JPWO2018180003A1 - 積層体、積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

転写法により反射防止フィルムを製造するために用いることができ、ヘイズが低くかつ良好な反射防止性能を有する反射防止フィルムを製造することができる積層体、上記積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法を提供する。積層体、積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法は、支持体（５）、粘着剤を含む層（ｂ）（６）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）（３）、及び樹脂を含む層（ｃａ）（４）を有する積層体であって、層（ｂ）（６）は層（ｃａ）（４）よりも支持体（５）に近い側に存在し、粒子（ａ２）（３）は、層（ｂ）（６）及び層（ｃａ）（４）を合わせた層中に埋没し、かつ層（ｃａ）（４）の支持体（５）側の界面から突出し、粒子（ａ２）（３）及び層（ｃａ）（４）は、支持体（５）及び層（ｂ）（６）から剥離できる。

Description

本発明は、積層体、積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法に関する。

陰極線管（ＣＲＴ）を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下及び像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。また、ショールームのガラス表面など、画像表示装置以外でも反射防止フィルムにより反射防止機能を付与する場合がある。

反射防止フィルムとして、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ）構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、擬似的に空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、光の反射を防止することができる。

また、光学フィルムにおける機能性層を形成する技術として、機能性層形成用の転写部材を用いた技術（転写法）が知られている。

特許文献１には、剥離基材と、剥離基材の表面に単層でかつ脱離可能な状態で埋設されているメソポーラスシリカナノ粒子とを備えている転写部材、上記転写部材を利用した反射防止部材が記載されている。
また、特許文献２には、仮支持体と仮支持体の表面に形成されている微粒子積層膜とを備える薄膜転写材が記載されている。

特開２０１６−０９５４９８号公報 特開２０１２−０８６４７５号公報

しかしながら、本発明者らが検討した結果、特許文献１及び２の技術では、低ヘイズで、かつ十分な反射防止機能を有する反射防止フィルムを形成することができないことが分かった。

本発明の課題は、転写法により反射防止フィルムを製造するために用いることができ、ヘイズが低く、かつ良好な反射防止性能を有する反射防止フィルムを製造することができる積層体、上記積層体の製造方法、及び上記積層体を用いた反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。

本発明者らは、上記特許文献１及び２に記載の転写部材のように転写部材中の粒子が空気中に表出している場合には表面張力由来の引力（横毛管力）が働き、粒子同士の凝集を引き起こすために低ヘイズの反射防止フィルムの形成に至らないものと推察し、検討を重ねた結果、粒子の空気中への表出がない転写部材（積層体）を用いることで、ヘイズが低く、かつ良好な反射防止性能を有する反射防止フィルムを得ることができた。
すなわち、下記手段により上記課題を解決できることを見出した。

＜１＞
支持体、粘着剤を含む層（ｂ）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）、及び樹脂を含む層（ｃａ）を有する積層体であって、
上記層（ｂ）は上記層（ｃａ）よりも上記支持体に近い側に存在し、
上記粒子（ａ２）は、上記層（ｂ）及び上記層（ｃａ）を合わせた層中に埋没し、かつ上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面から突出しており、
上記粒子（ａ２）及び上記層（ｃａ）を含む部分は、上記層（ｂ）から剥離できる、積層体。
＜２＞
上記積層体の全ヘイズから、上記積層体から上記粒子（ａ２）及び上記層（ｃａ）を含む部分を取り除いてなる部分のヘイズを差し引いた値が１．００％以下である、＜１＞に記載の積層体。
＜３＞
上記層（ｃａ）の上記層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さが３０ｎｍ以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の積層体。
＜４＞
上記層（ｃａ）の上記層（ｂ）側とは反対側の面に、剥離可能な部材を有する、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の積層体。
＜５＞
仮支持体上に、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）とを、上記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に上記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
上記層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程（２）、
支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの上記層（ｂ）を、上記層（ｃａ）と貼り合わせる工程（３）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面から突出するように、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面の位置を上記仮支持体側に近づける工程（４）、
上記仮支持体を剥離する工程（５）、
をこの順に有する積層体の製造方法。
＜６＞
上記工程（４）と上記工程（５）との間に、上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で上記層（ｃａ）の一部を硬化させる工程（４−２）を有する、＜５＞に記載の積層体の製造方法。
＜７＞
上記工程（２）において、紫外線を１〜９０ｍＪ／ｃｍ^２の照射量で照射することで上記層（ａ）の一部を硬化させて上記層（ｃａ）を得る、＜５＞又は＜６＞に記載の積層体の製造方法。
＜８＞
＜５＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法によって得られた積層体を用いる反射防止フィルムの製造方法。
＜９＞
＜５＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法によって得られた積層体の上記層（ｃａ）と、基材とを貼り合せる工程（６）、
上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）と、上記層（ｂ）とを合わせた層中に埋没した状態で上記層（ｃａ）を硬化させる工程（７）、
上記粘着フィルムを剥離する工程（８）、
をこの順に有する＜８＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。

本発明によれば、転写法により反射防止フィルムを製造するために用いることができ、ヘイズが低く、かつ良好な反射防止性能を有する反射防止フィルムを製造することができる積層体、上記積層体の製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法を提供することができる。

本発明の積層体の製造方法の一例を説明するための模式図である。 本発明の反射防止フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図である。 本発明の製造方法により製造される反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。

本明細書中、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの少なくとも一種を表す。

本発明の積層体は、支持体、粘着剤を含む層（ｂ）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）、及び樹脂を含む層（ｃａ）を有する積層体であって、上記層（ｂ）は上記層（ｃａ）よりも上記支持体に近い側に存在し、上記粒子（ａ２）は、上記層（ｂ）及び上記層（ｃａ）を合わせた層中に埋没し、かつ上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面から突出しており、上記粒子（ａ２）及び上記層（ｃａ）を含む部分は、上記層（ｂ）から剥離できる、積層体である。

本発明の積層体の粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分は、層（ｂ）から剥離できるものであるので、本発明の積層体を用いて、転写法により、基材上に、本発明の積層体における粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分（反射防止層）を転写して、反射防止フィルムを製造することができる。したがって、本発明の積層体は反射防止層形成用の転写部材として用いることができる。

本発明の積層体のより詳細な説明については後述するものとし、まず本発明の積層体の製造方法及び反射防止フィルムの製造方法について詳細に説明する。

［積層体の製造方法及び反射防止フィルムの製造方法］
本発明の積層体の製造方法は、仮支持体上に、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）とを、上記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に上記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、上記層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程（２）、支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの上記層（ｂ）を、上記層（ｃａ）と貼り合わせる工程（３）、上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面から突出するように、上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面の位置を上記仮支持体側に近づける工程（４）、上記仮支持体を剥離する工程（５）、をこの順に有する積層体の製造方法である。

本発明の積層体の製造方法は、上記工程（４）と上記工程（５）との間に、上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）及び上記層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で上記層（ｃａ）の一部を硬化させる工程（４−２）を有することが好ましい。

本発明の反射防止フィルムの製造方法は、上述の本発明の積層体の製造方法によって得られる積層体を用いる反射防止フィルムの製造方法であり、上述の本発明の積層体の製造方法によって得られた積層体の上記層（ｃａ）と、基材とを貼り合せる工程（６）、上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）と、上記層（ｂ）とを合わせた層中に埋没した状態で上記層（ｃａ）を硬化させる工程（７）、上記粘着フィルムを剥離する工程（８）、をこの順に有する反射防止フィルムの製造方法であることが好ましい。

本発明の反射防止フィルムの製造方法は、更に、工程（８）の後に、上記粒子（ａ２）が、上記層（ｃａ）の上記基材側の界面とは反対側の界面から突出した状態で、上記層（ｃａ）を硬化させる工程（９）、溶剤で洗浄する工程（１０）をこの順に有することがより好ましい。

本発明において、「層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没」するということは、層（ａ）の厚みが粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上であることを表すものである。
また、本発明において、「粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没」するということは、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層の厚みが粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上であることを表すものである。

本発明では、工程（１）において、粒子（ａ２）が埋没する厚みで層（ａ）を形成するため、工程（４）以降において、粒子（ａ２）の層（ｃａ）から突出した表面を層（ｃａ）の薄層が被覆する場合がある。上記薄層が被覆した粒子（ａ２）のことも、便宜上粒子（ａ２）と呼ぶものとする。

まず、本発明の積層体の製造方法の一実施態様の概要を図１を用いて説明する。
図１は、本発明の積層体の製造方法の好ましい実施形態の一例を示す模式図である。
図１の（１）は、工程（１）において、仮支持体１上に、硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）（図１中の符号４）中に平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）（図１中の符号３）が埋没する厚みで設けた状態を模式的に表している。

図１の（２）は、工程（２）において、粒子（ａ２）が層（ａ）中に埋没した状態で層（ａ）の一部を硬化しているところを模式的に表している。これにより層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る。なお、図１及び図２において、便宜上、層（ａ）も層（ｃａ）も同じ符号４で表している。また、「ＵＶ」は紫外線を示している。

図１の（３）は、工程（３）において、支持体５及び上記支持体５上に粘着剤を含む層（ｂ）（図１中の符号６）を有する粘着フィルム７の層（ｂ）を、層（ｃａ）（図１中の符号４）と貼り合わせた状態を模式的に表している。

図１の（４）は、工程（４）において、粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ｃａ）の支持体側の界面（層（ｃａ）と層（ｂ）の界面）から突出するように、層（ｃａ）の支持体側の界面の位置を仮支持体側に近づけた状態を模式的に表している。なお、後述するように、層（ｃａ）の支持体側の界面の位置を仮支持体側に近づける方法としては、硬化性化合物（ａ１）の一部を仮支持体に浸透（仮支持体が機能層を有する場合は機能層に浸透してもよい）させる方法、又は硬化性化合物（ａ１）の一部を粘着剤を含む層（ｂ）に浸透させる方法が挙げられる。

図１の（４−２）は、工程（４−２）において、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）の一部をさらに硬化しているところを模式的に表している。

図１の（５）は、仮支持体１を剥離する工程（６）において、仮支持体１を剥離した後の状態（積層体８）を表している。
なお、工程（５）が完了して、積層体８が得られる。ただし、本発明の積層体の製造方法では工程（４−２）は必須ではないため、工程（４）の後、工程（４−２）を行わずに工程（５）を行ってもよい。

次に、本発明の反射防止フィルムの製造方法の一実施態様の概要を、図２を用いて説明する。
図２は、本発明の反射防止フィルムの製造方法の好ましい実施形態の一例を示す模式図である。

図２の（６）は、工程（６）において、基材９を上記積層体８中の層（ｃａ）（図２中の符号４）と貼り合せた状態を模式的に表している。

図２の（７）は、工程（７）において、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）をさらに硬化しているところを模式的に表している。

図２の（８）は、粘着フィルム７を剥離する工程（８）において、粘着フィルム７を剥離した後の状態を模式的に表している。工程（８）は上記積層体８から粘着フィルム７を剥離し、上記積層体８中の粒子（ａ２）（図２中の符号３）と層（ｃａ）（図２中の符号４）を含む部分（図２中の符号２）を基材９上に転写する工程である。粒子（ａ２）と層（ｃａ）を含む部分は、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の一方の表面から突出しており、モスアイ構造を形成している。すなわち、粒子（ａ２）と層（ｃａ）を含む部分は反射防止層である。工程（８）により、基材上に、粒子（ａ２）と層（ｃａ）からなるモスアイ構造を有する反射防止層を有する反射防止フィルム１０が得られる。工程（８）が完了した段階で反射防止フィルム１０を得ることができるが、さらに工程（９）及び（１０）を行うことが好ましい。

図２の（９）は、工程（９）において、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の基材側の界面とは反対側の界面から突出した状態で層（ｃａ）をさらに硬化しているところを模式的に表している。

図２の（１０）は、工程（１０）において、溶剤洗浄をした後の状態の反射防止フィルム１０を表している。

以下、本発明の積層体の製造方法及び反射防止フィルムの製造方法の各工程について更に詳細に説明する。

［工程（１）］
工程（１）は、仮支持体上に、硬化性化合物（ａ１）と平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを、硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程である。
前述のように、本発明において、「層（ａ）中に粒子（ａ２）が埋没する厚み」とは、粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚みを表すものとする。

工程（１）において、仮支持体上に層（ａ）を設ける方法は特に限定されないが、仮支持体上に層（ａ）を塗布することにより設けることが好ましい。この場合、層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む層（ａ）形成用組成物を塗布してなる層である。塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。

工程（１）で仮支持体上に設けられた層（ａ）において、層（ａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。ここで、層（ａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないとは、層（ａ）の面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、８０％以上であることを表し、好ましくは９５％以上である。

（仮支持体）
仮支持体としては表面が平滑な支持体であれば特に限定されない。仮支持体は、表面粗さが３０ｎｍ以下程度の表面平坦性を有し、上記層（ａ）形成用組成物の塗布を妨げないものであることが好ましく、種々の材質からなる仮支持体を用いることができるが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムが好ましく用いられる。
本発明において、表面粗さはＳＰＡ−４００（日立ハイテクノサイエンス製）を使用し、測定範囲５μｍ×５μｍ、測定モード：ＤＦＭ，測定周波数：２Ｈｚの測定条件で測定する。

（層（ａ））
層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）を含む層である。
層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）は、硬化されることで、反射防止層中の樹脂（バインダー樹脂）となり得るものである。
工程（１）における層（ａ）の膜厚は、粒子（ａ２）の平均一次粒径の０．８倍以上２．０倍以下であることが好ましく、０．８倍以上１．５倍以下であることがより好ましく、０．９倍以上１．２倍以下であることが更に好ましい。

＜硬化性化合物（ａ１）＞
硬化性化合物（ａ１）としては、重合性官能基を有する化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）が好ましい。重合性官能基を有する化合物としては、各種モノマー、オリゴマー又はポリマーを用いる事ができ、重合性官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性不飽和基（炭素−炭素不飽和二重結合性基）等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

重合性不飽和基を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。

さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性官能基を有する化合物として、好ましく用いられる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーを少なくとも１種含有することが好ましい。
例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−１０ＨＡ、Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４，ＨＤＰ−４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製、ＫＲＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。

さらに、３個以上の重合性官能基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。

また、特開２００５−７６００５号、特開２００５−３６１０５号公報に記載された化合物、ＳＩＲＩＵＳ−５０１、ＳＵＢＡＲＵ−５０１（大阪有機化学工業（株）製）のようなデンドリマー、特開２００５−６０４２５号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。

さらに、粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）を結合させて強固な膜にするために、硬化性化合物（ａ１）として、重合性官能基を有するシランカップリング剤を用いてもよい。
重合性官能基を有するシランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリメトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリエトキシシラン等が挙げられる。具体的には、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業（株）製）、特開２０１４−１２３０９１号記載のシランカップリング剤Ｘ−１２−１０４８、Ｘ−１２−１０４９、Ｘ−１２−１０５０（信越化学工業（株）製）、及び下記構造式で表される化合物Ｃ３等が挙げられる。

さらに、粒子（ａ２）の凝集を抑制するように働く化合物として、ラジカル反応性基以外の重合性官能基を有するシランカップリング剤を用いても良い。ラジカル反応性基以外の重合性官能基を有するシランカップリング剤の具体例としては、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−４８０３（信越化学工業（株）製）が挙げられる。

重合性官能基を有する化合物は、二種類以上を併用してもよい。これら重合性官能基を有する化合物の重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。

層（ａ）は硬化性化合物（ａ１）以外の化合物を更に含むことができる。
本発明では、硬化性化合物（ａ１）として、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物を用いてもよいが、特に、１分子中に３個以上の重合性官能基を有する化合物と、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または硬化性化合物（ａ１）以外の化合物として重合性官能基を有さない化合物を併用することが好ましい。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物としては、重量平均分子量Ｍｗａが４０＜Ｍｗａ＜５００であることが好ましい。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物は、１分子中に１個の重合性官能基を有する化合物であることが好ましい。

さらに、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物は、２５℃における粘度が１００ｍＰａｓ以下であることが好ましく、１〜５０ｍＰａｓがより好ましい。このような粘度範囲にある化合物は、粒子（ａ２）の凝集を抑制するように働き、ヘイズ、白濁感を抑制できるため好ましい。

１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物は、重合性官能基として、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アルコキシ基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を持つものが好ましい。

重合性官能基を有さない化合物としては、エステル系化合物、アミン系化合物、エーテル系化合物、脂肪族アルコール系化合物、炭化水素系化合物などを好ましく用いることができ、エステル系化合物が特に好ましい。より具体的には、コハク酸ジメチル（粘度２．６ｍＰａｓ）、コハク酸ジエチル（粘度２．６ｍＰａｓ）、アジピン酸ジメチル（粘度２．８ｍＰａｓ）、コハク酸ジブチル（粘度３．９ｍＰａｓ）、アジピン酸ビス（２−ブトキシエチル）（粘度１０．８ｍＰａｓ）、スベリン酸ジメチル（粘度３．７ｍＰａｓ）、フタル酸ジエチル（粘度９．８ｍＰａｓ）、フタル酸ジブチル（粘度１３．７ｍＰａｓ）、クエン酸トリエチル（粘度２２．６ｍＰａｓ）、クエン酸アセチルトリエチル（粘度２９．７ｍＰａｓ）、ジフェニルエーテル（粘度３．８ｍＰａｓ）などが挙げられる。

本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
［溶媒］ テトラヒドロフラン
［装置名］ ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
［カラム］ ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ
（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用。
［カラム温度］ ２５℃
［試料濃度］ ０．１質量％
［流速］ ０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
［校正曲線］ ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０までの７サンプルによる校正曲線を使用。

層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）の塗設量は、１００ｍｇ／ｍ^２〜８００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜６００ｍｇ／ｍ^２がさらに好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜４００ｍｇ／ｍ^２が特に好ましい。
また、硬化性化合物（ａ１）と重合性官能基を有さない化合物とを併用する場合は、これらの合計の塗設量が上記範囲であることが好ましい。

＜平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）＞
平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）を、「粒子（ａ２）」ともいう。
粒子（ａ２）は、反射防止フィルムにおいて、バインダー樹脂からなる膜（層（ｃａ））の表面から突出し、凹凸形状（モスアイ構造）を形成する粒子である。
粒子（ａ２）としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、膜強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くのバインダーと屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつモスアイ構造が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。
樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。

粒子（ａ２）の平均一次粒径は、粒子が並んでモスアイ構造を形成できる観点から１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１７０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
粒子（ａ２）として、１種のみ使用してもよいし、平均一次粒径の異なる２種以上の粒子を用いてもよい。

粒子（ａ２）の平均一次粒径は、体積平均粒径の累積の５０％粒径を指す。粒径の測定には走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる事ができる。粉体粒子（分散液の場合は乾燥させて溶剤を揮発させたもの）をＳＥＭ観察により適切な倍率（５０００倍程度）で観察し、一次粒子１００個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の５０％粒径を平均一次粒径とすることができる。粒子が球形でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。反射防止フィルム中に含まれる粒子を測定する場合は、反射防止フィルムを表面側から上記同様ＳＥＭで観察して算出する。この際、観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング処理などを適宜施してよい。

粒子（ａ２）の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。
粒子（ａ２）は、中実粒子であっても、中空粒子であってもよいが、中実粒子であることが好ましい。
また、シリカ粒子については、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。

粒子（ａ２）は塗布液中での分散性向上、膜強度向上、凝集防止のために表面処理された無機微粒子を使用することが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の＜０１１９＞〜＜０１４７＞に記載のものと同様である。
特に、バインダー成分である硬化性化合物（ａ１）との結着性を付与し、膜強度を向上させる観点から、粒子表面を不飽和二重結合および粒子表面と反応性を有する官能基を有する化合物で表面修飾し、粒子表面に不飽和二重結合を付与することが好ましい。表面修飾に用いる化合物としては、硬化性化合物（ａ１）として上述した、重合性官能基を有するシランカップリング剤を好適に用いることができる。

平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子の具体的な例としては、シーホスターＫＥ−Ｐ１０（平均一次粒径１００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ−Ｐ３０（平均一次粒径３００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ−Ｓ３０（平均一次粒径３００ｎｍ、耐熱性１０００℃、日本触媒（株）製焼成シリカ）、エポスターＳ（平均一次粒径２００ｎｍ、日本触媒（株）製メラミン・ホルムアルデヒド縮合物）、エポスターＭＡ―ＭＸ１００Ｗ（平均一次粒径１７５ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、エポスターＭＡ―ＭＸ２００Ｗ（平均一次粒径３５０ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、スタフィロイド（アイカ工業（株）製多層構造有機微粒子）、ガンツパール（アイカ工業（株）製ポリメチルメタクリレ−ト、ポリスチレン粒子）などを好ましく用いることができる。

粒子（ａ２）としては、表面のヒドロキシル基量が適度に多く、かつ硬い粒子であるという理由から、焼成シリカ粒子であることが特に好ましい。
焼成シリカ粒子は、加水分解が可能なシリコン化合物を水と触媒とを含む有機溶媒中で加水分解、縮合させることによってシリカ粒子を得た後、シリカ粒子を焼成するという公知の技術により製造することができ、たとえば特開２００３−１７６１２１号公報、特開２００８−１３７８５４号公報などを参照することができる。
焼成シリカ粒子を製造する原料のシリコン化合物としては特に限定されないが、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン化合物；ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、トリメチルシラノール等のシラノール化合物；等が挙げられる。上記例示のシラン化合物のうち、アルコキシシラン化合物が、より入手し易く、かつ、得られる焼成シリカ粒子に不純物としてハロゲン原子が含まれることが無いので特に好ましい。本発明にかかる焼成シリカ粒子の好ましい形態としては、ハロゲン原子の含有量が実質的に０％であり、ハロゲン原子が検出されないことが好ましい。
焼成温度は特に限定されないが、８００〜１３００℃が好ましく、１０００℃〜１２００℃がより好ましい。

粒子（ａ２）の塗設量は、５０ｍｇ／ｍ^２〜２００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜１８０ｍｇ／ｍ^２がさらに好ましく、１３０ｍｇ／ｍ^２〜１７０ｍｇ／ｍ^２が特に好ましい。下限以上では、モスアイ構造の凸部が数多く形成できるため反射防止性がより向上しやすく、上限以下であると、液中での凝集が生じにくく、良好なモスアイ構造を形成しやすい。

粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下で、かつ粒径の分散度（ＣＶ値）が５％未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有することがモスアイ構造の凹凸の高さが均一になり、反射率がより低下するため好ましい。ＣＶ値は通常レーザー回折型粒径測定装置を用いて測定されるが、他の粒径測定方式でも良いし、本発明の反射防止層の表面ＳＥＭ像から、画像解析によって粒径分布を求め算出することもできる。ＣＶ値は４％未満であることがより好ましい。

層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）以外の成分を含有していてもよく、たとえば、前述の重合性官能基を有さない化合物、溶剤、重合開始剤、粒子（ａ２）の分散剤、レベリング剤、防汚剤等を含有していてもよい。

＜溶剤＞
溶媒としては、粒子（ａ２）と極性が近いものを選ぶのが分散性を向上させる観点で好ましい。具体的には、例えば粒子（ａ２）が金属酸化物粒子の場合にはアルコール系の溶剤が好ましく、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。また、例えば粒子（ａ２）が疎水化表面修飾がされた金属樹脂粒子の場合には、ケトン系、エステル系、カーボネート系、アルカン、芳香族系等の溶剤が好ましく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶剤は、分散性を著しく悪化させない範囲で複数種混ぜて用いてもかまわない。

＜粒子（ａ２）の分散剤＞
粒子（ａ２）の分散剤は、粒子同士の凝集力を低下させることにより、粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。分散剤としては、特に限定されないが、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２１６４、Ｂｙｋｕｍｅｎ、ＢＹＫ−２００９、ＢＹＫ−Ｐ１０４、ＢＹＫ−Ｐ１０４Ｓ、ＢＹＫ−２２０Ｓ、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０３、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０４、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０５（以上商品名）などが挙げられる。

＜レベリング剤＞
レベリング剤は、層（ａ）形成用組成物の表面張力を低下させることにより、塗布後の液を安定させ硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。例えば、特開２００４−３３１８１２号公報、特開２００４−１６３６１０号公報に記載の化合物等を用いることができる。

上記レベリング剤は、層（ａ）形成用組成物の全固形分中に０．０１〜５．０質量％含有されることが好ましく、０．０１〜３．０質量％含有されることがより好ましく、０．０１〜２．０質量％含有されることが特に好ましい。

＜防汚剤＞
防汚剤は、モスアイ構造に撥水撥油性を付与することにより、汚れ又は指紋の付着を抑制することができる。例えば、特開２０１２−８８６９９号公報に記載の化合物等を用いることができる。

防汚剤は層（ａ）中の全固形分に対して０．０１〜５．０質量％含有されることが好ましく、０．０１〜３．０質量％含有されることがより好ましく、０．０１〜２．０質量％含有されることが特に好ましい。

＜重合開始剤＞
層（ａ）には、重合開始剤を含んでいてもよい。
硬化性化合物（ａ１）が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落＜０１３３＞〜＜０１５１＞に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

層（ａ）中の重合開始剤の含有量は、層（ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層（ａ）中の全固形分に対して、０．１〜８質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。

層（ａ）には、上述したシランカップリング剤を反応させるために光あるいは熱により酸又は塩基を発生する化合物（以下、光酸発生剤、光塩基発生剤、熱酸発生剤、熱塩基発生剤と称する場合がある。）を含んでいてもよい。

＜光酸発生剤＞
光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、イミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物等を挙げることができる。また、トリアジン類（例えば、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなど）、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物を挙げることもできる。
また、光により酸を発生する基、または化合物をポリマーの主鎖もしくは側鎖に導入した化合物を用いることができる。
さらに、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａｄ ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（Ｃ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。

＜熱酸発生剤＞
熱酸発生剤としては、酸と有機塩基からなる塩を挙げることができる。
上記の酸としては、スルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸や硫酸、リン酸のような無機酸が挙げられる。硬化性化合物（ａ１）に対する相溶性の観点からは、有機酸がより好ましく、スルホン酸、ホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が特に好ましい。好ましいスルホン酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）、ベンゼンスルホン酸（ＢＳ）、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＢＳ）、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸（ＣＢＳ）、１，４−ナフタレンジスルホン酸（ＮＤＳ）、メタンスルホン酸（ＭｓＯＨ）、ノナフルオロブタン−１−スルホン酸（ＮＦＢＳ）などが挙げられる。

酸発生剤の具体例としては特開２０１６−８０３号に記載のものを好適に用いることができる。

＜光塩基発生剤＞
光塩基発生剤としては、活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質を挙げることができる。より具体的には、（１）紫外線、可視光、又は赤外線の照射により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、（２）分子内求核置換反応や転位反応などにより分解してアミン類を放出する化合物、あるいは（３）紫外線、可視光、又は赤外線の照射により何らかの化学反応を起こして塩基を放出するものを使用できる。
本発明に用いられる光塩基発生剤は、紫外線、電子線、Ｘ線、赤外線および可視光線などの活性エネルギー線の作用により塩基を発生する物質であれば特に限定されない。
具体的には特開２０１０−２４３７７３に記載のものを好適に用いる事ができる。

層（ａ）中の、光又は熱により酸又は塩基を発生する化合物の含有量は、層（ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層（ａ）中の全固形分に対して、０．１〜８質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。

［工程（２）］
工程（２）は、工程（１）の層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程であり、具体的には、工程（１）の層（ａ）中の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させて、硬化された化合物（ａ１ｃ）を含む層（ｃａ）を得る工程である。
工程（２）で硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させることにより、粒子（ａ２）を動きにくくして、粒子（ａ２）が凝集することを抑制することができる。
硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させるとは、硬化性化合物（ａ１）のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。工程（２）で硬化性化合物（ａ１）の一部のみを硬化させ、未硬化の硬化性化合物（ａ１）の一部を工程（４）で仮支持体に浸透（仮支持体が機能層を有する場合は機能層に浸透してもよい）させる方法、又は層（ｂ）へ浸透させる方法などにより、層（ｃａ）の厚みを薄くして、粒子（ａ２）を層（ｃａ）の支持体側の界面から突出させて、良好な凹凸形状（モスアイ構造）を形成することができる。

硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、硬化性化合物（ａ１）が光硬化性の化合物であって、工程（２）において光（好ましくは紫外線）を照射することにより、硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させることが好ましい。
工程（２）の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させる条件が、層（ａ）形成用組成物から粒子（ａ２）を除いた組成物を仮支持体上に２μｍの厚さで塗布し、硬化させた場合に、硬化率が２〜２０％となる条件であることが好ましく、硬化率が３〜１５％となる条件であることがより好ましく、硬化率が５〜１２％となる条件であることが更に好ましい。

硬化率は、以下の式から求められる。
（１−硬化後の残存重合性官能基数／硬化前の重合性官能基数）×１００％
なお、重合性官能基は、重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する基である。硬化率は、以下の方法で測定される。
より具体的には、Ｔｈｅｒｍｏ ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＮＩＣＯＬＥＴ６７００ ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光光度計）を使用して硬化前の硬化性化合物そのものをＫＢｒ−ＩＲ測定しカルボニル基のピーク（１６６０−１８００ｃｍ ^−１）面積と重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピーク高さ（８０８ｃｍ^−１）を求め、硬化後の一回反射のＩＲ（ｉｎｆｒａｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）測定から同様にカルボニル基ピーク面積に対する重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピークを求め、紫外線照射前後で比較することにより硬化率を算出した。ここで硬化率の計算に際し、８０８ｃｍ^−１における測定深度を８２１ｎｍ、１６６０−１８００ｃｍ^−１における深度を３８４ｎｍとして規格化している。

工程（２）において、紫外線を１〜９０ｍＪ／ｃｍ^２の照射量で照射することが好ましく、１．２〜４０ｍＪ／ｃｍ^２の照射量で照射することがより好ましく、１．５〜１０ｍＪ／ｃｍ^２の照射量で照射することが更に好ましい。照射量の最適値は層（ａ）形成用組成物の組成によって異なるため、適宜調整することができる。

工程（２）において、層（ａ）の仮支持体側とは反対側から紫外線を照射して硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させることが製造適正上好ましい。

酸素濃度０．１〜５．０体積％の環境下で工程（２）を行うことが好ましく、酸素濃度０．５〜１．０体積％の環境下で工程（２）を行うことがより好ましい。酸素濃度を上記範囲とすることで、特に層（ａ）の仮支持体側の領域を硬化させることができる。

化合物（ａ１ｃ）は、硬化性化合物（ａ１）の硬化物である。
化合物（ａ１ｃ）の分子量は特に限定されない。また、化合物（ａ１ｃ）は、未反応の重合性官能基を有していてもよい。
工程（２）で得られる層（ｃａ）は、層中に硬化性化合物（ａ１）と化合物（ａ１ｃ）とを含む層である。
なお、本発明では、工程（２）の後、工程（４−２）、（７）、及び（９）において、層（ｃａ）を更に硬化させうるものであり、それぞれの工程における硬化前と硬化後で各層が含有する成分及びその組成（硬化性化合物（ａ１）とその硬化物である化合物（ａ１ｃ）の組成比など）は異なるが、本発明では便宜的にいずれの段階においても層（ｃａ）と呼ぶものとする。

［工程（３）］
工程（３）は、支持体及び上記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの層（ｂ）を、上記層（ｃａ）と貼り合わせる工程である。
層（ｃａ）と粘着フィルムの層（ｂ）とを貼り合わせる方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができ、たとえばラミネート法が挙げられる。
層（ｃａ）と層（ｂ）とが接するように粘着フィルムを貼り合わせることが好ましい。
工程（３）の前に、層（ｃａ）を乾燥する工程を有していてもよい。層（ｃａ）を乾燥する工程を有する場合は、層（ｃａ）の乾燥温度は２０〜６０℃が好ましく、２０〜４０℃がより好ましい。乾燥時間は０．１〜１２０秒が好ましく、１〜３０秒がより好ましい。

本発明では、工程（３）において粘着フィルムの層（ｂ）と層（ｃａ）とを貼り合わせ、後述する工程（４）において粒子（ａ２）を、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出させることで、また、より好ましくは工程（４−２）において粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）の一部をさらに硬化することで、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の硬化前に空気界面に露出しないようにして、凝集を抑制し、粒子（ａ２）によって形成された良好な凹凸形状を作製できる。

（粘着フィルム）
粘着フィルムは、支持体と粘着剤を含む層（ｂ）とを有する。

＜層（ｂ）＞
層（ｂ）は、粘着剤を含む層であり、粘着剤は、ゲル分率が９５．０％以上の粘着剤であることが好ましい。
粘着剤のゲル分率が９５．０％以上であることで、本発明の反射防止フィルムの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分が反射防止フィルム表面に残りにくくなり、粘着剤成分が粒子の凹凸間を埋めることで生じる反射率の上昇を抑制する効果が高い。
粘着剤のゲル分率は、９５．０％以上９９．９％以下であることが好ましく、９７．０％以上９９．９％以下であることがより好ましく、９８．０％以上９９．９％以下であることが更に好ましい。
粘着剤のゲル分率は、粘着剤を、２５℃で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に１２時間浸漬した後の不溶解分の比率であり、下記式から求められる。
ゲル分率＝（粘着剤のＴＨＦへの不溶解分の質量）／（粘着剤の総質量）×１００（％）

粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることが好ましく、７０００以下であることがより好ましく、５０００以下であることが特に好ましい。ゾル成分の重量平均分子量を上記範囲にすることによって、本発明の反射防止フィルムの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分が反射防止フィルム表面に残りにくくすることができる。
粘着剤のゾル成分は、粘着剤を、２５℃で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に１２時間浸漬した後のＴＨＦへの溶解分を表す。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析することができる。

粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ ‘）が１．３ＧＰａ以下であり、かつ粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることも好ましい。
粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ‘）が１．３×１０^５Ｐａ以下であり、かつ粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量が１００００以下であることも好ましい。
粘着剤の３０℃、１Ｈｚでの貯蔵弾性率（Ｇ‘）は０．１×１０^５Ｐａ以上１．３×１０^５Ｐａ以下がより好ましく、０．１×１０^５Ｐａ以上１．２×１０^５Ｐａ以下が更に好ましい。貯蔵弾性率が０．１×１０^５Ｐａ以上であると、粘着剤の凝集破壊が起こりにくく、取り扱いが容易である。貯蔵弾性率が１．３×１０^５Ｐａ以下であると、粒子の隙間に粘着剤が入り込みやすくなるため、粒子の凝集を抑制する効果が得られやすくなり、１．２×１０^５Ｐａ以下であると特に良好な反射率を有する反射防止フィルムが得られる。
また、この場合の粘着剤におけるゾル成分の重量平均分子量の好ましい範囲も前述したものと同様である。

層（ｂ）の膜厚は０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下であることが更に好ましい。

粘着剤としては、重合体を含むことが好ましく、（メタ）アクリル系重合体を含むことがより好ましい。特に、アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種のモノマーの重合体（２種以上のモノマーの場合は共重合体）が好ましい。（メタ）アクリル系重合体の重量平均分子量は、２０万〜２００万であることが好ましい。

アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、イソセチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートモノマーのアルキル基は、直鎖、分枝状、環状のいずれでもよい。上記モノマーは２種以上併用されてもよい。

脂肪族環を有する（メタ）アクリレートモノマーの好適な例としては、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でもシクロヘキシル（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。

（メタ）アクリル系重合体は、アルキル基の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種と、他の共重合性モノマーの少なくとも１種とからなる共重体であってもよい。この場合、他の共重合性モノマーとしては、水酸基、カルボキシル基、及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種の基を含有する共重合性ビニルモノマー、ビニル基を有する共重合性ビニルモノマー、芳香族系モノマー等が挙げられる。

水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類、及び、Ｎ−ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の水酸基含有（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種であることが好ましい。

（メタ）アクリル系重合体の１００質量部に対して、水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーを０．１〜１５質量部含有することが好ましい。

カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレートからなどが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種であることが好ましい。

（メタ）アクリル共重合体の１００質量部に対して、カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーを０．１〜２質量部含有することが好ましい。

アミノ基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、モノメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のモノアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

芳香族系モノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族基含有（メタ）アクリル酸エステル類のほか、スチレン等が挙げられる。

上記以外の共重合性ビニルモノマーとしては、アクリルアミド、アクリロニトリル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの各種ビニルモノマーが挙げられる。

粘着剤は、粘着剤を形成するための組成物（粘着剤組成物ともいう）の硬化物を含むものであってもよい。
粘着剤組成物は、上記重合体と架橋剤とを含むことが好ましく、熱又は紫外線（ＵＶ）などを用いて架橋しても良い。架橋剤としては、２官能以上のイソシアネート系架橋剤、２官能以上のエポキシ系架橋剤、アルミニウムキレート系架橋剤からなる化合物群のうちから選択される１種以上の架橋剤が好ましい。架橋剤を用いる場合は、本発明の反射防止フィルムの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、粘着剤成分を反射防止フィルム表面に残りにくくする観点から、上記重合体の１００質量部に対して、０．１〜１５質量部含有することが好ましく、３．５〜１５質量部含有することがより好ましく、３．５質量部超１５質量部未満が更に好ましく、５．１〜１０質量部含有することが特に好ましい。

２官能以上のイソシアネート系化合物としては、１分子中に少なくとも２個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であればよく、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート類（１分子中に２個のＮＣＯ基を有する化合物）のビュレット変性体、及びイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン又はグリセリン等の３価以上のポリオール（１分子中に少なくとも３個以上のＯＨ基を有する化合物）とのアダクト体（ポリオール変性体）などが挙げられる。
また、３官能以上のイソシアネート化合物が、１分子中に少なくとも３個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であり、特にヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
２官能以上のイソシアネート系架橋剤は、重合体１００質量部に対して、０．０１〜５．０質量部含まれることが好ましく、０．０２〜３．０質量部含まれることがより好ましい。

粘着剤組成物は、帯電防止性能を付与するため、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤はイオン化合物であることが好ましく４級オニウム塩であることがさらに好ましい。

４級オニウム塩である帯電防止剤としては、例えば、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルホスホニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルトリメチルアンモニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルジメチルエチルアンモニウム塩などを用いることができる。これらのアルキル基は、不飽和結合を有するアルケニル基であってもよい。

帯電防止剤としては、他にノニオン系、カチオン系、アニオン系、両性系の界面活性剤、イオン性液体、アルカリ金属塩、金属酸化物、金属微粒子、導電性ポリマー、カーボン、カーボンナノチューブなども用いることができる。

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩などが挙げられ、イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。

帯電防止剤は、重合体１００質量部に対して、０．１〜１０質量部含有することが好ましい。

粘着剤組成物は、さらに帯電防止補助剤としてＨＬＢが７〜１５のポリエーテル変性シロキサン化合物を含有することもできる。
ＨＬＢとは、例えばＪＩＳ（日本工業規格） Ｋ３２１１（界面活性剤用語）等で規定する親水親油バランス（親水性親油性比）である。

粘着剤組成物は、さらに架橋促進剤を含有することもできる。架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、共重合体と架橋剤との反応（架橋反応）に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物又は有機錫化合物が好ましい。

架橋促進剤は、共重合体の１００質量部に対して、０．００１〜０．５質量部含まれることが好ましい。

本発明の積層体は、層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素ないしシリコーンからなる低摩擦部位を有する滑り剤（以下、「滑り剤ａ」とも呼ぶ。）が存在することが好ましい。
層（ｂ）の層（ｃａ）側の表面に滑り剤ａが存在することで、本発明の反射防止フィルムの製造において、粘着フィルムを剥離する際に、層（ｂ）中の粘着剤が反射防止フィルムの表面に残る（転写される）ことを効果的に防ぐことができる。

＜支持体＞
粘着フィルムにおける支持体について説明する。
支持体としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなるプラスチックフィルムが好ましく用いられる。支持体用のプラスチックフィルムとしては、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステルフィルム、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、セルロースアシレート等のセルロース系樹脂等からなるフィルムが挙げられる。ただし、上記（メタ）アクリル系樹脂は、ラクトン環構造を有する重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環構造を有する重合体を含む。
このほか、必要な強度を有しかつ光学適性を有するものであれば、他のプラスチックフィルムも使用可能である。支持体は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されていてもよく、また、延伸倍率又は延伸の結晶化に伴い形成される軸方法の角度を制御したプラスチックフィルムでもよい。

支持体としては、紫外線透過性を有するものが好ましい。紫外線透過性を有することで、工程（４−２）及び（７）において層（ｃａ）を硬化する際、支持体側から紫外線照射が可能になるため、製造適性上好ましい。
具体的には、支持体の波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが特に好ましい。波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であると支持体側から紫外線を照射して層（ｃａ）を硬化させやすく好ましい。
また、支持体上に層（ｂ）を形成した粘着フィルムの波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが特に好ましい。

支持体の膜厚は特に限定されないが、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下であることが更に好ましい。

支持体上に層（ｂ）を形成した粘着フィルムとしては、市販の保護フィルムを好適に用いることができる。具体的には、藤森工業（株）製のＡＳ３−３０４、ＡＳ３−３０５、ＡＳ３−３０６、ＡＳ３−３０７、ＡＳ３−３１０、ＡＳ３−０４２１、ＡＳ３−０５２０、ＡＳ３−０６２０、ＬＢＯ−３０７、ＮＢＯ−０４２４、ＺＢＯ−０４２１、Ｓ−３６２、ＴＦＢ−４Ｔ３−３６７ＡＳ等が挙げられる。

工程（４−２）及び（７）では、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持しながら層（ｃａ）を硬化するが、工程（４−２）の前の段階（すなわち工程（４）の完了後）において、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出した粒子（ａ２）によって形成された凹凸形状を有していることが好ましい。こうすることで、工程（７）で層（ｃａ）を硬化した後、工程（８）で層（ｂ）を剥離すると、層（ａ）の表面から粒子（ａ２）が突出した状態の反射防止フィルムを得ることができる。
工程（４−２）の前の段階で、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出した粒子（ａ２）によって形成された凹凸形状を有しているようにするためには、工程（４）で、硬化性化合物（ａ１）の一部を層（ｂ）に浸透させることが好ましい。

［工程（４）］
工程（４）は、粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出するように、層（ｃａ）の支持体側の界面（好ましくは層（ｃａ）と層（ｂ）の界面）の位置を仮支持体側に近づける工程である。
なお、「粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、層（ｃａ）の支持体側の界面から突出する」とは、別の言い方をすると、「粒子（ａ２）が、層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層から表出しておらず、かつ、層（ｃａ）及び層（ｂ）の両層にまたがって存在している（粒子（ａ２）が層（ｃａ）と層（ｂ）との界面を横切って存在している）」とも言える。
工程（４）は、硬化性化合物（ａ１）の一部を層（ｂ）に浸透させることにより行われることが好ましい。
工程（４）において、硬化性化合物（ａ１）の一部を層（ｂ）に浸透させる場合、工程（３）が完了した後の積層体を６０℃未満に保つことが好ましく、４０℃以下に保つことがより好ましい。温度を４０℃以下に保つことで、硬化性化合物（ａ１）、化合物（ａ１ｃ）、及び粘着剤の粘度を高く保つことができるとともに、粒子（ａ２）の熱運動を抑制することができるため、粒子（ａ２）の凝集による反射防止能の低下及びヘイズ又は白濁感の上昇を防ぐ効果が大きい。上記積層体を保つ温度の下限は特に限定されるものではなく、室温であっても、室温より低い温度であってもよい。

［工程（４−２）］
工程（４−２）は、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）の一部を硬化させる工程であり、具体的には、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の一部を硬化させる工程である。
層（ｃａ）の一部を硬化するとは、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。これにより、反射防止フィルムの反射防止層におけるバインダー樹脂を形成することができる。また、工程（４−２）の完了後の層（ｃａ）中に未硬化の硬化性化合物（ａ１）を残存させることで、後述する工程（６）において、層（ｃａ）と基材との貼合又は接着が可能となる。
工程（４−２）で粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持することで、粒子（ａ２）の凝集を抑制し、モスアイ構造を形成することができる。
なお、層（ｂ）を設けた後に層（ｂ）又は層（ｃａ）の成分の揮発などにより、粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持できないと考えられる場合は、層（ｂ）をあらかじめ厚くしておく等の操作を行うことができる。

工程（４−２）における硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化するのが好ましい。紫外線の照射量が１０ｍＪ／ｃｍ^２以上であれば、層（ｂ）と粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分との密着力が適度に強くなり、仮支持体を剥離する工程（５）において仮支持体上に粒子（ａ２）及び層（ｃａ）が残存しにくく、得られる反射防止フィルムに欠陥(反射率が下がらない領域)が生じにくい。また、紫外線の照射量が１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であれば、工程（４−２）の完了後の層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）の残存量が減少しすぎず、工程（６）において層（ｃａ）と基材との適度な接着力が得られる。工程（４−２）における照射量は特に限定されず、使用する層（ｂ）と粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分との密着力、及び層（ｃａ）と基材との密着力を考慮して適宜調整することができる。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。

工程（４−２）における硬化時の酸素濃度は０〜１．０体積％であることが好ましく、０〜０．１体積％であることがさらに好ましく、０〜０．０５体積％であることが特に好ましい。硬化時の酸素濃度を１．０体積％よりも小さくすることで、酸素による硬化阻害の影響を受けにくくなり、強固な膜となる。

工程（４−２）において、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の一部を硬化させる際、支持体の層（ｃａ）側とは反対側から紫外線を照射してもよいし、仮支持体側から紫外線を照射してもよい。

［工程（５）］
工程（５）は、工程（４）又は（４−２）の完了後の積層体から仮支持体を剥離する工程である。
工程（４）又は（４−２）の完了後の積層体から仮支持体を剥離できるためには、層（ｃａ）と仮支持体との間に適度な接着力が付与されていることにより、層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分（図１の符号３で示される粒子（ａ２）と符号４で示される層（ｃａ）とからなる部分であり、図２の反射防止層２に相当する部分）を粘着フィルムに転写できる状態となっていることが好ましい。例えば、製造プロセス中の積層体の曲げ又は搬送テンションでは層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分は仮支持体から脱離しないが、層（ｂ）に接触させた際、又は層（ｂ）に接触させて紫外線照射を施した際に層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分が脱離する状態となっていることが好ましい。

工程（５）が完了して得られる積層体は、本発明の積層体である。

工程（２）、（３）、（４）、（４−２）、（５）において、層（ｃａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。
ここで、層（ｃａ）の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないとは、層（ｃａ）の面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、８０％以上であることを表し、好ましくは９５％以上である。

工程（４）、（４−２）、（５）において、層（ｃａ）の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいことが好ましい。
層（ｃａ）の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいと粒子（ａ２）が層（ｃａ）及び層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態にすることができるため好ましい。

さらに、工程（４）、（４−２）、（５）において、層（ｃａ）の膜厚は、粒子（ａ２）の平均一次粒径の５〜７０％であることが好ましく、２０〜４０％であることがより好ましい。層（ｃａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径の５％以上であると、後述する工程（８）で粘着フィルムを剥離して、層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分を基材へ転写した後に得られる反射防止フィルムから粒子（ａ２）が脱落しにくく耐擦傷性が向上するため好ましい。また、層（ｃａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径の７０％以下であると屈折率の傾斜が十分となり、十分な反射防止性能が得られる。層（ｃａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径の２０〜４０％であると、十分な耐擦傷性と反射防止能が両立できるため好ましい。後述の工程（６）〜（１０）においても同様である。
工程（５）の完了後の層（ｃａ）の膜厚は、層（ｃａ）の膜断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、任意に１００箇所の膜厚を計測してその平均値を求めた場合に、１０ｎｍ〜１００ｎｍ（より好ましくは２０ｎｍ〜９０ｎｍ、さらに好ましくは３０ｎｍ〜７０ｎｍ）となるように調整するのが好ましい。

工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面からは粒子（ａ２）が突出していないことが好ましい。
工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さは、３０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さが３０ｎｍ以下であると、粒子（ａ２）が層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面から突出しておらず、後述する工程（８）で粘着フィルムを剥離して、層（ｃａ）及び粒子（ａ２）を含む部分（反射防止層）を基材へ転写する際に転写されやすく、また、転写後に反射防止層に欠陥が生じにくい。また、層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さがが１０ｎｍ以下であると工程（６）において層（ｃａ）と基材とを貼り合せる際に良好な密着を確保することができ、反射防止フィルムのヘイズの上昇を引き起こす転写層（粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分）−基材間の空隙発生を抑制することができるため好ましい。
本発明において、表面粗さはＳＰＡ−４００（日立ハイテクノサイエンス製）を使用し、測定範囲５μｍ×５μｍ、測定モード：ＤＦＭ，測定周波数：２Ｈｚの測定条件で測定した。

工程（５）が完了して得られる積層体における粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分は、粘着フィルムの層（ｂ）から剥離できるものである。
粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分が粘着フィルムの層（ｂ）から剥離できるとは、粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と粘着フィルムの層（ｂ）との間に適度な接着力が付与されていることにより、後述の転写工程（工程（８））において粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分が層（ｂ）の表面から脱離して基材表面に転写できる状態となっていることを示す。粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分（反射防止層）が基材表面に転写できる、すなわち転写性があるとは、転写後の反射防止フィルムの転写面（反射防止層を有する面）とは反対側に、粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）を貼り合わせて目視観察した際、反射防止層を転写する前よりも反射率が下がっている領域の面積の割合が、転写する面積に対して、８０％以上であることを表す。粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と層（ｂ）との接着力については特に限定されないが、例えば幅２５ｍｍの転写部材（工程（５）が完了して得られる積層体）の粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分を接着剤を用いて厚み１．１ｍｍのガラス基材に固定化し、粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と層（ｂ）を９０°方向に速度１０００ｍｍ／ｍｉｎで剥離させたときの剥離力によって測定することができる。上記方法によって測定した剥離力が０．２Ｎ／２５ｍｍ〜４．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましく、０．６Ｎ／２５ｍｍ〜４．０Ｎ／２５ｍｍであることがより好ましい。剥離力が０．６Ｎ／２５ｍｍ以上であると、工程（５）において、仮支持体を剥離する際に、仮支持体上に粒子（ａ２）及び層（ｃａ）の一部が残存しにくいため、最終的に得られる反射防止フィルムの反射率及びヘイズが低下する。剥離力が４．０Ｎ／２５ｍｍ以下であると、工程（８）において、粘着フィルムを剥離する際、層（ｂ）に粒子（ａ２）の一部が残存しにくいため、最終的に得られる反射防止フィルムの反射率及びヘイズが低下する。

工程（５）が完了して得られる積層体は、積層体の全ヘイズから、積層体から粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分を取り除いてなる部分のヘイズを差し引いた値（Δヘイズ）が１．００％以下であることが好ましい。
ヘイズの測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００で、ＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に従って測定することができる。
Δヘイズはマイナスの値であっても良い。Δヘイズは、１．００％以下であることが好ましく、０．８０％以下であることがより好ましく、０．４０％以下であることがさらに好ましい。Δヘイズを１．００％以下とすることで、工程（５）が完了して得られる積層体を用いて得られる反射防止フィルムのヘイズを低くし、良好な反射防止性能を得ることが可能となる。Δヘイズが０．４０％以下である場合は特に、工程（５）が完了して得られる積層体を用いて得られる反射防止フィルムの転写面とは反対側を粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）に貼り合わせて目視観察した際でもヘイズによる白濁感が無く、優れた反射防止フィルムが得られる。

［工程（６）］
工程（６）は、上述の本発明の積層体の製造方法によって得られた積層体における層（ｃａ）と基材とを貼り合せる工程である。
層（ｃａ）と基材とを貼り合わせる方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができ、たとえばロールラミネート法が挙げられる。
層（ｃａ）と基材とが接するように粘着フィルムを貼り合わせることが好ましい。

（基材）
基材は、反射防止フィルムの基材として一般的に使用される透光性を有する基材であれは特に制限はないが、プラスチック基材又はガラス基材が好ましい。
プラスチック基材としては、種々用いることができ、例えば、セルロース系樹脂；セルロースアシレート（トリアセテートセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース）等、ポリエステル樹脂；ポリエチレンテレフタレート等、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、オレフィン系樹脂等を含有する基材が挙げられ、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、又は（メタ）アクリル系樹脂を含有する基材が好ましく、セルロースアシレートを含有する基材がより好ましく、セルロースアシレートフィルムであることが特に好ましい。セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
プラスチック基材の厚さは、通常、１０μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、透光性が高く、かつ十分な強度が得られるという観点から２０μｍ〜２００μｍが好ましく、２０μｍ〜１００μｍがより好ましい。プラスチック基材の透光性としては、可視光の透過率が９０％以上のものが好ましい。

なお、本発明においては、工程（６）の前に、基材上に機能層を設けてもよい。基材上に機能層を有する場合は、便宜的に、その機能層と基材との積層体を「基材」と呼ぶこともある。基材上に機能層を設けた場合には、工程（６）においては機能層と層（ｃａ）とを貼り合わせて、以降の工程を行うものとする。機能層としてはハードコート層が好ましい。

［工程（７）］
工程（７）は、粒子（ａ２）が、層（ｂ）及び層（ｃａ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ｃａ）を硬化させる工程であり、具体的には、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の一部又は全部を硬化させる工程である。なお、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）からなる群より選択される化合物の全部を硬化させるとは、通常の方法で硬化させた場合に、硬化しきれなかった化合物が残っている場合も含むものである。工程（７）における硬化率については、特に限定されないが、膜強度の観点から硬化率が６０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
工程（７）により、上記工程（６）で貼り合せた基材と層（ｃａ）とを接着させることができる。

工程（７）における硬化は上記工程（４−２）に記載の条件と同様の条件で行うことが好ましい。

［工程（８）］
工程（８）は、工程(７)で得られた積層体から粘着フィルムを剥離する工程である。
工程（８）において粘着フィルムを剥離するためには、工程（５）が完了して得られる積層体における粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分と層（ｂ）との接着力の指標として、上記測定法にて測定した剥離力が、０．２Ｎ／２５ｍｍ〜４．０Ｎ／２５ｍｍ以下であることが好ましい。

工程（８）が完了した後には、層（ｃａ）の表面に粒子（ａ２）によって形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する反射防止フィルムが得られるが、その後に更に工程（９）及び（１０）を行ってもよい。

［工程（９）］
工程（９）は、粒子（ａ２）が、層（ｃａ）の基材側の界面とは反対側の界面から突出した状態で、層（ｃａ）を硬化させる工程であり、具体的には、層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）を全て硬化させる工程である。なお、前述の工程（７）で層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）を全て硬化させた場合は、工程（９）を行わなくてもよい。

工程（９）における硬化は上記工程（４−２）に記載の条件と同様の条件で行うことが好ましい。
工程（９）において、層（ｃａ）の基材側とは反対側から紫外線を照射して層（ｃａ）中の硬化性化合物（ａ１）及び化合物（ａ１ｃ）を硬化させることが製造適正上好ましい。

工程（９）の完了後の層（ｃａ）は、層中に化合物（ａ１ｃ）を含む層である。ただし、前述の通り、通常の方法で硬化させた場合に、硬化しきれなかった化合物が残っていてもよい。

［工程（１０）］
工程（１０）は、工程（９）完了後の積層体を溶剤で洗浄する工程である。
本発明の積層体を用いた反射防止フィルムの製造においては、支持体及び層（ｂ）を剥離した際にも層（ｃａ）側に粘着剤が残りにくいが、工程（１０）により、基材及び層（ｃａ）は溶解せずに、粘着剤を溶解する溶剤（メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン等）を用いて洗浄してもよい。

［積層体］
本発明の積層体は、前述の通り、支持体、粘着剤を含む層（ｂ）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）、及び樹脂を含む層（ｃａ）を有する積層体であって、上記層（ｂ）は上記層（ｃａ）よりも上記支持体に近い側に存在し、上記粒子（ａ２）は、上記層（ｂ）及び上記層（ｃａ）を合わせた層中に埋没し、かつ上記層（ｃａ）の上記支持体側の界面から突出しており、上記粒子（ａ２）及び上記層（ｃａ）を含む部分は、上記層（ｂ）から剥離できる、積層体である。

樹脂を含む層（ｃａ）は、前述の本発明の積層体の製造方法において、工程（５）の後の層（ｃａ）に相当し、樹脂とは、工程（５）の層（ｃａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）を硬化した化合物（ａ１ｃ）に相当する。

本発明の積層体は、積層体の全ヘイズから、上記積層体から上記粒子（ａ２）及び上記層（ｃａ）を含む部分を取り除いてなる部分のヘイズを差し引いた値が１．００％以下であることが、低ヘイズであり、かつ反射防止性に優れた反射防止フィルムを製造するに当たり好ましい。

本発明の積層体は、搬送性及びロール巻き取り性の観点から、層（ｃａ）表面の保護のために層（ｃａ）の層（ｂ）側とは反対側の面に、更に剥離可能な部材（セパレーター）を有していてもよい。
上記セパレーターは、本発明の積層体から剥離可能な材質であれば、特に制限はないが、上記仮支持体と同様の部材を使用することもできるし、仮支持体そのものをセパレーターとして使用することもできる。

本発明の積層体において、層（ｃａ）の支持体側の界面の高さが、反対側の界面を起点として粒子（ａ２）の平均一次粒径の半分以下であることが好ましい。
また、本発明の積層体において、層（ｃａ）の膜厚は粒子（ａ２）の平均一次粒径の５〜７０％であることが好ましく、２０〜４０％であることがより好ましい。
本発明の積層体における層（ｃａ）側の表面は、その表面粗さが３０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
本発明の積層体は、粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を含む部分が、層（ｂ）から剥離できる積層体であり、上述の測定法で測定した剥離力が、０．２Ｎ／２５ｍｍ〜４．０Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。
その他、本発明の積層体における各層及び各成分についての説明、具体例及び好ましい範囲は、前述の本発明の積層体の製造方法において記載したものと同様である。

［反射防止フィルム］
本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムの好ましい実施形態の一例を図３に示す。
図３の反射防止フィルム１０は、基材９と反射防止層２とを有する。反射防止層２は、粒子（ａ２）（符号３）と層（ｃａ）であるバインダー樹脂膜（符号４）を含む。粒子３はバインダー樹脂膜４から突出し、モスアイ構造を形成している。

（モスアイ構造）
モスアイ構造とは、光の反射を抑制するための物質（材料）の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。特に、可視光の反射を抑制する目的の場合には、７８０ｎｍ未満の周期の微細構造パターンをもった構造のことを指す。微細構造パターンの周期が３８０ｎｍ未満であると、反射光の色味が小さくなり好ましい。また、モスアイ構造の凹凸形状の周期が１００ｎｍ以上であると波長３８０ｎｍの光が微細構造パターンを認識でき、反射防止性に優れるため好ましい。モスアイ構造の有無は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により表面形状を観察し、上記微細構造パターンが出来ているかどうか調べることによって確認することができる。

本発明の製造方法により製造された反射防止フィルムの反射防止層の凹凸形状は、隣り合う凸部の頂点間の距離Ａと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Ｂとの比であるＢ／Ａが０．４以上であることが好ましい。Ｂ／Ａが０．４以上であると、凸部同士の距離に対して凹部の深さが大きくなり、空気から反射防止層内部にかけてより緩やかに屈折率が変化する屈折率傾斜層を作ることができるため、反射率をより低減できる。
Ｂ／Ａは０．５以上であることが更に好ましい。Ｂ／Ａが０．５以上であれば、隣り合う凸部（粒子により形成される凸部）の頂点間の距離Ａが粒子径以上になり、粒子間に凹部が形成されることになる。その結果、凸部上側の曲率に依存する屈折率変化の急峻な部位による界面反射と、粒子間凹部の曲率に依存する屈折率変化の急峻な部位による界面反射の両者が存在することで、モスアイ構造による屈折率傾斜層効果に加えて、より効果的に反射率が低減されるものと推測される。
Ｂ／Ａは、硬化後の反射防止層におけるバインダー樹脂と粒子の体積比により制御することができる。そのため、バインダー樹脂と粒子の配合比を適切に設計することが重要である。また、バインダー樹脂がモスアイ構造を作製する工程の中で粘着剤を含む層（ｂ）に浸透したり、揮発したりすることにより反射防止層におけるバインダー樹脂と粒子の体積比が反射防止層形成用組成物中の配合比と異なる場合もあるため、反射防止フィルムの製造に用いられる、本発明の積層体における粘着剤を含む層（ｂ）とのマッチングを適切に設定することも重要である。

更に、低反射率を実現し、ヘイズの発生を抑制するには凸部を形成する粒子は均一に、適度な充填率で敷き詰められていることが好ましい。上記観点から、凸部を形成する粒子（ａ２）の含有量は、反射防止層全体で均一になるように調整されるのが好ましい。充填率は、ＳＥＭなどにより表面から凸部を形成する無機粒子を観察したときの最も表面側に位置した粒子（ａ２）の面積占有率（粒子占有率）として測定することができ、２５％〜６４％であり、２５〜５０％が好ましく、３０〜４５％がより好ましい。

反射防止フィルムの面の均一性をヘイズで評価することができる。測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００で、ＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に従って測定することができる。粒子同士が凝集し不均一であるものは、ヘイズが高くなる。ヘイズが低い方が好ましい。ヘイズの値は０．０〜３．０％が好ましく、０．０〜２．５％がより好ましく、０．０〜２．０％がさらに好ましい。

［ハードコート層］
本発明において、基材と層（ｃａ）の間に、さらにハードコート層を設けることができる。基材上にハードコート層を有する場合は、前述のように、本発明においては、基材上のハードコート層も含めて基材ということもある。
ハードコート層は、重合性基を有する化合物である硬化性化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、ハードコート層は、電離放射線硬化性の多官能モノマー、又は多官能オリゴマーを含む塗布組成物を基材上に塗布し、多官能モノマー若しくは多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマー、及び多官能オリゴマーの官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

具体的には上述した硬化性化合物（ａ１）と同様の化合物を用いることができる。

フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．６μｍ〜５０μｍ程度であり、好ましくは４μｍ〜２０μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましい。さらに、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

本発明におけるハードコート層は、反射防止層との界面から膜厚方向に１μｍ以内の領域にセルロースアシレートを含んでもよい。
セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報の＜００７２＞〜＜００８４＞に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
反射防止層との界面から膜厚方向に１μｍ以内の領域にセルロースアシレートを含むハードコート層は、たとえば、セルロースアシレートを含む基材（セルロースアシレートフィルムなど）に、基材に対する浸透性を有する溶媒と硬化性化合物とを含有するハードコート層形成用組成物を塗布し、基材に硬化性化合物を浸透させ、硬化させることで形成することができる。また、セルロースアシレートと硬化性化合物とを混合し、硬化させることでも形成することができる。

ハードコート層は、反射防止フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、セルロースアシレートと、電離放射線硬化性化合物の硬化物が検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。
また、ハードコート層は、例えば光の干渉を利用した反射分光膜厚計又はＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により、基材と反射防止層の中間に別の１層を検出することによっても測定することが出来る。反射分光膜厚計としては、ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）等を用いることが出来る。
本発明では、例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、硬化時の酸素濃度、および紫外線照射量を適宜調整することによりハーフキュアにすることができる。紫外線ランプにより１ｍＪ／ｃｍ^２〜３００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して硬化するのが好ましい。５ｍＪ／ｃｍ^２〜１００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜７０ｍＪ／ｃｍ^２であることがさらに好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。

硬化時の酸素濃度は０．０５〜５．０体積％であることが好ましく、０．１〜２体積％であることがさらに好ましく、０．１〜１体積％であることが特に好ましい。

（セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒）
ハードコート層形成用組成物は、セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒（「浸透性溶媒」とも言う）を含有することが好ましい。
セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒とは、セルロースアシレートを含有する基材（セルロースアシレート基材）に対する溶解能を有する溶剤である。
ここで、セルロースアシレート基材に対して溶解能を有する溶剤とは、２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさのセルロースアシレート基材を上記溶剤の入った１５ｍｌの瓶に室温下（２５℃）で６０秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析したとき、セルロースアシレートのピーク面積が４００ｍＶ／ｓｅｃ以上である溶剤のことを意味する。若しくは２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさのセルロースアシレート基材を上記溶剤の入った１５ｍｌの瓶に室温下（２５℃）で２４時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、セルロースアシレート基材が完全に溶解して形をなくすものも、セルロースアシレート基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。
浸透性溶媒としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド等を好ましく用いることが出来るがこれらに限定されない。メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチルがより好ましい。

ハードコート層形成用組成物は、浸透性溶媒以外の溶媒（たとえば、エタノール、メタノール、１−ブタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン等）を含んでいてもよい。
ハードコート層形成用組成物において、浸透性溶媒の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる全溶媒の質量に対して、５０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、７０質量％以上１００質量％以下であることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物の固形分濃度は、２０質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上６０質量％以下であることがより好ましい。

（その他の成分）
ハードコート層形成用組成物には、上記成分のほかに、更に溶媒、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等を適宜添加することもできる。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。

（重合開始剤）
必要に応じてラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び／又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。

（帯電防止剤）
帯電防止剤の具体例としては、４級アンモニウム塩、導電性ポリマー、導電性微粒子等の従来公知の帯電防止剤を用いることができ、特に限定されるものではないが、安価、かつ取り扱い容易性から、４級アンモニウム塩を有する帯電防止剤であることが好ましい。

（屈折率調整剤）
ハードコート層の屈折率を制御する目的で、屈折率調整剤として高屈折率モノマーまたは無機粒子を添加することができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、上記多官能モノマーおよび／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

（レベリング剤）
レベリング剤の具体例としては、フッ素系又はシリコーン系等の従来公知のレベリング剤を用いることが出来る。レベリング剤を添加したハードコート層形成用組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性を付与することができる。

本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムは、偏光板保護フィルムとして好適に用いることができる。
本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムを用いた偏光板保護フィルムは、偏光子と貼り合せて偏光板とすることができ、液晶表示装置などに好適に用いることができる。

［偏光板］
偏光板は、偏光子と、偏光子を保護する少なくとも１枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムであることが好ましい。

偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子又はポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。

［カバーガラス］
本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムをカバーガラスに適用することもできる。

［画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムを画像表示装置に適用することもできる。
画像表示装置としては、陰極線管（ＣＲＴ）を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を挙げることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。液晶セルは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなど様々な駆動方式の液晶セルが適用できる。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

＜実施例１＞
（ハードコート層形成用組成物の調製）
下記に記載の組成で各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液とした。

（ハードコート層塗布液ＨＣ−１）
Ａ−ＴＭＭＴ・・・３３．６質量部
イルガキュア１２７・・・１．４質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）・・・３５．８質量部
酢酸メチル・・・２９．２質量部

（ハードコート層塗布液ＨＣ−２）
Ａ−ＴＭＭＴ・・・２４．１質量部
ＡＤ−ＴＭＰ・・・１１．８質量部
ＤＰＣＡ−６０・・・１２．０質量部
イルガキュア１２７・・・２．１質量部
ＡＳ−１・・・６．９質量部
エタノール・・・０．４質量部
メタノール・・・６．７質量部
１−ブタノール・・・４．８質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）・・・１６．８質量部
酢酸メチル・・・１４．４質量部
ＦＰ−１・・・０．０５質量部

Ａ−ＴＭＭＴ ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業製）
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
ＡＤ−ＴＭＰ ：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製 ＮＫエステル）
ＤＰＣＡ−６０ ：カプロラクトン構造含有多官能アクリレートオリゴマー（日本化薬（株）製 ＫＡＹＡＲＡＤ）
ＡＳ−１ ：特許第４６７８４５１号公報の合成例６の反応温度と時間を７０℃及び６時間としたこと以外は同様にして、上記特許文献の（Ａ−６）に対応する化合物ＡＳ−１を作製した。出来上がった化合物ＡＳ−１は、エチレンオキサイド鎖を有する４級アンモニウム塩ポリマーであり、ＧＰＣで測定した重量平均分子量は約６万であった。
ＦＰ−１：下記式で表される含フッ素化合物

［シリカ粒子Ｐ１の合成］
撹拌機、滴下装置および温度計を備えた容量２００Ｌの反応器に、メチルアルコール６７．５４ｋｇと、２８質量％アンモニア水（水および触媒）２６．３３ｋｇとを仕込み、撹拌しながら液温を３３℃に調節した。一方、滴下装置に、テトラメトキシシラン１２．７０ｋｇをメチルアルコール５．５９ｋｇに溶解させた溶液を仕込んだ。反応器中の液温を３３℃に保持しながら、滴下装置から上記溶液を４４分間かけて滴下し、滴下終了後、さらに４４分間、液温を上記温度に保持しながら撹拌することにより、テトラメトキシシランの加水分解および縮合を行い、シリカ粒子前駆体を含有する分散液を得た。この分散液を、瞬間真空蒸発装置（（ホソカワミクロン（株）社製クラックス・システムＣＶＸ−８Ｂ型）を用いて加熱管温度１７５℃、減圧度２００ｔｏｒｒ（２７ｋＰａ）の条件で気流乾燥させることにより、シリカ粒子Ｐ１を得た。
シリカ粒子Ｐ１の平均一次粒径は１７０ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は３４０ＭＰａであった。

［焼成シリカ粒子Ｐ２の作製］
５ｋｇのシリカ粒子Ｐ１をルツボに入れ、電気炉を用いて９００℃で２時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕し、分級前焼成シリカ粒子を得た。さらにジェット粉砕分級機（日本ニューマ社製ＩＤＳ−２型）を用いて解砕および分級を行うことにより焼成シリカ粒子Ｐ２を得た。

［シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の作製］
５ｋｇの焼成シリカ粒子Ｐ２を、加熱ジャケットを備えた容量２０Ｌのヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製ＦＭ２０Ｊ型）に仕込んだ。焼成シリカ粒子Ｐ２を撹拌しているところに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）４５ｇを、メチルアルコール９０ｇに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら１５０℃まで約１時間かけて昇温し、１５０℃で１２時間保持して加熱処理を行った。加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３を得た。
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の平均一次粒径は１７１ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。

［シリカ粒子分散液ＰＡ−１の作製］
シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３を５０ｇ、ＭＥＫ２００ｇ、直径０．０５ｍｍジルコニアビーズ６００ｇを直径１２ｃｍの１Ｌ瓶容器に入れ、ボールミルＶ−２Ｍ（入江商会）にセットし、２５０回転／分で１０時間分散した。このようにして、シリカ粒子分散液ＰＡ−１（固形分濃度２０質量％）を作製した。

［化合物Ｃ３の合成］
還流冷却器、温度計を付けたフラスコに３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン１９．３ｇとグリセリン１，３−ビスアクリラート３．９ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート６．８ｇ、ジラウリン酸ジブチル錫０．１ｇ、トルエン７０．０ｇを添加し、室温で１２時間撹拌した。撹拌後、メチルハイドロキノン５００ｐｐｍを加え、減圧留去を行い化合物Ｃ３を得た。

［層（ａ）形成用組成物の調製］
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、塗布液とした。

組成物（Ａ−１）
Ｕ−１５ＨＡ・・・１．４質量部
化合物Ｃ３・・・１．５質量部
Ａ−ＴＭＰＴ・・・１．７質量部
クエン酸トリエチル・・・４．１質量部
イルガキュア１２７・・・０．２質量部
化合物Ｐ・・・０．１質量部
ＦＰ−２・・・０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１・・・３２．３質量部
エタノール・・・１２．７質量部
メチルエチルケトン・・・３３．２質量部
アセトン・・・１２．７質量部

組成物（Ａ−２）
Ｕ−１５ＨＡ・・・１．４質量部
化合物Ｃ３・・・１．５質量部
Ａ−ＴＭＰＴ・・・１．７質量部
スベリン酸ジメチル・・・４．１質量部
イルガキュア１２７・・・０．２質量部
化合物Ｐ・・・０．１質量部
ＦＰ−２・・・０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１・・・３２．３質量部
エタノール・・・１２．７質量部
メチルエチルケトン・・・３３．２質量部
アセトン・・・１２．７質量部

組成物（Ａ−３）
Ｕ−１５ＨＡ・・・１．４質量部
化合物Ｃ３・・・１．５質量部
Ａ−ＴＭＰＴ・・・１．７質量部
ＫＢＭ−４８０３・・・４．１質量部
イルガキュア１２７・・・０．２質量部
化合物Ｐ・・・０．１質量部
ＦＰ−２・・・０．１質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１・・・３２．３質量部
エタノール・・・１２．７質量部
メチルエチルケトン・・・３３．２質量部
アセトン・・・１２．７質量部

Ｕ−１５ＨＡ、化合物Ｃ３、及びＡ−ＴＭＰＴが硬化性化合物（ａ１）である。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）：ウレタンアクリレート
Ａ−ＴＭＰＴ：多官能アクリレート（新中村化学工業（株）製）
クエン酸トリエチル：エステル系化合物(東京化成工業（株）製)
スベリン酸ジメチル：エステル系化合物（東京化成工業（株）製）
ＫＢＭ−４８０３：ラジカル反応性基以外の反応性基を有するシランカップリング剤（信越化学工業（株）製）
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
化合物Ｐ：下記構造式で表される光酸発生剤(和光純薬（株）製)

ＦＰ−２ ：下記式で表される含フッ素化合物

＜反射防止フィルム１の作成＞
（工程（１） 層（ａ）の塗工）
仮支持体として１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＦＤ１００Ｍ、富士フイルム（製））上に、組成物（Ａ−１）をダイコーターを用いて２．８ｍｌ／ｍ^２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた。

（工程（２） 層（ａ）のプレ露光）
酸素濃度が１．４体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら、高圧水銀ランプ（Ｄｒ．ｈｏｎｌｅ ＡＧ社製 型式：３３３５１Ｎ 部品番号：ＬＡＭＰ−ＨＯＺ ２００ Ｄ２４ Ｕ ４５０ Ｅ）を用いて層（ａ）側から照射量２．４ｍＪ／ｃｍ^２、照度０．６０ｍＷで光照射し、硬化性化合物（ａ１）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得た。なお、照射量の測定は、アイグラフィック社製 アイ紫外線積算照度計 ＵＶ ＭＥＴＥＲ ＵＶＰＦ−Ａ１にＨＥＡＤ ＳＥＮＳＥＲ ＰＤ−３６５を取り付け、測定レンジ０．００にて測定した。

（工程（３） 粘着フィルムの貼り合わせ）
次いで、層（ｃａ）上に、藤森工業（株）製の保護フィルム（マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４）から剥離フィルムを剥離して得られる粘着フィルムを、粘着剤層（層（ｂ））が層（ｃａ）側になるように貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。
なお、ここでの保護フィルムとは、支持体／粘着剤層／剥離フィルムから構成される積層体を指し、保護フィルムから剥離フィルムを剥がした、支持体／粘着剤層から構成される積層体が粘着フィルムである。

使用した保護フィルムを以下に示す。
・マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４（藤森工業（株）製 帯電防止機能付き光学用保護フィルム）（以下、「ＡＳ３−３０４」ともいう）
支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：２０μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満

透過率の測定は、島津製作所（株）製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３１５０を用いて行った。

（工程（４） 硬化性化合物（ａ１）の層（ｂ）への浸透）
粘着フィルムの貼り合わせ後、２５℃の環境下で５分間静置し、硬化性化合物（ａ１）を層（ｂ）へ浸透させた。

（工程（４−２） 層（ｃａ）の部分硬化）
続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、支持体の層（ｃａ）側とは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ｃａ）の一部を硬化させた。

（工程（５） 仮支持体の剥離 積層体の作製）
上記積層体から、仮支持体であるＦＤ１００Ｍを１８０°方向に速度３０ｍ/ｍｉｎで剥離した。このようにして本発明の実施例である積層体１を作製した。

（ハードコート層付き基材の作製）
−ハードコート層の形成− 基材（ＴＪ２５、富士フイルム（株）製）上にハードコート層塗布液ＨＣ−１をダイコーターを用いて１７．３ｍｌ／ｍ^２塗布した。９０℃で１分間乾燥した後、酸素濃度がおよそ１．５体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度１８ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。上記ハードコート層付き基材を「ＨＣ−１」とする。

（工程（６） 基材の貼り合せ）
上記ハードコート層付き基材ＨＣ−１のハードコート層側と工程（５）で仮支持体を取り除いた積層体１の層（ｃａ）側を貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。

（工程（７） 層（ｃａ）の部分硬化）
続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、支持体の層（ｃａ）側とは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ｃａ）の一部を硬化させた。

（工程（８） 粘着フィルムの剥離）
上記作製した積層体から粘着フィルム（マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４から剥離フィルムを剥がしたもの）を剥離した。

（工程（９） 層（ｃａ）の硬化）
続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、層（ｃａ）の基材とは反対側から照度１５０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ｃａ）を硬化させた。

（工程（１０） 洗浄）
続いて、粘着フィルムが貼り合わせてあった面にメチルイソブチルケトンを掛け流して粘着剤層の残渣を洗い流した。その後、２５℃で１０分乾燥して反射防止フィルム１を得た。

仮支持体の種類、層（ａ）形成用組成物の種類、粘着フィルム（保護フィルム）の種類、工程（２）におけるプレ露光の露光量、使用したハードコート層塗布液の種類または基材の種類を表１のように変更した以外は積層体１及び反射防止フィルム１の作製と同様にして積層体２〜９及び反射防止フィルム２〜９を作製した。なお、前述のように、粘着フィルムとは、保護フィルムから剥離フィルムを剥がした、支持体と粘着剤層からなる積層体である。表１には使用した保護フィルムの種類を記載した。

上記以外で使用した仮支持体を以下に示す。
ＺＦ１４：１００μｍのシクロオレフィン系樹脂フィルム（ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ−１４、日本ゼオン(製)）

上記以外で使用した保護フィルムを以下に示す。
・マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３１０（藤森工業（株）製 帯電防止機能付き光学用保護フィルム）（以下、「ＡＳ３−３１０」ともいう）
支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：１５μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満

上記以外で使用した基材を以下に示す。
ＨＣ−２：ハードコート層付き基材ＨＣ−１の作製において、ハードコート層塗布液ＨＣ−１の代わりにハードコート層塗布液ＨＣ−２を用いた以外は同様にして作製したハードコート層付き基材である。
ＦＤ１００Ｍ：１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＦＤ１００Ｍ、富士フイルム（製）

（反射防止フィルムの評価方法）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表１に示す。

（積分反射率）
反射防止フィルムの裏面（基材側）をサンドペーパーで粗面化した後に油性黒インキ（補填用マジックインキ：寺西化学）を塗り、裏面反射をなくした状態で、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、平均反射率を算出して反射防止性を評価した。

（全ヘイズ）
面の均一性をヘイズ値で評価した。得られた反射防止フィルムの全ヘイズ値（％）をＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に準じて測定した。装置には日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００を用いた。粒子同士が凝集し不均一であるものは、ヘイズが高くなるため、ヘイズが低い方が好ましい。

（転写性）
３０ｃｍ×３０ｃｍの大きさに裁断した反射防止フィルムの転写面（反射防止層を有する面）とは反対側に、粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）をラミネートして貼り合わせ、目視観察することで下記評価基準に従い転写性を評価した。粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシートを反射防止フィルムに貼り合わせ、光をあてながら目視観察することで、反射防止層を転写する前の基材に比べて反射率が下がっている領域（転写できている領域）と元の基材同等まで反射率が上がっている領域（転写できていない領域）を目視確認することができる。また、転写ムラが発生している場合には、転写できている領域のなかで反射率のムラが視認される。転写できている領域の割合は、転写できていない領域を白いマジックで塗りつぶし、画像をスキャナーで取り込み面積を求めることで定量化した。
(評価基準)
Ａ：転写できている領域の割合が９０％以上であり、転写ムラが視認されない。
Ｂ：転写できている領域の割合が９０％以上であり、転写ムラが視認される。
Ｃ：転写できている領域の割合が８０％以上９０％未満である。
Ｄ：転写できている領域の割合が８０％未満である。
転写性はＡ〜Ｃであることが実用上必要であり、Ａ〜Ｂであることがより好ましく、Ａであると転写により作製される反射防止フィルムの信頼性が高くなるため最も好ましい。

（積層体の評価方法）
工程（５）の完了により作製された積層体１〜９の諸特性の評価を行った。結果を表１に示す。

（Δヘイズ）
工程（５）が完了して得られる積層体と、使用した粘着フィルムのヘイズを支持体側入射で測定し、差し引くことでΔヘイズを算出した。ヘイズの測定は、各試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％で、日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００で、ＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に従って測定した。

（表面粗さ）
工程（５）が完了して得られる積層体における層（ｃａ）側の表面の表面粗さを測定した。表面粗さはＳＰＡ−４００(日立ハイテクノサイエンス製)を使用し、測定範囲５μｍ×５μｍ、測定モード：ＤＦＭ，測定周波数：２Ｈｚの測定条件で測定することで得られる表面凹凸形状から算出した値を用いた。

（剥離力）
幅２５ｍｍの転写部材（工程（５）が完了して得られる積層体）の支持体側とは反対側の面の粒子（ａ２）及び層（ｃａ）を接着剤を用いて厚み１．１ｍｍのガラス基材に固定化し、粒子（ａ２）及び層（ｃａ）からなる部分と層（ｂ）を９０°方向に速度１０００ｍｍ／ｍｉｎで剥離させたときの剥離力を測定した。ただし、粒子（ａ２）及び層（ｃａ）からなる部分と層（ｂ）の界面で剥離しない場合は、測定不能とした。界面剥離が起きているかどうかの判断は剥離後の層（ｂ）をＳＥＭまたはＡＦＭで観察し、粒子が観察されるかどうかで確認した。

実施例１〜８の本発明の積層体１〜８は、Δヘイズ値及び表面粗さが小さく、剥離力が適度で、基材への良好な転写性を有することが分かった。これに対して、比較例１の積層体は、工程（２）において露光を行っていないため、粒子（ａ２）が規則的に配置されず、Δヘイズ値及び表面粗さが高くなり、基材へ転写することが満足にできなかった。
また、実施例１〜８の積層体を用い、本発明の製造方法によって得られた反射防止フィルム１〜８は、ヘイズが低く、良好な反射防止性能を有することが分かった。
本発明の積層体は上記のように良好な転写性を有する転写部材であり、様々な形状を有する反射防止フィルム形成用基材に対しても適用することができるものである。

１ 仮支持体
２ 反射防止層
３ 粒子（ａ２）
４ 層（ａ）又は層（ｃａ）
５ 支持体
６ 層（ｂ）
７ 粘着フィルム
８ 積層体
９ 基材
１０ 反射防止フィルム
Ａ 隣り合う凸部の頂点間の距離
Ｂ 隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離

Claims (9)

1. 支持体、粘着剤を含む層（ｂ）、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）、及び樹脂を含む層（ｃａ）を有する積層体であって、
   前記層（ｂ）は前記層（ｃａ）よりも前記支持体に近い側に存在し、
   前記粒子（ａ２）は、前記層（ｂ）及び前記層（ｃａ）を合わせた層中に埋没し、かつ前記層（ｃａ）の前記支持体側の界面から突出しており、
   前記粒子（ａ２）及び前記層（ｃａ）を含む部分は、前記層（ｂ）から剥離できる、積層体。
2. 前記積層体の全ヘイズから、前記積層体から前記粒子（ａ２）及び前記層（ｃａ）を含む部分を取り除いてなる部分のヘイズを差し引いた値が１．００％以下である、請求項１に記載の積層体。
3. 前記層（ｃａ）の前記層（ｂ）側とは反対側の面の表面粗さが３０ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の積層体。
4. 前記層（ｃａ）の前記層（ｂ）側とは反対側の面に、剥離可能な部材を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 仮支持体上に、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）と硬化性化合物（ａ１）とを、前記硬化性化合物（ａ１）を含む層（ａ）中に前記粒子（ａ２）が埋没する厚みで設ける工程（１）、
   前記層（ａ）の一部を硬化させて層（ｃａ）を得る工程（２）、
   支持体及び前記支持体上に粘着剤を含む層（ｂ）を有する粘着フィルムの前記層（ｂ）を、前記層（ｃａ）と貼り合わせる工程（３）、
   前記粒子（ａ２）が、前記層（ｃａ）及び前記層（ｂ）を合わせた層中に埋没し、かつ、前記層（ｃａ）の前記支持体側の界面から突出するように、前記層（ｃａ）の前記支持体側の界面の位置を前記仮支持体側に近づける工程（４）、
   前記仮支持体を剥離する工程（５）、
   をこの順に有する積層体の製造方法。
6. 前記工程（４）と前記工程（５）との間に、前記粒子（ａ２）が、前記層（ｃａ）及び前記層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で前記層（ｃａ）の一部を硬化させる工程（４−２）を有する、請求項５に記載の積層体の製造方法。
7. 前記工程（２）において、紫外線を１〜９０ｍＪ／ｃｍ^２の照射量で照射することで前記層（ａ）の一部を硬化させて前記層（ｃａ）を得る、請求項５又は６に記載の積層体の製造方法。
8. 請求項５〜７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法によって得られた積層体を用いる反射防止フィルムの製造方法。
9. 請求項５〜７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法によって得られた積層体の前記層（ｃａ）と、基材とを貼り合せる工程（６）、
   前記粒子（ａ２）が、前記層（ｃａ）と、前記層（ｂ）とを合わせた層中に埋没した状態で前記層（ｃａ）を硬化させる工程（７）、
   前記粘着フィルムを剥離する工程（８）、
   をこの順に有する請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法。