JPWO2018186428A1 - タッチセンサ及びタッチセンサの製造方法 - Google Patents

Abstract

電極パターンの隠蔽性に優れたタッチセンサ及びその製造方法を提供する。タッチセンサは、透明基板の同一面上に、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１電極パターン及び第２電極パターンを備え、第１電極パターン及び第２電極パターンの上に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層と、屈折率が１．６より低く、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層と、を順次重ねて有し、第１電極パターンは、基板上の第１方向に間隔をあけて配置された複数の第１島状電極部と、隣り合う第１島状電極部を電気的に接続する第１配線部と、を有し、第２電極パターンは、基板上に第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２島状電極部と、隣り合う第２島状電極部を、第１透明層及び第２透明層の上を橋掛けして電気的に接続する第２配線部と、を有する。

Description

本開示は、タッチセンサ及びタッチセンサの製造方法に関する。

近年、指又はタッチペン等の細い先端を有する部材を触れることにより、指示画像に対応する情報の入力が行える入力装置（以下、タッチパネルともいう。）が広く利用されている。タッチパネルには、抵抗膜型及び静電容量型等がある。静電容量型では、一枚の基板に透光性導電膜が形成された簡易な構造にできるという利点がある。

静電容量型の装置では、例えば、互いに交差する方向にそれぞれ電極パターンを延在させ、指等が触れた際に電極間の静電容量が変化することを検知することによって、入力位置を検出するタッチセンサが知られている（例えば、特許文献１参照）。
一方、静電容量型の装置であるタッチパネルを使用する際、例えば、内部光源から入射する光が正反射する位置近傍から少し離れてタッチパネルの表面を観察すると、パネル内部に存在する電極パターンが視認され、外観を損なう場合がある。タッチパネル等の装置では、電極パターンの隠蔽性の向上に対する要求がある。

電極パターンの隠蔽性に関連する技術として、第１の屈折率を有する複数の第１のパターンを電気的に接続する第１の電気配線と、第２の屈折率を有する複数の第２のパターンを電気的に接続する第２の電気配線と、の間に配置された絶縁体の屈折率を、第１の屈折率及び第２の屈折率と実質的に等しくすることが開示されている（例えば、特許文献２参照）。

特開２０１３−２０６１９７号公報 特開２０１３−５４６０７５号公報

上記の特許文献１に記載の技術では、電極の屈折率と実質的に等しい屈折率を有する高屈折率の絶縁膜を介してブリッジ配線を設置することで、ブリッジ部のパターンが視認できるのを防ぐ効果を期待するものである。しかしながら、全体的に高屈折率に形成されているが故に、その上方に設置される層（屈折率１．５付近）との屈折率差が大きくなり、その結果、電極のパターンが見えやすく、パターンを十分に隠蔽し得ない課題がある。

本開示は、上記の事情に鑑みてなされたものである。
本開示が解決しようとする課題は、電極パターンの隠蔽性に優れたタッチセンサを提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、電極パターンの隠蔽性が従来以上に向上されたタッチセンサの製造方法を提供することにある。

上記の課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 透明基板の同一面上に、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１電極パターン及び第２電極パターンを備え、第１電極パターン及び第２電極パターンの上に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層と、屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層と、を順次重ねて有し、第１電極パターンは、基板上の第１方向に間隔をあけて配置された複数の第１島状電極部と、隣り合う第１島状電極部を電気的に接続する第１配線部と、を有し、第２電極パターンは、基板上に第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２島状電極部と、隣り合う第２島状電極部を、第１透明層及び第２透明層の上を橋掛けして電気的に接続する第２配線部と、を有する、タッチセンサ。
＜２＞ 第１透明層及び第２透明層がスルーホールを有し、第２配線部は、スルーホールを通じて、隣り合う第２島状電極部を電気的に接続する＜１＞に記載のタッチセンサ。
＜３＞ 第２配線部が、金属配線により形成されている＜１＞又は＜２＞に記載のタッチセンサ。
＜４＞ 第１透明層は、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、かつ、屈折率が１．６以上１．９以下であり、第２透明層は、厚みが０．５μｍ以上２０μｍ以下であり、かつ、屈折率が１．４以上１．６未満である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のタッチセンサ。
＜５＞ 第２透明層と第２配線部との間に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である第３透明層を有する、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のタッチセンサ。
＜６＞ 第２透明層が、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び光重合開始剤を含む組成物の硬化物である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のタッチセンサ。
＜７＞ アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が、３５，０００以下である＜６＞に記載のタッチセンサ。
＜８＞ 第２透明層中における、アルカリ可溶性樹脂に由来する成分の含有量が、第２透明層の固形分に対して、３０質量％以上である＜６＞又は＜７＞に記載のタッチセンサ。
＜９＞ ＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載のタッチセンサの製造方法であって、電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層を形成する工程と、電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層を形成する工程と、をこの順に有するタッチセンサの製造方法。

本開示によれば、電極パターンの隠蔽性に優れたタッチセンサが提供される。
本発明の他の実施形態によれば、電極パターンの隠蔽性が従来以上に向上されたタッチセンサの製造方法が提供される。

タッチパネルに配設されている第１電極パターン及び第２電極パターンの例を示す平面図である。 図１のＡ−Ａ線断面図である。

以下、本開示のタッチセンサ及びタッチセンサの製造方法について、詳細に説明する。

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。

また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

本明細書において、「透明」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味する。したがって、「透明導電層」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の平均透過率が８０％以上である層を指す。「透明導電層」の可視光の平均透過率は、９０％以上であることが好ましい。
また、透明導電層の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ−３３１０を用いて測定することができる。

本明細書において、特に断りの無い限り、ポリマーの各構造単位の含有比率はモル比である。
本明細書において、分子量分布がある場合の分子量は、特に断りが無い限り、重量平均分子量（Ｍｗ）を表す。
また、本明細書において、屈折率は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍでエリプソメトリーによって測定される値である。

＜タッチセンサ＞
本開示のタッチセンサは、 透明基板の同一面上に、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１電極パターン及び第２電極パターンを備え、第１電極パターン及び第２電極パターンの上（透明基板とは反対側の面）には、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層と、屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層と、を順次重ねて有している。
第１電極パターンは、基板上の第１方向に間隔をあけて配置された複数の第１島状電極部と、隣り合う第１島状電極部を電気的に接続する第１配線部と、を有する。
第２電極パターンは、基板上に第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２島状電極部と、隣り合う第２島状電極部を、第１透明層及び第２透明層の上を橋掛けして電気的に接続する第２配線部と、を有する。

従来から、基材の同一面上に互いに交差する２方向にそれぞれ複数の電極部が電気的に接続された電極パターンを配置し、交差部をブリッジ構造にしたタッチセンサが知られている。交差部は、電極パターンが視認されやすく、交差部における電極パターンの視認性を改善する検討がなされている。
本開示のタッチセンサは、前述のように、複数の第１島状電極部を有する第１電極パターン及び複数の第２島状電極部を有する第２電極パターンの上に、薄い高屈折率層と、高屈折率層より厚く、かつ、屈折率の低い低屈折率層と、を重ねて設けることにより、電極パターンの隠蔽性により優れたものとなる。

本開示のタッチセンサの一実施形態を図１及び図２を参照して説明する。
図１は、本開示のタッチセンサの平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。

本開示のタッチセンサ１００は、透明基板２４の上に、互いに交差する矢印Ｐの方向又は矢印Ｑの方向にそれぞれ延在する第１電極パターン３４と第２電極パターン３６とを有している。
図１及び図２では、タッチセンサの一部のみを示すが、透明基板上には、透明基板の広い範囲に亘って第１電極パターン３４が一方向（第１方向）に配列され、更に、透明基板の広い範囲に亘って第２電極パターン３６が、第１方向とは異なる方向（第２方向）に配列されている。

−透明基板−
透明基板としては、電気絶縁性の基板であって、例えば、ガラス基板、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＰＣ（ポリカーボネート）フィルム、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルム、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）フィルムなどが挙げられる。
ＣＯＰフィルムは、光学等方性に優れているだけでなく、寸法安定性、ひいては加工精度にも優れている点で好ましい。なお、透明基板がガラス基板である場合、厚みは０．３ｍｍ以上３ｍｍ以下であってもよい。また、透明基板１が樹脂フィルムである場合、厚みは２０μｍ以上３ｍｍ以下であってもよい。

−電極パターン−
本開示のタッチセンサは、透明な基板の同一面上に、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１電極パターン及び第２電極パターン（以下、両者を総じて単に「電極パターン」ということがある。）を備えている。

図１において、第１電極パターン３４は、透明基板２４の上に、複数の方形の電極部（第１島状電極部）１２が、矢印Ｐの方向に沿って等間隔に島状に配置され、互いに隣り合う第１島状電極部１２は、第１配線部１６によって接続されて連なっている。これにより、透明基板の面上の一方向に長尺状の電極が形成されている。
第１配線部は、第１島状電極部と同様の材料により形成されることが好ましい。

また、第２電極パターン３６は、図１において、透明基板２４の上に、第１島状電極部とほぼ同様の方形の電極部（第２島状電極部）１４が、矢印Ｐの方向と略直交する矢印Ｑの方向に沿って等間隔に島状に配置され、互いに隣り合う第２島状電極部１４は、第２配線部（ブリッジ配線）１８によって接続されて連なっている。
これにより、透明基板の面上の第１電極パターンとは異なる一方向に長尺状の電極が形成されている。
第２配線部は、金属配線により形成されていることがより好ましい。

第１電極パターン３４及び第２電極パターン３６は、図１及び図２に示すように、交差部分において、交差する電極の一方が他方を飛び越えるブリッジ構造を形成して互いに導通しないようになっている。

本開示のタッチセンサでは、電極パターンの屈折率は１．７５以上２．１以下であることが好ましい。
第１電極パターン及び第２電極パターンの材料は、透明電導膜を形成し得る材料が挙げられ、例えば、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛・アルミニウム（ＡＺＯ）、酸化インジウム・亜鉛（ＩＺＯ）などの金属酸化物が挙げられる。

電極パターンの材料には、特に制限はなく、公知の材料を用いることができる。
例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ等の金属膜、銅ニッケル合金等の複数の金属の合金膜；ＳｉＯ_２等の金属酸化膜などが挙げられる。
電極パターンの厚みは、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることができる。
また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜としてもよい。
ＩＴＯ等により導電性のパターン等を形成する場合、特許第４５０６７８５号明細書の段落００１４〜００１６等の記載を参照することができる。

−第１透明層及び第２透明層−
第１電極パターン及び第２電極パターンの上（透明基板とは反対側の面）には、薄厚で高屈折率の第１透明層と、第１透明層より厚く低屈折率の第２透明層と、が電極パターン側から順次重ねられている。
図２に示すタッチセンサでは、第１透明層２８は、第１電極パターン３４及び第２電極パターン３６を覆うようにして配設されており、第１透明層２８の上には、更に第２透明層３０が配設されている。

（第１透明層）
第１透明層は、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である透明性を有する層である。
第１透明層の屈折率は、１．６以上１．９以下であることが好ましく、１．６５以上１．８以下であることがより好ましい。
第１透明層の厚みは、２００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。

特に、第１透明層は、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、かつ、屈折率が１．６以上１．９以下であることが好ましい。

第１透明層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；Transmission Electron Microscope）を用いて測定される平均厚みである。具体的には、ウルトラミクロトームを用いてタッチパネルの切片を形成し、ＴＥＭにて切片における断面の５ｍｍの長さの領域をスキャンして、第１透明層の厚みを測定する。次いで、等間隔に区切った２０箇所の厚みの測定値の算術平均を求め、平均厚みとする。

本開示のタッチセンサにおける第１透明層は、屈折率１.６以上、厚み２００ｎｍ以下の透明な膜であれば、材料に特に制限はない。第１透明層には、例えば、スパッタリングにより形成した金属酸化物層を用いたり、後述する第１透明転写層中の硬化成分が硬化反応してなる硬化層を用いてもよい。

第１透明層は、例えば、後述の転写材料の第１透明転写層を、第１電極パターン及び第２電極パターンの上に転写することにより形成され、硬化反応してなる層でもよい。
第１透明層を形成する成分の詳細は、後述する転写材料における第１透明転写層の説明を通じて明らかにすることとする。

（第２透明層）
第２透明層は、屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である透明性を有する層である。
第２透明層の屈折率は、１．４以上１．６未満であることが好ましく、１．４５以上１．５５以下であることがより好ましい。
第２透明層の厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、３μｍ以上１２μｍ以下であることが更に好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下であることが更により好ましい。

特に、第２透明層は、厚みが０．５μｍ以上２０μｍ以下であり、かつ、屈折率が１．４以上１．６未満であることが好ましい。

なお、第２透明層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて測定される平均厚みであり、上記の第１透明層における場合と同様にして測定することができる。

本開示のタッチセンサにおける第２透明層は、後述する第２透明転写層中の硬化成分が硬化反応してなる硬化層であることが好ましい。

第２透明層は、例えば、後述の転写材料の第２透明転写層を転写することにより形成され、硬化反応してなる層でもよい。

第２透明層としては、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び光重合開始剤を含む組成物の硬化物であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量としては、３５，０００以下であることが好ましく、２５，０００以下がより好ましく、２０，０００以下が更に好ましい。
第２透明層を形成する成分の詳細については、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び光重合開始剤を含め、後述する転写材料における第２透明転写層の説明を通じて明らかにすることとする。
重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）により測定される値であり、測定方法の詳細については実施例の項において説明する。

第２透明層中における、アルカリ可溶性樹脂に由来する成分の含有量としては、第２透明層の固形分に対して、３０質量％以上であることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂に由来する成分の含有量が３０質量％以上であると、テーパー状の形状にする点で好ましい。アルカリ可溶性樹脂に由来する成分の含有量としては、第２透明層の固形分に対して、４０質量％〜７０質量％がより好ましい。

上記の第１透明層及び第２透明層には、スルーホールが形成されていることが好ましい。そして、第２配線部が、スルーホールを通じて、隣り合う第２島状電極部を電気的に接続している態様が好ましい。
スルーホールは、第１透明層及び第２透明層に対して所望のスルーホールを形成するためのマスクを介して光照射してパターニングすることにより形成することができる。
スルーホールの孔径としては、第２配線部の幅長に対して小さいことが好ましい。

−第３透明層−
第２透明層と第２配線部との間に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である第３透明層を有することが好ましい。

第３透明層の屈折率は、１．６以上１．９以下であることが好ましく、１．６５以上１．８以下であることがより好ましい。
第３透明層の厚みは、２００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。

特に、第３透明層は、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、かつ、屈折率が１．６以上１．９以下であることが好ましい。

なお、第３透明層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて測定される平均厚みであり、上記の第１透明層における場合と同様にして測定することができる。

第３透明層は、第１透明層と同様に形成することが可能であり、例えば、仮支持体上に第１透明樹脂層を有する転写材料の第１透明樹脂層を転写することによって形成することができる。

次に、本開示のタッチパネルの作製に好適な転写材料について略説する。
転写材料は、仮支持体と、仮支持体側から、屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明転写層と、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明転写層と、を順次有する材料を用いることができる。
転写材料によると、密着性に優れ、電極パターンの隠蔽性に優れた積層体が得られる。

（仮支持体）
仮支持体の材質は、フィルム形成した際に必要な強度と柔軟性を有する限り、特に制限はない。成形性、コストの観点からは樹脂フィルムであることが好ましい。
仮支持体として用いられるフィルムは、可撓性を有し、加圧下又は、加圧及び加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じないフィルムが好ましい。より具体的には、仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリ酢酸セルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリスチレン（ＰＳ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム等が挙げられ、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
仮支持体の外観にも特に制限はなく、透明フィルムでもよく、着色されたフィルムでもよい。着色されたフィルムとしては、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有する樹脂フィルムが挙げられる。
仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。

以下、仮支持体上の層について、仮支持体に近い第２透明転写層を説明し、次いで第２透明転写層上の第１透明転写層を説明する。
本開示のタッチパネルを転写材料を用いて形成した場合には、第２透明転写層が硬化反応してなる層が第２透明層であり、第１透明転写層が硬化反応してなる層が第１透明層である。

（第２透明転写層）
第２透明転写層は、例えば、少なくとも重合性モノマー及び樹脂を含む層でもよく、エネルギーの付与により硬化する層であってもよい。第２透明転写層は、更に、重合開始剤、加熱により酸と反応可能な化合物を含んでいてもよい。
第２透明転写層は、光硬化性であっても、熱硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。中でも、熱硬化性かつ光硬化性の組成物であることが、膜の信頼性をより向上できるという観点から好ましい。
具体的には、仮支持体上に第２透明転写層を有する転写材料を用い、転写法により被転写体に第２透明転写層を転写し、転写された第２透明転写層を光照射によりパターニングし、現像等を経て形成されてもよい。
第２透明転写層は、アルカリ可溶性の樹脂層であって、弱アルカリ水溶液により現像可能であることが好ましい。

（厚み）
第２透明転写層の厚みには、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、本開示のタッチセンサが静電容量型入力装置である場合、第２透明転写層の厚みは、透明性の観点から、１μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、２μｍ以上１５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上１２μｍ以下が更に好ましく、６μｍ以上１２μｍ以下が特に好ましい。

（組成）
第２透明転写層は、重合性モノマーを含むネガ型材料により形成されてもよい。この場合、強度及び信頼性に優れたものとなる。

−樹脂−
第２透明転写層は、樹脂の少なくとも一種を含有することができる。樹脂は、バインダーとして機能することができる。第２透明転写層に含まれる樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。

アルカリ可溶性樹脂としては、現像性の観点から、例えば、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂が好ましい。また、架橋性成分と反応して熱架橋し、強固な膜を形成し易い観点からは、カルボキシル基を有する樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び透明性の観点から、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも一種に由来する構成単位を有する樹脂である。
アルカリ可溶性樹脂の酸価には、特に制限はないが、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂が好ましい。

酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂としては、上記酸価の条件を満たす限り、特に制限はなく、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。例えば、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマーのうち、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂等が挙げられる。

アルカリ可溶性樹脂における、カルボキシル基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、アルカリ可溶性樹脂１００質量％に対し、５質量％〜５０質量％であり、より好ましくは５質量％〜４０質量％、更に好ましくは２０質量％〜３０質量％の範囲内である。
アルカリ可溶性樹脂としては、以下に示すポリマーが好ましい。なお、以下に示す各構造単位の含有比率は目的に応じて適宜変更することができる。

アルカリ可溶性樹脂の酸価は、具体的には、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１１０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
本明細書において、樹脂の酸価は、ＪＩＳ Ｋ００７０（１９９２）に規定される滴定方法で測定される値である。

第２透明転写層及び後述する第１透明転写層がいずれもアクリル樹脂を含有する場合、第２透明転写層と第１透明転写層との層間密着性を高めることができる。

アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、５，０００以上が好ましく、１０，０００以上がより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量の上限値は、特に制限はなく、３５，０００以下であることが好ましく、２５，０００以下がより好ましく、２０，０００以下が更に好ましく、１００，０００としてもよい。
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、ＧＰＣで測定される値であり、測定方法の詳細については実施例の項で説明する。

硬化前の膜のハンドリング性、硬化後の膜の硬度の観点から、樹脂の含有量は第２透明転写層の全固形分量に対し、１０質量％〜８０質量％の範囲が好ましく、４０質量％〜６０質量％の範囲がより好ましい。樹脂の含有量が８０質量％以下であると、モノマー量が少なくなり過ぎず、硬化膜の架橋密度を良好に維持し、硬度に優れたものとなる。また、樹脂の含有量が１０質量％以上であると、硬化前の膜が柔らかくなり過ぎず、途中のハンドリング性の点で有利である。

−重合性モノマー−
本開示における第２透明転写層は、重合性モノマーを含有していてもよい。
重合性モノマーとして、エチレン性不飽和基を有する重合性モノマーを含むことが好ましく、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を含むことがより好ましい。重合性モノマーは、光重合性基として少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有していることが好ましく、エチレン性不飽和基に加えてエポキシ基などのカチオン重合性基を有していてもよい。第２透明転写層に含まれる重合性モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましい。

第２透明転写層は、重合性モノマーとして、２つのエチレン性不飽和基を有する化合物及び少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する化合物を含むことが好ましく、２つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物及び少なくとも３つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含むことがより好ましい。
また、重合性モノマーの少なくとも１種がカルボキシル基を含有することが、特定バインダーにおけるカルボキシル基と、重合性モノマーのカルボキシル基とがカルボン酸無水物を形成して、湿熱耐性を高められる観点から好ましい。
カルボキシル基を含有する重合性モノマーとしては、特に限定されず、市販の化合物が使用できる。市販品としては、例えば、アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成（株））、アロニックスＭ−５２０（東亞合成（株））、アロニックスＭ−５１０（東亞合成（株））などを好ましく挙げられる。カルボキシル基を含有する重合性モノマーを含む場合の含有量は、第２透明転写層に含まれる全ての重合性モノマーに対して１質量％〜５０質量％の範囲で使用することが好ましく、１質量％〜３０質量％の範囲で使用することがより好ましく、５質量％〜１５質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。

第２透明転写層は、重合性モノマーとして、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。
ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含む場合の含有量は、第２透明転写層に含まれる全ての重合性モノマーに対し、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート化合物は光重合性基の官能基数、すなわち（メタ）アクリロイル基の数が３官能以上であることが好ましく、４官能以上であることがより好ましい。
２官能のエチレン性不飽和基を有する重合性モノマーは、エチレン性不飽和基を分子内に２つ持つ化合物であれば特に限定されず、市販の（メタ）アクリレート化合物が使用できる。市販品としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ 新中村化学工業（株））、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（ＤＣＰ 新中村化学工業（株））、１，９−ノナンジオールジアクリレート（Ａ−ＮＯＤ−Ｎ 新中村化学工業（株））、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ−ＨＤ−Ｎ 新中村化学工業（株））などが好ましく挙げられる。

３官能以上のエチレン性不飽和基を有する重合性モノマーは、エチレン性不飽和基を分子内に３つ以上持つ化合物であれば特に限定されず、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、イソシアヌル酸アクリレート、グリセリントリアクリレート等の骨格の（メタ）アクリレート化合物が使用できる。

重合性モノマーは、重量平均分子量が２００〜３０００であることが好ましく、２５０〜２６００であることがより好ましく、２８０〜２２００であることが特に好ましい。
重合性モノマーは、１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。重合性モノマーを２種以上用いることが、第２透明転写層の膜物性を制御しうる点で好ましい。
中でも、第２透明転写層に含有される重合性モノマーは、３官能以上の重合性モノマーと２官能の重合性モノマーとを組みあわせて使用することが転写後の第２透明転写層を露光した後の膜物性を改善する観点から好ましい。
２官能の重合性モノマーを用いる場合、第２透明転写層に含まれる全ての重合性モノマーに対し、１０質量％〜９０質量％の範囲で使用することが好ましく、２０質量％〜８５質量％の範囲で使用することがより好ましく、３０質量％〜８０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
３官能以上の重合性モノマーを用いる場合には、第２透明転写層に含まれるすべての重合性モノマーに対して１０質量％〜９０質量％の範囲で使用することが好ましく、１５質量％〜８０質量％の範囲で使用することがより好ましく、２０質量％〜７０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。

第２透明転写層には、樹脂及び重合性モノマーに加え、更に、目的に応じて種々の成分を含有することができる。
任意の成分としては、重合開始剤、加熱により酸と反応可能な化合物等が挙げられる。

−重合開始剤−
第２透明転写層は、重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。第２透明転写層が、樹脂、重合性モノマーに加え、重合開始剤を含むことにより、第２透明転写層にパターンを形成しやすくなる。

重合開始剤としては、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の段落００３１〜００４２に記載の光重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤としては、例えば、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社）の他、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ社）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７、ＢＡＳＦ社）などが好ましく挙げられる。
第２透明転写層が重合開始剤を含む場合の、第２透明転写層の固形分に対する重合開始剤の含有量は、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましい。また、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましい。重合開始剤の含有量が上記範囲であることで、転写材料におけるパターン形成性、被転写体との密着性をより改善することができる点で好ましい。

本開示における第２透明転写層は、硬化感度を調整するために、さらに、増感剤及び重合禁止剤から選ばれる少なくとも１種を含むことができる。

−増感剤−
本開示における第２透明転写層は、増感剤を含むことができる。
増感剤は、第２透明転写層に含まれる増感色素、重合開始剤等の活性放射線に対する感度をより向上させる作用、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する作用等を有する。

本開示における増感剤の例としては、チオール及びスルフィド化合物、例えば、特開昭５３−７０２号公報、特公昭５５−５００８０６号公報、特開平５−１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられる。より具体的には、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が挙げられる。

本開示における増感剤の別の例としては、Ｎ−フェニルグリシン等のアミノ酸化合物、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。

本開示における第２透明転写層が増感剤を含む場合の増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスに起因して硬化速度がより向上するという観点から、第２透明転写層の全固形分量に対し、０．０１質量％〜３０質量％の範囲が好ましく、０．０５質量％〜１０質量％の範囲がより好ましい。
本開示における第２透明転写層が増感剤を含む場合、増感剤は、１種のみ含んでもよく、２種以上を含んでもよい。

−重合禁止剤−
本開示における第２透明転写層は、重合禁止剤を含むことができる。
重合禁止剤は、製造中あるいは保存中において重合性モノマーの所望されない重合を阻止する機能を有する。
本開示における重合禁止剤には特に制限はなく、公知の重合禁止剤を目的に応じて使用することができる。公知の重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩、フェノチアジン、フェノキサジン等が挙げられる。

本開示における第２透明転写層が重合禁止剤を含む場合の重合禁止剤の添加量は、第２透明転写層の全固形分に対し０．００１質量％〜２０質量％が好ましい。
本開示における第２透明転写層が重合禁止剤を含む場合、重合禁止剤は、１種のみ含んでもよく、２種以上を含んでもよい。

−加熱により酸と反応可能な化合物−
本開示における第２透明転写層は、加熱により酸と反応可能な化合物を含有してもよい。
加熱により酸と反応可能な化合物は、２５℃での酸との反応性に比べ、２５℃を超えて加熱した後の酸との反応性が高い化合物であることが好ましい。加熱により酸と反応可能な化合物は、ブロック剤により一時的に不活性化されている酸と反応可能な基を有し、所定の解離温度においてブロック剤由来の基が解離する化合物であることが好ましい。
加熱により酸と反応可能な化合物は、カルボン酸化合物、アルコール化合物、アミン化合物、ブロックイソシアネート、エポキシ化合物などを挙げることができ、ブロックイソシアネートであることが好ましい。

転写材料に用いられるブロックイソシアネートとしては、市販のブロックイソシアネートを挙げることもできる。例えば、イソホロンジイソシアネートのメチルエチルケトンオキシムブロック化体であるタケネート（登録商標）Ｂ８７０Ｎ（三井化学（株））、ヘキサメチレンジイソシアネート系ブロックイソシアネート化合物であるデュラネート（登録商標）ＭＦ−Ｋ６０Ｂ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、Ｘ３０７１．０４（いずれも旭化成ケミカルズ（株））などを挙げることができる。

第２透明転写層に含まれるブロックイソシアネートは、重量平均分子量が２００〜３０００であることが好ましく、２５０〜２６００であることがより好ましく、２８０〜２２００であることが特に好ましい。
ブロックイソシアネートの含有量は、転写後の加熱工程前のハンドリング性、加熱工程後の低透湿性の観点から、第２透明転写層の全固形分量に対し、１質量％〜３０質量％の範囲が好ましく、５質量％〜２０質量％の範囲がより好ましい。

また、第２透明転写層に含まれる他の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤や、公知のフッ素系界面活性剤、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。第２透明転写層に好ましく用いられる添加剤としては、公知のフッ素系界面活性剤であるメガファック（登録商標）Ｆ−５５１（ＤＩＣ（株））が挙げられる。

第２透明転写層は、少なくとも重合性モノマー及び樹脂を含む第２透明転写層を形成するための樹脂組成物を溶媒に溶解させた溶液（第２の透明転写層形成用塗布液という）を塗布し、乾燥させて形成される。

（第１透明転写層）
第１透明転写層は、金属酸化物粒子及び樹脂を含む層でもよく、エネルギーの付与により硬化する層であってもよい。第１透明転写層は、光硬化性であっても、熱硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。中でも、熱硬化性かつ光硬化性の層であると、容易に製膜することができる。

第１透明転写層がネガ型材料により形成されている場合、第１透明転写層は、金属酸化物粒子、樹脂（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）に加え、重合性モノマー及び重合開始剤を含むことが好ましく、必要に応じて他の添加剤を含んでもよい。

第１透明転写層の屈折率は、１．６０以上２．００以下であることが好ましく、１．６３以上１．９０以下であることがより好ましく、１．６５以上１．８０以下であることが更に好ましい。
第１透明転写層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂層を単独で用いる方法、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明樹脂層を用いる方法、金属塩と高分子の複合体を用いる方法などが挙げられる。
第１透明転写層の厚みは、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。

−樹脂−
第１透明転写層は、樹脂を含むことが好ましい。
樹脂は、バインダーとしての機能を有してもよい。樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも一種に由来する構成単位を有する樹脂（（メタ）アクリル樹脂）であることがより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の詳細については、第２透明転写層におけるアルカリ可溶性樹脂と同義である。中でも、第１透明転写層では、酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を好ましい樹脂の例として挙げることができる。
第１透明転写層形成用組成物は、硬化成分として、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩を含んでいてもよい。

−酸基を有する樹脂のアンモニウム塩−
酸基を有する樹脂のアンモニウム塩としては、特に制限はなく、（メタ）アクリル樹脂のアンモニウム塩が好適に挙げられる。

第１透明転写層形成用組成物の調製に際しては、酸基を有する樹脂をアンモニア水溶液に溶解し、酸基の少なくとも一部がアンモニウム塩化した樹脂を含む第１の透明転写層形成用塗布液を調製する工程を含むことが好ましい。

−−酸基を有する樹脂−−
酸基を有する樹脂は、水性溶媒（好ましくは、水もしくは炭素数１〜３の低級アルコールと水との混合溶媒）に対して溶解性を有する樹脂であり、特に制限なく公知の樹脂から適宜選択することができる。酸基を有する樹脂の好ましい例として、１価の酸基（カルボキシル基など）を有する樹脂が挙げられる。第１透明転写層に含まれる樹脂は、カルボキシル基を有する樹脂であることが特に好ましい。
酸基を有する樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、線状有機高分子重合体であって、分子中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有する重合体の中から適宜選択することができる。アルカリ可溶性を促進する基、即ち、酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、好ましくは、（メタ）アクリル酸及びスチレンから選ばれる構造単位を主鎖に含む共重合体が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂は、より好ましくは、有機溶剤に可溶で、かつ、弱アルカリ水溶液により現像可能な樹脂が挙げられる。

また、酸基を有する樹脂としては、酸基を有する（メタ）アクリル樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル酸／ビニル化合物の共重合樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸アリルの共重合樹脂であることが特に好ましい。
中でも、第１透明転写層は、樹脂として、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、及びスチレン由来の構造単位を有する共重合体を含むことが好ましく、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、及びエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体を含むことがより好ましい。
第１透明転写層に用いられる樹脂は、（メタ）アクリル酸由来の構造単位、及びスチレン由来の構造単位を有する共重合体を含み、更には（メタ）アクリル酸由来の構造単位、スチレン由来の構造単位、及びエチレンオキシ鎖を有する（メタ）アクリル酸エステル由来の構造単位を有する共重合体を含むことにより、第１透明転写層を形成する際の膜厚均一性がより良好となる。

酸基を有する樹脂は、市販品を用いてもよい。酸基を有する樹脂の市販品は、特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。酸基を有する樹脂の市販品としては、例えば、東亞合成（株）製のＡＲＵＦＯＮ（アルフォン：登録商標） ＵＣ３０００，ＵＣ３５１０，ＵＣ３０８０，ＵＣ３９２０，ＵＦ５０４１（以上、商品名），ＢＡＳＦ社製のＪＯＮＣＲＹＬ（登録商標）６７、ＪＯＮＣＲＹＬ６１１、ＪＯＮＣＲＹＬ６７８、ＪＯＮＣＲＹＬ６９０、ＪＯＮＣＲＹＬ８１９（以上、商品名）等が挙げられる。

第１透明転写層の全固形分に対し、酸基を有する樹脂は１０質量％〜８０質量％含まれることが好ましく、１５質量％〜６５質量％含まれることがより好ましく、２０質量％〜５０質量％含まれることが特に好ましい。

−他の樹脂−
第１透明転写層は、酸基を有さない他の樹脂を更に含んでもよい。酸基を有さない他の樹脂には、特に制限はない。

−金属酸化物粒子−
第１透明転写層は、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。金属酸化物粒子を含むことにより、屈折率及び光透過性を調節することができる。
第１透明転写層には、使用する樹脂、重合性モノマーの種類及び含有量、用いる金属酸化物粒子の種類等に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。

金属酸化物粒子の種類としては、特に制限はなく、公知の金属酸化物粒子を用いることができる。
第１透明転写層は、第１透明転写層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、Ｎｂ_２Ｏ_５粒子及び酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）のうち少なくとも一つを含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、酸化ジルコニウム粒子又は酸化チタン粒子がより好ましく、酸化ジルコニウム粒子が更に好ましい。

金属酸化物粒子として、酸化ジルコニウム粒子を用いる場合、転写後に金属酸化物粒子を有する第２の樹脂層の欠陥が見え難く、かつ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できるという観点から、酸化ジルコニウム粒子の含有量は、第１透明転写層の全固形分に対して、２０質量％〜９５質量％であることが好ましく、４０質量％〜９５質量％であることがより好ましく、６０質量％〜９５質量％であることがさらに好ましく、６０質量％以上８０質量％未満であることがさらにより好ましい。
金属酸化物粒子として酸化チタンを用いる場合、転写後に金属酸化物粒子を有する第１透明転写層の欠陥が見え難く、かつ、透明電極パターンの隠蔽性が良好な積層体を作製できる観点から、酸化チタン粒子の含有量は、第１透明転写層の全固形分に対して、３０質量％〜７０質量％であることが好ましく、４０質量％以上６０質量％未満であることがより好ましい。

金属酸化物粒子の屈折率は、第１透明転写層形成用塗布液から金属酸化物粒子を除いた組成物により形成された透明膜の屈折率より高いことが好ましい。
具体的には、転写材料の第１透明転写層は、４００ｎｍ〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の金属酸化物粒子を含有することが好ましく、屈折率が１．５５以上の粒子を含有することがより好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子を含有することがさらに好ましく、１．９０以上の粒子を含有することが特に好ましく、２．００以上の粒子を含有することが最も好ましい。
ここで、４００ｎｍ〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。

金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、ヘイズ等の光学性能の観点から、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いた観測により任意の１００個の粒子の直径を測定し、１００個の直径の算術平均により求められる値である。

第１透明転写層は、金属酸化物粒子を１種単独で含んでもよく、２種以上の金属酸化物粒子を含んでもよい。
金属酸化物粒子の第１透明転写層における含有量は、金属酸化物粒子の種類によらず、第１透明転写層の全固形分に対して、２０質量％〜９５質量％含まれることが好ましく、３０質量％〜９５質量％含まれることがより好ましく、３０質量％〜８５質量％含まれることがさらに好ましく、３０質量％以上８０質量％未満含まれることがさらにより好ましい。金属酸化物粒子の含有量が前述の範囲であることにより、転写後の透明電極パターンの隠蔽性がより向上する。

第１透明転写層は、樹脂及び金属酸化物粒子に加え、他の成分を含むことができる。

−金属酸化抑制剤−
第１透明転写層は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。
金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物であることが好ましい。
また、金属酸化抑制剤としては、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、及び、それらと他の芳香環との縮合環よりなる群から選ばれた少なくとも一つの環であることが好ましく、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、又はイミダゾール環と他の芳香環との縮合環であることがより好ましい。
上記他の芳香環としては、単素環でも複素環でもよいが、単素環であることが好ましく、ベンゼン環又はナフタレン環であることがより好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましい。
好ましい金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及び、ベンゾトリアゾールが好ましく例示され、イミダゾール、ベンゾイミダゾール及びベンゾトリアゾールがより好ましい。金属酸化抑制剤としては市販品を用いてもよく、例えばベンゾトリアゾールを含む城北化学工業（株）、ＢＴ１２０などを好ましく用いることができる。
また、金属酸化抑制剤の含有量は、第１透明転写層の全固形分に対し、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜１０質量％であることがより好ましく、１質量％〜５質量％であることが更に好ましい。

−重合性モノマー−
第１透明転写層が、重合性モノマー又は熱重合性モノマーなどの重合性モノマーを含むことが、硬化させて膜の強度などを高める観点から好ましい。第１透明転写層は、前述の酸基を有するモノマーのみを重合性モノマーとして含んでいてもよい。
第１透明転写層に用いられる重合性モノマーとしては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの重合性モノマーは単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０％超８０％以下であることが好ましく、１０％〜６０％であることがより好ましい。

第１透明転写層に用いられる重合性モノマーとしては、下記構造式１により表される水溶性の重合性モノマー、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ：新中村化学工業（株）、不純物としてトリアクリレート約１０％含有）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ 新中村化学工業（株）、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ 新中村化学工業（株）、トリアクリレート５５％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ３ 新中村化学工業（株）、トリアクリレート５７％）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０ 日本化薬（株））などを挙げることができる。

第１透明転写層に用いられる他の重合性モノマーとしては、水、もしくは炭素原子数１〜３の低級アルコールと水との混合溶媒等の水性溶媒に対して溶解性を有する重合性モノマー、酸基を有するモノマーが好ましい。水性溶媒に対して溶解性を有する重合性モノマーとしては、水酸基を有するモノマー、分子内にエチレンオキサイドやポリプロピレンオキサイド、及びリン酸基を有するモノマーが挙げられる。酸基を有するモノマーとしては、カルボキシル基を含有する重合性モノマーが好ましく、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーをより好ましく用いることができ、その中でもアロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成株式会社）が特に好ましい。

−重合開始剤−
第１透明転写層は、重合開始剤を含むことができる。
第１透明転写層に用いられる重合開始剤としては、水性溶媒に対して溶解性を有する重合開始剤が好ましい。水性溶媒に対して溶解性を有する重合開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９、下記構造式２の光重合開始剤等が挙げられる。

以上、転写材料がネガ型材料である場合を中心に説明したが、転写材料は、ポジ型材料であってもよい。転写材料がポジ型材料である場合、前述の第１透明転写層に、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これらの材料には限られない。

第１透明転写層を形成に使用する第１の透明転写層形成用塗布液は、溶媒を含むことができる。
溶媒としては、例えば、ジアセトンアルコール（３．２ｍＰａ・ｓ）、エチレングリコール（３２．５ｍＰａ・ｓ）、プロピレングリコール（５６ｍＰａ・ｓ）、イソブチルアルコール（４．２ｍＰａ・ｓ）などが挙げられる。

転写材料は、前述の透明導電層に加え、本発明の効果を損なわない範囲で熱可塑性樹脂層、中間層、保護フィルム等の他の任意の層を有していてもよい。

＜タッチセンサの製造方法＞
前述の本開示のタッチセンサは、上記の構造に作製できる方法であれば、任意の方法を選択して製造することができ、好ましくは、以下に示す本開示のタッチセンサの製造方法、即ち、電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層を形成する工程（第１透明層形成工程）と、電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層を形成する工程（第２透明層形成工程）と、をこの順に有する方法により製造される。
転写材料の詳細については、前述の通りである。

本開示のタッチセンサの製造方法では、更に、第１透明層形成工程及び第２透明層形成工程において形成された第１透明層及び第２透明層にスルーホールを形成する工程を有していることが好ましい。スルーホールの形成は、第１透明転写層及び第２透明転写層を感光性材料により形成する場合には、感光性材料により形成された感光性層をパターン状に露光して現像することによって行える。また、第１透明転写層及び第２透明転写層が感光性を有しない場合は、第１透明転写層及び第２透明転写層を形成した後、いわゆるエッチングレジストを用いたエッチング法によりスルーホールを形成することができる。
また、本開示のタッチセンサの製造方法は、第１透明層形成工程及び第２透明層形成工程において形成された第１透明層及び第２透明層の上に、更に、オーバーコート層を形成する工程を有していてもよい。

転写は、転写材料を用い、基材の上に転写材料中の透明転写層を転写する転写法により行える。転写材料は、フィルム又はシートのいずれの形態で用いてもよい。具体的には、例えば転写フィルムを、その透明転写層の表面を基材に接触させて基材上にラミネートした後、転写フィルムの仮支持体を剥離することによって、基材上に透明転写層を転写形成することができる。

層形成用材料をパターン状に露光する方法には、特に制限はなく、フォトマスクを利用した面露光により行ってもよいし、レーザービーム等による走査露光により行ってもよい。また、レンズを用いた屈折式露光により行ってもよいし、反射鏡を用いた反射式露光により行ってもよい。また、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いて行ってもよい。
光源は、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ｊ線等の紫外線が好ましい。光源種としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられる。
また、露光後の現像は、アルカリ現像液が一般に用いられる。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
なお、ポリマー中の組成比は特に断りの無い限りモル比である。また、以下の実施例では、転写材料の一例として転写フィルムを作製する場合を示す。

また、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、下記の条件にてゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）により行った。検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製した。
<条件>
ＧＰＣ：ＨＬＣ（登録商標）−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）、Ｓｕｐｅｒ ＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ−Ｈ（東ソー株式会社、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本
溶離液：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
試料濃度：０．４５質量％
流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
サンプル注入量：１０μｌ
測定温度：４０℃
検出器：示差屈折計（ＲＩ）

＜第２透明転写層形成用塗布液の調製＞
以下の表１に示す組成となる成分及び含有量により、第２の透明転写層形成用塗布液である材料Ａ−１〜Ａ−４を調製した。

＜第１の透明転写層形成用塗布液の調製＞
次に、下記表２に記載の組成により、第１の透明転写層形成用塗布液である材料Ｂ−１〜Ｂ−５を調製した。

［実施例１〜２］
＜転写フィルム１の作製＞
厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、塗布量を、乾燥後の膜厚が５．０μｍになる量に調整し、第２透明転写層形成用の材料Ａ−１又はＡ−２のいずれかを塗布した。次いで、８０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させて第２透明転写層を形成した。下記表４の組み合わせにて、第１透明転写層形成用の材料Ｂ−１又はＢ−２のいずれかを用いて、塗布量を、乾燥後の膜厚が約８０ｎｍの膜厚になる量に調整して、第２透明転写層形成用の材料の乾燥後の膜（第２透明転写層）の上にスリット状ノズルを用いて塗布した後、７０℃の乾燥温度で乾燥させて第１透明転写層を形成した。なお、下記表４に示すように、実施例１では材料Ａ−１及び材料Ｂ−１を用い、実施例２では材料Ａ−２及び材料Ｂ−２を用いた。
次いで、第１透明転写層の表面に、保護フィルムとして、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートを圧着し、転写フィルム１を作製した。

＜透明電極パターンフィルムの作製＞
（透明膜の形成）
膜厚３８μｍ及び屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行って表面改質を施し、透明フィルム基板とした。
次に、下記表３中に示す材料−Ｃの材料を、スリット状ノズルを用いて、透明フィルム基板のコロナ放電処理面に塗工した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２）した。次いで、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６０及び膜厚８０ｎｍの透明膜を形成した。

＜透明電極パターンの形成＞
透明フィルム基板上に透明膜が形成されたフィルムを真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明フィルム基板の温度１５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、透明電極層として厚さ４０ｎｍ及び屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、透明フィルム基板上に透明膜と透明電極層が積層されたフィルムを得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は、８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。

次いで、公知の化学エッチング法によりＩＴＯ薄膜をエッチングしてパターンニングし、透明フィルム基板上に透明膜及び透明電極パターンを有する電極付フィルムを得た。
ここで、透明電極パターンは、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１の電極パターン及び第２の電極パターンを有し、図１及び図２に示すように、第１の電極パターンは、透明フィルム基板２４上の第１方向Ｐに間隔をあけて形成された複数の第１島状電極部１２と、隣り合う第１島状電極部１２を電気的に接続する第１配線部１６と、を有し、第２の電極パターンは、基板上に第１方向Ｐと交差する第２方向Ｑに間隔をあけて形成された複数の第２島状電極部１４を有している。

＜透明積層体の作製＞
上記で作製した転写フィルム１の保護フィルムを剥離し、転写フィルム１の剥離面を、電極付フィルムの透明膜及び透明電極パターンの形成面に接触させ、電極付フィルム上に転写フィルム１を以下の条件でラミネートしてラミネート体を得た。
<条件>
透明フィルム基板２４の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分

次に、露光マスク（スルーホール形成用マスク）の表面と仮支持体の表面との間の距離を１２５μｍに設定し、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社）を用いて、仮支持体を介してラミネート体に対してｉ線を露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２にてパターン状に露光した。
その後、ラミネート体から仮支持体を剥離し、温度３２℃の炭酸ソーダ２質量％水溶液を用いて剥離面（第２透明転写層の表面）を６０秒間洗浄処理した。洗浄処理後、更に、透明フィルム基板上の第２透明転写層の表面に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することにより残渣を除去した。次いで、第２透明転写層の表面にエアを吹きかけて水分を除去し、温度１４５℃で３０分間のポストベーク処理を施した。
この際、図１及び図２に示すように、透明フィルム基板２４上の透明電極パターン中における第２島状電極部１４の上に位置する第１透明層２８及び第２透明層３０に、第２島状電極部１４と、互いに隣り合う２つの第２島状電極部１４間を橋掛けして第２島状電極部１４同士を電気的に接続するためのブリッジ配線（第２配線部）１８と、を接続するためのスルーホール２０を形成した。

以上のようにして、透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン、第１透明層、及び第２透明層が、透明フィルム基板側から順に積層された透明積層体を作製した。
ここで、第１透明層は、転写フィルム１の第１透明転写層の硬化層であり、第２透明層は、転写フィルム１の第２透明転写層の硬化層である。

＜ブリッジ配線（第２配線部）の形成＞
次に、直流マグネトロンスパッタリングを用い、透明積層体の全面に厚み３０ｎｍの金（Ａｕ）膜を形成した。そして、公知の方法により、隣り合う第２島状電極部１４間を接続するブリッジ配線１８を形成しようとする部分を除く領域のＡｕ膜を除去することにより、図１及び図２に示すように、隣り合う２つの第２島状電極部１４を、第１透明層２８及び第２透明層３０の上を橋掛けして接続する位置に、ブリッジ配線（第２配線部）１８を配設した。

＜オーバーコート層の形成＞
次に、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、塗布量を、乾燥後の膜厚が１０．０μｍになる塗布量に調整し、前述の材料Ａ−１を塗布し、温度８０℃で乾燥させてオーバーコート層を形成した。形成されたオーバーコート層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着し、オーバーコート層用転写フィルムを作製した。

保護フィルムを剥離したオーバーコート層用転写フィルムを用い、ブリッジ配線（第２配線部）まで形成された上記の透明積層体の上に、以下の条件でオーバーコート層用転写フィルムをラミネートしてオーバーコート層を転写し、図２に示すように、オーバーコート層付透明積層体を得た。
<条件>
透明フィルム基板２４の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分

次に、露光マスク（オーバーコート用パターンを有する石英露光マスク）の表面と仮支持体の表面との間の距離を１２５μｍに設定し、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社）を用いて、仮支持体を介してオーバーコート層付透明積層体に対して、ｉ線を露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２にてパターン状に露光した。

次いで、オーバーコート層付透明積層体から仮支持体を剥離し、温度３２℃の炭酸ソーダ２質量％水溶液にて剥離面（オーバーコート層の表面）を６０秒間洗浄処理した。洗浄処理後のオーバーコート層付透明積層体のオーバーコート層の表面に、超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することにより残渣を除去した。次いで、オーバーコート層の表面にエアを吹きかけてオーバーコート層上の水分を除去し、温度１４５℃で３０分間のポストベーク処理を行った。

以上のようにして、図１及び図２に示すように、透明フィルム基板２４上に、透明膜２６、透明電極パターン（第１島状電極部、第１配線部１６、第２島状電極部、及びブリッジ配線１８を含む）、第１透明層２８、第２透明層３０、及びオーバーコート層３２をこの順に有する透明積層体１００を作製した。

［実施例３］
以下のようにして、上記と異なる転写フィルム２を作製した。
厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、塗布量を、乾燥後の膜厚が約８０ｎｍになる量に調整し、第３透明転写層形成用の材料Ｂ−３を塗布した。次いで、８０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させて第３透明転写層を形成した。次いで、第３透明転写層の表面に、保護フィルムとして厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートを圧着し、転写フィルム２とした。

実施例１における「透明積層体の作製」においてポストベーク処理を施した後の第２透明層の上に、第２透明層に第３透明転写層が接するように転写フィルム２をラミネートし、第２透明層の上に第３透明転写層を転写した。ラミネートは、上記の転写フィルム１をラミネートする際と同じ条件により行った。
次いで、転写された第３透明転写層に対して、公知のエッチング法によりスルーホールを形成し、第２透明層の上に第３透明層を形成した。なお、第３透明層は、転写フィルム２の第３透明転写層の硬化層である。
次いで、実施例１と同様にして、「ブリッジ配線の形成」及び「オーバーコート層の形成」を行い、透明積層体を作製した。
なお、作製された透明積層体は、透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン（第１島状電極部、第１配線部、第２島状電極部、及びブリッジ配線を含む）、第１透明層、第２透明層、第３透明層（不図示）、及びオーバーコート層をこの順に有している。

［実施例４〜１７］
実施例３において、表４の組み合わせの通り、第１透明層、第２透明層及び第３透明層の材料並びに膜厚を調整したこと以外は、実施例３と同様にして、転写フィルム及び透明積層体を作製した。

［比較例１］
実施例１において、第１透明層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして、転写フィルム及び透明積層体を作製した。

＜評価＞
−透明電極パターンの隠蔽性−
透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン、第１透明層、第２透明層、及びオーバーコート層を順次積層した透明積層体の透明フィルム基板に、透明接着テープ（商品名：ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ、スリーエムジャパン株式会社製）を用い、黒色のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材を貼り付け、基板全体を遮光した。
暗室内で透明積層体に対して黒色のＰＥＴ材が接着された側とは反対側のオーバーコート層の上から蛍光灯の光をあて、オーバーコート層からの反射光を斜めから目視で観察し、透明電極パターンの見え方を下記の評価基準にしたがって評価した。評価基準のうち、Ａ，Ｂ及びＣが実用上の許容範囲であり、Ａ又はＢが好ましく、Ａがより好ましい。
<評価基準>
Ａ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視しても電極パターンが見えず、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際にも電極パターンは見えない。
Ｂ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンが僅かに見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際は電極パターンは見えない。
Ｃ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンが僅かに見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際も電極パターンが僅かに見える。
Ｄ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンがはっきり見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視したい際は電極パターンが僅かに見える。
Ｅ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンがはっきり見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際も電極パターンがはっきり見える。

＜画像表示装置（タッチパネル）の作製＞
特開２００９−４７９３６号公報の段落００９７〜０１１９に記載の方法で製造した液晶表示素子に、透明フィルム基板上に、透明膜、透明電極パターン、第１透明層、第２透明層、及びオーバーコート層をこの順に有する本開示の透明積層体を貼り合せ、更に、前面ガラス板を貼り合せることにより、公知の方法により、静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置を作製した。

＜評価＞
−静電容量型入力装置及び画像表示装置の評価−
透明積層体を備えた静電容量型入力装置及び画像表示装置では、透明電極パターンは視認されなかった。また、透明積層体には気泡等の欠陥もなく、画像表示装置は表示特性に優れるものであった。

１２ 第１島状電極部
１４ 第２島状電極部
１６ 第１配線部
１８ 第２配線部（ブリッジ配線）
２０ スルーホール
２４ 透明基板（透明フィルム基板）
２６ 透明層
２８ 第１透明層
３０ 第２透明層
３２ オーバーコート層
３４ 第１電極パターン
３６ 第２電極パターン
１００ 透明積層体
Ｐ 第１電極パターンの延在方向
Ｑ 第２電極パターンの延在方向

上記の課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 透明基板の同一面上に、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１電極パターン及び第２電極パターンを備え、第１電極パターン及び第２電極パターンの上に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層と、屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層と、を順次重ねて有し、第１電極パターンは、基板上の第１方向に間隔をあけて配置された複数の第１島状電極部と、隣り合う第１島状電極部を電気的に接続する第１配線部と、を有し、第２電極パターンは、基板上に第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２島状電極部と、隣り合う第２島状電極部を、第１透明層及び第２透明層の上を橋掛けして電気的に接続する第２配線部と、を有する、タッチセンサ。
＜２＞ 第１透明層及び第２透明層がスルーホールを有し、第２配線部は、スルーホールを通じて、隣り合う第２島状電極部を電気的に接続する＜１＞に記載のタッチセンサ。
＜３＞ 第２配線部が、金属配線により形成されている＜１＞又は＜２＞に記載のタッチセンサ。
＜４＞ 第１透明層は、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、かつ、屈折率が１．６以上１．９以下であり、第２透明層は、厚みが０．５μｍ以上２０μｍ以下であり、かつ、屈折率が１．４以上１．６未満である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のタッチセンサ。
＜５＞ 第１透明層が、第１電極パターン及び第２電極パターンの少なくとも一方と直接接している、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のタッチセンサ。
＜６＞ 第２透明層と第２配線部との間に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である第３透明層を有する、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のタッチセンサ。
＜７＞ 第２透明層が、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び光重合開始剤を含む組成物の硬化物である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のタッチセンサ。
＜８＞ アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が、３５，０００以下である＜７＞に記載のタッチセンサ。
＜９＞ 第２透明層中における、アルカリ可溶性樹脂に由来する成分の含有量が、第２透明層の固形分に対して、３０質量％以上である＜７＞又は＜８＞に記載のタッチセンサ。
＜１０＞ ＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載のタッチセンサの製造方法であって、電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層を形成する工程と、電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層を形成する工程と、をこの順に有するタッチセンサの製造方法。

Claims (9)

1. 透明基板の同一面上に、互いに交差する方向にそれぞれ延在する第１電極パターン及び第２電極パターンを備え、
   前記第１電極パターン及び前記第２電極パターンの上に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層と、屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層と、を順次重ねて有し、
   前記第１電極パターンは、前記基板上の第１方向に間隔をあけて配置された複数の第１島状電極部と、隣り合う前記第１島状電極部を電気的に接続する第１配線部と、を有し、
   前記第２電極パターンは、前記基板上に前記第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２島状電極部と、隣り合う前記第２島状電極部を、前記第１透明層及び前記第２透明層の上を橋掛けして電気的に接続する第２配線部と、を有する、
   タッチセンサ。
2. 前記第１透明層及び前記第２透明層がスルーホールを有し、前記第２配線部は、前記スルーホールを通じて、隣り合う第２島状電極部を電気的に接続する請求項１に記載のタッチセンサ。
3. 前記第２配線部が、金属配線により形成されている請求項１又は請求項２に記載のタッチセンサ。
4. 前記第１透明層は、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、かつ、屈折率が１．６以上１．９以下であり、
   前記第２透明層は、厚みが０．５μｍ以上２０μｍ以下であり、かつ、屈折率が１．４以上１．６未満である、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のタッチセンサ。
5. 前記第２透明層と前記第２配線部との間に、屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である第３透明層を有する、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のタッチセンサ。
6. 前記第２透明層が、アルカリ可溶性樹脂、重合性モノマー、及び光重合開始剤を含む組成物の硬化物である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のタッチセンサ。
7. 前記アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が、３５，０００以下である請求項６に記載のタッチセンサ。
8. 前記第２透明層中における、前記アルカリ可溶性樹脂に由来する成分の含有量が、前記第２透明層の固形分に対して、３０質量％以上である請求項６又は請求項７に記載のタッチセンサ。
9. 請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のタッチセンサの製造方法であって、
   電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６以上であり、かつ、厚みが２００ｎｍ以下である第１透明層を形成する工程と、
   前記電極パターン付き基材の上に、転写材料の転写層の転写によって屈折率が１．６未満であり、かつ、厚みが０．５μｍ以上である第２透明層を形成する工程と、
   をこの順に有するタッチセンサの製造方法。