JPWO2018066611A1 - 蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び有機elディスプレイの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1(a)、(b)に示すように、本開示の実施の形態に係る蒸着マスク100は、蒸着作製するパターンに対応する複数の樹脂マスク開口部25を有する樹脂マスク20と、金属マスク開口部15を有する金属マスク10とが、樹脂マスク開口部25と金属マスク開口部15とが重なるようにして積層されてなる構成を呈している。なお、図1(a)は、本開示の実施の形態に係る蒸着マスク100を金属マスク側から平面視したときの一例を示す正面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A概略断面図である。
図1(b)に示すように、樹脂マスク20の一方の面上には、金属マスク10が積層されている。金属マスク10は、金属から構成され、図1(a)に示すように、縦方向或いは横方向に延びる金属マスク開口部15が配置されている。金属マスク開口部15の配置例について特に限定はなく、縦方向、及び横方向に延びる金属マスク開口部15が、縦方向、及び横方向に複数列配置されていてもよく、縦方向に延びる金属マスク開口部15が、横方向に複数列配置されていてもよく、横方向に延びる金属マスク開口部が縦方向に複数列配置されていてもよい。また、縦方向、或いは横方向に1列のみ配置されていてもよい。また、複数の金属マスク開口部15は、ランダムに配置されていてもよい。また、金属マスク開口部15は1つであってもよい。なお、本願明細書で言う「縦方向」、「横方向」とは、図面の上下方向、左右方向をさし、蒸着マスク、樹脂マスク、金属マスクの長手方向、幅方向のいずれの方向であってもよい。例えば、蒸着マスク、樹脂マスク、金属マスクの長手方向を「縦方向」としてもよく、幅方向を「縦方向」としてもよい。また、本願明細書では、蒸着マスクを平面視したときの形状が矩形状である場合を例に挙げて説明しているが、これ以外の形状、例えば、円形状や、ひし形状等の多角形状としてもよい。この場合、対角線の長手方向や、径方向、或いは、任意の方向を「長手方向」とし、この「長手方向」に直交する方向を、「幅方向(短手方向と言う場合もある)」とすればよい。
図7に示すように、実施形態(A)の蒸着マスク100は、複数画面分の蒸着パターンを同時に形成するための蒸着マスクであって、樹脂マスク20の一方の面上に、複数の金属マスク開口部15が設けられた金属マスク10が積層されてなり、樹脂マスク20には、複数画面を構成するために必要な樹脂マスク開口部25が設けられ、各金属マスク開口部15が、少なくとも1画面全体と重なる位置に設けられている。
次に、実施形態(B)の蒸着マスクについて説明する。図11に示すように、実施形態(B)の蒸着マスクは、蒸着作製するパターンに対応した樹脂マスク開口部25が複数設けられた樹脂マスク20の一方の面上に、1つの金属マスク開口部15が設けられた金属マスク10が積層されてなり、当該複数の樹脂マスク開口部25の全てが、金属マスク10に設けられた1つの金属マスク開口部15と重なる位置に設けられている。
本開示の実施の形態に係るフレーム付き蒸着マスク200は、フレーム60に上記で説明した本開示の各実施の形態に係る蒸着マスク100が固定されてなる構成を呈している。蒸着マスク100についての説明は省略する。
本開示の各実施の形態に係る蒸着マスクを用いた蒸着パターンの形成に用いられる蒸着方法については、特に限定はなく、例えば、反応性スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着法等の物理的気相成長法(Physical Vapor Deposition)、熱CVD、プラズマCVD、光CVD法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition)等を挙げることができる。また、蒸着パターンの形成は、従来公知の真空蒸着装置などを用いて行うことができる。
次に、本開示の実施形態に係る蒸着マスクの製造方法について説明する。
図20(a)や(b)に示すように、樹脂板にレーザーを照射するにあたり、角度を付けて照射することにより、上記「条件A」、及び「条件B」の何れか一方、又は双方を満たすように、開口部を形成することができる。なお、角度を付けるにあっては、図20(a)に示すように、レーザー自体に角度を付けてもよく、図20(b)に示すように、レーザー自体は真上から照射し、樹脂板に角度をつけて設置してもよい。また、図示はしないが、反射体などを用いて、照射されるレーザーの光路を変化させることで、レーザーに角度をつけることも可能である。
図21に示すように、樹脂板にレーザーを照射するにあたり、図21中の(1)、(2)、(3)・・・に示すように、レーザーを多段階に照射することにより上記「条件A」、及び「条件B」の何れか一方、又は双方を満たすように、開口部を形成することができる。この場合においては、レーザーを照射する位置をずらしつつ、その焦点距離を浅くしていくことで、所望の開口部を形成してもよく、レーザーの位置をずらしながら、照射するレーザーのエネルギーを変えていくことで、所望の開口部を形成してもよい。
図22に示すように、樹脂板にレーザーを照射するにあたり、樹脂板上にレーザー用マスク220を設置し、当該レーザー用マスク220を通してレーザーを照射することにより上記「条件A」、及び「条件B」の何れか一方、又は双方を満たすように、開口部を形成することができる。より具体的には、このレーザー用マスクには、レーザーのエネルギーを減衰させることなく、そのまま通過させる開口領域221と、当該開口領域221の周囲に位置し、レーザーのエネルギーを減衰させる減衰領域222とが設けられている。このような減衰領域222を有するレーザー用マスクを用いることにより、当該減衰領域222を通過したレーザーのエネルギーは減衰しているため、開口領域を通過したレーザーにより、開口部が形成されたタイミングにおいて、当該開口部の周辺は未だ貫通されていない状態を作り出すことができ、これにより上記「条件A」、及び「条件B」の何れか一方、又は双方を満たすように、開口部を形成することができる。このような減衰領域222の形成方法については特に限定されることはなく、例えばハーフトーンマスクなどの技術を応用することができ、この減衰領域222による減衰の割合や減衰領域222の配置を適宜設計することにより、上記「条件A」、及び「条件B」の何れか一方、又は双方を満たすように、開口部を形成することができる。
次に、本開示の実施の形態に係る有機半導体素子の製造方法について説明する。本開示の有機半導体素子の製造方法は、蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含み、蒸着パターンを形成する蒸着パターン形成工程において、上記で説明した本開示の各実施の形態に係る蒸着マスクが用いられる。
次に、本開示の実施の形態に係る有機ELディスプレイ(有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ)の製造方法について説明する。本開示の有機ELディスプレイの製造方法は、有機ELディスプレイの製造工程において、上記で説明した本開示の有機半導体素子の製造方法により製造された有機半導体素子が用いられる。
15…金属マスク開口部
20…樹脂マスク
25、25a、25b、25c、25d…樹脂マスク開口部
60…フレーム
100…蒸着マスク
Claims (8)
- 蒸着作製するパターンに対応する樹脂マスク開口部を有する樹脂マスクの一方の面上に、金属マスク開口部を有する金属マスクが積層されてなる蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板の一方の面に前記金属マスクが積層された金属マスク付き樹脂板を準備する工程と、
前記金属マスク付き樹脂板の金属マスク開口部を通してレーザーを照射することで前記樹脂板に複数の樹脂マスク開口部を形成する工程と、を含み、
前記樹脂マスク開口部を形成する工程においては、
前記複数の前記樹脂マスク開口部のうちの何れか1つの樹脂マスク開口部は、前記樹脂マスクの厚み方向断面において、当該1つの樹脂マスク開口部を形作る一方の内壁面と前記樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角と、当該1つの樹脂マスク開口部を形作る他方の内壁面と前記樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角とが異なる、ように樹脂マスク開口部を形成する、蒸着マスクの製造方法。 - 蒸着作製するパターンに対応する樹脂マスク開口部を有する樹脂マスクの一方の面上に、金属マスク開口部を有する金属マスクが積層されてなる蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板の一方の面に前記金属マスクが積層された金属マスク付き樹脂板を準備する工程と、
前記金属マスク付き樹脂板の金属マスク開口部を通してレーザーを照射することで前記樹脂板に複数の樹脂マスク開口部を形成する工程と、を含み、
前記樹脂マスク開口部を形成する工程においては、
前記樹脂マスクの厚み方向断面において、前記複数の前記樹脂マスク開口部のうちの1つの樹脂マスク開口部を形作る内壁面の一方の内壁面と前記樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角と、他の1つの樹脂マスク開口部を形作る内壁面の一方の内壁面と前記樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角とが異なる、ように樹脂マスクを形成する、蒸着マスクの製造方法。 - 前記樹脂マスク開口部を形成する工程において、
前記樹脂マスクの厚み方向断面において、前記1つの樹脂マスク開口部を形作る一方の内壁面と前記樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角と、当該1つの樹脂マスク開口部を形作る他方の内壁面と前記樹脂マスクの他方の面とのなす鋭角とが異なる、ように樹脂マスクを形成する、請求項2に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 蒸着作製するパターンに対応する開口部を有する蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板を準備する工程と、
レーザーを照射することで前記樹脂板に複数の開口部を形成する工程と、を含み、
前記開口部を形成する工程においては、
前記蒸着マスクの面のうち、蒸着源側に位置する面を蒸着マスクの一方の面としたときに、
前記複数の開口部のうちの何れか1つの開口部は、前記蒸着マスクの厚み方向断面において、当該1つの開口部を形作る一方の内壁面と前記蒸着マスクの他方の面とのなす鋭角と、当該1つの開口部を形作る他方の内壁面と前記蒸着マスクの他方の面とのなす鋭角とが異なる、ように開口部を形成する、蒸着マスクの製造方法。 - 蒸着作製するパターンに対応する開口部を有する蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂板を準備する工程と、
レーザーを照射することで前記樹脂板に複数の開口部を形成する工程と、を含み、
前記開口部を形成する工程においては、
前記蒸着マスクの面のうち、蒸着源側に位置する面を蒸着マスクの一方の面としたときに、
前記蒸着マスクの厚み方向断面において、前記複数の開口部のうちの1つの開口部を形作る内壁面の一方の内壁面と前記蒸着マスクの他方の面とのなす鋭角と、他の1つの開口部を形作る内壁面の一方の内壁面と前記蒸着マスクの他方の面とのなす鋭角とが異なる、ように開口部を形成する、蒸着マスクの製造方法。 - 前記樹脂マスク開口部を形成する工程において、
前記蒸着マスクの厚み方向断面において、前記1つの開口部を形作る一方の内壁面と前記蒸着マスクの他方の面とのなす鋭角と、当該1つの開口部を形作る他方の内壁面と前記蒸着マスクの他方の面とのなす鋭角とが異なる、ように開口部を形成する請求項5に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 有機半導体素子の製造方法であって、
蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する蒸着パターン形成工程を含み、
前記蒸着パターン形成工程で用いられる前記蒸着マスクが、前記請求項1乃至6の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法によって製造された蒸着マスクである、
有機半導体素子の製造方法。 - 有機ELディスプレイの製造方法であって、
請求項8に記載の有機半導体素子の製造方法により製造された有機半導体素子が用いられる、
有機ELディスプレイの製造方法。
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