましくは、１，３−ＸＤＩおよび１，４−ＸＤＩが挙げられ、より好ましくは、１，３−ＸＤＩが挙げられる。
ＸＤＩの含有割合（純度）は、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、例えば、９９．５０質量％以上、好ましくは、９９．７０質量％以上、より好ましくは、９９．９０質量％以上、例えば、９９．９９９質量％以下、好ましくは、９９．９９０質量％以下である。ＸＤＩの含有割合は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
ＤＣＩは、後述するＸＤＩの製造において副生する塩素化合物である。ＤＣＩは、構造異性体として、ｏ−ＤＣＩ、ｍ−ＤＣＩ、ｐ−ＤＣＩを含んでいる。これらＤＣＩの構造異性体は、ＸＤＩ組成物に１種または２種以上含有されてもよい。
ＸＤＩの製造において副生するＤＣＩの構造異性体は、製造されるＸＤＩの構造異性体に対応する。そのため、ＸＤＩ組成物は、上記したＸＤＩの構造異性体に対応するＤＣＩを含有する。つまり、ＸＤＩ組成物は、ｏ−ＸＤＩを含有する場合、ｏ−ＤＣＩを含有し、ｍ−ＸＤＩを含有する場合、ｍ−ＤＣＩを含有し、ｐ−ＸＤＩを含有する場合、ｐ−ＤＣＩを含有する。
ＤＣＩとして、好ましくは、ｍ−ＤＣＩおよびｐ−ＤＣＩが挙げられ、より好ましくは、ｍ−ＤＣＩが挙げられる。
ＤＣＩの含有割合は、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下である。ＤＣＩの含有割合は、後述する実施例に記載の方法に準拠して、ガスクロマトグラフィーで分析することにより測定できる。なお、ＸＤＩ組成物の用途に応じたＤＣＩの含有割合の好適な範囲を後で詳述する。
ＤＣＩの含有割合が上記範囲内であれば、ＸＤＩ組成物から製造される樹脂の黄変および／または白濁を抑制できる。
ＸＤＩ組成物は、さらに、下記化学式（２）に示すクロロメチルベンジルイソシアネート（モノクロロメチルベンジルイソシアネート）を含有してもよい。以下において、クロロメチルベンジルイソシアネートをＣＢＩとする。
化学式（２）
Figure 2018190290
ＣＢＩは、後述するＸＤＩの製造において副生する塩素化合物である。つまり、ＸＤＩの製造において、ＤＣＩが副生するとともに、ＣＢＩが副生する場合がある。ＣＢＩは、構造異性体として、ｏ−ＣＢＩ、ｍ−ＣＢＩ、ｐ−ＣＢＩを含んでいる。これらＣＢＩの構造異性体は、ＸＤＩ組成物に１種または２種以上含有されてもよい。なお、ＸＤＩの製造において副生するＣＢＩの構造異性体は、ＤＣＩと同様に、製造されるＸＤＩの構造異性体に対応する。
ＣＢＩの含有割合は、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、例えば、０．２ｐｐｍ以上、好ましくは、６ｐｐｍ以上、より好ましくは、１００ｐｐｍ以上、例えば、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは、４０００ｐｐｍ以下、より好ましくは、３０００ｐｐｍ以下、とりわけ好ましくは、１６００ｐｐｍ以下、特に好ましくは、１０００ｐｐｍ以下である。ＣＢＩの含有割合は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
また、ＣＢＩの含有割合は、ＤＣＩの含有割合に対して、例えば、２倍以上、好ましくは、１０倍以上、より好ましくは、２０倍以上、例えば、８００倍以下、好ましくは、３００倍以下、より好ましくは、５０倍以下である。
ＣＢＩの含有割合が上記の範囲であれば、ＸＤＩ組成物から製造される樹脂の黄変を確実に抑制できる。とりわけ、ＣＢＩの含有割合が上記上限以下であれば、ＸＤＩ組成物から製造される樹脂の黄変を確実に抑制できるとともに、樹脂の製造時のウレタン化反応を円滑に進行させることができ、樹脂の機械特性の向上を確実に図ることができる。
ＸＤＩ組成物は、さらに、ジクロロメタンイミノ−メチルベンジルイソシアネート、キシリレンジクロリド（ＸＤＣ）、下記化学式（３）に示すシアノベンジルイソシアネート（ＭＣＮ）などのその他の副生成物を含有してもよい。
化学式（３）
Figure 2018190290
一方、ＸＤＩ組成物が後述するＸＤＩ組成物の製造方法（つまり液相法）により製造された場合、上記化学式（３）に示すシアノベンジルイソシアネート（ＭＣＮ）は、ＸＤＩ組成物に実質的に含有されない。
具体的には、上記化学式（３）に示すシアノベンジルイソシアネート（ＭＣＮ）の含有割合は、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、例えば、５００ｐｐｍ以下、好ましくは、３００ｐｐｍ未満、さらに好ましくは、１００ｐｐｍ未満であり、例えば、０ｐｐｍ以上である。ＭＣＮの含有割合は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
ＭＣＮの含有割合が上記上限以下であれば、ＸＤＩ組成物から製造される樹脂の着色（黄変）をより確実に抑制できる。
また、ＸＤＩ組成物における加水分解性塩素の濃度（ＨＣ）は、例えば、１０ｐｐｍ以上、好ましくは、２０ｐｐｍ以上、例えば、１５００ｐｐｍ以下、好ましくは、１０００ｐｐｍ以下である。加水分解性塩素の濃度（ＨＣ濃度）は、ＪＩＳ Ｋ−１６０３−３（２００７）に記載されている加水分解性塩素の求め方に準拠して測定される。
加水分解性塩素の濃度には、上記したＤＣＩ、ＣＢＩ、その他の副生成物などが含まれる。そのため、ＸＤＩ組成物における加水分解性塩素の濃度と、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合とは、後述する実施例からも明らかなように相関しない。その結果、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、ＸＤＩ組成物における加水分解性塩素の濃度から算出できない。
２．ＸＤＩ組成物の製造方法
次に、ＸＤＩ組成物の製造方法について説明する。
ＸＤＩ組成物を製造するには、例えば、原料であるキシリレンジアミンをイソシアネート化して、ＸＤＩおよびＤＣＩを含有する反応マス（精製前組成物）を製造した後、反応マスを精製する。
以下において、キシリレンジアミンをＸＤＡとする。ＸＤＡは、構造異性体として、１，２−ＸＤＡ（ｏ−ＸＤＡ）、１，３−ＸＤＡ（ｍ−ＸＤＡ）、１，４−ＸＤＡ（ｐ−ＸＤＡ）を含んでいる。
（２−１）反応マスの製造工程（工程Ａ〜Ｃ）
反応マスを製造するには、例えば、ＸＤＡと塩化水素とを混合して、ＸＤＡ塩酸塩を造塩した後、塩酸塩と塩化カルボニル（ホスゲン）とを反応させる（アミン塩酸塩のホスゲン化法）。つまり、反応マスの製造工程は、ＸＤＡと塩化水素と混合してＸＤＡ塩酸塩を造塩する造塩工程（工程Ａ）と、ＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとを反応させて、ＸＤＡ塩酸塩をイソシアネート化（ホスゲン化）するイソシアネート化工程（工程Ｂ）とを含む。このような造塩工程（工程Ａ）およびイソシアネート化工程（工程Ｂ）が液相法である。
造塩工程（工程Ａ）では、例えば、ＸＤＡと塩化水素とを、不活性溶媒存在下で混合して、ＸＤＡ塩酸塩を製造（造塩）する。
不活性溶媒として、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、例えば、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素類、例えば、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、例えば、クロロトルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジブロモベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類、例えば、ニトロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリジノンなどの含窒素化合物類、例えば、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類、例えば、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸エトキシエチルなどの脂肪酸エステル類、例えば、サリチル酸メチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジブチル、安息香酸メチルなどの芳香族カルボン酸エステル類などが挙げられる。不活性溶媒は、単独使用または２種類以上併用することができる。
不活性溶媒のなかでは、好ましくは、ハロゲン化芳香族炭化水素類が挙げられ、より好ましくは、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼンが挙げられる。
そして、不活性溶媒に、塩化水素ガスを供給するともに、ＸＤＡが不活性溶媒に溶解されたアミン溶液を供給する。その後、塩化水素ガスおよびアミン溶液を撹拌混合する。
アミン溶液におけるＸＤＡの含有割合は、特に制限されないが、例えば、３．０質量％以上、好ましくは、５．０質量％以上、例えば、３０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下である。
ＸＤＡおよび不活性溶媒の質量の総和に対する、供給したＸＤＡの質量割合（全アミン濃度）は、例えば、３質量％以上、好ましくは、５質量％以上、例えば、３０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下、より好ましくは、１５質量％以下である。
塩化水素の供給割合は、ＸＤＡ１ｍｏｌに対して、例えば、２倍ｍｏｌ以上、例えば、１０倍ｍｏｌ以下、好ましくは、６倍ｍｏｌ以下、より好ましくは、４倍ｍｏｌ以下である。
このような造塩工程における造塩温度は、例えば、３０℃以上、好ましくは、５０℃以上、より好ましくは、６０℃以上、例えば、１６０℃以下、好ましくは、１５０℃以下、より好ましくは、１４０℃以下である。
造塩工程における造塩圧力（ゲージ圧）は、例えば、大気圧（０ＭＰａＧ）以上、好ましくは、０．０１ＭＰａＧ以上、より好ましくは、０．０２ＭＰａＧ以上、例えば、１．０ＭＰａＧ以下、好ましくは、０．５ＭＰａＧ以下、より好ましくは、０．４ＭＰａＧ以下である。
これにより、ＸＤＡと塩化水素とからＸＤＡ塩酸塩が生成し（塩酸塩化反応）、ＸＤＡ塩酸塩を含むスラリーが製造される。
次いで、イソシアネート化工程（工程Ｂ）では、ＸＤＡ塩酸塩を含むスラリーに塩化カルボニルを供給して、ＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとを反応させる（イソシアネート化反応、ホスゲン化）。
塩化カルボニルの供給割合は、ＸＤＡ塩酸塩１ｍｏｌに対して、例えば、４倍ｍｏｌ以上、好ましくは、５倍ｍｏｌ以上、より好ましくは、６倍ｍｏｌ以上、例えば、５０倍ｍｏｌ以下、好ましくは、４０倍ｍｏｌ以下、より好ましくは、３０倍ｍｏｌ以下である。
塩化カルボニルの供給割合は、イソシアネート化反応の反応速度および副生するＤＣＩの生成に影響する。塩化カルボニルの供給割合を上記の範囲に調整することにより、ＤＣＩの生成量を調整することができる。詳しくは、塩化カルボニルの供給割合を増加させると、ＤＣＩの生成量の増加を図ることができ、塩化カルボニルの供給割合を低下させると、ＤＣＩの生成量の低減を図ることができる。
イソシアネート化工程の反応時間は、例えば、４ｈｒ以上、好ましくは、６ｈｒ以上、例えば、２５ｈｒ以下、好ましくは、２０ｈｒ以下、より好ましくは、１５ｈｒ以下である。
イソシアネート化工程の反応時間を上記の範囲に調整することにより、ＣＢＩおよびＤＣＩの生成量を調整することができる。詳しくは、イソシアネート化工程の反応時間を増加させると、ＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとを確実に反応させることができながら、ＣＢＩおよびＤＣＩの生成量の増加を図ることができ、イソシアネート化工程の反応時間を低下させると、副生するタール成分の低減を図ることができながら、ＣＢＩおよびＤＣＩの生成量の低減を図ることができる。
このようなイソシアネート化工程における反応温度は、例えば、９０℃以上、好ましくは、１００℃以上、より好ましくは、１１０℃以上、例えば、１９０℃以下、好ましくは、１８０℃以下、より好ましくは、１６０℃以下である。
イソシアネート化工程における温度が上記下限以上であると、反応速度の向上を図ることができ、工業的に好適に実施できる。イソシアネート化工程における温度が上記上限以下であると、副生成物（ＣＢＩおよびＤＣＩなど）が過剰に生成することを抑制でき、簡易な精製によりＸＤＩ組成物を製造できる。
イソシアネート化工程における反応圧力（ゲージ圧）としては、例えば、大気圧（０ＭＰａＧ）を超過し、好ましくは、０．０００５ＭＰａＧ以上、より好ましくは、０．００１ＭＰａＧ以上、さらに好ましくは、０．００３ＭＰａＧ以上、とりわけ好ましくは、０．０１ＭＰａＧ（１０ｋＰａＧ）以上、特に好ましくは、０．０２ＭＰａＧ（２０ｋＰａＧ）以上、最も好ましくは、０．０３ＭＰａＧ（３０ｋＰａＧ）以上、例えば、０．６ＭＰａＧ以下、好ましくは、０．４ＭＰａＧ以下、より好ましくは、０．２ＭＰａＧ以下である。
しかるに、イソシアネート化工程における反応圧力が大気圧以下（つまり、減圧下や大気圧下）では、イソシアネート化工程において、ＤＣＩを十分に生成することができない。
一方、イソシアネート化工程における反応圧力が上記下限以上であると、イソシアネート化工程において、ＤＣＩを確実に生成することができる。
また、イソシアネート化工程における反応圧力を上記の範囲に調整することにより、ＣＢＩおよびＤＣＩの生成量を調整することができる。詳しくは、イソシアネート化工程における反応圧力を増加させると、余剰な塩化カルボニルを冷却器により回収することができ、塩化カルボニルの回収に冷凍機が必要な場合と比較して、エネルギー効率の向上を図ることができながら、ＣＢＩおよびＤＣＩの生成量の増加を図ることができる。
イソシアネート化工程における反応圧力を低下させると、中間体のカルバモイルクロライドからイソシアネートへの分解反応を効率よく進行させることができ、反応時間の低減を図ることができながら、ＣＢＩおよびＤＣＩの生成量の低減を図ることができる。
このようなイソシアネート化工程は、バッチ式および連続式のいずれによっても実施できるが、好ましくは、連続式により実施される。つまり、好ましくは、撹拌槽において生成したスラリー（ＸＤＡ塩酸塩）を、撹拌槽から撹拌槽とは別の反応槽に連続的に送液して、反応槽においてＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとを反応させながら、反応槽から反応液（反応マス）を連続的に取り出す。
イソシアネート化工程をバッチ式により実施すると、ＸＤＡ塩酸塩が長時間にわたって高温で過剰の塩化カルボニルと反応しないために、ＤＣＩが生成しない場合がある。また、バッチ式のイソシアネート化工程では、ＸＤＡ塩酸塩の濃度が高い反応初期において、均一に混合することが困難となる場合があり、高出力の撹拌装置が必要となるとともに反応槽が大型化してしまう。さらに、バッチ式のイソシアネート化工程では、反応初期において比較的ＸＤＡ塩酸塩の濃度が高いスラリーと塩化カルボニルとを反応させるために大量の塩化カルボニルが必要となり、塩化カルボニルの回収装置および副生する塩化水素ガスの処理装置が大型化してしまう。
一方、イソシアネート化工程を連続式により実施すると、各反応槽での滞留時間は平均値であり、一部の反応液は長時間反応槽にとどまり、結果として長時間にわたってＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとが反応するために、ＤＣＩを生成する。また、連続式のイソシアネート化工程では、イソシアネート化反応の進行に従い液状のＸＤＩが生成して、スラリーにおけるＸＤＡ塩酸塩の濃度が低下するために、簡易な撹拌装置によって円滑に撹拌できる。さらに、連続式のイソシアネート化工程では、塩化カルボニルの供給量および副生する塩化水素ガス量を一定とすることができ、塩化カルボニルの回収装置および塩化水素ガスの処理装置をコンパクト化することができるとともに、運転を安定化できる。これらにより、連続式のイソシアネート化工程は、バッチ式のイソシアネート化工程よりも、ＸＤＩの量産化のための自動運転の観点から好適である。
つまり、量産化スケールにおいて、好ましくは、イソシアネート化工程は連続反応である。
また、イソシアネート化工程は、反応槽における容積効率の観点から好ましくは、多段工程として実施される。イソシアネート化工程の段数は、例えば、２段以上５段以下である。
例えば、イソシアネート化工程の段数が２段である場合、２段のイソシアネート化工程における滞留時間の総和の範囲が、上記した反応時間の範囲と同じであり、２段のイソシアネート化工程における塩化カルボニルの供給割合の範囲が、上記した塩化カルボニルの供給割合の範囲と同じである。
以上によって、ＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとが反応して、主成分としてＸＤＩが生成する。また、副生成物としてＤＣＩが生成し、さらに副生成物としてＣＢＩが生成する場合がある。
次いで、必要により、反応液（反応混合物）に対して、脱ガス工程、脱溶媒工程および脱タール工程を実施する（工程Ｃ）。脱ガス工程では、反応液（反応混合物）から、余剰な塩化カルボニルや副生する塩化水素などのガスを、公知の脱ガス塔により除去する。脱溶媒工程では、反応液から公知の蒸留塔により不活性溶媒を留去する。脱タール工程では、反応液から公知の脱タール器によりタール成分を除去する。なお、脱タール工程によりタール成分が除去された反応マスを脱タールマスとする。
以上によって、ＸＤＩおよびＤＣＩを含有する反応マス（好ましくは、脱タールマス）が製造される。
反応マスにおけるＸＤＩの含有割合は、例えば、８０．０質量％以上、好ましくは、９０．０質量％以上、より好ましくは、９５．０質量％以上、例えば、９９．０質量％以下、好ましくは、９８．５質量％以下、より好ましくは、９８．０質量％以下である。
反応マスにおけるＤＣＩの含有割合は、例えば、１ｐｐｍ以上、好ましくは、２ｐｐｍ以上、より好ましくは、５ｐｐｍ以上、例えば、８０ｐｐｍ以下、好ましくは、７０ｐｐｍ以下、より好ましくは、５０ｐｐｍ以下である。
反応マスがＣＢＩを含有する場合、反応マスにおけるＣＢＩの含有割合は、例えば、０．１質量％以上、好ましくは、０．３質量％以上、より好ましくは、０．５質量％以上、例えば、３．０質量％以下、好ましくは、１．５質量％以下、より好ましくは、１．０質量％以下である。
反応マスが不活性溶媒を含有する場合、反応マスにおける不活性溶媒の含有割合は、例えば、０．１質量％以上、好ましくは、０．３質量％以上、より好ましくは、０．５質量％以上、さらに好ましくは、１．０質量％以上、例えば、５．０質量％以下、好ましくは、３．０質量％以下である。
（２−２）反応マスの精製工程（工程Ｄ）
次いで、反応マス（精製前組成物）を精製して、ＤＣＩの含有割合を上記の範囲に調整する。
反応マスの精製方法として、例えば、晶析、蒸留などの工業的な分離方法が挙げられ、好ましくは、蒸留が挙げられる。反応マスを蒸留により精製するには、例えば、反応マスから低沸物（低沸点成分）を蒸留により留去した後、脱低沸後の反応マスである脱低沸マスを精留する。つまり、反応マスの精製工程は、反応マスから低沸物を留去する脱低沸工程と、脱低沸マスを精留する精留工程とを含む。
脱低沸工程では、例えば、反応マス（好ましくは、脱タールマス）を脱低沸塔により蒸留して、低沸物を留去する。
脱低沸塔として、例えば、棚段塔および充填塔が挙げられ、好ましくは、充填塔が挙げられる。脱低沸塔の理論段数は、例えば、３段以上、好ましくは、５段以上、より好ましくは、７段以上、例えば、４０段以下、好ましくは、２０段以下、より好ましくは、１５段以下である。
脱低沸塔の塔底温度は、例えば、１３０℃以上、好ましくは、１４０℃以上、より好ましくは、１５０℃以上、例えば、２００℃以下、好ましくは、１９０℃以下、より好ましくは、１８０℃以下である。
脱低沸塔の塔頂温度は、例えば、９０℃以上、好ましくは、１００℃以上、より好ましくは、１１０℃以上、例えば、１６０℃以下、好ましくは、１５０℃以下、より好ましくは、１４０℃以下である。
脱低沸塔の塔頂圧力は、例えば、０．０５ｋＰａ以上、好ましくは、０．１ｋＰａ以上、より好ましくは、０．２ｋＰａ以上、例えば、３．０ｋＰａ以下、好ましくは、２．０ｋＰａ以下、より好ましくは、１．０ｋＰａ以下である。
脱低沸塔の塔頂還流比は、例えば、１以上、好ましくは、５以上、より好ましくは、１０以上、例えば、８０以下、好ましくは、６０以下、より好ましくは、５０以下である。
脱低沸塔の滞留時間は、例えば、０．１時間以上、好ましくは、０．２時間以上、より好ましくは、０．３時間以上、例えば、１０時間以下、好ましくは、５時間以下、より好ましくは、３時間以下である。
これより、低沸物を留去させて、脱低沸後の脱タールマスである脱低沸マスを缶出液として得る。
次いで、精留工程では、例えば、脱低沸マスを精留塔により蒸留して、ＸＤＩ組成物を留分として取り出す。
精留塔として、例えば、棚段塔および充填塔が挙げられ、好ましくは、充填塔が挙げられる。精留塔の理論段数は、例えば、１段以上、例えば、２０段以下、好ましくは、１０段以下、より好ましくは、５段以下である。
精留塔の塔底温度は、例えば、１２０℃以上、好ましくは、１３０℃以上、より好ましくは、１４０℃以上、例えば、１９０℃以下、好ましくは、１８０℃以下、より好ましくは、１７０℃以下である。
精留塔の塔頂温度は、例えば、９０℃以上、好ましくは、１１０℃以上、より好ましくは、１３０℃以上、例えば、１８０℃以下、好ましくは、１７０℃以下、より好ましくは、１６０℃以下である。
精留塔の塔頂圧力は、例えば、０．０５ｋＰａ以上、好ましくは、０．１ｋＰａ以上、より好ましくは、０．２ｋＰａ以上、例えば、３．０ｋＰａ以下、好ましくは、２．０ｋＰａ以下、より好ましくは、１．０ｋＰａ以下である。
精留塔の塔頂還流比は、例えば、０．１以上、好ましくは、０．２以上、より好ましくは、０．３以上、例えば、５０以下、好ましくは、２０以下、より好ましくは、１０以下である。
精留塔の滞留時間は、例えば、０．２時間以上、好ましくは、０．５時間以上、より好ましくは、１．０時間以上、例えば、２０時間以下、好ましくは、１０時間以下である。
以上によって、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合を調整することができ、ＸＤＩ組成物が留分として取り出される。なお、ＤＣＩをＸＤＩ組成物に添加することにより、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合を、調整することもできる。
３．プラント
（３−１）プラントの構成
上記したＸＤＩ組成物の製造方法は、例えば、図１に示すプラント１により実施される。図１に示すように、プラント１では、後述するイソシアネート化ユニット３において、２段の連続式のイソシアネート化工程が実施され、上記した塩化カルボニルの供給割合、反応温度、反応圧力および平均滞留時間などが適宜調整されることにより、ＸＤＩおよびＤＣＩの生成量が調整される。そして、後述する脱低沸ユニット７において、脱低沸工程が実施され、上記した塔頂還流比などが適宜調整されることにより、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が調整される。
図１に示すように、プラント１は、ＸＤＩ組成物の製造装置である。プラント１は、造塩ユニット２と、イソシアネート化ユニット３と、脱ガスユニット４と、脱溶媒ユニット５と、脱タールユニット６と、脱低沸ユニット７と、精留ユニット８とを備える。
造塩ユニット２は、上記した造塩工程（工程Ａ）を実施可能であり、ＸＤＡと塩化水素とからＸＤＡ塩酸塩を製造するＸＤＡ塩酸塩の製造装置である。造塩ユニット２は、撹拌槽２１と、塩化水素供給ライン２４と、アミン供給ライン２２と、溶媒供給ライン２３と、排気ライン２５と、塩酸塩送液ライン２６とを備える。
撹拌槽２１は、例えば、温度・圧力が制御可能な耐熱耐圧容器からなる。
撹拌槽２１の内部には、ＸＤＡと塩化水素とを撹拌混合するための撹拌翼（図示せず）が設けられる。撹拌翼として、塩化水素ガスとＸＤＡ塩酸塩との分散効率の観点から、例えば、パドル翼、傾斜パドル翼、タービン翼、３枚後退翼、ツインスター翼、フルゾーン翼、マックスブレンド翼、およびそれらの翼を組み合わせた多段の撹拌翼などが挙げられる。
また、撹拌槽２１には、撹拌槽２１の内部を冷却可能な冷却装置２７が設けられる。冷却装置２７として、例えば、冷媒が供給可能なジャケット、冷却コイル、外部循環冷却器などが挙げられる。なお、図１では、冷却装置２７が、冷却水（冷媒）が供給可能なジャケットである場合を示す。
塩化水素供給ライン２４は、撹拌槽２１に塩化水素（ＨＣｌ）ガスを供給する。塩化水素供給ライン２４の下流端部は、撹拌槽２１の底部に接続される。塩化水素供給ライン２４の上流端部は、図示しないが、塩化水素を貯留するタンクに接続される。
アミン供給ライン２２は、撹拌槽２１にＸＤＡを供給する。アミン供給ライン２２の下流端部は、撹拌槽２１の頂部に接続される。アミン供給ライン２２の上流端部は、図示しないが、ＸＤＡを貯留するタンクに接続される。
溶媒供給ライン２３は、アミン供給ライン２２に上記した不活性溶媒を供給する。溶媒供給ライン２３の下流端部は、アミン供給ライン２２の途中部に接続される。溶媒供給ライン２３の上流端部は、図示しないが、不活性溶媒を貯留するタンクに接続される。
排気ライン２５は、造塩工程において余剰な塩化水素ガスを撹拌槽２１から排出する。排気ライン２５の上流端部は、撹拌槽２１の頂部に接続される。排気ライン２５の下流端部は、図示しないが、塩化水素ガスの回収装置に接続される。
塩酸塩送液ライン２６は、ＸＤＡ塩酸塩を含むスラリーを、撹拌槽２１からイソシアネート化ユニット３に送液する。塩酸塩送液ライン２６の上流端部は、撹拌槽２１に接続される。図１では、塩酸塩送液ライン２６の上流端部は、撹拌槽２１の底部に接続されているが、レイアウトの関係上などの制約により、適宜、撹拌槽２１の頂部や側部へ接続することもできる。塩酸塩送液ライン２６の下流端部は、後述する反応槽３１Ａに接続される。図１では、塩酸塩送液ライン２６の下流端部は、反応槽３１Ａの頂部に接続されているが、反応槽３１Ａの側部や底部へ接続して配管で液中にフィードすることもできる。また、図示しないが、塩酸塩送液ライン２６の途中部には、スラリーを送液するための公知のスラリーポンプ、例えば、ギアポンプ、ノンシールポンプ、メカニカルシールポンプ、マグネット式ポンプが設けられる。なお、撹拌槽２１と反応槽３１Ａとの圧力差によってスラリーを送液することもできる。さらに、反応槽３１Ａと反応槽３１Ｂとにも、スラリーを送液するための上記のスラリーポンプを設けたり、あるいは圧力差によってスラリーを送液することができる。
イソシアネート化ユニット３は、上記したイソシアネート化工程（工程Ｂ）を実施可能であり、ＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとを反応させてＸＤＩを製造するＸＤＩの製造装置である。詳しくは、イソシアネート化ユニット３は、２段の連続式イソシアネート化工程を実施可能であり、第１イソシアネート化ユニット３Ａと、第２イソシアネート化ユニット３Ｂと、塩化カルボニル供給ライン３０とを備える。
第１イソシアネート化ユニット３Ａおよび第２イソシアネート化ユニット３Ｂは、後述する反応マス送液ラインの接続部分を除いて同様の構成を有する。そのため、第１イソシアネート化ユニット３Ａの構成を詳細に説明し、第２イソシアネート化ユニット３Ｂの説明を省略する。
第１イソシアネート化ユニット３Ａは、反応槽３１Ａと、排気ライン３３Ａと、コンデンサ３５Ａと、還流ライン３４Ａと、反応マス送液ライン３２Ａとを備える。なお、第２イソシアネート化ユニット３Ｂが備える反応槽、排気ライン、コンデンサ、還流ラインおよび反応マス送液ラインを、反応槽３１Ｂ、排気ライン３３Ｂ、コンデンサ３５Ｂ、還流ライン３４Ｂおよび反応マス送液ライン３２Ｂとする。
反応槽３１Ａは、例えば、温度・圧力が制御可能な耐熱耐圧容器からなる。反応槽３１Ａには、塩酸塩送液ライン２６の下流端部が接続される。図１では、反応槽３１Ａの頂部に、塩酸塩送液ライン２６の下流端部が接続されているが、レイアウトの関係上などの制約により、適宜、反応槽３１Ａの側部や底部に接続することもできる。
反応槽３１Ａの内部には、スラリーと塩化カルボニルとを撹拌混合するための撹拌翼（図示せず）が設けられる。撹拌翼として、例えば、上記の撹拌翼が挙げられる。
また、反応槽３１Ａには、反応槽３１Ａの内部を加熱可能な加熱装置３６Ａが設けられる。加熱装置３６Ａとして、例えば、熱媒が供給可能なジャケット、蒸気コイル、外部循環加熱器などが挙げられる。なお、図１では、加熱装置３６Ａが、蒸気（熱媒）が供給可能なジャケットである場合を示す。
排気ライン３３Ａは、余剰な塩化カルボニル、副生する塩化水素ガスおよび不活性溶媒などを含む気体成分を反応槽３１Ａから排出する。排気ライン３３Ａの上流端部は、反応槽３１Ａの頂部に接続される。排気ライン３３Ａの下流端部は、図示しないが、塩化カルボニルの回収装置に接続される。
コンデンサ３５Ａは、排気ライン３３Ａの途中部に設けられる。コンデンサ３５Ａは、排気ライン３３Ａを通過する気体成分を冷却して、気体成分中の不活性溶媒や塩化カルボニルの一部などを凝縮する。これにより、塩化カルボニルガスおよび塩化水素ガスを含む排気ガスと、不活性溶媒および液化塩化カルボニルを含む還流液とに分離する。なお、図示しないが、排気ライン３３Ａにおけるコンデンサ３５Ａの下流側には、反応槽３１Ａの内部圧力を調整するための公知の調整弁が設けられる。
還流ライン３４Ａは、コンデンサ３５Ａにおいて分離された還流液を反応槽３１Ａに返送する。還流ライン３４Ａの上流端部は、コンデンサ３５Ａに接続される。還流ライン３４Ａの下流端部は、反応槽３１Ａの頂部に接続される。
第１イソシアネート化ユニット３Ａの反応マス送液ライン３２Ａは、１段目のイソシアネート化工程における反応マス（一次反応マス）を、反応槽３１Ａから第２イソシアネート化ユニット３Ｂの反応槽３１Ｂに送液する。反応マス送液ライン３２Ａの上流端部は、反応槽３１Ａに接続される。図１では、反応マス送液ライン３２Ａの上流端部は、反応槽３１Ａの底部に接続されているが、反応槽３１Ａの側部へ接続して、オーバーフロー方式で送液することもできる。反応マス送液ライン３２Ａの下流端部は、反応槽３１Ｂに接続される。図１では、反応マス送液ライン３２Ａの下流端部は、反応槽３１Ｂの頂部に接続されているが、レイアウトの関係上などの制約により、適宜、反応槽３１Ｂの側部や底部へ接続することもできる。なお、図示しないが、反応マス送液ライン３２Ａの途中部には、反応マス（一次反応マス）を送液するための公知の送液ポンプ、例えば、ギアポンプ、ノンシールポンプ、メカニカルシールポンプ、マグネット式ポンプが設けられる。
第２イソシアネート化ユニット３Ｂの反応マス送液ライン３２Ｂは、２段目のイソシアネート化工程における反応マス（二次反応マス）を、反応槽３１Ｂから脱ガスユニット４へ送液する。反応マス送液ライン３２Ｂの上流端部は、反応槽３１Ｂに接続される。図１では、反応マス送液ライン３２Ｂの上流端部は、反応槽３１Ｂの底部に接続されているが、反応槽３１Ａの側部へ接続して送液することもできる。反応マス送液ライン３２Ｂの下流端部は、後述する脱ガス塔４１の上下方向略中央に接続される。なお、図示しないが、反応マス送液ライン３２Ｂの途中部には、反応マス（二次反応マス）を送液するための上記の送液ポンプが設けられる。
塩化カルボニル供給ライン３０は、反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれに塩化カルボニルを供給する。塩化カルボニル供給ライン３０の下流端部は、分岐しており、反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれに接続される。図１では、塩化カルボニル供給ライン３０の下流端部は、反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれの頂部に接続されているが、反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれの頂部や底部へ接続して配管で液中にフィードすることや、反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれの底部に接続することもできる。塩化カルボニル供給ライン３０の上流端部は、図示しないが、液化塩化カルボニルを貯留するタンクに接続される。
脱ガスユニット４は、上記した脱ガス工程を実施可能である。脱ガスユニット４は、脱ガス塔４１と、排気ライン４５と、コンデンサ４６と、脱ガスマス送液ライン４２と、循環ライン４３と、リボイラー４４とを備える。
脱ガス塔４１は、反応マスから塩化カルボニルや塩化水素などを含むガスを分離する。脱ガス塔４１は、公知の分離塔、例えば、トレイ塔、充填物塔、規則充填物塔からなる。
脱ガス塔４１の上下方向略中央には、反応マス送液ライン３２Ｂの下流端部が接続される。
排気ライン４５は、コンデンサ４６に接続されており、脱ガス塔４１で分離されるガスに含まれる溶媒をコンデンサ４６により分離した後、ガスを排出する。脱ガス塔４１において分離されるガスの排気ライン４５の上流端部は、脱ガス塔４１の塔頂部に接続される。排気ライン４５の下流端部は、図示しないが、塩化カルボニルの回収装置に接続される。
コンデンサ４６は、排気ライン４５の途中部に設けられる。コンデンサ４６は、脱ガス塔４１で分離されるガスに含まれる溶媒を冷却して凝縮する。
脱ガスマス送液ライン４２は、脱ガス工程後の反応マス（脱ガスマス）を、脱ガス塔４１から脱溶媒ユニット５に送液する。脱ガスマス送液ライン４２の上流端部は、脱ガス塔４１の塔底部に接続される。脱ガスマス送液ライン４２の下流端部は、後述する脱溶媒塔５１の上下方向略中央に接続される。
循環ライン４３は、脱ガスマス送液ライン４２に送液される脱ガスマスの一部を、脱ガス塔４１に返送する。循環ライン４３の上流端部は、脱ガスマス送液ライン４２の途中部に接続される。循環ライン４３の下流端部は、脱ガス塔４１の塔底部に接続される。なお、図示しないが、脱ガスマス送液ライン４２における循環ライン４３の接続部分よりも下流側あるいは上流側には、脱ガスマスを送液するための上記の送液ポンプが設けられる。
リボイラー４４は、循環ライン４３の途中部に設けられる。リボイラー４４は、循環ライン４３を通過する脱ガスマスを加熱する。これにより、リボイラー４４は、脱ガス塔４１の内部温度を調整する。リボイラー４４は、公知の熱交換器、例えば、サーモサイフォン式リボイラー、強制循環式リボイラー、薄膜式リボイラーなどを使用することができる。
脱溶媒ユニット５は、上記した脱溶媒工程を実施可能である。脱溶媒ユニット５は、脱溶媒塔５１と、溶媒排出ライン５５と、コンデンサ５６と、脱溶媒マス送液ライン５２と、循環ライン５３と、リボイラー５４とを備える。
脱溶媒塔５１は、脱ガスマスから不活性溶媒を除去する。脱溶媒塔５１は、公知の蒸留塔、例えば、トレイ塔、充填物塔、規則充填物塔からなり、不活性溶媒を留去する。脱溶媒塔５１の上下方向略中央には、脱ガスマス送液ライン４２の下流端部が接続される。
溶媒排出ライン５５は、脱溶媒塔５１により留去され、コンデンサ５６によって凝集された不活性溶媒を排出する。溶媒排出ライン５５の上流端部は、脱溶媒塔５１の塔頂部に接続される。溶媒排出ライン５５の下流端部は、図示しないが、不活性溶媒を貯留するタンクに接続される。なお、回収された不活性溶媒は、好ましくは、造塩工程およびイソシアネート工程の反応溶媒として再利用される。
コンデンサ５６は、溶媒排出ライン５５の途中部に設けられる。コンデンサ５６は、脱溶媒塔５１により留去される不活性溶媒を冷却して凝縮する。
脱溶媒マス送液ライン５２は、脱溶媒工程後の反応マス（脱溶媒マス）を、脱溶媒塔５１から脱タールユニット６に送液する。脱溶媒マス送液ライン５２の上流端部は、脱溶媒塔５１の塔底部に接続される。脱溶媒マス送液ライン５２の下流端部は、後述する脱タール器６１の上下方向略中央に接続される。
循環ライン５３は、脱溶媒マス送液ライン５２に送液される脱溶媒マスの一部を、脱溶媒塔５１に返送する。循環ライン５３の上流端部は、脱溶媒マス送液ライン５２の途中部に接続される。循環ライン５３の下流端部は、脱溶媒塔５１の塔底部に接続される。なお、図示しないが、脱溶媒マス送液ライン５２における循環ライン５３の接続部分よりも下流側あるいは上流側には、脱溶媒マスを送液するための上記の送液ポンプが設けられる。
リボイラー５４は、循環ライン５３の途中部に設けられる。リボイラー５４は、循環ライン５３を通過する脱溶媒マスを加熱する。これにより、リボイラー５４は、脱溶媒塔５１の内部温度を調整する。リボイラー５４は、上記の熱交換器を使用することができる。
脱タールユニット６は、上記した脱タール工程を実施可能である。脱タールユニット６は、脱タール器６１と、タール排出ライン６２と、脱タールマス送液ライン６３とを備える。
脱タール器６１は、脱溶媒マスからタール成分を分離する。脱タール器６１は、例えば、公知の薄膜蒸発器からなる。脱タール器６１は、ケーシング６１Ａと、ワイパ６１Ｂと、内部コンデンサ６１Ｃとを備える。
ケーシング６１Ａには、ケーシング６１Ａ内を加熱するためのジャケットおよびケーシング６１Ａ内を減圧するための吸引管（図示せず）が設けられている。ワイパ６１Ｂは、ケーシング６１Ａ内に配置されている。ワイパ６１Ｂは、ケーシング６１Ａの内周面と僅かに間隔を空けて配置される。ワイパ６１Ｂは、図示しないモータにより回転可能である。内部コンデンサ６１Ｃは、例えば、冷媒が循環される熱交換器からなる。内部コンデンサ６１Ｃは、ケーシング６１Ａ内において、ケーシング６１Ａの底壁に設けられる。
タール排出ライン６２は、脱タール器６１により分離されるタール成分を排出する。タール排出ライン６２の上流端部は、ケーシング６１Ａの下側部分に接続される。第２抜出ライン２８の下流端部は、図示しないが、タール成分を貯留するためのタンクに接続される。なお、回収されたタール成分から公知の方法により、タール成分に含まれるＸＤＩを回収して、プラント１のいずれかのユニットに装入することができる。これにより、ＸＤＩの収率の向上を図ることができる。
脱タールマス送液ライン６３は、タール成分が分離された脱溶媒マス（脱タールマス）を、脱タール器６１から脱低沸ユニット７に送液する。脱タールマス送液ライン６３の上流端部は、内部コンデンサ６１Ｃに接続される。脱タールマス送液ライン６３の下流端部は、後述する脱低沸塔７１の上下方向略中央に接続される。
脱タールマス送液ライン６３には、流量計６３Ａと、コントロール弁６３Ｂとが設けられる。流量計６３Ａは、脱タールマス送液ライン６３の途中部に設けられる。流量計６３Ａは、脱タールマス送液ライン６３を通過する脱タールマスの流量を測定する。コントロール弁６３Ｂは、脱タールマス送液ライン６３における流量計６３Ａと脱低沸塔７１との間の部分に設けられる。コントロール弁６３Ｂは、脱タールマス送液ライン６３を開閉可能である。コントロール弁６３Ｂは、流量計６３Ａの測定結果に基づいて、脱タールマス送液ライン６３を通過する脱タールマスの流量、つまり、脱低沸塔７１に対する脱タールマスの供給量を調整できる。
脱低沸ユニット７は、上記した脱低沸工程を実施可能である。脱低沸ユニット７は、脱低沸塔７１と、吸引ライン７２と、コンデンサ７３と、低沸排出ライン７４と、塔頂還流ライン７５と、脱低沸マス送液ライン７６と、塔底循環ライン７７と、リボイラー７８とを備える。
脱低沸塔７１は、脱タールマスから低沸物を除去する。脱低沸塔７１は、例えば、上記の脱低沸工程の説明において例示した蒸留塔からなり、低沸物を留去する。脱低沸塔７１の上下方向略中央には、脱タールマス送液ライン６３の下流端部が接続される。
吸引ライン７２は、例えば、真空ポンプなどの減圧装置と脱低沸塔７１とを接続する。減圧装置は、吸引ライン７２を介して脱低沸塔７１の内部を減圧して、脱低沸塔７１の内部圧力を調整する。吸引ライン７２の上流端部は、脱低沸塔７１の塔頂部に接続される。
吸引ライン７２の下流端部は、減圧装置に接続される。
コンデンサ７３は、吸引ライン７２の途中部に設けられる。コンデンサ７３は、吸引ライン７２を通過する気体状態の低沸物を冷却して凝縮する。
低沸排出ライン７４は、コンデンサ７３において凝縮された低沸物を排出する。低沸排出ライン７４の上流端部は、コンデンサ７３に接続される。低沸排出ライン７４の下流端部は、図示しないが、低沸物を貯留するタンクに接続される。なお、回収された低沸物から公知の方法により、低沸物に含まれるＸＤＩを回収して、プラント１のいずれかのユニットに装入することができる。これにより、ＸＤＩの収率の向上を図ることができる。
また、低沸排出ライン７４には、流量計７４Ａと、コントロール弁７４Ｂとが設けられる。流量計７４Ａは、低沸排出ライン７４において、塔頂還流ライン７５の接続部分よりも下流側に設けられる。流量計７４Ａは、低沸排出ライン７４を通過して排出される低沸物の流量を測定する。コントロール弁７４Ｂは、低沸排出ライン７４において、流量計７４Ａよりも下流側に設けられる。コントロール弁７４Ｂは、低沸排出ライン７４を開閉可能である。コントロール弁７４Ｂは、流量計７４Ａの測定結果に基づいて、低沸排出ライン７４から排出される低沸物の供給量を調整できる。
塔頂還流ライン７５は、低沸排出ライン７４を通過する低沸物の一部を、脱低沸塔７１に返送する。塔頂還流ライン７５の上流端部は、低沸排出ライン７４における脱低沸塔７１と流量計７４Ａとの間の部分に接続される。塔頂還流ライン７５の下流端部は、脱低沸塔７１の塔頂部に接続される。また、塔頂還流ライン７５には、流量計７５Ａが設けられる。流量計７５Ａは、塔頂還流ライン７５を通過して脱低沸塔７１に返送される低沸物の流量を測定する。
脱低沸マス送液ライン７６は、低沸物が除去された脱タールマス（脱低沸マス）を、脱低沸塔７１から精留ユニット８に送液する。脱低沸マス送液ライン７６の上流端部は、脱低沸塔７１の塔底部に接続される。脱低沸マス送液ライン７６の下流端部は、後述する精留塔８１の上下方向略中央に接続される。
塔底循環ライン７７は、脱低沸マス送液ライン７６に送液される脱低沸マスの一部を、脱低沸塔７１に返送する。塔底循環ライン７７の上流端部は、脱低沸マス送液ライン７６の途中部に接続される。塔底循環ライン７７の下流端部は、脱低沸塔７１の塔底部に接続される。なお、図示しないが、脱低沸マス送液ライン７６における塔底循環ライン７７の接続部分よりも下流側には、脱低沸マスを送液するための上記の送液ポンプが設けられる。
リボイラー７８は、塔底循環ライン７７の途中部に設けられる。リボイラー７８は、塔底循環ライン７７を通過する脱低沸マスを加熱する。これにより、リボイラー７８は、脱低沸塔７１の内部温度を調整する。リボイラー７８は、上記の熱交換器を使用することができる。
精留ユニット８は、上記した精留工程を実施可能である。精留ユニット８は、精留塔８１と、タール排出ライン８６と、塔底循環ライン８７と、リボイラー８８と、吸引ライン８２と、コンデンサ８３と、ＸＤＩ取出ライン８４と、塔頂還流ライン８５とを備える。
精留塔８１は、脱タールマスを蒸留して、ＸＤＩ組成物を留出させる。精留塔８１は、例えば、上記の精留工程の説明において例示した蒸留塔からなる。精留塔８１の上下方向略中央には、脱低沸マス送液ライン７６の下流端部が接続される。
タール排出ライン８６は、精留塔８１において、ＸＤＩ組成物の留去後に残るタール成分を精留塔８１から排出する。タール排出ライン８６の上流端部は、精留塔８１の塔底部に接続される。タール排出ライン８６の下流端部は、図示しないが、タール成分を貯留するタンクに接続される。なお、精留塔８１のタール成分は、そのまま、脱低沸ユニット７よりも上流のユニットに装入することができる。これにより、ＸＤＩの収率の向上を図ることができる。
塔底循環ライン８７は、タール排出ライン８６を通過するタール成分の一部を、精留塔８１に返送する。塔底循環ライン８７の上流端部は、タール排出ライン８６の途中部に接続される。塔底循環ライン８７の下流端部は、精留塔８１の塔底部に接続される。
リボイラー８８は、塔底循環ライン８７の途中部に設けられる。リボイラー８８は塔底循環ライン８７を通過するタール成分を加熱する。これにより、リボイラー８８は、精留塔８１の塔底温度を調整する。リボイラー８８は、上記の熱交換器を使用することができる。
吸引ライン８２は、例えば、真空ポンプなどの減圧装置と精留塔８１とを接続する。減圧装置は、吸引ライン８２を介して精留塔８１の内部を減圧して、精留塔８１の内部圧力を調整する。精留塔８１の上流端部は、精留塔８１の塔頂部に接続される。吸引ライン８２の下流端部は、減圧装置に接続される。
コンデンサ８３は、吸引ライン８２の途中部に設けられる。コンデンサ８３は、吸引ライン８２を通過する気体状態のＸＤＩ組成物を冷却して凝縮する。
ＸＤＩ取出ライン８４は、コンデンサ８３において凝縮されたＸＤＩ組成物を送液する。ＸＤＩ取出ライン８４の上流端部は、コンデンサ８３に接続される。ＸＤＩ取出ライン８４の下流端部は、図示しないが、ＸＤＩ組成物を貯留するタンクに接続される。
また、ＸＤＩ取出ライン８４には、流量計８４Ａと、コントロール弁８４Ｂとが設けられる。流量計８４Ａは、ＸＤＩ取出ライン８４における塔頂還流ライン８５の接続部分よりも下流側に設けられる。流量計８４Ａは、ＸＤＩ取出ライン８４を通過するＸＤＩ組成物の流量を測定する。コントロール弁８４Ｂは、ＸＤＩ取出ライン８４において、流量計８４Ａよりも下流側に設けられる。コントロール弁８４Ｂは、ＸＤＩ取出ライン８４を開閉可能である。コントロール弁８４Ｂは、流量計８４Ａの測定結果に基づいて、ＸＤＩ取出ライン８４からのＸＤＩ組成物の流出量を調整できる。
塔頂還流ライン８５は、ＸＤＩ取出ライン８４を通過するＸＤＩ組成物の一部を、精留塔８１に返送する。塔頂還流ライン８５の上流端部は、ＸＤＩ取出ライン８４におけるコンデンサ８３と流量計８４Ａとの間の部分に接続される。塔頂還流ライン８５の下流端部は、精留塔８１の塔頂部に接続される。また、塔頂還流ライン８５には、流量計８５Ａが設けられる。流量計８５Ａは、塔頂還流ライン８５を通過して精留塔８１に返送されるＸＤＩ組成物の流量を測定する。
なお、特に図示しないが、撹拌槽、反応槽、塔、脱タール器の間の送液ラインに、適宜必要に応じてコントロール弁や流量計を設けて、各工程の滞留時間の調整や供給流量を制御して、運転の安定化を図ることもできる。
（３−２）プラントの動作
次に、プラント１の動作について説明する。
プラント１では、まず、撹拌槽２１に不活性溶媒を装入する。そして、塩化水素ガスを、上記の供給割合で、塩化水素供給ライン２４を介して撹拌槽２１の底部に連続的に供給する。また、ＸＤＡが不活性溶媒に溶解された上記のアミン溶液を、アミン供給ライン２２を介して撹拌槽２１の頂部に連続的に供給する。そして、撹拌槽２１の内部を上記の造塩温度および造塩圧力に維持するとともに、撹拌翼により塩化水素ガスおよびアミン溶液を撹拌混合する（造塩工程）。これにより、ＸＤＡ塩酸塩を含むスラリーが製造される。
そして、ＸＤＡ塩酸塩を含むスラリーを、塩酸塩送液ライン２６を介して反応槽３１Ａの頂部に連続的に送液する。つまり、塩化水素ガスおよびアミン溶液を撹拌槽２１に連続的に供給しながら、ＸＤＡ塩酸塩を含むスラリーを、撹拌槽２１から連続的に取り出して反応槽３１Ａに送る。
次いで、塩化カルボニルを、上記の供給割合で反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれの頂部に連続的に供給する。そして、反応槽３１Ａの内部を上記の反応温度および反応圧力に維持しながら、スラリーおよび塩化カルボニルを撹拌混合する（１段目のイソシアネート化工程）。これにより、ＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとが反応して、主成分としてＸＤＩが生成し、副生成物としてＤＣＩやＣＢＩが生成する。
そして、ＸＤＩ、ＤＣＩ、ＣＢＩおよび不活性溶媒などを含有する反応液（一次反応マス）を、反応マス送液ライン３２Ａを介して、反応槽３１Ｂの頂部に連続的に送液する。
つまり、スラリーおよび塩化カルボニルを反応槽３１Ａに連続的に供給しながら、一次反応マスを反応槽３１Ａから連続的に取り出して反応槽３１Ｂに送る。
次いで、反応槽３１Ｂの内部を上記の反応温度および反応圧力に維持しながら、反応槽３１Ｂにおいて、一次反応マスおよび塩化カルボニルを撹拌混合する（２段目のイソシアネート化工程）。
これにより、造塩工程およびイソシアネート化工程が、連続して実施される。
そして、ＸＤＩ、ＤＣＩ、ＣＢＩおよび不活性溶媒などを含有する二次反応マスが製造される。なお、２段のイソシアネート化工程における滞留時間の総和は、上記の範囲である。
次いで、二次反応マスを、反応マス送液ライン３２Ｂを介して脱ガス塔４１の上下方向略中央に連続的に送液する。つまり、一次反応マスおよび塩化カルボニルを反応槽３１Ｂに連続的に供給しながら、二次反応マスを、反応槽３１Ｂから連続的に取り出して脱ガス塔４１に送る。
次いで、二次反応マスを、脱ガス塔４１により、塩化カルボニルおよび塩化水素などを含むガスと、ＸＤＩ、ＤＣＩおよび不活性溶媒などを含む液状の脱ガスマスとに分離する（脱ガス工程）。
次いで、脱ガスマスを、脱ガスマス送液ライン４２を介して脱溶媒塔５１の上下方向略中央に連続的に送液する。そして、脱ガスマスから不活性溶媒を、脱溶媒塔５１により留去する（脱溶媒工程）。
次いで、脱溶媒マスを、脱溶媒マス送液ライン５２を介して脱タール器６１の上下方向略中央に連続的に送液する。そして、脱溶媒マスからタール成分を、脱タール器６１により除去する（脱タール工程）。
次いで、脱タールマスを、脱タールマス送液ライン６３を介して脱低沸塔７１の上下方向略中央に連続的に送液する。そして、脱低沸ユニット７では、上記の脱低沸工程の条件（塔底温度、塔頂温度、塔頂圧力、塔底還流比、塔頂還流比および滞留時間）で、脱タールマスから低沸物を留去する。
詳しくは、低沸物を含む混合蒸気が、吸引ライン７２を介して脱低沸塔７１の塔頂部から排出される。そして、混合蒸気をコンデンサ７３により凝集する。その後、低沸物を含む凝集液の一部を、塔頂還流比が上記の範囲となるように流量を調整して、塔頂還流ライン７５を介して脱低沸塔７１に連続的に返送する。また、凝集液のその他の部分を、流量を調整して低沸排出ライン７４を介して連続的に排出する。
また、脱低沸マスは、脱低沸マス送液ライン７６を介して脱低沸塔７１から排出される。そして、脱低沸マスの一部を、上記の塔底温度および塔底還流比となるように、塔底循環ライン７７を介して脱低沸塔７１に連続的に返送する。また、脱低沸マスのその他の部分を、脱低沸マス送液ライン７６を介して精留塔８１の上下方向略中央に連続的に送液する。
次いで、精留ユニット８では、上記の精留工程の条件（塔底温度、塔頂温度、塔頂圧力、塔底還流比、塔頂還流比および滞留時間）で、脱低沸マスからＸＤＩ組成物を留分として連続的に取り出す。
詳しくは、気体状態のＸＤＩ組成物は、吸引ライン８２を介して精留塔８１の塔頂部から排出される。そして、気体状態のＸＤＩ組成物をコンデンサ８３により凝集する。その後、ＸＤＩ組成物の一部を、塔頂還流比が上記の範囲となるように流量を調整して、塔頂還流ライン８５を介して精留塔８１に連続的に返送する。また、ＸＤＩ組成物のその他の部分を、流量を調整して、ＸＤＩ取出ライン８４を介して連続的に取り出す。
なお、精留塔８１の蒸留残渣（タール成分）は、タール排出ライン８６を介して精留塔８１の塔底部から排出される。そして、蒸留残渣（タール成分）の一部を、上記の塔底温度および塔底還流比となるように、精留塔８１に連続的に返送する。
以上により、製品としてのＸＤＩ組成物（精ＸＤＩ）が、プラント１により連続的に製造される。
４．ポリイソシアネート成分、活性水素基含有成分
このようなＸＤＩ組成物は、必要により公知の方法で変性体化されて、ポリイソシアネート成分に含有される。ポリイソシアネート成分と、活性水素基含有成分とは、ポリウレタン樹脂の原料として好適に利用される。
ポリイソシアネート成分は、ＸＤＩ組成物および／またはＸＤＩ組成物が変性されたキシリレンジイソシアネート変性体組成物（以下、ＸＤＩ変性体組成物とする。）を含有し、好ましくは、ＸＤＩ組成物および／またはＸＤＩ変性体組成物からなる。
ＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩ組成物を変性することにより製造され、下記（ａ）〜（ｉ）の官能基を少なくとも１種含有する。
（ａ）イソシアヌレート基、
（ｂ）アロファネート基、
（ｃ）ビウレット基、
（ｄ）ウレタン基、
（ｅ）ウレア基、
（ｆ）イミノオキサジアジンジオン基、
（ｇ）ウレトジオン基、
（ｈ）ウレトンイミン基、
（ｉ）カルボジイミド基。
すなわち、ＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩが変性体化された官能基（ａ）〜（ｉ）と、ＤＣＩとを含有する。
より具体的には、上記（ａ）の官能基（イソシアヌレート基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのトリマーを含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物を公知のイソシアヌレート化触媒の存在下において反応させ、ＸＤＩをイソシアヌレート化（例えば三量化）することにより、得ることができる。
上記（ｂ）の官能基（アロファネート基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのアロファネート変性体を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物とアルコールとを反応させた後、公知のアロファネート化触媒の存在下でさらに反応させることにより、得ることができる。
上記（ｃ）の官能基（ビウレット基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのビウレット変性体を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物と、例えば、水、第三級アルコール（例えば、ｔ−ブチルアルコールなど）、第二級アミン（例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミンなど）などとを反応させた後、公知のビウレット化触媒の存在下でさらに反応させることにより、得ることができる。
上記（ｄ）の官能基（ウレタン基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのポリオール変性体を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物とポリオール成分（例えば、トリメチロールプロパンなど）との反応により、得ることができる。
上記（ｅ）の官能基（ウレア基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのポリアミン変性体を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物と、水、ポリアミン成分（後述）などとの反応により、得ることができる。
上記（ｆ）の官能基（イミノオキサジアジンジオン基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのイミノオキサジアジンジオン変性体（非対称性トリマー）を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物を公知のイミノオキサジアジンジオン化触媒の存在下において反応させ、ＸＤＩをイミノオキサジアジンジオン化（例えば三量化）することにより、得ることができる。
上記（ｇ）の官能基（ウレトジオン基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのウレトジオン変性体を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物を９０℃〜２００℃程度で熱を印加させる方法、あるいは公知のウレトジオン化触媒の存在下において反応させ、ＸＤＩをウレトジオン化（例えば、二量化）することにより、得ることができる。
上記（ｈ）の官能基（ウレトンイミン基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのウレトンイミン変性体を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物を公知のカルボジイミド化触媒の存在下において反応させ、カルボジイミド基を形成した後、そのカルボジイミド基にＸＤＩを付加させることにより、得ることができる。
上記（ｉ）の官能基（カルボジイミド基）を含有するＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩのカルボジイミド変性体を含有しており、例えば、ＸＤＩ組成物を公知のカルボジイミド化触媒の存在下において反応させることにより、得ることができる。
なお、ＸＤＩ変性体組成物は、上記（ａ）〜（ｉ）の官能基を少なくとも１種含有していればよく、２種以上含有することもできる。そのようなＸＤＩ変性体組成物は、上記の反応を適宜併用することにより、生成される。また、ＸＤＩ変性体組成物は、単独使用または２種以上併用することができる。
また、ＸＤＩ組成物は、分子中に含有する遊離のイソシアネート基がブロック剤によりブロックされたブロックＸＤＩ組成物として用いることもできる。つまり、ポリイソシアネート成分は、ブロックＸＤＩ組成物を含有することができる。
ブロックＸＤＩ組成物は、例えば、ＸＤＩ組成物とブロック剤とを反応させることにより製造される。
ブロック剤として、例えば、オキシム系、フェノール系、アルコール系、イミン系、アミン系、カルバミン酸系、尿素系、イミダゾール系、イミド系、メルカプタン系、活性メチレン系、酸アミド系（ラクタム系）、重亜硫酸塩類などのブロック剤が挙げられる。
オキシム系ブロック剤として、例えば、ホルムアルドキシム、アセトアルドキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトキシム、ジアセチルモノオキシム、ペンゾフェノオキシム、２，２，６，６−テトラメチルシクロヘキサノンオキシム、ジイソプロピルケトンオキシム、メチルｔｅｒｔ−ブチルケトンオキシム、ジイソブチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、メチルイソプロピルケトンオキシム、メチル２，４−ジメチルペンチルケトンオキシム、メチル３−エチルへプチルケトンオキシム、メチルイソアミルケトンオキシム、ｎ−アミルケトンオキシム、２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオンモノオキシム、４，４’−ジメトキシベンゾフェノンオキシム、２−ヘプタノンオキシムなどが挙げられる。
フェノール系ブロック剤としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフェノール、イソプロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｎ−ヘキシルフェノール、２−エチルヘキシルフェノール、ｎ−オクチルフェノール、ｎ−ノニルフェノール、ジ−ｎ−プロピルフェノール、ジイソプロピルフェノール、イソプロピルクレゾール、ジ−ｎ−ブチルフェノール、ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ジ−ｎ−オクチルフェノール、ジ−２−エチルヘキシルフェノール、ジ−ｎ−ノニルフェノール、ニトロフェノール、ブロモフェノール、クロロフェノール、フルオロフェノール、ジメチルフェノール、スチレン化フェノール、メチルサリチラート、４−ヒドロキシ安息香酸メチル、４−ヒドロキシ安息香酸ベンジル、ヒドロキシ安息香酸２−エチルヘキシル、４−［（ジメチルアミノ）メチル］フェノール、４−［（ジメチルアミノ）メチル］ノニルフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、ピリジノール、２−または８−ヒドロキシキノリン、２−クロロ−３−ピリジノール、ピリジン−２−チオールなどが挙げられる。
アルコール系ブロック剤として、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、２−エチルヘキシルアルコール、１−または２−オクタノール、シクロへキシルアルコール、エチレングリコール、ベンジルアルコール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，２−トリクロロエタノール、２−（ヒドロキシメチル）フラン、２−メトキシエタノール、メトキシプロパノール、２−エトキシエタノール、ｎ−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−エトキシエトキシエタノール、２−エトキシブトキシエタノール、ブトキシエトキシエタノール、２−エチルヘキシルオキシエタノール、２−ブトキシエチルエタノール、２−ブトキシエトキシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジブチル−２−ヒドロキシアセトアミド、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−モルホリンエタノール、２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−メタノール、３−オキサゾリジンエタノール、２−ヒドロキシメチルピリジン、フルフリルアルコール、１２−ヒドロキシステアリン酸、トリフェニルシラノール、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルなどが挙げられる。
イミン系ブロック剤として、例えば、エチレンイミン、ポリエチレンイミン、１，４，５，６−テトラヒドロピリミジン、グアニジンなどが挙げられる。
アミン系ブロック剤として、例えば、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、カルバゾール、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル）アミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、イソプロピルエチルアミン、２，２，４−、または、２，２，５−トリメチルヘキサメチレンアミン、Ｎ−イソプロピルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ビス（３，５，５−トリメチルシクロヘキシル）アミン、ピペリジン、２，６−ジメチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、（ジメチルアミノ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン、６−メチル−２−ピペリジン、６−アミノカプロン酸などが挙げられる。
カルバミン酸系ブロック剤として、例えば、Ｎ−フェニルカルバミン酸フェニルなどが挙げられる。
尿素系ブロック剤として、例えば、尿素、チオ尿素、エチレン尿素などが挙げられる。
イミダゾール系ブロック剤として、例えば、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−イソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール、ピラゾール、３−メチルピラゾール、３，５−ジメチルピラゾール、１，２，４−トリアゾール、ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
イミド系ブロック剤として、例えば、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、フタルイミドなどを挙げられる。
メルカプタン系ブロック剤として、例えば、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ヘキシルメルカプタンなどが挙げられる。
活性メチレン系ブロック剤として、例えば、メルドラム酸、マロン酸ジメチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、マロン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、マロン酸１−ｔｅｒｔ−ブチル３−メチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、２−アセトアセトキシエチルメタクリレート、アセチルアセトン、シアノ酢酸エチルなどが挙げられる。
酸アミド系（ラクタム系）ブロック剤としては、例えば、アセトアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム、ピロリドン、２，５−ピペラジンジオン、ラウロラクタムなどが挙げられる。
また、ブロック剤は、上記に限定されず、例えば、ベンゾオキサゾロン、無水イサト酸、テトラブチルホスホニウム・アセタートなどのその他のブロック剤も挙げられる。ブロック剤は、単独使用または２種類以上併用することができる。
また、ＸＤＩ組成物は、分子中に含有する遊離のイソシアネート基がブロック剤によりブロックされるとともに、水に分散または溶解された水性ブロックＸＤＩ組成物として用いることもできる。つまり、ポリイソシアネート成分は、水性ブロックＸＤＩ組成物を含有することができる。
水性ブロックＸＤＩ組成物は、例えば、ＸＤＩ組成物における遊離のイソシアネート基の一部をブロック剤によりブロックした後、ブロック剤によりブロックされずに残るイソシアネート基と、親水基および活性水素基を併有する化合物（以下、親水基含有活性水素化合物）とを反応させることにより製造される。
ブロック剤として、例えば、上記のブロック剤が挙げられる。
親水基含有活性水素化合物は、少なくとも１つの親水基と、少なくともの１つの活性水素基とを併有する化合物である。親水基として、例えば、アニオン性基、カチオン性基、ノニオン性基が挙げられる。活性水素基として、イソシアネート基と反応する基であって、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基などが挙げられる。
親水基含有活性水素化合物として、より具体的には、カルボン酸基含有活性水素化合物、スルホン酸基含有活性水素化合物、水酸基含有活性水素化合物、親水基含有多塩基酸、ポリオキシエチレン基含有活性水素化合物などが挙げられる。親水基含有活性水素化合物は、単独使用または２種類以上併用することができる。
活性水素基含有成分として、例えば、ポリオール成分（水酸基を２つ以上有するポリオールを主として含有する成分）、ポリチオール成分（メルカプト基（チオール基）を２つ以上有するポリチオールを主として含有する成分）、ポリアミン成分（アミノ基を２つ以上有するポリアミンを主として含有する化合物）などが挙げられる。
ポリオール成分として、例えば、低分子量ポリオールおよび高分子量ポリオールが挙げられる。
低分子量ポリオールは、水酸基を２つ以上有する数平均分子量６０以上４００未満の化合物である。低分子量ポリオールとして、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、アルカン（７〜２２）ジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、アルカン−１，２−ジオール（Ｃ（炭素数、以下同様。）１７〜２０）、イソソルビド、１，３−または１，４−シクロヘキサンジメタノールおよびそれらの混合物、１，４−シクロヘキサンジオール、水素化ビスフェノールＡ、１，４−ジヒドロキシ−２−ブテン、２，６−ジメチル−１−オクテン−３，８−ジオール、ビスフェノールＡなどの２価アルコール、例えば、グリセリン、トリメチロールプロパンなどの３価アルコール、例えば、テトラメチロールメタン（ペンタエリスリトール）、ジグリセリンなどの４価アルコール、例えば、キシリトールなどの５価アルコール、例えば、ソルビトール、マンニトール、アリトール、イジトール、ダルシトール、アルトリトール、イノシトール、ジペンタエリスリトールなどの６価アルコール、例えば、ペルセイトールなどの７価アルコール、例えば、ショ糖などの８価アルコールなどが挙げられる。
また、上記のアルコールを開始剤としてエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを付加させて得られる、数平均分子量６０以上４００未満のポリアルキレンオキサイド（２種以上のアルキレンオキサイドのランダムおよび／またはブロック共重合体を含む。）も、低分子量ポリオールに含まれる。
高分子量ポリオールは、水酸基を２つ以上有する数平均分子量４００以上、例えば、１００００以下、好ましくは、５０００以下の化合物である。高分子量ポリオールとして、例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリウレタンポリオール、エポキシポリオール、植物油ポリオール、ポリオレフィンポリオール、アクリルポリオール、シリコーンポリオール、フッ素ポリオール、および、ビニルモノマー変性ポリオールが挙げられる。
ポリエーテルポリオールとして、例えば、ポリオキシ（Ｃ２〜３）アルキレンポリオール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリトリメチレンエーテルグリコールなどが挙げられる。
ポリオキシ（Ｃ２〜３）アルキレンポリオールとして、例えば、上記した低分子量ポリオールを開始剤とする、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのＣ２〜３アルキレンオキサイドの付加重合物（２種以上のアルキレンオキサイドのランダムおよび／またはブロック共重合体を含む。）が挙げられる。また、ポリオキシ（Ｃ２〜３）アルキレンとして、具体的には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンポリプロピレン共重合体なども挙げられる。
ポリテトラメチレンエーテルグリコールとして、例えば、テトラヒドロフランのカチオン重合により得られる開環重合物（ポリテトラメチレンエーテルグリコール）や、テトラヒドロフランの重合単位に上記した２価アルコールを共重合した非晶性ポリテトラメチレンエーテルグリコールなどが挙げられる。
また、フルフラールなどの植物由原料をもとに製造されたテトラヒドロフランを出発原料とした植物由来のポリテトラメチレンエーテルグリコールも挙げられる。
ポリトリメチレンエーテルグリコールとして、例えば、植物由来の１，３−プロパンジオールの縮重合により製造されるポリオールが挙げられる。
ポリエステルポリオールとして、例えば、上記した低分子量ポリオール（好ましくは、２価アルコール）と多塩基酸（好ましくは二塩基酸）とを、公知の条件下、反応させて得られる重縮合物が挙げられる。
多塩基酸として、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、メチルコハク酸、グルタール酸、アジピン酸、１，１−ジメチル−１，３−ジカルボキシプロパン、３−メチル−３−エチルグルタール酸、アゼライン酸、セバシン酸などの飽和脂肪族ジカルボン酸（炭素数１１〜１３）、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの不飽和脂肪族ジカルボン酸、例えば、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トルエンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、例えば、ヘキサヒドロフタル酸などの脂環族ジカルボン酸、例えば、ダイマー酸、水添ダイマー酸、ヘット酸などのその他のカルボン酸、および、それらカルボン酸から誘導される酸無水物、例えば、無水シュウ酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水２−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１８）コハク酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、さらには、これらのカルボン酸などから誘導される酸ハライド、例えば、シュウ酸ジクロライド、アジピン酸ジクロライド、セバシン酸ジクロライドなどが挙げられる。
また、ポリエステルポリオールとして、例えば、上記した低分子量ポリオールと、ヒドロキシル基含有植物油脂肪酸（例えば、リシノレイン酸を含有するひまし油脂肪酸、１２−ヒドロキシステアリン酸を含有する水添ひまし油脂肪酸など）などのヒドロキシカルボン酸とを、公知の条件下、縮合反応させて得られる植物油系ポリエステルポリオールなどが挙げられる。
また、ポリエステルポリオールとして、例えば、上記した低分子量ポリオール（好ましくは、２価アルコール）を開始剤として、例えば、ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトン類を開環重合して得られる、ポリカプロラクトンポリオール、ポリバレロラクトンポリオール、さらには、それらに上記した２価アルコールを共重合したラクトン系ポリエステルポリオールなどが挙げられる。
ポリカーボネートポリオールとして、例えば、上記した低分子量ポリオール（好ましくは、２価アルコール）を開始剤とするエチレンカーボネートの開環重合物や、例えば、上記した２価アルコールと、開環重合物とを共重合した非晶性ポリカーボネートポリオールなどが挙げられる。
また、ポリウレタンポリオールは、上記により得られたポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールおよび／またはポリカーボネートポリオールを、イソシアネート基に対する水酸基の当量比（ＯＨ／ＮＣＯ）が１を超過する割合で、上記ポリイソシアネート（キシリレンジイソシアネートを含む。以下同様）と反応させることによって得られる、ポリエステルポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリウレタンポリオール、ポリカーボネートポリウレタンポリオール、あるいは、ポリエステルポリエーテルポリウレタンポリオールなどが挙げられる。
エポキシポリオールとして、例えば、上記した低分子量ポリオールと、例えば、エピクロルヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリンなどの多官能ハロヒドリンとの反応により得られるエポキシポリオールが挙げられる。
植物油ポリオールとして、例えば、ひまし油、やし油などのヒドロキシル基含有植物油などが挙げられる。例えば、ひまし油ポリオール、またはひまし油ポリオールとポリプロピレンポリオールとの反応により得られるエステル変性ひまし油ポリオールなどが挙げられる。
ポリオレフィンポリオールとして、例えば、ポリブタジエンポリオール、部分ケン価エチレン−酢酸ビニル共重合体などが挙げられる。
アクリルポリオールとして、例えば、ヒドロキシル基含有アクリレートと、ヒドロキシル基含有アクリレートと共重合可能な共重合性ビニルモノマーとを、共重合させることによって得られる共重合体が挙げられる。
ヒドロキシル基含有アクリレートとして、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，２−ジヒドロキシメチルブチル（メタ）アクリレート、ポリヒドロキシアルキルマレエート、ポリヒドロキシアルキルフマレートなどが挙げられる。好ましくは、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
共重合性ビニルモノマーとして、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート（炭素数１〜１２）、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニルモノマー、例えば、（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル、例えば、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸などのカルボキシル基を含むビニルモノマー、または、そのアルキルエステル、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどのアルカンポリオールポリ（メタ）アクリレート、例えば、３−（２−イソシアネート−２−プロピル）−α−メチルスチレンなどのイソシアネート基を含むビニルモノマーなどが挙げられる。
そして、アクリルポリオールは、これらヒドロキシル基含有アクリレート、および、共重合性ビニルモノマーを、適当な溶剤および重合開始剤の存在下において共重合させることにより得ることができる。
また、アクリルポリオールには、例えば、シリコーンポリオールやフッ素ポリオールが含まれる。
シリコーンポリオールとして、例えば、上記したアクリルポリオールの共重合において、共重合性ビニルモノマーとして、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのビニル基を含むシリコーン化合物が配合されたアクリルポリオールが挙げられる。
フッ素ポリオールとして、例えば、上記したアクリルポリオールの共重合において、共重合性ビニルモノマーとして、例えば、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンなどのビニル基を含むフッ素化合物が配合されたアクリルポリオールが挙げられる。
ビニルモノマー変性ポリオールは、上記した高分子量ポリオールと、上記したアルキル（メタ）アクリレートなどのビニルモノマーとの反応により得ることができる。
これらポリオール成分は、単独使用または２種類以上併用することができる。
ポリチオール成分として、例えば、脂肪族ポリチオール、芳香族ポリチオール、複素環含有ポリチオール、メルカプト基以外に硫黄原子を含有する脂肪族ポリチオール、メルカプト基以外に硫黄原子を含有する芳香族ポリチオール、メルカプト基以外に硫黄原子を含有する複素環含有ポリチオールなどが挙げられる。
脂肪族ポリチオールとして、例えば、メタンジチオール、１，２−エタンジチオール、１，１−プロパンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、２，２−プロパンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，２，３−プロパントリチオール、１，１−シクロヘキサンジチオール、１，２−シクロヘキサンジチオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジチオール、３，４−ジメトキシブタン−１，２−ジチオール、２−メチルシクロヘキサン−２，３−ジチオール、１−メチルシクロヘキサン−２，３−ジチオール、ビシクロ［２，２，１］ヘプタ−ｅｘｏ−ｃｉｓ−２，３−ジチオール、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、１，１−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、チオリンゴ酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、２，３−ジメルカプトコハク酸（２−メルカプトエチルエステル）、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール（２−メルカプトアセテート）、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，２−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、２，３−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、２，２−ビス（メルカプトメチル）−１，３−プロパンジチオール、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパンビス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパンビス（３−メルカプトプロピオネート）、３−メルカプト−１，２−プロパンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、３−メルカプト−１，２−プロパンジオールジ（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパン（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、グリセリントリス（２−メルカプトアセテート）、グリセリントリス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−シクロヘキサンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−シクロヘキサンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）が挙げられる。
芳香族ポリチオールとして、例えば、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３−トリメルカプトベンゼン、１，２，４−トリメルカプトベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラメルカプトベンゼン、１，２，３，５−テトラメルカプトベンゼン、１，２，４，５−テトラメルカプトベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、２，２’−ジメルカプトビフェニル、４，４’−ジメルカプトビフェニル、４，４’−ジメルカプトビベンジル、２，５−トルエンジチオール、３，４−トルエンジチオール、１，４−ナフタレンジチオール、１，５−ナフタレンジチオール、２，６−ナフタレンジチオール、２，７−ナフタレンジチオール、２，４−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオール、４，５−ジメチルベンゼン−１，３−ジチオール、９，１０−アントラセンジメタンチオール、１，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）プロパン−２，２−ジチオール、１，３−ジフェニルプロパン−２，２−ジチオール、フェニルメタン−１，１−ジチオール、２，４−ジ（ｐ−メルカプトフェニル）ペンタンなどが挙げられる。
複素環含有ポリチオールとして、例えば、２−メチルアミノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−エチルアミノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−アミノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−モルホリノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−シクロヘキシルアミノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−フェノキシ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−チオベンゼンオキシ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、２−チオブチルオキシ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジンなどが挙げられる。
メルカプト基以外に硫黄原子を含有する脂肪族ポリチオールとして、例えば、ビス（メルカプトメチル）スルフィド、ビス（メルカプトエチル）スルフィド、ビス（メルカプトプロピル）スルフィド、ビス（メルカプトメチルチオ）メタン、ビス（２−メルカプトエチルチオ）メタン、ビス（３−メルカプトプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，２−ビス（３−メルカプトプロピル）エタン、１，３−ビス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，３−ビス（２−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，３−ビス（３−メルカプトプロピルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（２−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（３−メルカプトプロピルチオ）プロパン、テトラキス（メルカプトメチルチオメチル）メタン、テトラキス（２−メルカプトエチルチオメチル）メタン、テトラキス（３−メルカプトプロピルチオメチル）メタン、ビス（２，３−ジメルカプトプロピル）スルフィド、２，５−ジメルカプト−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、ビス（メルカプトメチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトエチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトプロピル）ジスルフィドなど、およびこれらのチオグリコール酸およびメルカプトプロピオン酸のエステル、ヒドロキシメチルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシプロピルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、２−メルカプトエチルエーテルビス（２−メルカプトアセテート）、２−メルカプトエチルエーテルビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン、１，４−ジチアン−２，５−ジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ジチアン−２，５−ジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、チオジグリコール酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、チオジプロピオン酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、４，４−チオジブチル酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、ジチオジグリコール酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、ジチオジプロピオン酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、４，４−ジチオジブチル酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、チオグリコール酸ビス（２，３−ジメルカプトプロピルエステル）、チオジプロピオン酸ビス（２，３−ジメルカプトプロピルエステル）、ジチオグリコール酸ビス（２，３−ジメルカプトプロピルエステル）、ジチオジプロピオン酸ビス（２，３−ジメルカプトプロピルエステル）、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１，３，３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、４，６−ビス（メルカプトメチルチオ）−１，３−ジチアン、２−（２，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エチル）−１，３−ジチエタンなどが挙げられる。
メルカプト基以外に硫黄原子を含有する芳香族ポリチオールとして、例えば、１，２−ビス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトメチルチオ）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトエチルチオ）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトエチルチオ）ベンゼンなど、およびこれらの核アルキル化物などが挙げられる。
メルカプト基以外に硫黄原子を含有する複素環含有ポリチオールとして、例えば、３，４−チオフェンジチオール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾールなど、およびこれらのチオグリコール酸およびメルカプトプロピオン酸のエステルなどが挙げられる。
ポリチオール成分として、さらには、例えば、これらポリチオールの塩素置換体、臭素置換体などのハロゲン置換体が挙げられる。
これらポリチオール成分は、単独使用または２種類以上併用することができる。
ポリアミン成分として、例えば、低分子量ポリアミンおよび高分子量ポリアミンが挙げられる。
低分子量ポリアミンは、アミノ基を２つ以上有する数平均分子量６０以上３５０未満の化合物である。低分子量ポリアミンとして、例えば、低分子量ジアミン、低分子量トリアミン、アミノ基を４個以上有する低分子量ポリアミンなどが挙げられる。
低分子量ジアミンとして、例えば、エチレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、１，３−または１，４−ブタンジアミン、１，５−ペンタメチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミンなどの脂肪族ジアミン、例えば、１，４−シクロヘキサンジアミン、３−アミノメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルアミン（イソホロンジアミン）、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジアミン、２，５（２，６）−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンなどの脂環族ジアミン、例えば、ｏ、ｍまたはｐ−トリレンジアミン（ＴＤＡ、ＯＴＤ）、３，５−ジエチルトルエン−２，４−ジアミン、３，５−ジエチルトルエン−２，６−ジアミン、３，５−ジエチルトルエン−２，４−ジアミンおよび３，５−ジエチルトルエン−２，６−ジアミンの混合物（商品名：エタキュア１００、アルベマール社製）、ジメチルチオトルエンジアミン（商品名：エタキュア３００、アルベマール社製）などの芳香族ジアミンなどが挙げられる。
低分子量トリアミンとして、例えば、ジエチレントリアミンなどが挙げられる。アミノ基を４個以上有する低分子量ポリアミンとして、例えば、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミンなどが挙げられる。
高分子量ポリアミンは、アミノ基を２つ以上有する数平均分子量３５０以上、例えば、１００００以下、好ましくは、５０００以下の化合物である。高分子量ポリアミンとして、例えば、ポリオキシアルキレンエーテルジアミンなどのポリエーテルポリアミンが挙げられる。ポリエーテルポリアミンは、市販品としても入手可能であり、より具体的には、例えば、日油社製のＰＥＧ＃１０００ジアミンや、ハンツマン社製のＪＥＦＦＡＭＩＮＥシリーズ、さらには、ＢＡＳＦ社のＢａｘｘｏｄｕｒシリーズなどが挙げられる。
これらポリアミン成分は、単独使用または２種類以上併用することができる。
このような活性水素基含有成分のなかでは、好ましくは、ポリオール成分およびポリチオール成分が挙げられる。
なお、活性水素基含有成分には、必要により、例えば、公知のポリアミン、公知のモノオール、公知のモノアミンなどを、適宜の割合で配合することができる。
５．樹脂の用途
ＸＤＩ組成物および／またはＸＤＩ変性体組成物を含有するポリイソシアネート成分と活性水素基含有成分との反応生成物である樹脂（ポリウレタン樹脂）は、ポリウレタン樹脂が用いられる全ての用途に利用できる。
また、ポリイソシアネート成分と活性水素基含有成分との反応において、イソシアネート基に対する活性水素基の当量比が１未満である場合、分子末端にイソシアネート基を有するイソシアネート基末端ポリマーが生成し、イソシアネート基に対する活性水素基の当量比が１を超過する場合、分子末端に活性水素基を有する活性水素基末端ポリマーが生成する。イソシアネート基末端ポリマーおよび活性水素基末端ポリマーは、いずれも樹脂（ポリウレタン樹脂）に含まれる。イソシアネート基末端ポリマーは、一液硬化型樹脂である。
樹脂の用途として、具体的には、インキ、転写箔、粘着剤、バインダー、ゲル、エラストマー、フォーム、接着剤、一液硬化型シーリング材、ＲＩＭ成形品、微発泡ポリウレタン、各種マイクロカプセル、光学材料、水性樹脂、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線（例えば、電子線、紫外線など）硬化性樹脂、人工および合成皮革、スラッシュパウダー、ロボット部材、モビリティー部材、ヘルスケア材料、炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ）の基材樹脂、透明性ゴム、透明性硬質樹脂、防水材、フィルム、シート、チューブ、ブレード、スピーカー、センサー類、有機ＥＬ部材、太陽光発電部材、アンドロイド部材、ウェアラブル部材、スポーツ用品、レジャー用品、医療用品、介護用品、住宅用部材、音響部材、照明部材、シャンデリア、外灯、パッキン、防振・制震・免震部材、防音部材、日用品、雑貨、クッション、寝具、応力吸収材、応力緩和材、自動車の内外装部品、輸送機部材、ＯＡ機器用部材、雑貨表面保護部材、自己修復材料、健康器具などの用途に好適に利用される。
このようなポリウレタン樹脂の用途の一例として、エラストマー、フォーム、一液硬化型シーリング材および光学材料について、以下に詳述する。
（５−１）エラストマー
エラストマーとして、例えば、熱可塑性ウレタンエラストマー（ＴＰＵ）、熱硬化性ウレタンエラストマー（ＴＳＵ）、ミラブル型ポリウレタンエラストマーなどが挙げられる。
エラストマーは、ＸＤＩと高分子量ポリオールとの反応により形成されるソフトセグメントと、ＸＤＩと低分子量ポリオールおよび／または低分子量ポリアミンとの反応により形成されるハードセグメントと、を含んでいる。
このようなエラストマーは、例えば、ポリイソシアネート成分と、高分子量ポリオール（活性水素基含有成分）と、低分子量ポリオールおよび／または低分子量ポリアミン（活性水素基含有成分）との反応により製造される。つまり、ポリイソシアネート成分と、高分子量ポリオールと、低分子量ポリオールおよび／または低分子量ポリアミンとは、エラストマー原料である。
エラストマー原料であるポリイソシアネート成分は、例えば、ＸＤＩ組成物（以下、エラストマー用ＸＤＩ組成物とする。）を含有する。また、このポリイソシアネート成分は、必要に応じて、他の芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香脂肪族イソシアネートを含有してもよい。エラストマー原料であるポリイソシアネート成分は、好ましくは、エラストマー用ＸＤＩ組成物からなる。
エラストマー用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、０．６ｐｐｍ以上、好ましくは、１．０ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下、好ましくは、５０ｐｐｍ以下、より好ましくは、３０ｐｐｍ以下、とりわけ好ましくは、２０ｐｐｍ以下である。
エラストマー用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記下限以上であれば、エラストマーの白濁および変色を抑制できるとともに、エラストマーの機械特性（伸びおよび強度）の向上を図ることができる。エラストマー用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記上限以下であれば、エラストマーの変色を抑制できるとともに、エラストマーの機械特性（伸びおよび強度）の向上を図ることができる。
エラストマー原料である高分子量ポリオールとして、例えば、上記のポリエステルポリオール（例えば、ポリカプロラクトンポリオール、アジペート系ポリエステルポリオール（多塩基酸としてアジピン酸が用いられるポリエステルポリオール））、上記のポリカーボネートポリオール、上記のポリテトラメチレンエーテルグリコール（例えば、ポリテトラメチレンエーテルグリコール）が挙げられ、好ましくは、アジペート系ポリエステルポリオールが挙げられる。
エラストマー原料である低分子量ポリオールとして、例えば、エチレングリコール、１，４−ブチレングリコールなどが挙げられ、好ましくは、１，４−ブチレングリコールが挙げられる。
エラストマー原料である低分子量ポリアミンとして、例えば、上記した低分子量ポリアミンが挙げられる。
エラストマーは、例えば、ワンショット法またはプレポリマー法などの公知の方法により製造できる。
ワンショット法では、例えば、ポリイソシアネート成分と、高分子量ポリオールと、低分子量ポリオールおよび／または低分子量ポリアミンとを一度に反応させて、エラストマーを製造する。
プレポリマー法では、例えば、まず、ポリイソシアネート成分と高分子量ポリオールとを反応させて、分子末端にイソシアネート基を有するイソシアネート基末端プレポリマーを合成する。次いで、得られたイソシアネート基末端プレポリマーと、低分子量ポリオールおよび／または低分子量ポリアミンとを反応させて、エラストマーを製造する。
なお、エラストマーの製造方法は、例えば、バルク重合や溶液重合などを用いることができる。
また、エラストマーの製造方法では、必要に応じて、例えば、アミン類や有機金属化合物（例えば、有機錫系化合物、好ましくは、ジブチル錫ジクロライドなど）などの公知のウレタン化触媒をエラストマー原料に添加することができる。さらに、エラストマーには、必要に応じて、可塑剤、ブロッキング防止剤、耐熱安定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、ＮＯｘ黄変防止剤、酸化防止剤、離型剤、顔料、染料、滑剤、造核剤、フィラー、加水分解防止剤などを、適宜の割合で配合することができる。
以上によって、エラストマーが製造される。このようなエラストマーは、白濁が抑制され、耐変色性に優れるとともに、機械物性（伸びおよび強度）に優れている。
キセノン照射試験（２４０時間）におけるエラストマーの色差（Δｂ）、例えば、１．０以上、例えば、３．９未満、好ましくは、３．５以下、より好ましくは、３．０以下である。キセノン照射試験におけるエラストマーの色差は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
エラストマーの引張強度は、例えば、３０．０ＭＰａ以上、好ましくは、４０．０ＭＰａ以上、より好ましくは、５５．０ＭＰａ以上、例えば、８０．０ＭＰａ以下である。エラストマーの引張強度は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
エラストマーの伸度は、例えば、５５０％以上、好ましくは、６００％以上、より好ましくは、６５０％以上、例えば、１０００％以下である。エラストマーの伸度は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
（５−２）フォーム
フォームとしては、例えば、軟質フォーム、硬質フォームなどが挙げられる。軟質フォームの硬度（２５％ＣＬＤ）は、例えば、４０．６Ｎ／１００ｃｍ２未満であり、硬質フォームの硬度（２５％ＣＬＤ）は、例えば、４０．６Ｎ／１００ｃｍ２以上である。なお、硬度（２５％ＣＬＤ）は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
フォームは、例えば、ポリイソシアネート成分と、高分子量ポリオール（活性水素基含有成分）と、発泡剤との混合物を反応および発泡させることにより製造される。つまり、ポリイソシアネート成分と、高分子量ポリオールと、発泡剤とは、フォーム原料である。
フォーム原料であるポリイソシアネート成分は、例えば、ＸＤＩ組成物（以下、フォーム用ＸＤＩ組成物とする。）を含有する。また、このポリイソシアネート成分は、必要に応じて、他の芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香脂肪族イソシアネートを含有してもよい。フォーム原料であるポリイソシアネート成分は、好ましくは、フォーム用ＸＤＩ組成物からなる。
フォーム用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、０．６ｐｐｍ以上、好ましくは、１．０ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下、好ましくは、５０ｐｐｍ以下、より好ましくは、３０ｐｐｍ以下、とりわけ好ましくは、２０ｐｐｍ以下である。
フォーム用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記範囲内であれば、フォームの変色を抑制できながら、フォームの機械特性（伸びおよび強度）の向上を図ることができる。
フォーム原料である高分子量ポリオール（以下、フォーム用高分子量ポリオールとする。）として、例えば、上記のポリエーテルポリオールが挙げられる。
発泡剤として、例えば、化学発泡剤（例えば、水）および物理発泡剤（例えば、メチレンクロライド類、クロロフルオロカーボン類、ヒドロキシクロロフルオロカーボン類、炭酸ガス、有機発泡剤、無機発泡剤など）が挙げられる。
フォームは、例えば、公知の発泡方法により製造できる。
具体的には、ポリイソシアネート成分以外の成分（すなわち、必須成分として、高分子量ポリオールおよび発泡剤）を、予め配合して、レジンプレミックスを調製する。次いで、ポリイソシアネート成分とレジンプレミックスとを配合して、発泡成形し、フォームを製造する。
発泡成形には、例えば、スラブ発泡成形法やモールド発泡成形法などの公知の方法が用いられる。また、メカニカルフロス発泡成形法により発泡することもできる。
また、フォームの製造方法では、必要に応じて、上記のウレタン化触媒、架橋剤、整泡剤などをレジンプレミックスに添加することができる。さらに、フォームには、必要に応じて、耐熱安定剤（酸化防止剤）、耐光安定剤、多機能安定剤などを、適宜の割合で配合することができる。
以上によって、フォームが製造される。このようなフォームは、耐変色性に優れるとともに、機械物性（伸びおよび強度）に優れている。
ＵＶ照射試験（２４時間）におけるフォームの色差（Δｂ）は、例えば、２．０以上、例えば、１３．０以下、好ましくは、１２．５以下、より好ましくは、１２．０以下である。ＵＶ照射試験におけるフォームの色差は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
フォームの引張強度は、例えば、３０ｋＰａ以上、好ましくは、５０ｋＰａ以上、例えば、３００ｋＰａ以下である。フォームの引張強度は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
フォームの破断伸びは、例えば、５０％以上、好ましくは、８０％以上、より好ましくは、９０％以上、例えば、５００％以下である。フォームの破断伸びは、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
（５−３）一液硬化型シーリング材
一液硬化型シーリング材は、湿気硬化型シーリング材であって、樹脂（ポリウレタン樹脂）に含まれる。一液硬化型シーリング材は、分子末端にイソシアネート基を有し、空気中の水分と反応して硬化する。
一液硬化型シーリング材は、例えば、ポリイソシアネート成分と、高分子量ポリオール（活性水素基含有成分）との反応により製造される。つまり、ポリイソシアネート成分と、高分子量ポリオールとは、一液硬化型シーリング原料である。
一液硬化型シーリング原料であるポリイソシアネート成分は、例えば、ＸＤＩ組成物（以下、一液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物とする。）を含有する。また、このポリイソシアネート成分は、必要に応じて、他の芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香脂肪族イソシアネートを含有してもよい。一液硬化型シーリング原料であるポリイソシアネート成分は、好ましくは、シーリング用ＸＤＩ組成物からなる。
一液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、０．６ｐｐｍ以上、好ましくは、１．０ｐｐｍ以上、より好ましくは、３．０ｐｐｍ以上、とりわけ好ましくは、４．３ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下、好ましくは、５０ｐｐｍ以下、より好ましくは、３０ｐｐｍ以下、とりわけ好ましくは、２０ｐｐｍ以下である。
一液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記範囲内であれば、シーリング材の変色を抑制できるとともに、シーリング材の機械物性（伸びおよび強度）の向上を図ることができる。
一液硬化型シーリング原料である高分子量ポリオールとしては、例えば、上記のポリエーテルポリオールが挙げられ、好ましくは、ポリオキシ（Ｃ２〜３）アルキレンポリオールが挙げられる。
一液硬化型シーリング材は、例えば、上記のプレポリマー法により製造できる。
また、一液硬化型シーリング材の製造方法では、必要に応じて、上記のウレタン化触媒を一液硬化型シーリング原料に添加することができる。さらに、一液硬化型シーリング材には、必要に応じて、潜在性硬化剤（例えば、オキサゾリジン化合物など）、充填剤（例えば、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなど）、酸化防止剤、紫外線吸収剤などを、適宜の割合で配合することができる。
以上によって、一液硬化型シーリング材が製造される。このような一液硬化型シーリング材は、耐変色性に優れるとともに、機械物性（伸びおよび強度）に優れている。
ＵＶ照射試験（２４０時間）における一液硬化型シーリング材の色差（Δｂ）は、例えば、０．５以上、例えば、５．０以下、好ましくは、３．０以下、さらに好ましくは、２．０以下である。ＵＶ照射試験におけるシーリング材の色差は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
一液硬化型シーリング材の引張強度は、例えば、５ＭＰａ以上、好ましくは、１０ＭＰａ以上、さらに好ましくは、１２ＭＰａ以上、例えば、５０ＭＰａ以下、好ましくは、４５ＭＰａ以下である。シーリング材の引張強度は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
一液硬化型シーリング材の破断伸びは、例えば、３００％以上、好ましくは、３２０％以上、さらに好ましくは、３３０％、とりわけ好ましくは、４００％以上、例えば、１５００％以下、好ましくは、１０００％以下である。シーリング材の破断伸びは、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
（５−４）光学材料
光学材料として、例えば、透明レンズ、サングラスレンズ、偏光レンズ、眼鏡レンズ、カメラレンズ、ピックアップレンズ、コンタクトレンズなどの光学レンズや、例えば、車載用の照明パネル、ヘッドライトレンズ、ヘッドライトおよびテールライトのランプカバー、光学素子、光ディスク、有機ＥＬやＬＥＤなどの光学部品、看板などの電飾、光ファイバ、ガラス代替品、合わせガラスの中間膜、航空機等の風防、大型水槽壁、透明屋根材、グレージング材料、日用品の透明部材、防護メガネ、フード、防御用盾、自動車保安部品、照明部品、スマートフォン、タブレットなどの光学製品などが挙げられる。
光学材料のなかでは、好ましくは、光学レンズが挙げられる。
光学材料は、とりわけ、光学レンズは、ポリイソシアネート成分と、ポリチオール成分との反応により製造される。つまり、ポリイソシアネート成分と、ポリチオール成分とは、光学材料原料である。
光学材料原料であるポリイソシアネート成分は、例えば、ＸＤＩ組成物（以下、光学材料用ＸＤＩ組成物とする。）を含有する。また、このポリイソシアネート成分は、必要に応じて、他の芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香脂肪族イソシアネートを含有してもよい。光学材料原料であるポリイソシアネート成分は、好ましくは、光学材料用ＸＤＩ組成物からなる。
光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、０．６ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下、好ましくは、５０ｐｐｍ以下、より好ましくは、３０ｐｐｍ以下、とりわけ好ましくは、２０ｐｐｍ以下である。
光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記下限以上であれば、光学材料用ＸＤＩ組成物から光学材料を安定して製造できる。光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記上限以下であれば、光学材料の変色を抑制できる。
光学材料用ＸＤＩ組成物がＣＢＩを含有する場合、光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合は、例えば、０．２ｐｐｍ以上、好ましくは、１．０ｐｐｍ以上、より好ましくは、５．０ｐｐｍ以上、さらに好ましくは、１０ｐｐｍ以上、とりわけ好ましくは、５０ｐｐｍ以上、特に好ましくは、１００ｐｐｍ以上、例えば、４０００ｐｐｍ以下、好ましくは、３０００ｐｐｍ以下、より好ましくは、１６００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは、６００ｐｐｍ以下、とりわけ好ましくは、５００ｐｐｍ以下、特に好ましくは、４００ｐｐｍ以下、最も好ましくは、３００ｐｐｍ以下である。
光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合が上記下限以上であれば、光学材料用ＸＤＩ組成物から光学材料をより安定して製造できる。光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合が上記上限以下であれば、光学材料の変色を確実に抑制できる。
とりわけ、光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記の範囲であり、光学材料用ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合が上記の範囲であると、光学材料用ＸＤＩ組成物から光学材料をより一層安定して製造できながら、光学材料の変色を確実に抑制できる。
光学材料原料であるポリチオール成分（以下、光学材料用ポリチオール成分とする。）としては、例えば、上記したメルカプト基以外に硫黄原子を含有する脂肪族ポリチオールが挙げられ、好ましくは、１，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および、これらの混合物が挙げられる。
光学材料の製造方法として、例えば、上記のワンショット法が挙げられる。
また、光学材料の製造方法では、必要に応じて、上記のウレタン化触媒、内部離型剤（例えば、リン酸エステル系離型剤、アルキルリン酸塩系離型剤、脂肪酸エステル系離型剤など）、紫外線吸収剤（例えば、ベンゾトリアゾール化合物、フォルムアミジン系化合物など）などをポリイソシアネート成分に添加することができる。さらに、光学材料には、必要に応じて、ブルーイング剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、艶消し剤、難燃剤、揺変剤、粘着付与剤、増粘剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、反応遅延剤、脱水剤、酸化防止剤、加水分解防止剤、耐候安定剤などを、適宜の割合で配合することができる。
以上によって、光学材料が製造される。このような光学材料は、耐変色性に優れている。
光学材料のイエローインデックス値（Ｙ．Ｉ．値）は、例えば、３．５以上、例えば、４．６以下、好ましくは、４．３以下である。光学材料のイエローインデックス値（Ｙ．Ｉ．値）は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
６．二液型樹脂原料の用途
ＸＤＩ組成物および／またはＸＤＩ変性体組成物を含有するイソシアネート成分をＡ剤とし、活性水素基含有成分をＢ剤とする二液型樹脂原料は、例えば、塗料、接着剤などのコーティング原料、二液硬化型シーリング原料、ポッティング剤などの用途に好適に利用される。このような二液型樹脂原料は、別々に調製されるＡ剤（硬化剤）およびＢ剤（主剤）を使用直前に配合するものである。以下において、各用途に応じた樹脂原料の製造方法について説明する。
このような二液型樹脂原料の用途の一例として、コーティング原料および二液硬化型シーリング原料について以下に詳述する。
（６−１）コーティング原料
コーティング原料は、コーティングを形成するための二液硬化型樹脂原料であり、Ａ剤（硬化剤）およびＢ剤（主剤）を含む。コーティングには、塗料、接着剤などが含まれる。
コーティング原料が塗料として用いられる場合、例えば、プラスチック用塗料、自動車外装用塗料、自動車内装用塗料、電気・電子材料用塗料、光学材料（レンズなど）用塗料、建材用塗料、ガラスコート塗料、木工塗料、フィルムコーティング塗料、インキ塗料、人工皮革用塗料（コート剤）、缶用塗料（コート剤）などが挙げられる。
プラスチック塗料として、例えば、筐体（携帯電話、スマートフォン、パソコン、タブレットなど）用塗料、自動車部品（自動車内装材やヘッドランプなど）用塗料、家庭用電化製品用塗料、ロボット材料用塗料、家具用塗料、文具用塗料、アイウエア材料（レンズなど）用塗料、スポーツ部材（ゴルフボールなど）用塗料、バンド（時計バンドなど）用塗料、電子機器の光学レンズ用塗料（表面コート剤）などが挙げられる。
自動車外装用塗料として、例えば、新車向け塗料、自動車補修用塗料、外装部品（アルミニウムホイール、バンパーなど）用塗料などが挙げられる。
フィルムコーティング塗料として、例えば、光学用部材（光学フィルム、光学シートなど）用塗料、光学用コーティング材料、繊維用塗料、電子電機材料用塗料、食品パッケージ用塗料、医療フィルム用塗料、化粧品パッケージ用塗料、加飾フィルム用塗料、離形フィルム用塗料などが挙げられる。
コーティング原料が接着剤として用いられる場合、例えば、工業用接着剤、包装用接着剤（ラミネート用接着剤）、ホットメルト接着剤などが挙げられる。
工業用接着剤として、例えば、電気機器用接着剤、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用接着剤、ＥＬディスプレイ用接着剤、ＥＬ照明用接着剤、表示装置（電子ペーパーやプラズマディスプレイなど）用接着剤、自動車用接着剤、家電用接着剤、太陽電池バックシート用接着剤、各種電池（リチウムイオン電池など）用接着剤などが挙げられる。
包装用接着剤として、例えば、食品包装用接着剤、家庭用詰め替え包材用接着剤などが挙げられる。
このようなコーティング剤の製品形態として、例えば、溶剤系、水系、無溶剤系および粉体などが挙げられる。
Ａ剤は、例えば、ポリイソシアネート成分として、例えば、ＸＤＩ変性体組成物（以下、コーティング用ＸＤＩ変性体組成物とする。）を含有し、好ましくは、上記（ａ）の官能基（イソシアヌレート基）を含有するＸＤＩ変性体組成物、および／または、上記（ｄ）の官能基（ウレタン基）を含有するＸＤＩ変性体組成物を含有する。また、Ａ剤は、必要に応じて、他の芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香脂肪族イソシアネートを含有してもよい。
ＸＤＩ変性体組成物に用いられる変性体化前のコーティング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、０．６ｐｐｍ以上、好ましくは、２．０ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下である。
コーティング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記範囲内であれば、コーティング材の変色を抑制できる。
とりわけ、コーティング原料が塗料として用いられる場合、ＸＤＩ変性体組成物に用いられる変性体化前のコーティング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、０．６ｐｐｍ以上、好ましくは、１．０ｐｐｍ以上、より好ましくは、４．０ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下、好ましくは、５０ｐｐｍ以下、より好ましくは、４０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは、３０ｐｐｍ以下、とりわけ好ましくは、２０ｐｐｍ以下である。
塗料に用いられるコーティング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記範囲内であれば、硬化塗膜の変色を抑制できながら、硬化塗膜の密着性の向上を図ることができる。
また、コーティング原料が接着剤として用いられる場合、ＸＤＩ変性体組成物に用いられる変性体化前のコーティング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、０．６ｐｐｍ以上、好ましくは、１．０ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下、好ましくは、５０ｐｐｍ以下、より好ましくは、４０ｐｐｍ以下、さらに好ましくは、２０ｐｐｍ以下である。
接着剤に用いられるコーティング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記下限以上であれば、硬化後の接着剤の変色を抑制できながら、接着剤により接着される接着対象物（例えば、ラミネートフィルムなど）の外観の向上を図ることができる。
接着剤に用いられるコーティング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記上限以下であれば、硬化後の接着剤の変色を抑制できながら、接着剤の接着力の向上を図ることができる。
Ｂ剤は、例えば、活性水素基含有成分として、例えば、上記した高分子量ポリオールを含有する。コーティング原料である高分子量ポリオール（以下、コーティング用高分子量ポリオールとする。）として、例えば、上記のアクリルポリオール、上記のポリエステルポリオール、上記のフッ素ポリオールが挙げられる。
また、Ｂ剤には、必要に応じて、ウレタン化触媒、加水分解防止剤、消泡剤、界面活性剤、摺動付与剤、表面調整剤、酸化防止剤、耐候安定剤、顔料、染料、フィラー、樹脂パウダーなどを、適宜の割合で配合することができる。
そして、コーティング材の形成方法としては、例えば、Ａ剤とＢ剤とを混合して、その混合液を、コーティング対象物に公知の方法により塗布して硬化させる。
以上によって、コーティング材が形成される。このようなコーティング材は、耐変色性に優れている。
湿熱耐久試験（２０００時間）におけるコーティングの色差（Δｂ）は、例えば、０．５以上、例えば、２．４以下、好ましくは、２．２以下、より好ましくは、２．０以下、さらに好ましくは、１．９以下である。湿熱耐久試験におけるコーティングの色差は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
（６−２）二液硬化型シーリング原料
二液硬化型シーリング原料は、二液硬化型シーリング材を形成するための二液硬化型樹脂原料であって、Ａ剤（硬化剤）およびＢ剤（主剤）を含む。二液硬化型シーリング原料は、工業用、住宅・建築用シーリング材料などに好適に用いられる。
Ａ剤は、例えば、ＸＤＩ組成物（以下、二液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物とする。）および／またはＸＤＩ変性体組成物（以下、二液硬化型シーリング用ＸＤＩ変性体組成物とする。）を含有し、好ましくは、上記（ｄ）の官能基（ウレタン基）を含有するＸＤＩ変性体組成物を含有する。また、Ａ剤は、必要に応じて、他の芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香脂肪族イソシアネートを含有してもよい。Ａ剤は、好ましくは、二液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物および／またはＸＤＩ変性体組成物からなる。
二液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合は、例えば、０．６ｐｐｍ以上、好ましくは、１．０ｐｐｍ以上、より好ましくは、３．０ｐｐｍ以上、とりわけ好ましくは、４．３ｐｐｍ以上、６０ｐｐｍ以下、好ましくは、５０ｐｐｍ以下、より好ましくは、３０ｐｐｍ以下である。
二液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合が上記範囲内であれば、シーリング材の変色を抑制できるとともに、シーリング材の機械特性（破断伸びおよび強度）の向上を図ることができる。
二液硬化型シーリング用ＸＤＩ組成物は、必要に応じて、上記のウレタン化触媒、加水分解防止剤、消泡剤、界面活性剤、摺動付与剤、表面調整剤、酸化防止剤、耐候安定剤、顔料、染料、フィラー、樹脂パウダー、上記の低分子量ポリオール、上記の充填剤などを、適宜の割合で配合することができる。
Ｂ剤は、活性水素基含有成分として、例えば、上記した高分子量ポリオールとポリイソシアネート成分との反応物であるイソシアネート基末端プレポリマーを含有する。二液硬化型シーリング原料である高分子量ポリオールとして、例えば、上記のポリエーテルポリオールが挙げられ、好ましくは、ポリオキシ（Ｃ２〜３）アルキレンポリオールが挙げられる。
そして、二液硬化型シーリング材の形成方法として、例えば、Ａ剤とＢ剤とを混合して、その混合液を、シーリング対象物に公知の方法により塗布して硬化させる。
以上によって、二液硬化型シーリング材が形成される。このような二液硬化型シーリング材は、耐変色性に優れるとともに、機械物性（破断伸びおよび強度）に優れている。
ＵＶ照射試験（２４０時間）における二液硬化型シーリング材の色差（Δｂ）は、例えば、１．３以上、例えば、２．０以下、好ましくは、１．８以下である。ＵＶ照射試験における二液硬化型シーリング材の色差は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
二液硬化型シーリング材の破断伸びは、例えば、１２００％以上、好ましくは、１２５０％以上、より好ましくは、１３００％以上、例えば、１４００％以下である。二液硬化型シーリング材の破断伸びは、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定できる。
７．作用効果
上記のように、ＸＤＩ組成物は、ＸＤＩと、上記化学式（１）に示すＤＣＩとを含有している。ＤＣＩの含有割合は、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下である。
ＤＣＩの含有割合が上記の範囲であれば、後述する実施例からも明らかなように、ＣＢＩの含有割合に関わらず、製造される樹脂の耐変色性の向上を図ることができる。
その結果、ＸＤＩ組成物を含有するポリイソシアネート成分と活性水素基含有成分との反応生成物である樹脂や、ポリイソシアネート成分（Ａ剤）と活性水素基含有成分（Ｂ剤）とを含む樹脂原料は、各種産業製品、とりわけ、エラストマー、微発泡ポリウレタン、ゲル、ポリウレタン溶液、フォーム、シーリング材、活性エネルギー線（例えば、電子線、紫外線など）硬化性樹脂、光学材料、コーティング材、粘接着剤、バインダー、マイクロカプセル、インキ、転写箔、ポッティング材として好適に利用される。
以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、それらに限定されない。以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。なお、「部」および「％」は、特に言及がない限り、質量基準である。
また、以下において記載される各種物性の測定法を下記する。
１．測定方法
（上記化学式（１）に示す化合物（ＤＣＩ）の含有割合）
まず、後述する準備例１において合成される純度９９ｍｏｌ％のＤＣＩを標準物質として用い、下記の条件でガスクロマトグラフィーにて分析して、得られたガスクロマトグラムの面積値から検量線を作成した（絶対検量線法）。
次いで、後述する各実施例および各比較例のＸＤＩ組成物（または脱タールマス）を下記の条件でガスクロマトグラフィーにて分析して、ＤＣＩのモル数を得た。これを質量に換算して、後述する各実施例および各比較例のＸＤＩ組成物中のＤＣＩの含有割合を算出した。なお、ＤＣＩのリテンションタイムは、１６．６分であった。
装置；ＨＰ−６８９０／５８７３（ヒューレットパッカード社製）
カラム；ＨＰ−５０＋、内径０．２５ｍｍ×長さ３０ｍ×膜厚０．２５μｍ（ヒューレットパッカード社製）
オーブン温度；５０℃から２８０℃まで１０℃／ｍｉｎで昇温、２８０℃到達後６ｍｉｎホールド。
スプリット比；パルスドスプリットレス法
注入口温度；２００℃
検出器温度；２８０℃
キャリアガス；Ｈｅ
キャリアガス流量；１．０ｍｌ／ｍｉｎ（定流量制御）
サンプル濃度：１．０質量％ジクロロメタン溶液
注入量；１．０μＬ
検出方法；ＳＩＭ（モニタリングイオン：ｍ／ｚ １８０、２１５）
（キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）の含有割合）
後述する準備例２において準備される純度９９ｍｏｌ％のＸＤＩを標準物質として、内部標準法により、下記の条件でガスクロマトグラフィーにて分析して、得られたガスクロマトグラムの面積値から検量線を作成した。
次いで、後述する各実施例および各比較例のＸＤＩ組成物（または脱タールマス）を下記の条件でガスクロマトグラフィーにて分析して、ＸＤＩのモル数を得た。これを質量に換算して、後述する各実施例および各比較例のＸＤＩ組成物中のＸＤＩの含有割合（純度）を算出した。なお、内部標準物質のリテンションタイムは、８．８分であり、ＸＤＩのリテンションタイムは、１３．８分であった。
装置；ＳＨＩＭＡＤＺＵ ２０１４（島津製作所社製）
充填剤；ＤＢ−１（膜厚）１．５μｍ、
カラム；内径０．５３ｍｍ×長さ６０ｍ（島津製作所社製）
オーブン温度；１３０℃から２２０℃まで３℃／ｍｉｎで昇温、２２０℃到達後３００℃まで１０℃／ｍｉｎで昇温。
スプリット比；パルスドスプリットレス法
注入口温度；２８０℃
検出器温度；３００℃
キャリアガス；Ｎ２ １５８ｋＰａ、Ｈ２ ５５ｋＰａ、Ａｉｒ ４５ｋＰａ（定圧制御）
内部標準物質；１，２，４，５−テトラクロロベンゼンを各サンプルに１００ｍｇ添加
溶媒；クロロホルム
サンプル濃度：２．０質量％クロロホルム溶液
注入量；２μＬ
検出方法；ＦＩＤ
（クロロメチルベンジルイソシアネート（ＣＢＩ）の含有割合）
純度９５ｍｏｌ％のＣＢＩ（市販品）を標準物質としたこと以外は、上記したＸＤＩの含有割合の測定と同様にして、後述する各実施例および各比較例のＸＤＩ組成物（または脱タールマス）をガスクロマトグラフィーにて分析して、後述する各実施例および各比較例のそれぞれのＸＤＩ組成物中のＣＢＩの含有割合を算出した。なお、ＣＢＩのリテンションタイムは、１０．３分であった。
（シアノベンジルイソシアネート（ＭＣＮ）の含有割合）
純度９５ｍｏｌ％のＭＣＮ（市販品）を標準物質としたこと以外は、上記したＸＤＩの含有割合の測定と同様にして、後述する各実施例および各比較例のＸＤＩ組成物（または脱タールマス）をガスクロマトグラフィーにて分析して、ＸＤＩ組成物中のＭＣＮの含有割合を算出した。なお、ＭＣＮのリテンションタイムは、１１．５分であった。
（光学材料のイエローインデックスの値（Ｙ．Ｉ．値）の算出）
後述する各実施例および各比較例の光学材料を、厚さ９ｍｍ、直径７５ｍｍの円形平板プラスチックレンズとして作成し、ＭＩＮＯＬＴＡ社製色彩色差計ＣＴ−２１０を用いて色度座標ｘ、ｙを測定した。測定結果であるｘとｙの値を元に下記式（２）によりＹ．Ｉ．を算出した。
なお、Ｙ．Ｉ．値は小さいほどプラスチックレンズの色相が良く、Ｙ．Ｉ．値が大きいほど色相が不良となる相関がある。
Ｙ．Ｉ．値＝（２３４×ｘ＋１０６×ｙ＋１０６）／ｙ （２）
（エラストマーの白濁）
後述する各実施例および各比較例のエラストマーの白濁を目視により、下記の基準で評価した。
３：透明
２：微白濁
１：白濁
（エラストマーの耐候性試験）
後述する各実施例および各比較例のエラストマーを、ベールカッターによりサイコロ状に切断し、粉砕機にて粉砕した。この粉砕ペレットを窒素気流下、８０℃にて２４時間乾燥した。単軸押出機（型式：ＳＺＷ４０−２８ＭＧ，テクノベル社製）を用いてシリンダー温度１５０〜２４５℃の範囲でストランドを押し出し、それをカットすることによって、後述する各実施例および各比較例のエラストマーのペレットを得た。そのペレットを、さらに窒素気流下、８０℃にて２４時間乾燥した。
次いで、射出成型機（型式：ＮＥＸ−１４０，日精樹脂工業社製）を使用して、スクリュー回転数８０ｒｐｍ、バレル温度１５０〜２３５℃の設定にて、金型温度２０℃、射出時間１０秒、射出速度６０ｍｍ／ｓおよび冷却時間４５秒の条件で射出成型を実施した。
得られたシート（厚み２ｍｍ）を、２３℃、相対湿度５５％の恒温恒湿条件下にて、７日間養生し、後述する各実施例および各比較例のエラストマーシートを得た。
そして、エラストマーシートのｂ値（ｂ１、初期値）を、色彩色素計（ミノルタカメラ社製、ＣＲ−２００）により測定後、キセノン照射試験を実施した。
２４０時間経過後、エラストマーシートのｂ値（ｂ２）を上記と同様に測定した。キセノン照射試験（２４０時間）におけるエラストマーシートの色差Δｂ（＝｜ｂ２−ｂ１｜）を算出した。
なお、キセノン照射試験は、スーパーキセノンウエザメーター（スガ試験機社製、ＳＸ７５−ＡＰ）を用いて、ブラックパネル温度８９℃、相対湿度５０％、キセノンランプ放射照度１００Ｗ／ｍ２（照射波長３００〜４００ｎｍ）の条件で実施された。
（エラストマーの引張物性）
ＪＩＳ Ｋ−７３１１ ポリウレタン系熱可塑性エラストマーの試験方法に記載の方法に準拠して得られたシートの引張試験を実施した。試験片（エラストマーシート）を、ＪＩＳ−３号ダンベルにて打ち抜き、引張試験機（東洋精機製作所社製、全自動ゴム引張試験機 ＴＹＰＥ：ＡＥ−ＣＴ）にて、標線間２０ｍｍ、引張速度３００ｍｍ／分の条件で引張強度（単位：ＭＰａ）および伸度（単位：％）を測定した。
（フォームのＵＶ照射試験における色差）
後述する各実施例および各比較例のフォームから３０×４０×１０ｍｍのサイズの直方体を切り出して、測定試料を作製した後、測定試料のｂ値（ｂ１、初期値）を、色差計（東京電色社製、カラーエースＭＯＤＥＬ ＴＣ−１）により測定した。
その後、測定試料に、紫外線蛍光灯が取り付けられたＱＵＶウェザリングテスターを使用して、２４時間、短波長（波長２７０〜７２０ｎｍ）の紫外線を照射した。２４時間経過後の測定試料のｂ値（ｂ２）を上記と同様に測定した。ＵＶ照射試験（２４時間）におけるフォームの色差Δｂ（＝｜ｂ２−ｂ１｜）を算出した。
（フォームの見かけ密度）
後述する各実施例および各比較例のフォームから１０×１０×５ｃｍのサイズの直方体を切り出して、測定試料を作製した後、測定試料の見かけ密度（単位：ｋｇ／ｍ３）を、ＪＩＳ Ｋ７２２２（２００５）に準拠して測定した。
（フォームの硬度 ２５％ＣＬＤ）
ＪＩＳ Ｋ−６４００−２（２０１２年）に記載のＤ法に準拠して、後述する各実施例および各比較例のフォームの硬度（単位：Ｎ／１００ｃｍ２）を測定した。
（フォームの反発弾性）
後述する各実施例および各比較例のフォームから１０×１０×５ｃｍのサイズの直方体を切り出して、測定試料を作製した後、測定試料の反発弾性（単位：％）を、ＪＩＳ Ｋ６４００−３（２００４）に準拠して測定した。
（フォームの引張物性）
後述する各実施例および各比較例のフォームの引張強度（単位：ｋＰａ）および破断伸び（単位：％）を、ＪＩＳ Ｋ６４００−５（２００４）に準拠して測定した。
（二液硬化型シーリング材のＵＶ照射試験における色差）
後述する各実施例および各比較例の二液硬化型シーリング材を測定試料として作製した後、測定試料のｂ値（ｂ１、初期値）を、色差計（東京電色社製、カラーエースＭＯＤＥＬ ＴＣ−１）により測定した。
その後、測定試料に、紫外線蛍光灯が取り付けられたＱＵＶウェザリングテスターを使用して、２４０時間、短波長（波長２７０〜７２０ｎｍ）の紫外線を照射した。２４０時間経過後の測定試料のｂ値（ｂ２）を上記と同様に測定した。ＵＶ照射試験（２４０時間）における二液硬化型シーリング材の色差Δｂ（＝｜ｂ２−ｂ１｜）を算出した。
（二液硬化型シーリング材の引張物性）
ＪＩＳ Ｋ−６３０１に記載の方法に準拠して、後述する各実施例および各比較例の二液硬化型シーリング材の引張試験を実施した。試験片（二液硬化型シーリング材）を、ＪＩＳ−２号ダンベルにて打ち抜き、引張試験機（Ａ＆Ｄ社製、テンシロン）にて、引張速度５００ｍｍ／分の条件で引張強度（単位：ＭＰａ）および破断伸び（単位：％）を測定した。
（コーティングの湿熱耐久試験における色差（変着色））
後述する各実施例および各比較例のコーティングが形成されたポリエチレンテレフタレート基材（以下、サンプルとする。）のｂ値（ｂ１、初期値）を、色差計（スガ試験機社製、ＳＭ−Ｔ ＪＩＳ Ｚ８７２２ 条件 ｄ準拠 反射条件）により測定した。
次いで、サンプルを、恒温恒湿器（東洋製作社製、ＴＨＮ０４２ＰＢ）にて、８５℃、相対湿度８５％で、２０００時間保持した。２０００時間経過後のサンプルのｂ値（ｂ２）を上記と同様に測定した。湿熱試験におけるコーティングの色差Δｂ（＝｜ｂ２−ｂ１｜）を算出した。
（コーティングの密着性）
上記した湿熱耐久試験後のサンプルに対して、碁盤目法（ＪＩＳ Ｋ５４００−８．５に準拠）によって密着性試験を実施した。
（ラミネート用接着剤に接着されたラミネートフィルムの外観および接着強度）
白色印刷ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１２μｍ）の印刷面（白色印刷インキ；サカタインクス社製 ベルカラーＲ 白１１５ １液，ポリエチレンテレフタレートフィルム；東洋紡社製 エステルフィルム Ｅ５１０２）に、後述する各実施例および各比較例のラミネート用接着剤（主剤および硬化剤の配合比（主剤／硬化剤）＝１０／６）を、無溶剤ラミネーターにて、速度１００ｍ／ｍｉｎ、８０℃で塗布し、塗布面をアルミニウム箔（ＡＬ、厚み９μｍ、東洋アルミ社製軟質アルミハクＣ）のケシ面と貼り合わせた。
次いで、アルミニウム箔の他の面（ツヤ面）に、後述する各実施例および各比較例のラミネート用接着剤を、無溶剤ラミネーターにて、速度１００ｍ／ｍｉｎ、８０℃で塗布し、塗布面を未延伸ポリプロピレンフィルム（ＣＰＰ、厚み６０μｍ、三井化学東セロ社製、ＣＰ ＲＸＣ−２２）のコロナ処理面と貼り合わせた。
なお、塗布量は、約３．０ｇ／ｍ２となるように塗工した。その後、得られた３層ラミネート複合フィルム（ラミネートフィルム）を、４０℃、８時間の条件で養生した。
次いで、アルミニウム箔／未延伸ポリプロピレンフィルム間の接着強度を、ＪＩＳ Ｋ ６８５４−３（１９９９年）に準拠して、２４℃下、１５ｍｍ幅、引張速度３００ｍｍ／ｍｉｎの条件にて測定した。
また、ラミネートフィルムを、４０℃４日間養生し、後述する各実施例および各比較例のラミネート接着剤を硬化させた。
そして、得られたラミネートフィルムの白色印刷ポリエチレンテレフタレートフィルム側のラミネート外観を、目視にて下記の基準で評価した。
ラミネート外観；
○：均一に濡れていて良好な外観。
△：均一に濡れているが、濡れていないようなドットが僅かに有る。
×：濡れていないようなドットが大量に有る。
そして、得られたラミネートフィルムを使用して、９ｃｍ×１３ｃｍの大きさの袋を作成し、内容物として食酢／サラダ油／ケチャップを体積比１／１／１で混合したものを１５０ｇ充填した。この袋を、２１０×５２０×１０５ｍｍのトレイに載置し、１２１℃で３０分間、０．２０ＭＰａの加圧下で熱水減菌した後、５０℃で２週間保存した。
熱水減菌試験前後、および、５０℃２週間保存後のアルミニウム箔／未延伸ポリプロピレンフィルム間の接着強度を、ＪＩＳ Ｋ ６８５４−３（１９９９年）に準拠して、２４℃下、１５ｍｍ幅、引張速度３００ｍｍ／ｍｉｎの条件にて測定した。
（ラミネート用接着剤のＵＶ照射試験における色差）
後述する各実施例および各比較例のラミネート用接着剤を用い、塗布量４．０ｇ／ｍ２となるように、上記と同様にして、ポリエチレンテレフタレートシート（東レフィルム加工社製、ルミラーＸ１０Ｓ、５０ミクロン）に塗布し、ポリエチレンテレフタレートシート（東レフィルム加工社製、ルミラーＸ１０Ｓ、５０ミクロン）と貼り合わせ、４０℃で４日間養生して、ラミネートフィルムを得た。
得られたラミネートフィルムのｂ値（ｂ１、初期値）を、色彩計（日本電色工業株式会社製、分光式色彩計、ＳＥ−２０００）により、透過法により測定した。
次いで、ラミネートフィルムを、ＱＵＶ装置（デューパネル光コントロールウェザーメーターＦＤＰ、スガ試験機社製、連続照射、７０℃、１０％ＲＨ、放射照度設定２８Ｗ／ｍ２）にて３００時間連続で光照射し、取り出し後、色彩計でｂ値を測定した。光照射前（初期値）のｂ値と照射後のｂ値との差を、Δｂ値として、硬化したラミネート用接着剤の黄変度合を評価した。その結果を表３に示す。
（一液硬化型シーリング材のＵＶ照射試験における色差）
上記の二液硬化型シーリング材のＵＶ照射試験と同様にして、ＵＶ照射試験（２４０時間）における、後述する各実施例および各比較例の一液硬化型シーリング材の色差Δｂ（＝｜ｂ２−ｂ１｜）を算出した。
（一液硬化型シーリング材の引張物性）
ＪＩＳ Ｋ−６３０１に記載の方法に準拠し、上記の二液硬化型シーリング材の引張試験と同様にして、後述する各実施例および各比較例の一液硬化型シーリング材の引張強度（単位：ＭＰａ）および破断伸び（単位：％）を測定した。
２．各種の標準物質の準備
（準備例１）
下記化学式（４）に示すスキームにて、上記化学式（１）に示すＤＣＩを合成した。
Figure 2018190290
３−シアノベンズアルデヒド２５０．４ｍｇ（１．９１ｍｍｏｌ）とジクロロメタン１５．０ｍｌとの混合溶液に、塩化タングステン１．８９ｇ（４．７７ｍｍｏｌ）を添加し、ジクロロメタン還流下で３時間反応させた後、室温まで冷却した。続いて、反応液を、炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍｌおよび１Ｎ水酸化ナトリム水溶液２８ｍｌの混合液中に１０℃以下を保ちながら徐々に滴下した。
ジクロロメタン層を分液した後、水層をジクロロメタン１５ｍｌで２回抽出操作した。分液で得られたジクロロメタン層と、抽出操作で得られたジクロロメタン層とを混合し、ジクロロメタン層を飽和食塩水２０ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
乾燥後、ジクロロメタン層から硫酸マグネシウムを濾別した後、ジクロロメタンを留去して濃縮液を得た。続いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより濃縮液から３−（ジクロロメチル）ベンゾニトリル３３１．１ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）を得た。そして、得られた３−（ジクロロメチル）ベンゾニトリルを１Ｈ−ＮＭＲ （２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）により分析した。
３−（ジクロロメチル）ベンゾニトリル：１Ｈ−ＮＭＲ （２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ７．８９−７．８１（２Ｈ，ｍ）、７．７１−６７ （１Ｈ，ｍ）、７．５８−７．５３（１Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｓ）。
次いで、３−（ジクロロメチル）ベンゾニトリル７１５．４ｍｇ（３．８５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン１４．０ｍｌとの混合溶液に、ボラン−ジメチルスルフィドコンプレックスのテトラヒドロフラン溶液１０．１ｍｌ（１９．２ｍｍｏｌ）を室温で滴下した後、２３時間攪拌して反応させた。
反応後、反応液を氷冷しながら反応液に水１０ｍｌを滴下した後、２Ｍ塩酸２．５ｍｌ（５．０ｍｍｏｌ）を添加した。続いて、反応液に酢酸エチル２０ｍｌを添加して攪拌しながら反応液を洗浄した。
酢酸エチル層を分液除去した後、反応液に１Ｍ水酸化ナトリウム６ｍｌを添加し、反応液をジクロロメタン１５ｍｌで４回抽出操作し、得られたジクロロメタン層を硫酸マグネシウムで乾燥した。
乾燥後、ジクロロメタン層から硫酸マグネシウムを濾別した後、ジクロロメタンを留去して３−（ジクロロメチル）ベンジルアミン４３４．０ｍｇ（２．２８ｍｍｏｌ）を得た。そして、得られた３−（ジクロロメチル）ベンジルアミンを１Ｈ−ＮＭＲ （２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）により分析した。
３−（ジクロロメチル）ベンジルアミン：１Ｈ−ＮＭＲ （２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ７．７９−７．３３（４Ｈ，ｍ）、６．７１（１Ｈ，ｓ）、３．９２ （２Ｈ，ｓ）。
次いで、トリホスゲン２６３．４ｍｇ（０．８８８ｍｍｏｌ）とトルエン７．０ｍｌとの混合溶液に、上記で得られた３−（ジクロロメチル）ベンジルアミン３３７．４ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）とトルエン７．０ｍｌとの混合溶液を滴下した後、１２０℃で３時間反応させた。
反応後、室温まで冷却し、トルエンを留去して濃縮液を得た。続いて、濃縮液にクロロホルム３ｍｌを添加して不溶物を、メンブランフィルターにより除去した後、クロロホルムを留去して３−（ジクロロメチル）ベンジルイソシアネート（ＤＣＩ）２７８．０ｍｇ（１．２９ｍｍｏｌ）を得た。そして、得られた３−（ジクロロメチル）ベンジルイソシアネート（ＤＣＩ）を１Ｈ−ＮＭＲ （２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、ＦＴ−ＩＲおよびＭＳにより分析した。
３−（ジクロロメチル）ベンジルイソシアネート（ＤＣＩ）：
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ７．６４−７．３３ （４Ｈ，ｍ）、６．７１ （１Ｈ，ｓ）、４．５６（２Ｈ，ｓ）、
１３Ｃ−ＮＭＲ （１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δ４６．０、７１．３、１２３．３、１２４．４、１２５．７、１２８．１、１２９．３、１３７．６、１４１．０、
ＦＴ−ＩＲ ： ２２５６ｃｍ−１
ＭＳ ： ｍ／ｚ＝２１５（Ｍ＋）
また、得られた３−（ジクロロメチル）ベンジルイソシアネート（ＤＣＩ）を、検出方法をＦＩＤに変更したこと以外は上記したＤＣＩの含有割合の測定用の条件と同じ条件で、ガスクロマトグラフィーにて分析した。
そして、得られたガスクロマトグラムにおける全ピーク面積に対する、ＤＣＩに対応するピーク面積（リテンションタイム１６．６分）の比率が、９９面積％以上であることを確認した。
この結果から、合成された３−（ジクロロメチル）ベンジルイソシアネート（ＤＣＩ）の純度を９９ｍｏｌ％として、ＤＣＩの標準物質とした。
（準備例２）
後述する実施例１において製造されるＸＤＩ組成物を、１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、ＦＴ−ＩＲおよびＭＳにより分析した。また、そのＸＤＩ組成物を、上記したＸＤＩの含有割合の測定用の条件でガスクロマトグラフィーにて分析した。
そして、得られたガスクロマトグラムにおける全ピーク面積に対する、ＸＤＩに対応するピーク面積（リテンションタイム１３．８分）の比率が、９９面積％以上であることを確認した。
この結果から、ＸＤＩ組成物におけるＸＤＩの含有割合（純度）を９９ｍｏｌ％として、ＸＤＩの標準物質とした。
３．キシリレンジイソシアネート組成物の製造
（実施例１〜７および実施例１０）
ＸＤＩ組成物を図１に示すプラント１により製造した。詳しくは、オルソジクロロベンゼン（ＯＤＣＢ）６００質量部を、図１に示す撹拌槽２１に装入した。次いで、撹拌槽２１内の造塩温度を１００℃に調節するとともに、撹拌槽２１内の造塩圧力（ゲージ圧）を０．１ＭＰａＧに調節した。その後、ＨＣｌガス１２８質量部を、塩化水素供給ライン２４より撹拌槽２１に吹き込むとともに、ｍ−ＸＤＡ１６０質量部とＯＤＣＢ１２４０質量部との混合溶液（アミン溶液）を、アミン供給ライン２２より撹拌槽２１に２時間かけて装入した。これにより、ＸＤＡ塩酸塩の濃度が１２．５質量％であるスラリーを調製した。
次いで、ＨＣｌガスを、６４質量部／ｈｒの供給速度で塩化水素供給ライン２４より撹拌槽２１に連続的に吹き込むとともに、ｍ−ＸＤＡの濃度が８質量％であるアミン溶液を、１０００質量部／ｈｒの供給速度でアミン供給ライン２２より撹拌槽２１に連続的に装入しながら、ＸＤＡ塩酸塩を含むスラリーを、塩酸塩送液ライン２６により反応槽３１Ａに送液した。
次いで、塩化カルボニルを、表１に示す供給速度で塩化カルボニル供給ライン３０より、反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれに連続的に導入した。反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂのそれぞれにおける反応温度および反応圧力（ゲージ圧）、イソシアネート化ユニット３における平均滞留時間、および、ＸＤＡ塩酸塩１ｍｏｌに対する塩化カルボニルの供給割合を表１に示す。
これにより、ＸＤＡ塩酸塩と塩化カルボニルとを反応させてＸＤＩを生成し、ＸＤＩを含む反応マスを調製した。また、未反応の塩化カルボニルの一部は、コンデンサ３５Ａおよびコンデンサ３５Ｂで凝縮されて、液化塩化カルボニルおよびＯＤＣＢの混合液（還流液）として、還流ライン３４Ａおよび還流ライン３４Ｂより反応槽３１Ａおよび反応槽３１Ｂに戻された。
また、コンデンサにより凝縮されなかった未反応の塩化カルボニルと、副生したＨＣｌガスとは、排気ライン３３Ａおよび排気ライン３３Ｂより図示しない塩化カルボニル回収装置に供給された。その後、塩化カルボニル回収装置において、液化塩化カルボニルとＨＣｌガスとに分離され、液化塩化カルボニルは、塩化カルボニル貯槽に回収した。
次いで、反応マスを、反応槽３１Ｂから反応マス送液ライン３２Ｂにより排出し、脱ガス塔４１に連続的に送液した。その後、脱ガス塔４１において反応マスを脱ガスした。次いで、脱ガスマスを、脱ガス塔４１から脱ガスマス送液ライン４２により排出し、脱溶媒塔５１に連続的に送液した。これにより、ｍ−ＸＤＩの濃度が９２質量％である脱溶媒マス１２０質量部を調製した。
次いで、脱溶媒マスを、脱溶媒塔５１から脱溶媒マス送液ライン５２により排出し、脱タール器６１に連続的に送液した。その後、脱タール器６１において脱溶媒マスを脱タールして、脱タールマスを調製した。脱タールマスにおける、ＯＤＣＢ、ＸＤＩ、ＣＢＩおよびＤＣＩの含有割合を表１に示す。
次いで、脱タールマスを、１００質量部／ｈｒの供給速度で、脱タールマス送液ライン６３により脱低沸塔７１に連続的に送液した。脱低沸塔７１は、理論段数１０段相当の充填物が充填されていた。その後、脱低沸塔７１において脱タールマスから低沸物を除去して、脱低沸マスを調製した。
詳しくは、脱低沸塔７１からの混合蒸気を、コンデンサ７３により凝縮して、低沸物を含む凝縮液の一部を、塔頂還流ライン７５により脱低沸塔７１に戻した。また、凝縮液のその他の部分を、低沸排出ライン７４より排出した。また、脱低沸マスを、脱低沸マス送液ライン７６により精留塔８１に連続的に送液した。
脱低沸塔における脱低沸条件を以下に示す。
塔底温度：１６０〜１７０℃
塔頂温度：１１５〜１２５℃
塔頂圧力：０．５〜１．０ｋＰａ
塔頂還流量：表１に示す。
低沸物の低沸排出ラインからの留出量：表１に示す。
塔頂還流比：表１に示す。
滞留時間：０．３〜３ｈｒ
その後、精留塔８１において脱低沸マスからＸＤＩ組成物を留分として調製した。精留塔８１は、理論段数３段相当の充填物が充填されていた。
詳しくは、精留塔８１からの留分（ＸＤＩ組成物）を、コンデンサ８３により凝縮して、留分（ＸＤＩ組成物）の一部を、塔頂還流ライン８５により精留塔８１に戻した。また、留分（ＸＤＩ組成物）のその他の部分を、ＸＤＩ取出ライン８４より取出した。
精留塔における精留条件を以下に示す。
塔底温度：１５０〜１６０℃
塔頂温度：１４０〜１５０℃
塔頂圧力：０．５〜０．８ｋＰａ
ＸＤＩ組成物のＸＤＩ留出ラインからの留出量：表１に示す。
塔頂還流比：１
滞留時間：１〜１０ｈｒ
以上によって、ＸＤＩ組成物を製造した。ＸＤＩ組成物における、ＸＤＩ、ＣＢＩ、ＤＣＩおよび加水分解性塩素の含有割合を表１に示す。
（実施例８、９および比較例１）
ＯＤＣＢ、ＨＣｌガスおよびｍ−ＸＤＡの使用量を実施例１〜７の１／２に変更した点、塩化カルボニルの供給速度、反応圧力（ゲージ圧）、平均滞留時間、塔頂還流量、低沸物の留出量、塔頂還流比およびＸＤＩ組成物の留出量を、表１に示す値に変更した点以外は、実施例１と同様にして、ＸＤＩ組成物を製造した。ＸＤＩ組成物における、ＸＤＩ、ＣＢＩ、ＤＣＩおよび加水分解性塩素の含有割合を表１に示す。
（比較例２）
実施例２で得られたＸＤＩ組成物２０００ｇを、内容積が３Ｌの４つ口丸型フラスコに装入した。４つ口フラスコに、マクマフォンパッキンが７０ｃｍ充填された２５ｍｍφの精留塔と、Ｎ２導入のキャピラリー管と、温度計とを取り付けた。また、精留塔の塔頂に電磁開閉器と、コンデンサと、コンデンサからの凝縮液を受ける５００ｍｌのナス型フラスコとを取り付けた。
次いで、精留塔の塔頂圧力を０．２〜０．３ｋＰａに調節し、４つ口丸型フラスコ内の温度を１５０〜１６５℃にコントロールして、電磁開閉器により、塔頂還流比１０で還流しながら、留出液をＸＤＩ組成物として５００ｍｌナス型フラスコに取り出した。そして、留出液２００ｇ毎に５００ｍｌナス型フラスコを取り換えて、留出率（留出率＝留出液量／仕込み液量×１００）２０〜６０％の留出液を合わせて、ＸＤＩ組成物８００ｇを分取した。ＸＤＩ組成物における、ＸＤＩ、ＣＢＩおよびＤＣＩの含有割合を表１に示す。
（比較例３）
留出率５０％まで塔頂還流比を２０で留出液を留出し、その後、塔頂還流比５で留出液を留出したこと以外は、比較例２と同様にして、留出率５０〜８０％の留出液を合わせて、ＸＤＩ組成物６００ｇを製造した。ＸＤＩ組成物における、ＸＤＩ、ＣＢＩおよびＤＣＩの含有割合を表１に示す。
Figure 2018190290
４．エラストマー（ＴＰＵ）
撹拌機、温度計、還流管および窒素供給ラインを備えた４つ口フラスコに、実施例１、２、４、６〜９および比較例１、２のそれぞれのＸＤＩ組成物（ポリイソシアネート成分）１９８質量部と、数平均分子量２０００のアジペート系ポリエステルポリオール（三井化学社製、タケラックＵ−２０２４、活性水素基含有成分）５３１．２質量部とを装入し、窒素雰囲気下、８０℃にて、ＮＣＯ基含量が９．１質量％になるまで反応させて、イソシアネート基末端プレポリマーを製造した。
さらに、耐熱安定剤（チバスペシャルティケミカル社、イルガノックス２４５）３．９質量部、触媒（エーピーアイコーポレーション社製、スタノクト、オクチル酸錫）を、ジイソノニルアジペート（ジェイ・プラス社製、ＤＩＮＡ）により４質量％に希釈した溶液０．０７質量部を、イソシアネート基末端プレポリマーに加えて、スリーワンモータ（新東化学社製、ＨＥＩＤＯＮ ＦＢＬ３０００）を使用して、６００ｒｐｍの撹拌下、約１分間撹拌混合した。次いで、鎖伸長剤として予め８０℃に調整した１，４−ブタンジオール（和光純薬社製）１３１．９質量部を、イソシアネート基末端プレポリマーに添加した。さらに、イソシアネート基末端プレポリマーと鎖伸長剤との混合液を、約２分間全体が均一になるまで十分に撹拌した。
次いで、予め１５０℃に温調したステンレス製のパッドに、混合液を流し込み、１５０℃にて１時間、次いで、１００℃にて２３時間反応させて、エラストマーを製造した。
その後、パッドからエラストマーを取り外し、室温２３℃、相対湿度５５％の恒温恒湿条件下にて、７日間養生した。
（エラストマーの評価）
得られたエラストマー（ＴＰＵ）の白濁性、キセノン照射試験における色差および引張物性（引張強度および伸度）を測定した。その結果を表２に示す。また、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）とキセノン照射試験における色差（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）とキセノン照射試験における色差（縦軸）との相関を図２に示す。
表２および図２に示されるように、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上であると、エラストマー（ＴＰＵ）の白濁を抑制できることが確認された。また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、６０ｐｐｍ以下であると、ＣＢＩの含有割合に関わらず、エラストマー（ＴＰＵ）の耐変色性の向上が確認された。この点、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。比較例１と実施例９とはともにＣＢＩの含有割合が１６００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、キセノン照射試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。
また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、エラストマー（ＴＰＵ）の機械特性（伸びおよび強度）の向上が確認された。この点、比較例２と実施例１との比較、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。
ＤＣＩの含有割合が０．７ｐｐｍである実施例１は、ＤＣＩの含有割合が０．５ｐｐｍである比較例２と比較して、エラストマー（ＴＰＵ）の機械特性（伸びおよび強度）が顕著に向上されている。また、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、エラストマー（ＴＰＵ）の機械特性（伸びおよび強度）が顕著に向上されている。
５．フォーム
数平均分子量７００のポリエーテルポリオール（三井化学社製、アクトコールＧ−２５０）６０質量部と、数平均分子量５０００のポリエーテルポリオール（三井化学社製、アクトコールＴ−５０００）４０質量部と、トリエタノールアミン５質量部と、水３質量部と、アミン触媒（モメンティブ社製、３３ＬＶ）１質量部と、ジラウリン酸ジブチル錫１質量部と、整泡剤（ビックケミー社製、ＢＹＫ−９００１）１質量部と、ジプロピレングリコール４質量部とを、温度２３℃、相対湿度５５％で均一になるように撹拌混合して、プレミックスを調製した。
その後、プレミックスに、実施例１〜１０および比較例１、２のそれぞれのＸＤＩ組成物７０．７質量部を加えて、ハンドミキサー（回転数５０００ｒｐｍ）によって１５秒間撹拌して、フォーム組成物を製造した。その直後に、木製のボックスに投入して発泡させた。これにより、フォームを製造した。
（フォームの評価）
得られたフォームのＵＶ照射試験における色差、引張物性（引張強度および破断伸び）、見かけ密度、硬度および反発弾性を測定した。その結果を表２に示す。また、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）と、ＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）とＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関を図３に示す。
表２および図３に示されるように、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、ＣＢＩの含有割合に関わらず、フォームの耐変色性の向上が確認された。この点、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。比較例１と実施例９とはともにＣＢＩの含有割合が１６００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、ＵＶ照射試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。
また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、フォームの機械特性（伸びおよび強度）の向上が確認された。この点、比較例２と実施例１との比較、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。
ＤＣＩの含有割合が０．７ｐｐｍである実施例１は、ＤＣＩの含有割合が０．５ｐｐｍである比較例２と比較して、フォームの機械特性（伸びおよび強度）が顕著に向上されている。また、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、フォームの機械特性（伸びおよび強度）が顕著に向上されている。
また、ＣＢＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、３０００ｐｐｍ以下であると、フォームの機械特性（伸びおよび強度）の向上が確認された。この点、実施例５と実施例１０との比較からも明らかである。
ＣＢＩの含有割合が３０００ｐｐｍである実施例５は、ＣＢＩの含有割合が４１００ｐｐｍである実施例１０と比較して、フォームの機械特性（伸びおよび強度）が向上されている。
６．光学材料（プラスチックレンズ）
（プラスチックレンズＡの調製）
フラスコに、ジブチル錫ジクロライド０．００１質量部、内部離型剤（Ｓｔｅｐａｎ社製、ゼレックＵＮ、酸性リン酸エステル）０．０７質量部、紫外線吸収剤（堺化学工業社製、バイオソーブ５８３）０．０５質量部、実施例１、２、４、６〜９および比較例１、３のそれぞれのＸＤＩ組成物３６．４質量部を仕込んだ。そして、それらを２５℃で１時間攪拌して溶解させて、ポリイソシアネート成分を調製した。
なお、比較例３のＸＤＩ組成物は、ジブチル錫ジクロライド、内部離型剤および紫外線吸収剤と良好に溶解せず、ポリイソシアネート成分が、白濁ゲル化してプラスチックレンズを製造できなかった。
その後、このポリイソシアネート成分に１，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン（ポリチオール成分）３３．６質量部を装入混合して重合性組成物を調製した。
この重合性組成物を６００Ｐａにて１時間脱泡した後、３μｍＰＴＦＥフィルターにて濾過した。その後、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型をオーブンへ投入し、１０℃から１２０℃まで徐々に昇温して、１８時間重合させた。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出し、離型して光学材料（プラスチックレンズＡ）を製造した。
（プラスチックレンズＢ）
フラスコに、ジブチル錫ジクロライド０．０１質量部、内部離型剤（Ｓｔｅｐａｎ社製、ゼレックＵＮ、酸性リン酸エステル）０．１質量部、紫外線吸収剤（堺化学工業社製、バイオソーブ５８３）０．０５質量部、実施例１、２、４、６〜９および比較例１、３のそれぞれのＸＤＩ組成物５０．７質量部を仕込んだ。そして、それらを２５℃で１時間攪拌して溶解させて、ポリイソシアネート成分を調製した。
なお、比較例３のＸＤＩ組成物は、ジブチル錫ジクロライド、内部離型剤および紫外線吸収剤と良好に溶解せず、ポリイソシアネート成分が、白濁ゲル化してプラスチックレンズを製造できなかった。
その後、このポリイソシアネート成分に、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンの混合物（ポリチオール成分）４９．３質量部を装入混合して重合性組成物を調製した。この重合性組成物をプラスチックレンズＡの調製と同様に重合させて、光学材料（プラスチックレンズＢ）を製造した。
（光学材料の評価）
得られたプラスチックレンズＡおよびＢのＹ．Ｉ．値を測定した。その結果を表２に示す。また、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）とプラスチックレンズＡのＹ．Ｉ．値（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）とプラスチックレンズＡのＹ．Ｉ．値（縦軸）との相関を図４Ａに示す。ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）とプラスチックレンズＢのＹ．Ｉ．値（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）とプラスチックレンズＢのＹ．Ｉ．値（縦軸）との相関を図４Ｂに示す。
表２、図４Ａおよび図４Ｂに示されるように、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上であると、ポリイソシアネート成分が、白濁ゲル化することを抑制でき、プラスチックレンズを安定して製造できることが確認された。また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、６０ｐｐｍ以下であると、ＣＢＩの含有割合に関わらず、プラスチックレンズの耐変色性の向上が確認された。この点、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。比較例１と実施例９とはともにＣＢＩの含有割合が１６００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、Ｙ．Ｉ．値の増加が顕著に抑制されている。
７．二液硬化型シーリング材
撹拌装置を備えるセパラブルフラスコに、実施例１〜４、７〜９および比較例１、２のそれぞれのＸＤＩ組成物（ポリイソシアネート成分）１７０．０質量部、数平均分子量２０００のポリオキシプロピレンジオール（三井化学社製、Ｄｉｏｌ−２０００）５５３．３質量部、数平均分子量３０００のポリオキシプロピレントリオール（三井化学社製、ＭＮ−３０５０）２７６．７質量部を装入した。それらの混合物を、窒素雰囲気下、８０℃にて５時間反応させた。その後、さらに２５℃で２４時間熟成して、Ａ剤（硬化剤：イソシアネート基末端プレポリマー）を製造した。
また、プラネタリーミキサーに、１，４−ブタンジオール２０．１質量部、数平均分子量２０００のポリオキシエチレンオキシプロピレンジオール（三井化学社製、ＥＤ−５６）２２３．８質量部、数平均分子量２０００のポリオキシエチレンオキシプロピレントリオール（三井化学社製、ＥＰ−５５０Ｎ）２２３．８質量部、ジラウリン酸ジブチル錫１．０質量部、ジイソノニルアジペート３５質量部、炭酸カルシウム４５０質量部、ヒュームドシリカ（アエロジル＃２００）４０質量部を徐々に添加し、窒素雰囲気下で１時間撹拌して、Ｂ剤（主剤：活性水素基含有成分）を製造した。
次いで、Ａ剤１００質量部と、Ｂ剤１００質量部とを、２０℃、相対湿度５０％の条件で３分間撹拌混合した。その混合液を、鋼板に均一に塗布した後、１００℃で１時間加熱硬化後、２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間養生して、二液硬化型シーリング材を製造した。
（二液硬化型シーリング材の評価）
得られた二液硬化型シーリング材のＵＶ照射試験における色差および引張物性（引張強度および破断伸び）を測定した。その結果を表２に示す。また、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）とＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）とＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関を図５に示す。
表２および図５に示されるように、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、ＣＢＩの含有割合に関わらず、二液硬化型シーリング材の耐変色性の向上が確認された。この点、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。比較例１と実施例９とはともにＣＢＩの含有割合が１６００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、ＵＶ照射試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。
また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、二液硬化型シーリング材の機械特性（伸びおよび強度）の向上が確認された。この点、比較例２と実施例１との比較、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。
ＤＣＩの含有割合が０．７ｐｐｍである実施例１は、ＤＣＩの含有割合が０．５ｐｐｍである比較例２と比較して、二液硬化型シーリング材の伸びが顕著に向上されている。また、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、二液硬化型シーリング材の伸びおよび強度が顕著に向上されている。
Figure 2018190290
８．コーティング材
（Ａ剤１：ＸＤＩのＴＭＰアダクト体）
実施例１、３、４、７〜９および比較例１、２のそれぞれのＸＤＩ組成物４６３．３質量部と、トリメチロールプロパン３６．７質量部とを混合し、窒素雰囲気下７０℃で６時間反応させた。この反応液を、薄膜蒸留装置を用いて未反応のＸＤＩを留去することにより、ＸＤＩ変性体組成物を製造した。ＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩとトリメチロールプロパンとの反応生成物であるウレタン基を含有していた。
このＸＤＩ変性体組成物を、固形分７５質量％となるように、酢酸エチルを加えて、ポリイソシアネート成分（Ａ剤１）を製造した。なお、ポリイソシアネート成分におけるＮＣＯ基含量は、１１．８質量％であった。
（Ａ剤２：ＸＤＩのイソシアヌレート変性体）
実施例１、３、４、７〜９および比較例１、２のそれぞれのＸＤＩ組成物１００質量部に、１，３−ブタンジオール２質量部を加え、窒素雰囲気下７５℃に昇温して、２時間ウレタン化反応させた。１，３−ブタンジオールのヒドロキシ基に対する、ＸＤＩのイソシアネート基の当量比（ＮＣＯ／ＯＨ）は２４であった。次いで、同温度でイソシアヌレート化触媒として、テトラブチルアンモニウムのハイドロオキサイドの溶液（３７％メタノール溶液）を０．１ｐｈｒ（固形分換算０．０３７ｐｈｒ）配合し、反応開始から４時間でイソシアヌレート化反応を終了させた。得られた反応液を薄膜蒸留装置（温度１５０℃、真空度５０Ｐａ）に通液して、未反応のＸＤＩを除去（蒸留収率６０質量％）することにより、ＸＤＩ変性体組成物を製造した。ＸＤＩ変性体組成物は、ＸＤＩの三量体であるイソシアヌレート基を含有していた。このＸＤＩ変性体組成物を、固形分７５質量％となるように、酢酸エチルを加えて、ポリイソシアネート成分（Ａ剤２）を製造した。
（Ｂ剤）
フッ素ポリオール（ダイキン工業社製、ゼッフルＧＫ−５７０、水酸基価（固形分）：６４ｍｇＫＯＨ／ｇ、溶剤：酢酸ブチル）４０質量部と、酸化チタン（石原産業社製、ＣＲ９３）５２．５質量部と、酢酸ブチル３３．８質量部と、直径２ｍｍガラスビーズ１１０質量部と、ペイントシェーカーにて２時間撹拌した。その後、その混合液から、ろ過によりガラスビーズを除去した。そして、固形分濃度が５８質量％となるように、溶剤を添加して、活性水素基含有成分（Ｂ剤）を製造した。活性水素基含有成分中の酸化チタンの含有割合は、４５質量％であった。
（コーティングの評価）
得られたポリイソシアネート成分（Ａ剤１およびＡ剤２のそれぞれ）と活性水素基含有成分（Ｂ剤）とを、水酸基に対するイソシアネート基（ＮＣＯ／ＯＨ）の当量比が１．０となるように混合して、混合液を調製した。次いで、混合液に、ＮＶ値（塗膜分質量）が６０％となるように、酢酸ブチルを添加した。その後、混合液を、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴとする。）基材の表面に塗布し、１２０℃で２分間加熱硬化させた。次いで、混合液が塗布されたＰＥＴ基材を、６０℃で２日間養生させた。これにより、ＰＥＴ基材に、厚みが約１５μｍのコーティングが形成した。
このコーティングの耐候性（湿熱試験におけるコーティングの色差Δｂ（＝｜ｂ２−ｂ１｜）および密着性（碁盤目試験）を測定した。その結果を表３に示す。
また、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）と湿熱試験における色差（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）と湿熱試験における色差（縦軸）との相関を図６および図７に示す。
表３、図６および図７に示されるように、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、ＣＢＩの含有割合に関わらず、コーティングの耐変色性の向上が確認された。この点、比較例１と実施例３との比較からも明らかである。比較例１と実施例３とはともにＣＢＩの含有割合が１６００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が４．２ｐｐｍである実施例３は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、湿熱試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。
また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、コーティングの密着性の向上が確認された。この点、比較例２と実施例１との比較、および、比較例１と実施例９とのからも明らかである。
ＤＣＩの含有割合が０．７ｐｐｍである実施例１は、ＤＣＩの含有割合が０．５ｐｐｍである比較例２と比較して、コーティングの密着性が顕著に向上されている。また、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、コーティングの密着性が顕著に向上されている。
９．ラミネート用接着剤
温度計、撹拌装置、窒素導入管および冷却管が装着された反応器に、窒素雰囲気下、実施例１〜４、７〜９、比較例１および２のそれぞれのＸＤＩ組成物１００質量部と、２，６−ジ（ｔｅｒｔ-ブチル）−４−メチルフェノール（別名：ジブチルヒドロキシトルエン、ＢＨＴ、ヒンダードフェノール系酸化防止剤）０．０２５質量部と、テトラフェニル・ジプロピレングリコール・ジホスファイト（ＪＰＰ−１００（商品名、城北化学工業社製）有機亜リン酸エステル、助触媒）０．０５質量部とを仕込んだ後、この仕込み液に、１，３−ブタンジオール１．９６質量部を加え、仕込み液を７５℃に昇温して、ウレタン化反応させた。１，３−ブタンジオールのヒドロキシ基に対する、ｍ−キシリレンジイソシアネートのイソシアネート基の当量比（ＮＣＯ／ＯＨ）は２４であった。
次いで、同温度で１２０分間反応後、６０℃に降温した。そして、イソシアヌレート化触媒として、テトラブチルアンモニウムのハイドロオキサイド（ＴＢＡＯＨ）の溶液（３７％メタノール溶液）を、０．０４質量部（固形分換算０．０１５質量部）配合し、イソシアヌレート化反応させた。反応開始から３９０分でイソシアヌレート化反応を終了させた。反応中の到達最高温度は、７１℃であった。
そして、得られた反応混合液を、薄膜蒸留装置（温度１５０℃、真空度５０Ｐａ）に通液して、未反応のキシリレンジイソシアネートを除去した。なお、蒸留収率は６０．０質量％であった。
この反応におけるアルコール変性率は、反応混合液（蒸留前）において１．９６質量％、イソシアヌレート誘導体（蒸留後）において３．２７質量％であり、イソシアネート基の転化率は３４．２質量％であり、ウレタン転化率は、５．３質量％であり、イソシアヌレート転化率は、２８．９質量％であった。
なお、得られた反応混合液は、固形分７５％になるように酢酸エチルで希釈して、ラミネート接着剤の硬化剤（Ａ剤）とした。
また、イソフタル酸５８８．１質量部、１，３−ブタンジオール７５２．２４質量部、および、ネオペンチルグリコール４４０．２２質量部を窒素気流下、１８０〜２２０℃でエステル化反応させ、所定量の水を留出させた後、アジピン酸２５８．６６質量部、セバシン酸３５７．９８質量部、および、チタンテトラブトキシド０．０８質量部を加え、１８０〜２２０℃でエステル化反応させ、数平均分子量約５００のポリエステルポリオールを得た。
そして、ポリエステルポリオール７５０質量部、および、無水トリメリト酸５７．６質量部を、窒素気流下、１２０〜１５０℃で３時間反応させ、６０℃まで冷却後、アクトコールＴ−７００（ポリプロピレンポリオール，三井化学ＳＫＣポリウレタン社製）１７１．４質量部、リン酸１．０質量部およびエポキシシラン２０．０質量部を加えて、十分に混合し、固形分１００％の樹脂として、主剤（Ｂ剤）を得た。
次いで、主剤と硬化剤とを質量比１０／６で配合し、ラミネート用接着剤を得た。
（ラミネート用接着剤の評価）
得られたラミネート用接着剤により接着されたラミネートフィルムの外観、接着強度およびＵＶ照射試験における色差を測定した。その結果を表３に示す。また、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）とＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）とＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関を図８に示す。
表３および図８に示されるように、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、ＣＢＩの含有割合に関わらず、ラミネート用接着剤の耐変色性の向上が確認された。この点、比較例２と実施例１との比較、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。
比較例２と実施例１とはともにＣＢＩの含有割合が１００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が０．７ｐｐｍである実施例１は、ＤＣＩの含有割合が０．５ｐｐｍである比較例２と比較して、ＵＶ照射試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。また、比較例１と実施例９とはともにＣＢＩの含有割合が１６００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、ＵＶ照射試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。
また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、ラミネートフィルムの外観の向上が確認された。この点、比較例２と実施例１との比較、および、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。
ＤＣＩの含有割合が０．７ｐｐｍである実施例１は、ＤＣＩの含有割合が０．５ｐｐｍである比較例２と比較して、ラミネートフィルムの外観が顕著に向上されている。また、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、ラミネートフィルムの外観が顕著に向上されている。
１０．一液硬化型シーリング材
撹拌装置を備えるセパラブルフラスコに、窒素雰囲気下、実施例１〜４、７〜９および比較例１、２のそれぞれのＸＤＩ組成物（ポリイソシアネート成分）９１．６７質量部、予め減圧脱水した数平均分子量３０００のポリオキシプロピレンジオール（三井化学ＳＫＣポリウレタン社製、Ｄ−３０００）２２９．７８質量部および数平均分子量５０００のポリオキシプロピレントリオール（三井化学ＳＫＣポリウレタン社製、Ｔ−５０００）１９９．５７質量部を装入した。それらの混合物を、窒素雰囲気下、９０℃にて６時間反応させた。その後、数平均分子量２０００のポリエステルポリオール（三井化学社製、タケラックＵ−７０２０）８３．９０質量部を添加し、９０℃にて５時間反応させた。次いで、６０℃まで冷却し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０５質量部を加えて、同温度にて、１時間撹拌混合し、ポリウレタンプレポリマーを得た。
窒素を導入するラインを具備した撹拌装置に、２?（２?プロピル?１，３?オキサゾリジン?３?イル）?エタノール（和光純薬製）とノルボルナンジイソシアネート（三井化学社製、ＮＢＤＩ）をモル比で２：１となるように仕込み、１００℃で６時間、反応させてオキサゾリジン化合物を調製した。
上記のポリウレタンプレポリマーに、オキサゾリジン化合物１０５．５８質量部を加えて、５０℃で１時間撹拌して、一液硬化型シーリング用ポリウレタンを製造した。
その後、プラネタリーミキサーに、５０℃に調整した一液硬化型シーリング用ポリウレタン８１１．６質量部、ヒュームドシリカ（アエロジル＃２００）５６．７質量部、グレー色のドライカラー(トーヨーカラー社製)７９．６質量部、酸化防止剤（ＢＡＳＦ社製、イルガノックス１０７６）１７．５質量部、紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製、チヌビン２１３）７質量部およびイソパラフィン系溶剤（シェル社製、アイソパーＭ）２７．０質量部を添加し、真空しながら撹拌し、一液硬化型シーリング組成物を製造した。
次いで、一液硬化型シーリング組成物を２３℃、相対湿度５０％の条件下で７日間養生して、一液硬化型シーリング材を製造した。
（一液硬化型シーリング材の評価）
得られた一液硬化型シーリング材のＵＶ照射試験における色差および引張物性（引張強度および破断伸び）を測定した。その結果を表３に示す。また、ＸＤＩ組成物におけるＤＣＩの含有割合（下側の横軸）とＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関、および、ＸＤＩ組成物におけるＣＢＩの含有割合（上側の横軸）とＵＶ照射試験における色差（縦軸）との相関を図９に示す。
表３および図９に示されるように、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であると、ＣＢＩの含有割合に関わらず、一液硬化型シーリング材の耐変色性の向上が確認された。この点、比較例２と実施例１との比較、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。
比較例２と実施例１とはともにＣＢＩの含有割合が１００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が０．７ｐｐｍである実施例１は、ＤＣＩの含有割合が０．５ｐｐｍである比較例２と比較して、ＵＶ照射試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。また、比較例１と実施例９とはともにＣＢＩの含有割合が１６００ｐｐｍであるが、ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、ＵＶ照射試験における変色（Δｂの増加）が顕著に抑制されている。
また、ＤＣＩの含有割合が、ＸＤＩ組成物の総質量に対して、６０ｐｐｍ以下であると、一液硬化型シーリング材の機械特性（伸びおよび強度）の向上が確認された。この点、比較例１と実施例９との比較からも明らかである。
ＤＣＩの含有割合が５８ｐｐｍである実施例９は、ＤＣＩの含有割合が６５ｐｐｍである比較例１と比較して、一液硬化型シーリング材の引張強度および破断伸びが顕著に向上されている。
Figure 2018190290
本発明のキシリレンジイソシアネート組成物、キシリレンジイソシアネート変性体組成物、樹脂および二液型樹脂原料は、各種産業製品に好適に用いられ、例えば、エラストマー、微発泡ポリウレタン、ゲル、ポリウレタン溶液、フォーム、シーリング材、活性エネルギー線硬化性樹脂、光学材料、コーティング材、粘接着剤、バインダー、マイクロカプセル、インキ、転写箔、ポッティング材などとして好適に用いられる。
１ プラント
２ 造塩ユニット
３ イソシアネート化ユニット
４ 脱ガスユニット
５ 脱溶媒ユニット
６ 脱タールユニット
７ 脱低沸ユニット
８ 精留ユニット

Claims (14)

  1. キシリレンジイソシアネートと、下記化学式（１）に示す化合物とを含み、下記化学式（１）に示す化合物の含有割合が、０．６ｐｐｍ以上６０ｐｐｍ以下であることを特徴とする、キシリレンジイソシアネート組成物。
    化学式（１）
    Figure 2018190290
  2. クロロメチルベンジルイソシアネートをさらに含み、前記クロロメチルベンジルイソシアネートの含有割合が、０．２ｐｐｍ以上３０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする、
    請求項１に記載のキシリレンジイソシアネート組成物。
  3. 前記クロロメチルベンジルイソシアネートの含有割合が、０．２ｐｐｍ以上１６００ｐｐｍ以下であることを特徴とする、
    請求項２に記載のキシリレンジイソシアネート組成物。
  4. 請求項１に記載のキシリレンジイソシアネート組成物が変性された変性体組成物であり、
    下記（ａ）〜（ｅ）の官能基を少なくとも１種含有することを特徴とする、キシリレンジイソシアネート変性体組成物。
    （ａ）イソシアヌレート基、
    （ｂ）アロファネート基、
    （ｃ）ビウレット基、
    （ｄ）ウレタン基、
    （ｅ）ウレア基、
    （ｆ）イミノオキサジアジンジオン基、
    （ｇ）ウレトジオン基、
    （ｈ）ウレトンイミン基、
    （ｉ）カルボジイミド基
  5. 請求項１に記載のキシリレンジイソシアネート組成物を含有するイソシアネート成分と、活性水素基含有成分との反応生成物であることを特徴とする、樹脂。
  6. 光学材料であることを特徴とする、請求項５に記載の樹脂。
  7. 光学レンズであることを特徴とする、請求項６に記載の樹脂。
  8. 請求項４に記載のキシリレンジイソシアネート変性体組成物を含有するイソシアネート成分と、活性水素基含有成分との反応生成物であることを特徴とする、樹脂。
  9. 光学材料であることを特徴とする、請求項８に記載の樹脂。
  10. 光学レンズであることを特徴とする、請求項９に記載の樹脂。
  11. 請求項１に記載のキシリレンジイソシアネート組成物を含有するイソシアネート成分をＡ剤とし、
    活性水素基含有成分をＢ剤とすることを特徴とする、二液型樹脂原料。
  12. コーティング原料であることを特徴とする、請求項１１に記載の二液型樹脂原料。
  13. 請求項４に記載のキシリレンジイソシアネート変性体組成物を含有するイソシアネート成分をＡ剤とし、
    活性水素基含有成分をＢ剤とすることを特徴とする、二液型樹脂原料。
  14. コーティング原料であることを特徴とする、請求項１３に記載の二液型樹脂原料。
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