JPWO2018124137A1 - 光学フィルム及び偏光板 - Google Patents

Abstract

厚み方向のレターデーションの絶対値が、３ｎｍ以下であり、衝撃強度が、２×１０−２Ｊ以上であり、且つ、水蒸気透過率が、１０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下である、光学フィルム。

Description

本発明は、光学フィルム及び偏光板に関する。

一般に、偏光板は、偏光子及び偏光子保護フィルムを備える。偏光子保護フィルムとしては、通常は、樹脂からなる光学フィルムが用いられる（特許文献１参照）。

特開２０１１−０１３３７８号公報

液晶表示装置に設けられる偏光板は、通常、偏光子の両側に偏光子保護フィルムを備える。これらの偏光子保護フィルムのうち、偏光子の液晶セル側に設けられる内側偏光子保護フィルムは、良好な視野角特性を実現する観点から、レターデーションの絶対値が小さいことが求められている。そこで、出願人は、内側偏光子保護フィルムとして用いるために、レターデーションが発現し難い樹脂からなる光学フィルムの検討を行った。

ところが、レターデーションが発現し難い樹脂によって形成した光学フィルムは、フィルム搬送時に破断を生じ易く、特に、トリミング処理の際に破断し易かった。一般に、光学フィルムは、幅広且つ長尺のフィルムとして製造された後、その長手方向に連続的に搬送されながら各種の処理を施される。ところが、前記の処理として光学フィルムを所望の大きさに加工するためのトリミング処理を行うと、トリミング処理を施された部分においてフィルムが破断を生じ易かった。そのため、レターデーションが発現し難い樹脂からなる光学フィルムを内側偏光子保護フィルムとして用いるためには、その搬送性を改善して、破断の発生を抑制しながら搬送を行うことを可能にすることが求められていた。

また、多様な環境への適用を可能とするために、内側偏光子保護フィルムは、過酷な環境において変形を生じ難いことが好ましい。特に、偏光板のカールによって画質が低下したり偏光板が装置から脱落したりすることを抑制する観点では、内側偏光子保護フィルムは、高温高湿環境において当該内側偏光保護フィルムを備える偏光板のカールを抑制できる程度に、変形を生じ難いことが求められる。ところが、出願人が検討したところ、従来の樹脂の中には、レターデーションが発現し難かったり、搬送性に優れたフィルムを形成可能であったりする樹脂はあったものの、更に高温高湿環境においてカールの抑制が可能であるものは、見い出されていなかった。

本発明は前記の課題に鑑みて創案されたもので、レターデーションが小さく、搬送性に優れ、且つ、高温高湿環境におけるカールの発生を抑制可能な光学フィルム；及び、前記光学フィルムを備える偏光板；を提供することを目的とする。

本発明者は、前記の課題に鑑みて鋭意検討した結果、厚み方向のレターデーションの絶対値、衝撃強度、及び、水蒸気透過率が、所定の範囲にある光学フィルムが、前記の課題を解決できることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記のものを含む。

〔１〕 厚み方向のレターデーションの絶対値が、３ｎｍ以下であり、
衝撃強度が、２×１０^−２Ｊ以上であり、且つ、
水蒸気透過率が、１０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下である、光学フィルム。
〔２〕 前記光学フィルムが、樹脂Ｃで形成されたコア層と、前記コア層の一側に樹脂Ｓ１で形成された第一スキン層と、前記コア層の他側に樹脂Ｓ２で形成された第二スキン層とを備え、
前記樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける厚み方向のレターデーションの絶対値が、３ｎｍ以下であり、
前記樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度が、５×１０^−２Ｊ以上であり、
前記樹脂Ｓ２の４０μｍの厚みにおける衝撃強度が、５×１０^−２Ｊ以上である、〔１〕記載の光学フィルム。
〔３〕 前記樹脂Ｃが、ブロック共重合体の水素化物を含み、
前記樹脂Ｓ１及び前記樹脂Ｓ２が、脂環式構造を含有する重合体を含む、〔２〕記載の光学フィルム。
〔４〕 前記コア層の厚みＴｃに対する、前記第一スキン層の厚みＴｓ１及び前記第二スキン層の厚みＴｓ２の合計の比（（Ｔｓ１＋Ｔｓ２）／Ｔｃ）が、０．０５〜０．４である、〔２〕又は〔３〕記載の光学フィルム。
〔５〕 厚みが５０μｍ以下である、〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔６〕 〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の光学フィルムと偏光子とを備える偏光板。

本発明によれば、レターデーションが小さく、搬送性に優れ、且つ、高温高湿環境におけるカールの発生を抑制可能な光学フィルム；及び、前記光学フィルムを備える偏光板；を提供できる。

図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムを模式的に示す断面図である。 図２は、実施例及び比較例で用いた光学フィルムの衝撃強度の測定装置を模式的に示す斜視図である。 図３は、実施例及び比較例で用いた光学フィルムの衝撃強度の測定装置を模式的に示す断面図である。 図４は、実施例及び比較例で用いたトリミング用の刃を、フィルム搬送方向に垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。

以下の説明において、フィルム又は層の面内レターデーションＲｅは、別に断らない限り、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。また、フィルム又は層の厚み方向のレターデーションＲｔｈは、別に断らない限り、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表される値である。ここで、ｎｘは、フィルム又は層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、フィルム又は層の前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｎｚはフィルム又は層の厚み方向の屈折率を表す。ｄは、フィルム又は層の厚みを表す。レターデーションの測定波長は、別に断らない限り、５９０ｎｍである。

以下の説明において、「偏光板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。

以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して、５倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。長尺のフィルムの長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して１０万倍以下としうる。

以下の説明において、ある面の傾斜方向とは、別に断らない限り、当該面に平行でも垂直でもない方向を意味し、具体的には前記面の極角が０°より大きく９０°より小さい範囲の方向を指す。

以下の説明において、別に断らない限り、環式炭化水素基とは、芳香族環、シクロアルカン、シクロアルケン等の、環状の構造を含む炭化水素の基を意味し、また、鎖状炭化水素化合物とは、かかる環式炭化水素基を含まない炭化水素化合物を意味する。

［１．光学フィルムの概要］
本発明の光学フィルムは、（ii）厚み方向のレターデーションの絶対値、（iii）衝撃強度及び（iv）水蒸気透過率が、所定の範囲にある。

具体的には、光学フィルムの厚み方向のレターデーションの絶対値は、通常３ｎｍ以下、好ましくは２ｎｍ以下、より好ましくは１．５ｎｍ以下、更に好ましくは１．０ｎｍ以下である。

前記のように厚み方向のレターデーションの絶対値が小さい光学フィルムは、偏光板の内側偏光子保護フィルムとして用いた場合に、当該偏光板を備える液晶表示装置の視野角特性を改善することができる。特に、このような光学フィルムは、ＩＰＳ（インプレーンスイッチング）型の液晶表示装置の液晶セルの視認側に設けられる内側偏光子保護フィルムとして用いた場合に、顕著な効果を得ることができる。具体的には、液晶表示装置の表示面をその傾斜方向から見た場合に、画像の意図しない色付きを抑制することができる。

また、本発明の光学フィルムは、更に、（ｉ）面内レターデーションの絶対値が所定の範囲にあることが好ましい。具体的には、光学フィルムの面内レターデーションの絶対値は、好ましくは６ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下、更に好ましくは２ｎｍ以下、中でも好ましくは１．５ｎｍ以下、特に好ましくは１．０ｎｍ以下である。厚み方向のレターデーションの絶対値及び面内レターデーションの絶対値の両方がこのように小さい光学フィルムは、偏光板の内側偏光子保護フィルムとして用いた場合に得られる視野角特性の改善効果を、より顕著に発揮することができる。

フィルムの面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションは、測定装置としてＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」を用いて、測定波長５９０ｎｍで測定しうる。前記の測定装置を用いてフィルムの厚み方向のレターデーションを測定する場合、当該フィルムの平均屈折率を用いる。ここで、平均屈折率とは、フィルムの面内方向であって互いに垂直な２方向の屈折率、及び、当該フィルムの厚み方向の屈折率の平均値をいう。また、フィルムが平均屈折率の異なる複数の層を有する複層フィルムである場合、その複層フィルムの平均屈折率は、当該複層フィルムに含まれる各層の平均屈折率の、層の厚み比に基づいた加重平均を採用しうる。

光学フィルムの衝撃強度は、通常２×１０^−２Ｊ以上、好ましくは４．０×１０^−２Ｊ以上、より好ましくは６．０×１０^−２Ｊ以上である。このように高い衝撃強度を有する光学フィルムは、フィルム搬送時の衝撃による破断を生じ難く、例えば、トリミング処理の際に破断し難い。そのため、このように高い衝撃強度を有する光学フィルムは、搬送性に優れるので、破断の発生を抑制しながら円滑に搬送を行うことができる。光学フィルムの衝撃強度は、大きいほど好ましいが、光学フィルムを薄くする観点及び製造を容易に行う観点から、好ましくは３０×１０^−２Ｊ以下、より好ましくは２５×１０^−２Ｊ以下、より好ましくは２０×１０^−２Ｊ以下である。

衝撃強度は、治具で固定したフィルムに対して所定のストライカーを用いた衝撃試験を行うことにより測定可能である。フィルムの厚みが小さいことを考慮して、市販の衝撃試験機を用いずに、実施例中の評価項目の欄に記載したように衝撃強度を測定することが好ましい。

光学フィルムの水蒸気透過率は、通常１０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下、好ましくは８ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下、より好ましくは６ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下である。このように水蒸気透過率が低い光学フィルムは、高温高湿環境において当該光学フィルム自体が変形を生じ難い。また、この光学フィルムを偏光子保護フィルムとして用いると、偏光子への水の浸入を抑制できるので、水分による偏光子内での応力発生を抑制できる。したがって、前記のように水蒸気透過率が低い光学フィルムは、内側偏光子保護フィルムとして用いることにより、当該内側偏光保護フィルムを備える偏光板の高温高湿環境でのカールを抑制できる。光学フィルムの水蒸気透過率は、低いほど好ましく、理想的には０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）である。

光学フィルムの水蒸気透過率は、水蒸気透過度測定装置（ＭＯＣＯＮ社製「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ」）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１２９ Ｂ法に従って、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件にて測定しうる。

前記の光学フィルムは、通常、樹脂フィルムとして形成される。この光学フィルムの層構成は、（ii）厚み方向のレターデーションの絶対値、（iii）衝撃強度及び（iv）水蒸気透過率を、上述した所定の範囲に収められる範囲で、任意である。光学フィルムは、例えば、レターデーションの発現性の小さい樹脂で形成された層と、衝撃強度に優れる樹脂で形成された層とを組み合わせることにより、実現できる。

［２．光学フィルムの一実施形態］
以下、光学フィルムの具体的な実施形態について、説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムを模式的に示す断面図である。
図１に示すように、本発明の一実施形態に係る光学フィルム１００は、樹脂Ｃで形成されたコア層１１０と、コア層１１０の一側に樹脂Ｓ１で形成された第一スキン層１２０と、コア層１００の他側に樹脂Ｓ２で形成された第二スキン層１３０とを備える。樹脂Ｃとしては、レターデーションの絶対値の小さい樹脂を用いる。また、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２としては、衝撃強度に優れる樹脂を用いる。このように、衝撃強度に優れる樹脂Ｓ１及びＳ２で形成された第一スキン層１２０と第二スキン層１３０との間に、レターデーションの絶対値が小さい樹脂Ｃで形成されたコア層１１０を設けることにより、上述した光学フィルムを得ることができる。
前記の光学フィルム１００は、任意の層を含んでいてもよいが、コア層１１０と第一スキン層１２０とは間に任意の層を介することなく直接に接していることが好ましく、また、コア層１１０と第二スキン層１３０とは間に任意の層を介することなく直接に接していることが好ましい。

［３．コア層］
コア層は、レターデーションの絶対値が小さい樹脂Ｃで形成された層である。樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける厚み方向のレターデーションの絶対値は、通常３ｎｍ以下、好ましくは２ｎｍ以下、より好ましくは１．５ｎｍ以下、特に好ましくは１．０ｎｍ以下である。このように厚み方向のレターデーションの絶対値が小さい樹脂Ｃで形成されたコア層を含むことにより、光学フィルム自体のレターデーションの絶対値を小さくすることが可能である。さらには、光学フィルムのレターデーションの絶対値を特に小さくする観点では、樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける面内レターデーションの絶対値は、好ましくは２ｎｍ以下、より好ましくは１．５ｎｍ以下、特に好ましくは１．０ｎｍ以下である。

ここで、樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションとは、その樹脂Ｃで形成した厚み４０μｍのフィルムの面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションをいう。樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションは、樹脂Ｃを用いて厚み４０μｍのサンプルフィルムを製造し、そのサンプルフィルムの面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションを測定することにより、求められる。

前記の樹脂Ｃとしては、重合体を含み、更に必要に応じて任意成分を含みうる樹脂を用いることができる。中でも、前記の樹脂としては、ブロック共重合体の水素化物を含む樹脂が好ましい。特に、このブロック共重合体の水素化物としては、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）を有するブロックＡと、鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）を有するブロックＢとを含む重合体が特に好ましい。以下、このような重合体を、適宜「重合体Ｘ」と呼ぶことがある。このような重合体Ｘを含む樹脂Ｃを用いることにより、上記各種の特性を有する光学フィルムを容易に得ることができる。

環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）は、環式炭化水素基含有化合物を重合し、さらに、かかる重合により得られた単位が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位である。ただし、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）は、好ましくは、芳香族ビニル化合物を重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）である。ただし、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。
前記と同じく、本願においては、例えばスチレンを重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位を、スチレン水素化物単位と呼ぶことがある。スチレン水素化物単位も、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。
芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）の例としては、以下の構造式（１）で表される構造単位が挙げられる。

構造式（１）において、Ｒ^ｃは脂環式炭化水素基を表す。Ｒ^ｃの例を挙げると、シクロヘキシル基等のシクロヘキシル基類；デカヒドロナフチル基類等が挙げられる。

構造式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基で置換された鎖状炭化水素基を表す。前記の極性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基が挙げられる。中でもＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から、水素原子及び炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）の好ましい具体例としては、下記式（１−１）で表される構造単位が挙げられる。式（１−１）で表される構造単位は、スチレン水素化物単位である。

環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）は、１種類だけも用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

ブロックＡは、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）のみからなることが好ましいが、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）以外に任意の単位を含みうる。任意の構造単位の例としては、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）以外のビニル化合物に基づく構造単位が挙げられる。ブロックＡにおける任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。

鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）は、鎖状炭化水素化合物を重合し、さらに、かかる重合により得られた単位が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位である。ただし、鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）は、好ましくは、ジエン化合物を重合し、その得られた重合物が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる構造を有するジエン化合物水素化物単位（ｂ）である。但し、ジエン化合物水素化物単位（ｂ）は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。
前記と同じく、本願においては、例えばイソプレンを重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する構造単位を、イソプレン水素化物単位と呼ぶことがある。イソプレン水素化物単位も、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。

ジエン化合物水素化物単位（ｂ）は、直鎖共役ジエン化合物等の共役ジエン化合物を重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有することが好ましい。その例としては、以下の構造式（２）で表される構造単位、及び構造式（３）で表される構造単位が挙げられる。

構造式（２）において、Ｒ^４〜Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基で置換された鎖状炭化水素基を表す。前記の極性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基が挙げられる。中でもＲ^４〜Ｒ^９としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から、水素原子及び炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

構造式（３）において、Ｒ^１０〜Ｒ^１５は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基で置換された鎖状炭化水素基を表す。前記の極性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基が挙げられる。中でもＲ^１０〜Ｒ^１５としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から、水素原子及び炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

ジエン化合物水素化物単位（ｂ）の好ましい具体例としては、下記式（２−１）〜（２−３）で表される構造単位が挙げられる。式（２−１）〜（２−３）で表される構造単位は、イソプレン水素化物単位である。

鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）は、１種類だけも用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

ブロックＢは、鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）のみからなることが好ましいが、鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）以外に任意の単位を含みうる。任意の構造単位の例としては、鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）以外のビニル化合物に基づく構造単位が挙げられる。ブロックＢにおける任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。

重合体Ｘは、１分子あたり１つのブロックＢと、その両端に連結された１分子当たり２つのブロックＡとを有するトリブロック分子構造を有することが好ましい。すなわち、重合体Ｘは、１分子あたり１つのブロックＢと；ブロックＢの一端に連結され、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）を有する、１分子あたり１つのブロックＡ１と；ブロックＢの他端に連結され、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）を有する、１分子あたり１つのブロックＡ２と；を含むトリブロック共重合体であることが好ましい。この際、ブロックＡ１とブロックＡ２とは、同じでもよく、異なっていてもよい。

重合体Ｘにおいては、ブロックＡとブロックＢとの重量比（Ａ／Ｂ）が、特定の範囲に収まることが好ましい。具体的には、重量比（Ａ／Ｂ）は、好ましくは５０／５０以上、より好ましくは６５／３５以上、特に好ましくは８０／２０以上であり、好ましくは９９／１以下、より好ましくは９５／５以下、特に好ましくは９０／１０以下である。ブロックＡとブロックＢとの重量比（Ａ／Ｂ）が前記の範囲にある重合体Ｘは、光弾性係数が小さく、レターデーションの発現性が小さい。そのため、レターデーションの絶対値が小さいコア層を容易に得ることができる。

また、上述した重合体Ｘは、通常、水蒸気吸収性が低い。そのため、重合体Ｘを用いることにより、コア層Ｃを水蒸気が透過し難くなるので、水蒸気透過率が低い光学フィルムを容易に得ることができる。

重合体Ｘの製造方法は、特に限定されず任意の製造方法を採用しうる。重合体Ｘは、例えば、環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）及び鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）に対応する単量体を用意し、これらを重合させ、得られた重合体を水素化することにより製造しうる。

環式炭化水素基含有化合物水素化物単位（ａ）に対応する単量体としては、芳香族ビニル化合物を用いうる。その例としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−ｔ−ブチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、及び４−フェニルスチレン等のスチレン類；ビニルシクロヘキサン、及び３−メチルイソプロペニルシクロヘキサン等のビニルシクロヘキサン類；並びに４−ビニルシクロヘキセン、４−イソプロペニルシクロヘキセン、１−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、１−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、及び２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン等のビニルシクロヘキセン類が挙げられる。これらの単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

鎖状炭化水素化合物水素化物単位（ｂ）に対応する単量体の例としては、ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、及び１，３−ヘキサジエン等の鎖状共役ジエン類挙げられる。これらの単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

重合の反応様式としては、通常、アニオン重合を採用しうる。また、重合は、塊状重合や、溶液重合等のいずれで行ってもよい。中でも、重合反応と水素化反応とを連続して行うためには、溶液重合が好ましい。

重合の反応溶媒の例としては、ｎ−ブタン、ｎ−ペンタン、イソペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、及びイソオクタン等の脂肪族炭化水素溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、及びデカリン等の脂環式炭化水素溶媒；並びにベンゼン及びトルエン等の芳香族炭化水素溶媒；が挙げられる。中でも脂肪族炭化水素溶媒及び脂環式炭化水素溶媒を用いると、水素化反応にも不活性な溶媒としてそのまま使用することができ、好ましい。
反応溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
反応溶媒は、通常、全単量体１００重量部に対して２００〜１０，０００重量部となる割合で用いられる。

重合の際、通常は重合開始剤を使用する。重合開始剤の例としては、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム、及びフェニルリチウム等のモノ有機リチウム；並びにジリチオメタン、１，４−ジオブタン、及び１，４−ジリチオー２−エチルシクロヘキサン等の多官能性有機リチウム化合物が挙げられる。重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

重合体Ｘとして、ブロックＡ１、ブロックＡ２及びブロックＢを含むトリブロック共重合体を製造する場合の製造方法の例としては、下記の第一工程〜第三工程を含む製造方法が挙げられる。ここで、「モノマー組成物」と称する材料は、２種類以上の物質の混合物のみならず、単一の物質からなる材料をも包含する。

第一工程：芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ１）を重合させてブロックＡを形成する工程。
第二工程：かかるブロックＡの一端において、ジエン化合物を含有するモノマー組成物（ｂ）を重合させてブロックＢを形成し、Ａ−Ｂのジブロックの重合体を形成する工程。
第三工程：かかるジブロックの重合体の、ブロックＢ側の末端において、芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ２）を重合させて、トリブロック共重合体を得る工程。ただし、モノマー組成物（ａ１）とモノマー組成物（ａ２）とは、同一でも異なっていてもよい。

それぞれのブロックを重合する際には、各ブロック内で、ある１成分の連鎖が過度に長くなることを抑制するために、重合促進剤及びランダマイザーを使用しうる。例えば重合をアニオン重合により行う場合には、ルイス塩基化合物をランダマイザーとして使用しうる。ルイス塩基化合物の具体例としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、及びエチレングリコールメチルフェニルエーテル等のエーテル化合物；テトラメチルエチレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、及びピリジン等の第３級アミン化合物；カリウム−ｔ−アミルオキシド、及びカリウム−ｔ−ブチルオキシド等のアルカリ金属アルコキシド化合物；並びにトリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

重合温度は重合が進行する限り制限は無いが、通常０℃以上、好ましくは２０℃以上であり、通常２００℃以下、好ましくは１００℃以下、より好ましくは８０℃以下である。

重合後は、必要であれば任意の方法により反応混合物から重合体を回収しうる。回収方法の例としては、スチームストリッピング法、直接脱溶媒法、及びアルコール凝固法が挙げられる。また、重合時に水素化反応に不活性な溶媒を反応溶媒として用いた場合は、重合溶液から重合体を回収せず、そのまま水素化工程に供することができる。

重合体の水素化方法に制限は無く、任意の方法を採用しうる。水素化は、例えば、適切な水素化触媒を用いて行いうる。より具体的には、有機溶媒中で、ニッケル、コバルト、鉄、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、及びレニウムからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属を含む水素化触媒を用いて、水素化を行いうる。水素化触媒は、不均一系触媒であってもよく、均一系触媒であってもよい。水素化触媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

不均一系触媒は、金属または金属化合物のままで用いてもよく、適切な担体に担持させて用いてもよい。担体の例としては、活性炭、シリカ、アルミナ、炭化カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニア、ケイソウ土、及び炭化珪素が挙げられる。担体における触媒の担持量は、通常０．０１重量％以上、好ましくは０．０５重量％以上であり、通常８０重量％以下、好ましくは６０重量％以下である。
均一系触媒の例としては、ニッケル、コバルト、又は鉄の化合物と有機金属化合物（例えば、有機アルミニウム化合物、有機リチウム化合物）とを組み合わせた触媒；並びにロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、及びレニウム等の有機金属錯体触媒が挙げられる。ニッケル、コバルト、又は鉄の化合物の例としては、これらの金属のアセチルアセトン塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジエニル化合物、及びシクロペンタジエニルジクロロ化合物が挙げられる。有機アルミニウム化合物の例としては、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルミニウム；並びにジイソブチルアルミニウムハイドライド等の水素化アルキルアルミニウムが挙げられる。
有機金属錯体触媒の例としては、例えば、上記各金属のγ−ジクロロ−π−ベンゼン錯体、ジクロロ−トリス（トリフェニルホスフィン）錯体、ヒドリド−クロロ−トリフェニルホスフィン錯体等の金属錯体が挙げられる。
水素化触媒の使用量は、重合体１００重量部に対して、通常０．０１重量部以上、好ましくは０．０５重量部以上、より好ましくは０．１重量部以上であり、通常１００重量部以下、好ましくは５０重量部以下、より好ましくは３０重量部以下である。

水素化反応の際の反応温度は、通常１０℃〜２５０℃であるが、水素化率を高くでき、且つ、重合体鎖切断反応を小さくできるという理由から、好ましくは５０℃以上、より好ましくは８０℃以上であり、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１８０℃以下である。また、反応時の圧力は、通常０．１ＭＰａ〜３０ＭＰａであるが、上記理由に加え、操作性の観点から、好ましくは１ＭＰａ以上、より好ましくは２ＭＰａ以上であり、好ましくは２０ＭＰａ以下、より好ましくは１０ＭＰａ以下である。
水素化率は、通常９０％以上、好ましくは９５％以上、より好ましくは９７％以上である。水素化率を高くすることにより、重合体Ｘの低複屈折性及び熱安定性等を高めることができる。水素化率は^１Ｈ−ＮＭＲにより測定できる。

樹脂Ｃに含まれる重合体の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは５００００以上、より好ましくは５５０００以上、特に好ましくは６００００以上であり、好ましくは８００００以下、より好ましくは７５０００以下、特に好ましくは７００００以下である。重量平均分子量Ｍｗが前記範囲にあることにより、上記特性を有する光学フィルムを容易に得ることができる。特に、重量平均分子量を小さくすることにより、レターデーションの発現性を効果的に小さくできる。

樹脂Ｃに含まれる重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．７以下、特に好ましくは１．５以下であり、好ましくは１．０以上である。重量平均分子量Ｍｗが前記範囲にあることにより、重合体粘度を低めて成形性を高めることができる。また、レターデーションの発現性を効果的に小さくできる。

重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎは、テトラヒドロフランを溶媒としたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによって、ポリスチレン換算の値として測定しうる。

樹脂Ｃは、重合体を、１種類を単独で含んでいてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて含んでいてもよい。

樹脂Ｃにおける重合体の割合は、所望の光学フィルムを容易に得る観点から、好ましくは９０重量％以上、より好ましくは９５重量％以上、特に好ましくは９７重量％以上である。

樹脂Ｃは、上述した重合体に組み合わせて、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；及び帯電防止剤が挙げられる。これらの任意の成分としては、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、本発明の効果を顕著に発揮させる観点からは、任意の成分の含有割合は少ないことが好ましい。例えば、任意の成分の合計の割合は、樹脂Ｃに含まれる重合体の１００重量部に対して、１０重量部以下が好ましく、５重量部以下がより好ましく、３重量部以下が更に好ましい。

樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける水蒸気透過率は、好ましくは１００ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下、好ましくは５０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下、より好ましくは１０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下である。このように水蒸気透過率が低い樹脂Ｃを用いることにより、光学フィルム自体の水蒸気透過率を低くできる。
ここで、樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける水蒸気透過率とは、その樹脂Ｃで形成した厚み４０μｍのフィルムの水蒸気透過率をいう。樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける水蒸気透過率は、樹脂Ｃを用いて厚み４０μｍのサンプルフィルムを製造し、そのサンプルフィルムの水蒸気透過率を測定することにより、求められる。

コア層は、レターデーションの絶対値が小さい樹脂Ｃで形成されているので、通常、当該コア層のレターデーションの絶対値は、小さい。具体的には、コア層の面内レターデーションの絶対値は、好ましくは２．０ｎｍ以下、より好ましくは１．０ｎｍ以下、特に好ましくは０．５ｎｍ以下である。また、コア層の厚み方向のレターデーションの絶対値は、好ましくは２．０ｎｍ以下、より好ましくは１．０ｎｍ以下、特に好ましくは０．５ｎｍ以下である。

フィルムに含まれる層の面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションは、当該フィルムのＲ０及びＲ４０、当該フィルムから一部の層を除いた試料フィルムのＲ０及びＲ４０、並びに、当該層の平均屈折率から計算しうる。ここで、Ｒ０とは、フィルムの主面の法線方向で測定したレターデーションを表し、当該フィルムの面内レターデーションを表す。また、Ｒ４０とは、フィルムの主面の法線に対して４０°の角度をなす方向で測定したレターデーションを表す。これらＲ０及びＲ４０は、測定装置としてＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」を用いて、測定波長５９０ｎｍで測定しうる。さらに、フィルムに含まれる層の平均屈折率は、当該層に含まれる樹脂を用いてサンプルフィルムを製造し、そのサンプルフィルムの屈折率を測定することにより、求めうる。

コア層の厚みは、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは２５μｍ以上、特に好ましくは３０μｍ以上であり、好ましくは８０μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下、特に好ましくは４０μｍ以下である。コア層の厚みが、前記範囲の下限値以上であることにより、レタデーションの値を低くすることができ、また、前記範囲の上限値以下であることにより、光学フィルムを薄くできる。

また、コア層の厚みＴｃに対する、第一スキン層の厚みＴｓ１及び第二スキン層の厚みＴｓ２の合計の比（（Ｔｓ１＋Ｔｓ２）／Ｔｃ）は、所定の範囲に収まることが好ましい（図１参照）。具体的には、前記の厚みの比（（Ｔｓ１＋Ｔｓ２）／Ｔｃ）は、好ましくは０．０５以上、より好ましくは０．１５以上、特に好ましくは０．２５以上であり、好ましくは０．４以下、より好ましくは０．３８以下、特に好ましくは０．３５以下である。前記の厚みの比（（Ｔｓ１＋Ｔｓ２）／Ｔｃ）が、前記範囲の下限値以上であることにより、光学フィルムの耐衝撃性を効果的に高めることができ、また、前記範囲の上限値以下であることにより、光学フィルムのレターデーションの絶対値を効果的に小さくできる。

［４．第一スキン層］
第一スキン層は、コア層の一側に、衝撃強度に優れる樹脂Ｓ１で形成された層である。この樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度は、好ましくは５×１０^−２Ｊ以上、より好ましくは７×１０^−２Ｊ以上、特に好ましくは９×１０^−２Ｊ以上である。このように衝撃強度に優れる樹脂Ｓ１で形成された第一スキン層を、同じく衝撃強度に優れる樹脂Ｓ２で形成された第二スキン層と組み合わせて含むことにより、光学フィルム自体の衝撃強度を高くできる。樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度の上限は、光学フィルムの製造を容易に行う観点から、好ましくは３０×１０^−２Ｊ以下、より好ましくは２５×１０^−２Ｊ以下、特に好ましくは２０×１０^−２Ｊ以下である。

ここで、樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度とは、その樹脂Ｓ１で形成した厚み４０μｍのフィルムの衝撃強度をいう。樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度は、樹脂Ｓ１を用いて厚み４０μｍのサンプルフィルムを製造し、そのサンプルフィルムの衝撃強度を測定することにより、求められる。

前記の樹脂Ｓ１としては、重合体を含み、更に必要に応じて任意成分を含みうる樹脂を用いることができる。中でも、前記の樹脂としては、脂環式構造を含有する重合体を含む樹脂が好ましい。以下、脂環式構造を含有する重合体を、適宜「脂環式構造含有重合体」ということがある。脂環式構造含有重合体は、機械的強度に優れるので、光学フィルムの衝撃強度を効果的に高めることができる。また、脂環式構造含有重合体は、吸湿性が低いので、光学フィルムの水蒸気透過率を効果的に小さくできる。さらに、脂環式構造含有重合体は、通常、透明性、寸法安定性及び軽量性に優れる。

脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、例えば、環状オレフィンを単量体として用いた重合反応によって得られうる重合体又はその水素化物などが挙げられる。また、前記の脂環式構造含有重合体としては、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いることができる。脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。

１つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数は、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上、より好ましくは６個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下である。１つの脂環式構造に含まれる炭素原子の数が上記範囲内にあることで、機械的強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。

脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、更に好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位の割合を前記のように多くすることにより、耐熱性を高めることができる。
また、脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位以外の残部は、格別な限定はなく、使用目的に応じて適宜選択しうる。

脂環式構造含有重合体としては、結晶性を有するもの、及び、結晶性を有さないもののいずれを用いてもよく、両者を組み合わせて用いてもよい。ここで、結晶性を有する重合体とは、融点Ｍｐを有する重合体をいう。また、融点Ｍｐを有する重合体とは、すなわち、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で融点Ｍｐを観測することができる重合体をいう。結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることにより、光学フィルムの衝撃強度を特に高めることができる。また、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を用いることにより、光学フィルムの製造コストを下げることができる。

結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、例えば、下記の重合体（α）〜重合体（δ）が挙げられる。これらの中でも、耐熱性に優れる光学フィルムが得られ易いことから、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、重合体（β）が好ましい。
重合体（α）：環状オレフィン単量体の開環重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体（β）：重合体（α）の水素化物であって、結晶性を有するもの。
重合体（γ）：環状オレフィン単量体の付加重合体であって、結晶性を有するもの。
重合体（δ）：重合体（γ）の水素化物等であって、結晶性を有するもの。

具体的には、結晶性を有する脂環式構造含有重合体としては、ジシクロペンタジエンの開環重合体であって結晶性を有するもの、及び、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものがより好ましく、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物であって結晶性を有するものが特に好ましい。ここで、ジシクロペンタジエンの開環重合体とは、全構造単位に対するジシクロペンタジエン由来の構造単位の割合が、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上、さらに好ましくは１００重量％の重合体をいう。

結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、光学フィルムを製造するよりも前においては、結晶化していなくてもよい。しかし、光学フィルムが製造された後においては、当該光学フィルムに含まれる結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、通常、結晶化していることにより、高い結晶化度を有することができる。具体的な結晶化度の範囲は所望の性能に応じて適宜選択しうるが、好ましくは１０％以上、より好ましくは１５％以上である。光学フィルムに含まれる脂環式構造含有重合体の結晶化度を前記範囲の下限値以上にすることにより、光学フィルムに高い耐熱性及び耐薬品性を付与することができる。結晶化度は、Ｘ線回折法によって測定しうる。

結晶性を有する脂環式構造含有重合体の融点Ｍｐは、好ましくは２００℃以上、より好ましくは２３０℃以上であり、好ましくは２９０℃以下である。このような融点Ｍｐを有する結晶性を有する脂環式構造含有重合体を用いることによって、成形性と耐熱性とのバランスに更に優れた光学フィルムを得ることができる。

前記のような結晶性を有する脂環式構造含有重合体は、例えば、国際公開第２０１６／０６７８９３号に記載の方法により、製造しうる。

他方、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体は、例えば、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン重合体及びこの水素化物がより好ましい。

ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素化物；ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素化物が特に好ましい。
上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報に開示されている重合体から選ばれる。

結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を含む樹脂としては、様々な商品が市販されているので、それらのうち、所望の特性を有するものを適宜選択し、使用しうる。かかる市販品の例としては、商品名「ＺＥＯＮＯＲ」（日本ゼオン株式会社製）、「アートン」（ＪＳＲ株式会社製）、「アペル」（三井化学株式会社製）、「ＴＯＰＡＳ」（ポリプラスチック社製）の製品群が挙げられる。

樹脂Ｓ１に含まれる重合体のガラス転移温度Ｔｇは、好ましくは８０℃以上、より好ましくは８５℃以上、更に好ましくは１００℃以上であり、好ましくは２５０℃以下、より好ましくは１７０℃以下である。ガラス転移温度がこのような範囲にある重合体は、高温下での使用における変形及び応力が生じ難く、耐久性に優れる。

樹脂Ｓ１に含まれる重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００以上、より好ましくは２，０００以上、更に好ましくは１０，０００以上、特に好ましくは２５，０００以上であり、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは５００，０００以下、更に好ましくは１００，０００以下、中でも好ましくは８０，０００以下、特に好ましくは５０，０００以下である。このような重量平均分子量を有する重合体は、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れる。

樹脂Ｓ１に含まれる重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．２以上、特に好ましくは１．５以上であり、好ましくは１０以下、より好ましくは４．０以下、更に好ましくは３．５以下である。ここで、Ｍｎは数平均分子量を表す。このような分子量分布を有する重合体は、成形加工性に優れる。

樹脂Ｓ１は、重合体を、１種類を単独で含んでいてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて含んでいてもよい。

樹脂Ｓ１における重合体の割合は、所望の光学フィルムを容易に得る観点から、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、更に好ましは８０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。

樹脂Ｓ１は、上述した重合体に組み合わせて、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分の例としては、樹脂Ｃが含みうる任意の成分として挙げたのと同じ例が挙げられる。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、本発明の効果を顕著に発揮させる観点からは、任意の成分の含有割合は少ないことが好ましい。例えば、任意の成分の合計の割合は、樹脂Ｓ１に含まれる重合体１００重量部に対して、５０重量部以下が好ましく、３０重量部以下がより好ましく、２０重量部以下が更に好ましく、１０重量部以下が特に好ましい。

樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける水蒸気透過率は、好ましくは１００ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下、好ましくは５０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下、より好ましくは１０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下である。このように水蒸気透過率が低い樹脂Ｓ１を用いることにより、光学フィルム自体の水蒸気透過率を低くできる。
ここで、樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける水蒸気透過率とは、その樹脂Ｓ１で形成した厚み４０μｍのフィルムの水蒸気透過率をいう。樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける水蒸気透過率は、樹脂Ｓ１を用いて厚み４０μｍのサンプルフィルムを製造し、そのサンプルフィルムの水蒸気透過率を測定することにより、求められる。

レターデーションの絶対値が小さい光学フィルムを得る観点から、第一スキン層のレターデーションの絶対値は、小さいことが好ましい。具体的には、第一スキン層の面内レターデーションの絶対値は、好ましくは２．０ｎｍ以下、より好ましくは１．５ｎｍ以下、特に好ましくは１．０ｎｍ以下である。また、第一スキン層の厚み方向のレターデーションの絶対値は、好ましくは２．０ｎｍ以下、より好ましくは１．５ｎｍ以下、特に好ましくは１．０ｎｍ以下である。

第一スキン層の厚みは、好ましくは１．０μｍ以上、より好ましくは２．０μｍ以上、特に好ましくは３．０μｍ以上であり、好ましくは９μｍ以下、より好ましくは７μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以下である。第一スキン層の厚みが、前記範囲の下限値以上であることにより、光学フィルムの衝撃強度を効果的に高くでき、また、前記範囲の上限値以下であることにより、光学フィルムのレターデーションの絶対値を効果的に小さくできる。

［５．第二スキン層］
第二スキン層は、コア層の他側に、衝撃強度に優れる樹脂Ｓ２で形成された層である。この樹脂Ｓ２の４０μｍの厚みにおける衝撃強度は、樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度の範囲と同じ範囲にある。ただし、樹脂Ｓ２の４０μｍの厚みにおける衝撃強度は、樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度と、同じでもよく、異なっていてもよい。このように衝撃強度に優れる樹脂Ｓ２で形成された第二スキン層を、同じく衝撃強度に優れる樹脂Ｓ１で形成された第一スキン層と組み合わせて含むことにより、光学フィルム自体の衝撃強度を高くできる。

ここで、樹脂Ｓ２の４０μｍの厚みにおける衝撃強度とは、その樹脂Ｓ２で形成した厚み４０μｍのフィルムの衝撃強度をいう。樹脂Ｓ２の４０μｍの厚みにおける衝撃強度は、樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度と同じ方法によって測定できる。

前記の樹脂Ｓ２としては、樹脂Ｓ１として説明した範囲のものを、任意に用いうる。これにより、第二スキン層によって、第一スキン層による効果と同じ効果を得ることができる。第一スキン層に含まれる樹脂Ｓ１と第二スキン層に含まれる樹脂Ｓ２とは、異なっていてもよいが、光学フィルムの製造コストの抑制及びカールの抑制の観点から、同じであることが好ましい。

レターデーションの絶対値が小さい光学フィルムを得る観点から、第二スキン層のレターデーションの絶対値は、小さいことが好ましい。第二スキン層の具体的な面内レターデーションの絶対値は、第一スキン層の面内レターデーションの絶対値の範囲と同じ範囲にありうる。また、第二スキン層の具体的な厚み方向のレターデーションの絶対値は、第一スキン層の厚み方向のレターデーションの絶対値の範囲と同じ範囲にありうる。

第二スキン層の厚みは、第一スキン層と同じ観点から、第一スキン層の厚みの範囲と同じ範囲にありうる。これにより、第二スキン層において、第一スキン層と同じ効果を得ることができる。第一スキン層の厚みと第二スキン層の厚みとは、異なっていてもよいが、光学フィルムのカールを効果的に抑制する観点から、同じであることが好ましい。

［６．任意の層］
光学フィルムは、必要に応じて、上述したコア層、第一スキン層及び第二スキン層に組み合わせて、任意の層を備えうる。任意の層の例としては、表面硬度を高めるハードコート層、フィルムの滑り性を良くするマット層、反射防止層が挙げられる。ただし、光学フィルムを薄くする観点から、光学フィルムは任意の層を備えないことが好ましい。よって、光学フィルムは、第一スキン層、コア層及び第二スキン層のみを、この順で備えることが特に好ましい。

［７．光学フィルムの物性及び厚み］
光学フィルムは、通常、透明なフィルムであり可視光線を透過させる。具体的な光線透過率は光学フィルムの用途に応じて適宜選択しうる。例えば、波長４２０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。

光学フィルムの厚みは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上、特に好ましくは２５μｍ以上であり、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４５μｍ以下、特に好ましくは４０μｍ以下である。光学フィルムの厚みが、前記範囲の下限値上であることにより、光学フィルムの衝撃強度を効果的に高めたり、水蒸気透過率を効果的に低くしたりできる。また、光学フィルムの厚みが、前記範囲の上限値以下であることにより、光学フィルムのレターデーションの絶対値を効果的に小さくできる。

［８．光学フィルムの製造方法］
光学フィルムの製造方法は、特に限定されず、任意の製造方法を採用しうる。例えば、樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２を調製し、これらを所望の形状に成形することにより、光学フィルムを製造しうる。樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２を成形するための成形方法の好ましい例としては、共押出による溶融押出成形が挙げられる。かかる溶融押出成形を行うことにより、所望の各層厚みを有する光学フィルムを効率的に製造することができる。

共押出による溶融押出成形を行う際の樹脂の温度（以下、適宜「押出温度」ということがある。）は、特に限定されず、それぞれの樹脂を溶融させうる温度であって、成形に適した温度を適宜設定しうる。具体的には、好ましくはＴｇ＋８０℃以上、より好ましくはＴｇ＋１００℃以上であり、好ましくはＴｇ＋１８０℃以下、より好ましくはＴｇ＋１７０℃以下である。ここで「Ｔｇ」は、樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２のガラス転移温度のうち、最も高い温度を表す。押出温度を、前記範囲の下限値以上にすることにより樹脂の流動性を十分に高めて成型性を良好にでき、また、上限値以下にすることにより樹脂の劣化を抑制できる。

前記のようにして樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２を層状に成形することにより、樹脂Ｓ１で形成された層、樹脂Ｃで形成された層、及び、樹脂Ｓ２で形成された層を、その厚み方向においてこの順に備える複層フィルムが得られる。この複層フィルムは、通常、長尺のフィルムとして得られる。こうして得られた複層フィルムは、そのまま光学フィルムとして用いうる。また、前記の複層フィルムに、必要に応じて任意の処理を施し、それにより得られたものを光学フィルムとして用いてもよい。

［９．光学フィルムの用途］
上述した光学フィルムは、液晶表示装置などの表示装置において、他の層を保護する保護フィルムとして好適に用いうる。中でも、光学フィルムは、偏光子保護フィルムとして好適であり、表示装置の内側偏光子保護フィルムとして特に好適である。

一実施形態において、偏光板は、偏光子と、上述した光学フィルムとを備える。偏光板において、光学フィルムは、偏光子保護フィルムとして機能しうる。この偏光板はさらに、光学フィルムと偏光子との間に、これらを接着するための接着剤層を備えてもよい。

偏光子は、特に限定されず、任意の偏光子を用いうる。偏光子の例としては、ポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素、二色性染料等の材料を吸着させた後、延伸加工したものが挙げられる。接着剤層を構成する接着剤としては、各種の重合体をベースポリマーとしたものが挙げられる。かかるベースポリマーの例としては、例えば、アクリル重合体、シリコーン重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、及び合成ゴムが挙げられる。

偏光板が備える偏光子と保護フィルムの数は任意であるが、偏光板は、通常は、１層の偏光子と、その両面に設けられた２層の保護フィルムを備えうる。かかる２層の保護フィルムのうち、両方が上述した光学フィルムであってもよく、どちらか一方のみが上述した光学フィルムであってもよい。特に、光源及び液晶セルを備え、かかる液晶セルの光源側及び表示面側の両方に偏光板を有する液晶表示装置において、表示面側の偏光子よりも光源側の位置において用いる保護フィルムとして、光学フィルムを備えることが特に好ましい。かかる構成を有することにより、斜め視野角の光漏れおよび色ムラの小さい良好な表示品質を有する液晶表示装置を容易に構成することができる。

前記の偏光板を設けるのに適した液晶表示装置としては、例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、バーチカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチドメインバーチカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント（ＣＰＡ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、ツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド（ＯＣＢ）モードなどの駆動方式の液晶セルを備える液晶表示装置が挙げられ、中でも、光学フィルムによる斜め視野角の光漏れおよび色ムラ抑制の効果が顕著であることから、ＩＰＳモードの液晶セルを備える液晶表示装置が特に好ましい。

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。

［評価方法］
〔分子量の測定方法〕
重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、テトラヒドロフランを溶離液とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算値として３８℃において測定した。測定装置としては、東ソー社製ＨＬＣ８０２０ＧＰＣを用いた。

〔ガラス転移温度Ｔｇおよび融点Ｍｐの測定方法〕
窒素雰囲気下で３００℃に加熱した試料を液体窒素で急冷し、示差操作熱量計（ＤＳＣ）を用いて、１０℃／分で昇温して試料のガラス転移温度Ｔｇおよび融点Ｍｐをそれぞれ求めた。

〔水素化率の測定方法〕
重合体の水素化率は、オルトジクロロベンゼン−ｄ^４を溶媒として、１４５℃で、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により測定した。

〔重合体のラセモ・ダイアッドの割合の測定方法〕
オルトジクロロベンゼン−ｄ^４を溶媒として、２００℃で、ｉｎｖｅｒｓｅ−ｇａｔｅｄ ｄｅｃｏｕｐｌｉｎｇ法を適用して、重合体の^１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行った。この^１３Ｃ−ＮＭＲ測定の結果において、オルトジクロロベンゼン−ｄ^４の１２７．５ｐｐｍのピークを基準シフトとして、メソ・ダイアッド由来の４３．３５ｐｐｍのシグナルと、ラセモ・ダイアッド由来の４３．４３ｐｐｍのシグナルとを同定した。これらのシグナルの強度比に基づいて、重合体のラセモ・ダイアッドの割合を求めた。

〔層の厚みの測定方法〕
光学フィルムをエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム（大和光機工業社製「ＲＵＢ−２１００」）を用いて０．０５μｍ厚にスライスした。現れた断面を透過型電子顕微鏡を用いて観察して、光学フィルムに含まれる各層の厚みを測定した。

〔衝撃強度の測定方法〕
図２は、実施例及び比較例で用いた光学フィルムの衝撃強度の測定装置を模式的に示す斜視図である。また、図３は、実施例及び比較例で用いた光学フィルムの衝撃強度の測定装置を模式的に示す断面図である。光学フィルムの衝撃強度は、これらの図２〜図３に示す測定装置を用いて測定した。
試験片としてのフィルム１０ａを、中空の円筒形をなす上部クランプリング２０１及び下部クランプリング２０２を備える治具により、水平に固定した。上部クランプリング２０１及び下部クランプリング２０２の内径（矢印Ａ３で示される）は４ｃｍであった。治具に固定されたフィルム１０ａの上面１０Ｕの、治具内の中心軸上の位置１５Ｐに、ストライカーとしての鋼球２１１（パチンコ玉、重さ５ｇ、直径１１ｍｍ）を様々な高さｈから、矢印Ａ１方向に自由落下させた。前記の高さｈは、鋼球２１１の最下部の水準Ｈ１と、フィルム１０ａの上面１０Ｕとの距離を表す。この高さｈは、図３では、矢印Ａ２で示される。フィルム１０ａが破れなかった場合及びフィルム１０ａが破れた場合の境界の高さｈを調べた。そして、前記の境界の高さｈにおける、鋼球２１１の位置エネルギーを、衝撃強度とした。

〔光学フィルムの搬送性の評価方法〕
図４は、実施例及び比較例で用いたトリミング用の刃１及び２を、フィルム搬送方向に垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
後述する実施例及び比較例においては、光学フィルムを水平に搬送しながら、当該光学フィルムのトリミングを行った。このトリミングは、図４に示すように、光学フィルム３の重力方向上方に配置された円形の皿型刃１と、光学フィルム３の重力方向下方に配置された椀型刃２との組によって、行った。また、前記の皿型刃１及び椀型刃２の組は、椀型刃２の外周が光学フィルム３に接するように、配置した。さらに、前記の皿型刃１及び椀型刃２の組は、光学フィルム３の幅方向の両端部にそれぞれ１組ずつ、合計２組設置した。このような皿型刃１及び椀型刃２を用いたトリミングでは、皿型刃１及び椀型刃２の間に進入した部分において、光学フィルム３の連続的なトリミングが達成される。
光学フィルム３を搬送速度５ｍ／ｍｉｎでその長手方向に搬送しながら、３０分間、光学フィルム３のトリミングを続けた。そして、光学フィルム３が破断しなかったものは「良」と判定し、トリミングによるクラックが原因で光学フィルム３が破断したものは「不良」と判定した。ここで光学フィルム３の破断とは、光学フィルム３がその搬送方向である長手方向以外の方向に断ち切られる現象をいう。

〔レターデーションの測定方法〕
光学フィルムの各層に含まれる樹脂のペレットを用意した。各樹脂のペレットを溶融押出成形して、サンプルフィルムを作製した。このサンプルフィルムの屈折率を、屈折率膜厚測定装置（メトリコン社製「プリズムカプラ」）を使用して、測定波長４０５ｎｍ、５３２ｎｍ及び６３３ｎｍで、測定した。これらの測定波長４０５ｎｍ、５３２ｎｍ及び６３３ｎｍで得られた測定値に対し、コーシーの分散式にフィッティングすることで、測定波長５９０ｎｍにおける屈折率を算出した。
前記の波長５９０ｎｍにおける屈折率の測定を、サンプルフィルムの押出方向、前記押出方向に垂直な面内方向、及び、厚み方向のそれぞれにおいて行った。そして、前記押出方向、押出方向に垂直な面内方向、及び、厚み方向の屈折率の平均として、そのサンプルフィルムの波長５９０ｎｍにおける平均屈折率を求め、これを当該サンプルフィルムに対応した層の平均屈折率とした。

光学フィルムに含まれる各層の平均屈折率の、層の厚み比に基づいた加重平均として、光学フィルムの平均屈折率ｎ_totalを算出した。具体的には、下記式（Ｘ）から、光学フィルムの測定波長５９０ｎｍにおける平均屈折率ｎ_totalを算出した。
ｎ_total＝ｎ_ｓ１×｛ｄ_ｓ１／（ｄ_ｓ１＋ｄ_ｃ＋ｄ_ｓ２）｝＋ｎ_ｃ×｛ｄ_ｃ／（ｄ_ｓ１＋ｄ_ｃ＋ｄ_ｓ２）｝＋ｎ_ｓ２×｛ｄ_ｓ２／（ｄ_ｓ１＋ｄ_ｃ＋ｄ_ｓ２）｝ （Ｘ）
（前記式（Ｘ）において、ｎ_ｓ１は、第一スキン層の測定波長５９０ｎｍにおける平均屈折率を表し、ｄ_ｓ１は、第一スキン層の厚みを表し、ｎ_ｃは、コア層の測定波長５９０ｎｍにおける平均屈折率を表し、ｄ_ｃは、コア層の厚みを表し、ｎ_ｓ２は、第二スキン層の測定波長５９０ｎｍにおける平均屈折率を表し、ｄ_ｓ２は、第二スキン層の厚みを表す。）

光学フィルムのＲ０およびＲ４０を、測定装置（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」）を用いて、測定波長５９０ｎｍで測定した。
前記の光学フィルムのＲ０及びＲ４０、並びに光学フィルムの平均屈折率ｎ_totalから、測定波長５９０ｎｍにおける光学フィルムの厚み方向のレターデーションを計算した。

また、サンドペーパー＃１００を用いて光学フィルムから第一スキン層を取り除き、更にサンドペーパ＃２０００で表面を滑らかにして、コア層及び第二スキン層を含む試料フィルムを得た。この試料フィルムに含まれる各層の平均屈折率の、層の厚み比に基づいた加重平均として、試料フィルムの平均屈折率ｎ_aveを算出した。具体的には、下記式（Ｙ）から、試料フィルムの測定波長５９０ｎｍにおける平均屈折率ｎ_aveを算出した。
ｎ_ave＝ｎ_ｃ×｛ｄ_ｃ／（ｄ_ｃ＋ｄ_ｓ２）｝＋ｎ_ｓ２×｛ｄ_ｓ２／（ｄ_ｃ＋ｄ_ｓ２）｝ （Ｙ）
（前記式（Ｙ）において、記号の意味は、式（Ｘ）と同じである。）

この試料フィルムのＲ０およびＲ４０を、測定装置（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製「ＡｘｏＳｃａｎ」）を用いて、測定波長５９０ｎｍで測定した。
試料フィルムのＲ０及びＲ４０、並びに試料フィルムの平均屈折率ｎ_aveから、測定波長５９０ｎｍにおける試料フィルムの面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションを計算した。そして、第一スキン層を含む光学フィルムの面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーションから、第一スキン層を含まない試料フィルムの面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの差分をとることで、第一スキン層の面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーションを求めた。

さらに、サンドペーパー＃１００を用いて試料フィルムから第二スキン層を取り除き、更にサンドペーパ＃２０００で表面を滑らかにして、コア層を得た。このコア層のＲ０及びＲ４０、並びにコア層の平均屈折率ｎ_ｃから、測定波長５９０ｎｍにおけるコア層の面内レターデーション及び厚み方向のレターデーションを計算した。
また、第二スキン層を含む試料フィルムの面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーションから、コア層の面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーションの差分をとることで、第二スキン層の面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーションを求めた。

〔視野角特性の評価方法〕
光学フィルムにコロナ処理装置（春日電機社製）を用いて、放電量５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を施した。コロナ処理を施した光学フィルムと、ポリビニルアルコール製の偏光子（厚み２３μｍ）とを、接着液（日本合成化学社製「ゴーセファイマーＺ２００」）を介して、光学フィルムのコロナ処理面と偏光子の一方の表面とが向き合った状態で重ねて、ロールラミネーターを用いて貼り合わせた。こうして得られた複層フィルムを、前記と同じ条件でコロナ処理を施した脂環式構造含有重合体を含む樹脂（日本ゼオン社製；ガラス転移温度１２６℃）で形成された厚み４０μｍの偏光子保護フィルムと、接着液を介して重ねて、ロールラミネーターを用いて貼り合わせた。これにより、（偏光子保護フィルム）／（接着層）／（偏光子）／（接着層）／（光学フィルム）の層構成を有する、偏光板を得た。

ＩＰＳ型液晶表示装置として市販のテレビを用意した。このテレビの視認側の偏光板（即ち、表示面に近い方の偏光板）を取り外し、代わりに、実施例又は比較例で製造した光学フィルムを用いて製造した前記の偏光板を取り付けた。その後、テレビを黒表示にして、表示面を観察した。観察は、表示面の極角がおよそ４０°の方向から、方位角０°〜１８０°の範囲において行った。観察の結果、表示面の色が青味がかって見えれば「不良」と判定し、色味が確認できなければ「良」と判定した。

〔水蒸気透過率の測定方法〕
光学フィルムの水蒸気透過率は、水蒸気透過度測定装置（ＭＯＣＯＮ社製「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ」）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１２９ Ｂ法に従って、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件にて測定した。

〔カールの評価方法〕
前記〔視野角特性の評価方法〕で説明したように製造した偏光板を、肉眼で観察した。観察の結果、光学フィルム表面の凹凸は確認されず、外観は良好であった。
前記の偏光板を、１００ｍｍ角にカットし、正方形のフィルム片を得た。得られたフィルム片を、温度６０℃湿度９０％に整えられた高温恒湿槽に１００時間静置した。その後、高温恒湿槽からフィルム片を取り出し、平らなガラスの上に置いた。この際、フィルム片のカールによって当該フィルム片の端部が２ｍｍ以上浮き上がった場合は「不良」と判定し、浮き上がり量が２ｍｍ未満であった場合は「良」と判定した。

［製造例１．ブロック共重合体の水素化物を含む樹脂Ｉの製造］
（第１段階：重合反応による第１ブロックＳｔ１の伸長）
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン３２０部、スチレン７５部、及びジブチルエーテル０．３８部を仕込み、６０℃で攪拌しながらｎ−ブチルリチウム溶液（１５重量％含有ヘキサン溶液）０．４１部を添加して重合反応を開始させ、第１段階の重合反応を行った。反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により分析した結果、重合転化率は９９．５％であった。

（第２段階：重合反応による第２ブロックＩｐの伸長）
上記第１段階で得られた反応混合物に、イソプレン１５部を添加し、引き続き第２段階の重合反応を開始した。第２段階の重合反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、ＧＣにより分析した結果、重合転化率は９９．５％であった。

（第３段階：重合反応による第３ブロックＳｔ２の伸長）
上記第２段階で得られた反応混合物に、スチレン１０部を添加し、引き続き第３段階の重合反応を開始した。第３段階の重合反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、得られたブロック共重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎを測定した。またこの時点でサンプリングした試料をＧＣにより分析した結果、重合転化率はほぼ１００％であった。その後直ちに、反応混合物にイソプロピルアルコール０．２部を添加して反応を停止させた。これにより、ブロック共重合体を含む混合物を得た。

得られたブロック共重合体は、第１のスチレンブロックＳｔ１／イソプレンブロックＩｐ／第２のスチレンブロックＳｔ２＝７５／１５／１０の重量比のトリブロック分子構造を有する重合体であることが分かった。このブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は７０，９００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．５であった。

（第４段階：ブロック共重合体の水素化）
次に、上記のブロック共重合体を含む混合物を攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒（日揮触媒化成社製「Ｅ２２Ｕ」、ニッケル担持量６０％）８．０部及び脱水シクロヘキサン１００部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて８時間水素化反応を行った。水素化反応によりブロック共重合体が水素化されて、重合体Ｘを得た。得られた反応溶液に含まれる重合体Ｘの重量平均分子量（Ｍｗ）は６３，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．５であった。

（第５段階：揮発成分の除去）
水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した。その後、反応溶液に、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（松原産業社製「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」）０．１部を溶解したキシレン溶液２．０部を添加して溶解させた。
次いで、上記溶液から、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所社製「コントロ」）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。溶融ポリマーをダイからストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーを用いて重合体Ｘを含む樹脂Ｉのペレットを作製した。
得られたペレット状の樹脂Ｉに含まれる重合体Ｘの重量平均分子量（Ｍｗ）は６２，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．５、水素化率はほぼ１００％であった。

［製造例２．ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む樹脂IIの製造］
（ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物の合成）
金属製の耐圧反応器を、充分に乾燥した後、窒素置換した。この金属製耐圧反応器に、シクロヘキサン１５４．５部、ジシクロペンタジエン（エンド体含有率９９％以上）の濃度７０％シクロヘキサン溶液４２．８部（ジシクロペンタジエンの量として３０部）、及び１−ヘキセン１．９部を加え、５３℃に加温した。

テトラクロロタングステンフェニルイミド（テトラヒドロフラン）錯体０．０１４部を０．７０部のトルエンに溶解した溶液に、濃度１９％のジエチルアルミニウムエトキシド／ｎ−ヘキサン溶液０．０６１部を加えて１０分間攪拌して、触媒溶液を調製した。
この触媒溶液を耐圧反応器に加えて、開環重合反応を開始した。その後、５３℃を保ちながら４時間反応させて、ジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液を得た。
得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、それぞれ、８，７５０および２８，１００であり、これらから求められる分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２１であった。

得られたジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液２００部に、停止剤として１，２−エタンジオール０．０３７部を加えて、６０℃に加温し、１時間攪拌して重合反応を停止させた。ここに、ハイドロタルサイト様化合物（協和化学工業社製「キョーワード（登録商標）２０００」）を１部加えて、６０℃に加温し、１時間攪拌した。その後、濾過助剤（昭和化学工業社製「ラヂオライト（登録商標）＃１５００」）を０．４部加え、ＰＰプリーツカートリッジフィルター（ＡＤＶＡＮＴＥＣ東洋社製「ＴＣＰ−ＨＸ」）を用いて吸着剤と溶液を濾別した。

濾過後のジシクロペンタジエンの開環重合体の溶液２００部（重合体量３０部）に、シクロヘキサン１００部を加え、クロロヒドリドカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム０．００４３部を添加して、水素圧６ＭＰａ、１８０℃で４時間水素化反応を行なった。これにより、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む反応液が得られた。この反応液は、水素化物が析出してスラリー溶液となっていた。

前記の反応液に含まれる水素化物と溶液とを、遠心分離器を用いて分離し、６０℃で２４時間減圧乾燥して、結晶性を有するジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物２８．５部を得た。この水素化物の水素化率は９９％以上、ガラス転移温度Ｔｇは９５℃、結晶化温度Ｔｃは１８０℃、融点Ｍｐは２６２℃、ラセモ・ダイアッドの割合は８９％であった。

（ペレットの製造）
前記のジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物１００部に、酸化防止剤（テトラキス〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン；ＢＡＳＦジャパン社製「イルガノックス（登録商標）１０１０」）１．１部を混合して、樹脂IIを得た。

この樹脂IIを、内径３ｍｍΦのダイ穴を４つ備えた二軸押出機（東芝機械社製「ＴＥＭ−３７Ｂ」）に投入した。前記の二軸押出機によって、樹脂を熱溶融押出成形によりストランド状の成形体に成形した。この成形体をストランドカッターにて細断して、ジシクロペンタジエンの開環重合体の水素化物を含む樹脂IIのペレットを得た。前記の二軸押出機の運転条件を、以下に示す。
・バレル設定温度：２７０℃〜２８０℃
・ダイ設定温度：２５０℃
・スクリュー回転数：１４５ｒｐｍ
・フィーダー回転数：５０ｒｐｍ

［実施例１］
製造例１で製造した樹脂Ｉを、ホッパーへ投入した。そして、投入された樹脂Ｉを、コア層用の樹脂Ｃとして、マルチマニホールドダイに供給した。

他方、製造例２で製造した樹脂IIを、別のホッパーへ投入した。そして、投入された樹脂IIを、第一スキン層用の樹脂Ｓ１及び第二スキン層用の樹脂Ｓ２として、前記のマルチマニホールドダイに供給した。

次いで、マルチマニホールドダイから、コア層用の樹脂Ｃ、第一スキン層用の樹脂Ｓ１及び第二スキン層用の樹脂Ｓ２を、溶融状態でフィルム状に押し出した。そして、押し出された樹脂を冷却ロールにキャストし、冷却して、第一スキン層／コア層／第二スキン層をこの順に備えるフィルムを製造した。前記の溶融押出の温度は、コア層用の樹脂Ｃのガラス転移温度をＴｇＣとして、ＴｇＣ＋５０℃〜ＴｇＣ＋２００℃の範囲で設定した。得られたフィルムから、その幅方向の両端の部分をトリミングによって除去して、フィルム幅約６００ｍｍの長尺の光学フィルムを得た。
得られた光学フィルムを、上述した方法で評価した。

［実施例２］
マルチマニホールドダイにおける樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２の押出量を調整することによって、コア層、第一スキン層及び第二スキン層の厚みを、表１に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同じ操作により、光学フィルムの製造及び評価を行った。

［実施例３］
第一スキン層用の樹脂Ｓ１及び第二スキン層用の樹脂Ｓ２として、製造例２で製造した樹脂IIの代わりに、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を含む樹脂III（ノルボルネン重合体；日本ゼオン社製「ゼオノア」；ガラス転移温度１２６℃）を用いた。また、マルチマニホールドダイにおける樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２の押出量を調整することによって、コア層、第一スキン層及び第二スキン層の厚みを、表１に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同じ操作により、光学フィルムの製造及び評価を行った。

［実施例４］
第一スキン層用の樹脂Ｓ１及び第二スキン層用の樹脂Ｓ２として、樹脂IIIの代わりに、結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を含む樹脂IV（ノルボルネン重合体；日本ゼオン社製「ゼオノア」；ガラス転移温度１６３℃）を用いた。また、マルチマニホールドダイにおける樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２の押出量を調整することによって、第一スキン層及び第二スキン層の厚みを、表１に示すように変更した。以上の事項以外は、実施例３と同じ操作により、光学フィルムの製造及び評価を行った。

［比較例１］
コア層用の樹脂Ｃ、第一スキン層用の樹脂Ｓ１及び第二スキン層用の樹脂Ｓ２の全てとして、製造例１で製造した樹脂Ｉを用いた。以上の事項以外は実施例１と同じ操作により、樹脂Ｉで形成された層のみを備えた単層構造の光学フィルムの製造及び評価を行った。

［比較例２］
コア層用の樹脂Ｃ、第一スキン層用の樹脂Ｓ１及び第二スキン層用の樹脂Ｓ２の全てとして、製造例２で製造した樹脂IIを用いた。以上の事項以外は実施例１と同じ操作により、樹脂IIで形成された層のみを備えた単層構造の光学フィルムの製造及び評価を行った。

［比較例３］
コア層用の樹脂Ｃ、第一スキン層用の樹脂Ｓ１及び第二スキン層用の樹脂Ｓ２の全てとして、実施例３で用いたのと同じ樹脂IIIを用いた。以上の事項以外は実施例１と同じ操作により、樹脂IIIで形成された層のみを備えた単層構造の光学フィルムの製造及び評価を行った。

［比較例４］
マルチマニホールドダイにおける樹脂Ｃ、樹脂Ｓ１及び樹脂Ｓ２の押出量を調整することによって、コア層、第一スキン層及び第二スキン層の厚みを、表１に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同じ操作により、光学フィルムの製造及び評価を行った。

［比較例５］
光学フィルムとして、トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製「フジタック」、厚さ４０μｍ）を用意し、上述した方法で評価した。

［結果］
前記の実施例及び比較例の結果を、下記の表に示す。下記の表において、略称の意味は、以下の通りである。
Ｉ：ブロック共重合体の水素化物としての重合体Ｘを含む樹脂Ｉ。
II：結晶性を有する脂環式構造含有重合体を含む樹脂II。
III：結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を含む樹脂III。
IV：結晶性を有さない脂環式構造含有重合体を含む樹脂IV。
ＴＡＣ：トリアセチルセルロース。
Ｒｅ：面内レターデーション。
Ｒｔｈ：厚み方向のレターデーション。

１ 皿型刃
２ 椀型刃
３ 光学フィルム
１０ａ フィルム
１０Ｕ フィルムの上面
１５Ｐ 中心軸上の位置
１００ 光学フィルム
１１０ コア層
１２０ 第一スキン層
１３０ 第二スキン層
２０１ 上部クランプリング
２０２ 下部クランプリング
２１１ 鋼球

Claims (6)

1. 厚み方向のレターデーションの絶対値が、３ｎｍ以下であり、
   衝撃強度が、２×１０^−２Ｊ以上であり、且つ、
   水蒸気透過率が、１０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）以下である、光学フィルム。
2. 前記光学フィルムが、樹脂Ｃで形成されたコア層と、前記コア層の一側に樹脂Ｓ１で形成された第一スキン層と、前記コア層の他側に樹脂Ｓ２で形成された第二スキン層とを備え、
   前記樹脂Ｃの４０μｍの厚みにおける厚み方向のレターデーションの絶対値が、３ｎｍ以下であり、
   前記樹脂Ｓ１の４０μｍの厚みにおける衝撃強度が、５×１０^−２Ｊ以上であり、
   前記樹脂Ｓ２の４０μｍの厚みにおける衝撃強度が、５×１０^−２Ｊ以上である、請求項１記載の光学フィルム。
3. 前記樹脂Ｃが、ブロック共重合体の水素化物を含み、
   前記樹脂Ｓ１及び前記樹脂Ｓ２が、脂環式構造を含有する重合体を含む、請求項２記載の光学フィルム。
4. 前記コア層の厚みＴｃに対する、前記第一スキン層の厚みＴｓ１及び前記第二スキン層の厚みＴｓ２の合計の比（（Ｔｓ１＋Ｔｓ２）／Ｔｃ）が、０．０５〜０．４である、請求項２又は３記載の光学フィルム。
5. 厚みが５０μｍ以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルムと偏光子とを備える偏光板。

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