JPWO2018051444A1 - マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法 - Google Patents

マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2018051444A1
JPWO2018051444A1 JP2018539013A JP2018539013A JPWO2018051444A1 JP WO2018051444 A1 JPWO2018051444 A1 JP WO2018051444A1 JP 2018539013 A JP2018539013 A JP 2018539013A JP 2018539013 A JP2018539013 A JP 2018539013A JP WO2018051444 A1 JPWO2018051444 A1 JP WO2018051444A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
width
mask
vapor deposition
sheet
middle portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018539013A
Other languages
English (en)
Inventor
山渕 浩二
浩二 山渕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Publication of JPWO2018051444A1 publication Critical patent/JPWO2018051444A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

第1方向(D1)を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、グリップ可能な第1側端部(G1)と、複数の貫通孔を有する中間部(M)とを備え、前記第1側端部および中間部の間に、第1方向と直交する第2方向(D2)の長さである幅(Wk)が中間部よりも小さい第1狭幅部(K1)、あるいは、前記第2方向に向かい合う2つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターンを含む。

Description

本発明は、蒸着用のマスクシート等に関する。
例えばOLED(有機発光ダイオード)パネルの製造工程では、有機物を、複数の貫通孔を有する蒸着マスク越しに基板に蒸着させることで、複数の貫通孔に対応する有機物のパターンを形成する。
蒸着工程では、複数のマスクシートを枠体(フレーム)に固定して使用する。具体的には、マスクシートに張力を与えた状態で蒸着マスクの枠体に対する位置合わせを行い、マスクシートを枠体に溶接する(特許文献1参照)。
日本国公開特許公報「特開2015−127446号(公開日:2015年7月9日)」
発明者は、蒸着マスクの枠体に対する位置合わせのときの蒸着マスクの張力状態と、溶接後の蒸着マスクの張力状態とが異なることで、溶接後に蒸着マスクの貫通孔が枠体に対して位置ずれしたり変形したりするおそれがあることを見出した。
本発明の一形態にかかるマスクシートは、第1方向を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、グリップ可能な第1側端部と、複数の貫通孔を有する中間部とを備え、前記第1側端部および中間部の間に、第1方向と直交する第2方向の長さである幅が中間部よりも小さい第1狭幅部、あるいは、前記第2方向に向かい合う2つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターンを含む。
マスクシートを枠体に溶接した後にマスクシートの貫通孔が枠体に対して位置ずれしたり変形したりするおそれを低減することができる。
(a)はOLEDパネルの製造方法を示すフローチャートであり、(b)はOLEDディスプレイの構成を示す断面図である。 OLEDパネルの蒸着工程を示す模式図である。 実施形態1に係る蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図、(d)はマスクシートの架張手法を示す平面図である。 蒸着マスクの作製方法を示すフローチャートである。 実施形態1に係る別の蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図である。 実施形態1に係るさらに別の蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図である。 実施形態2に係る蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図、(d)はマスクシートの架張手法を示す平面図である。 従来の蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図である。
以下に、図1〜図8に基づき、本発明の実施形態を説明する。以下において、「等しい」と記載した場合には、完全に等しくなくとも技術常識や効果等に鑑みて略等しいあるいは実質的に等しいといえる場合を含むものとする。同様に、「一致する」と記載した場合には、完全に一致していなくとも技術常識や効果等に鑑みて、略一致するあるいは実質的に一致するといえる場合を含むものとする。
図1(a)は、OLED(有機発光ダイオード)パネルの製造方法の概略を示すフローチャートであり、(b)はOLEDディスプレイの構成を示す断面図である。図1(a)(b)に示すように、ステップS1で基板2にTFTアレイ層4(例えば、薄膜トランジスタ、信号線、陽極を含む)を形成する。また、別途、蒸着マスクを作製しておき(後述、図4のSa〜Sg参照)、ステップS2でOLED素子層7(例えば、電気的機能層、発光層、陰極を含む)を形成する。
ステップS2には、蒸着マスクを用いた蒸着工程が含まれる。この蒸着工程では、例えば図2のように、TFTアレイ層を含む基板5に複数の貫通孔を有するマスクシート10を密着させ、真空下において、蒸着源70で気化あるいは昇華させた蒸着粒子Z(例えば、有機発光材)をマスクシート10越しに基板5に蒸着させることで、マスクシート10の貫通孔に対応する蒸着パターンを形成する。
ステップS3ではOLED封止層8を形成する。ステップS4では基板の分断化を行って複数のOLEDパネルとし、ステップS5で、OLEDパネルに偏光およびタッチセンサ機能を有する機能層9やドライバ回路を設け、OLEDディスプレイとする。
〔実施形態1〕
図3は、実施形態1に係る蒸着マスクを示すもので、実施形態1に係る蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図、(d)はマスクシートの架張手法を示す平面図である。
図3に示すように、実施形態1に係る蒸着マスク20は、フレーム(枠体)12と、フレーム12のD1方向(横方向)に架けられる複数のカバーシート(架橋シート)11a・11bと、フレーム12のD2方向(縦方向)に架けられる複数のサポートシート13と、複数のマスクシート10とを備える。図3では、説明の便宜上、マスクシート10を1枚だけ記載しているが、実際は、隣り合うカバーシートの間隙の数だけマスクシート10が設けられる。図3(b)では、(断面に含まれない)カバーシート11aの位置を破線で示している。
マスクシート10は、短冊状に分割された短冊状の蒸着用マスクシート(ディバイデッドシート)であって、例えば、インバー材等により構成され、その厚さは、例えば、10μm〜100μmである。マスクシート10は、グリップ可能な2つの側端部G1・G2と、中間部Mとを備える。中間部Mには、複数の貫通孔(蒸着対象となる粒子を通過させる蒸着孔)が形成された有効部Aaが長手方向(D1方向)に複数並べられており、各有効部AaがOLEDパネル1枚分に相当する。マスクシート10では、D1方向に直交するD2方向の長さを各部の幅(シート幅)とする。
図3(a)に示されるように、マスクシート10は、側端部G1および中間部Mの間に狭幅部K1を備え、側端部G2および中間部Mの間に狭幅部K2を備える。狭幅部K1・K2の幅Wk(D2方向の長さ)は中間部の幅Wmよりも小さい。例えば、狭幅部K1においてD2方向に向かい合う2つのエッジE1・e1は、中間部MにおいてD2方向に向かい合う2つのエッジE3・e3よりも、D2方向に関して内側に位置している。
また、中間部Mは、有効部Aaと、有効部Aaを取り囲む非有効部とからなり、側端部G1・G2の幅Wgは、中間部の幅Wmよりも小さく、有効部の幅Waよりも大きい。
図3(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20では、狭幅部K1・K2に設けられた溶接部Yにおいてマスクシート10と枠体12とが溶接されている。
図3(c)に示すように、例えば狭幅部K1と重畳する溶接部Yは、狭幅部K1においてD2方向に向かい合う2つのエッジの一方E1から他方e1にまで至る。すなわち、溶接部YのD2方向の長さである溶接長Lyは、狭幅部K1・K2の幅Wk、より具体的には、狭幅部K1・K2の最小幅に等しい。また、溶接長Lyは、側端部G1・G2の幅Wgに等しい。また、溶接長Lyは有効部Aaの幅Wa以上である。
図3(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20のマスクシート10は、中間部MにおいてD2方向に向かい合う2つのエッジの一方E3がカバーシート11aに重ねられるとともに、他方e3がカバーシート11bに重ねられた状態で溶接部Yがフレーム12に溶接される。ここでは、溶接長Lyが、中間部の幅Wmから、中間部Mの2つのエッジの一方E3とカバーシート11aとの重畳幅と、これら2つのエッジの他方e3とカバーシート11bとの重畳幅とを減じて得られる値以下としている。
なお、カバーシート11a・11bの各端部は、フレーム12に設けられた凹部Hに、その開口から露出しないように嵌め込まれ、サポートシート13の端部も、フレーム12に設けられた、カバーシート11よりも下の凹部に、その開口から露出しないように嵌め込まれる。これにより、蒸着源側から、サポートシート13、カバーシート11a・11b、マスクシート10の順にフレーム12に固定(溶接)される。
蒸着マスクの作製方法は図4のとおりである。図3(a)〜(c)および図4に示すように、サポートシート13の各端部をフレーム12に設けられた凹部に嵌め込んで溶接し(ステップSa)、さらに、カバーシート11a・11bの各端部を、フレーム12の凹部Hに、その開口から露出しないように嵌め込んで溶接する(ステップSb)。
次いで、マスクシートをグリッパD1〜D4に装着した上でフレーム12上に配置する(ステップSc)。図3(d)に示すように、側端部G1・G2それぞれは、中央部が切り欠かれた形状であり、側端部G1の切り欠きの両側に位置する部分をグリッパD1・D2に挟み、側端部G2の切り欠きの両側に位置する部分をグリッパD3・D4に挟み込む。ここでは、中間部Mの長手方向に沿う2つのエッジの一方E3をカバーシート11aに重ね、他方e3をカバーシート11bに重ねる。
次いで、グリッパD1〜D4によりマスクシートにかかる張力を調整し、精密な位置合わせを行う(ステップSd)。位置合わせが完了すれば、レーザを用いて、マスクシートをフレームに溶接する(ステップSe)。これにより、図3(c)に示すように、マスクシート10およびフレーム12の融解による溶接スポットが複数形成される。ここでは、最外側の2つの溶接スポットを、マスクシートの2つのエッジE1・e1近傍に形成することで、溶接長Lyを、狭幅部K1の幅Wk(具体的には最小幅)に略一致させている。
溶接が完了すれば、両側端部G1・G2のグリッパD1〜D4を解除する(ステップSf)。以上を繰り返して、マスクシート全枚をフレーム12に張り終えたら、溶接箇所外側の不要部分をカットする(ステップSg)。
図8は、従来の蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図である。
従来の蒸着マスクでは、図8(a)に示すように、マスクシートの幅が各部で均一な値(WS)であるため、カーバーシートの端部上に位置する四隅にもグリッパによる張力Tがかかる。しかしながら、図8(b)(c)に示すように、この四隅はフレーム凹部の開口上(カーバーシートの端部上)に位置するため溶接ができず、溶接長がシート幅(WS)よりも小さくなる。したがって、溶接後にグリッパを解除すると、マスクシートの張力状態が変化して四隅に内向きの応力がかかり、有効部の貫通孔の位置がずれたり、変形したりするおそれがある。
一方、実施形態1(図3)のマスクシート10では、狭幅部K1・K2に溶接部Yを設け、溶接長Lyを、狭幅部K1・K2の幅Wk(具体的には最小幅)に略一致させている(溶接長Lyを溶接部Yにおけるシート幅にほぼ一致させている)。こうすれば、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができ、有効部Aaの貫通孔の位置がずれたり、変形したりするおそれを低減することができる。この効果は、溶接長Lyを側端部G1・G2の幅Wgに等しくしたり、溶接長Lyを有効部Aaの幅Wa以上とすることでより高めることができる。
図5は、実施形態1に係る別の蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図である。図5(b)では、(断面に含まれない)カバーシート11aの位置を破線で示している。
図5(a)に示されるように、マスクシート10は、側端部G1および中間部Mの間に括れ形状の狭幅部K1を備え、側端部G2および中間部Mの間に括れ形状の狭幅部K2を備える。狭幅部K1・K2の幅WKは中間部の幅Wmよりも小さい。例えば、狭幅部K1においてD2方向に向かい合う2つのエッジE1・e1は、中間部MにおいてD2方向に向かい合う2つのエッジE3・e3よりも、D2方向に関して内側に位置している。
また、側端部G1・G2の幅Wgは、中間部の幅Wmと同一で、有効部の幅Waよりも大きい。
図5(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20では、狭幅部K1・K2に設けられた溶接部Yにおいてマスクシート10と枠体12とが溶接されている。
図5(a)(c)に示すように、例えば狭幅部K1と重畳する溶接部Yは、狭幅部K1においてD2方向に向かい合う2つのエッジの一方E1から他方e1にまで至る。すなわち、溶接部YのD2方向の長さである溶接長Lyは、狭幅部K1・K2の最小幅WKに略等しい。また、溶接長Lyは、側端部G1・G2の幅Wgよりも小さい。また、溶接長Lyは有効部Aaの幅Wa以上である。
図5(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20のマスクシート10は、中間部MにおいてD2方向に向かい合う2つのエッジの一方E3がカバーシート11aに重ねられるとともに、他方e3がカバーシート11bに重ねられた状態で溶接部Yがフレーム12に溶接される。ここでは、溶接長Lyが、中間部の幅Wmから、中間部Mの2つのエッジの一方E3とカバーシート11aとの重畳幅と、これら2つのエッジの他方e3とカバーシート11bとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
このように、括れ形状の狭幅部K1・K2に溶接部Yを設け、溶接長Lyを、狭幅部K1・K2の最小幅WKに略一致させる(溶接長Lyを、溶接部Yにおけるシート幅に可能な限り近づけ、実質的に前記シート幅に一致させる)ことで、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができ、有効部Aaの貫通孔の位置がずれたり、変形したりするおそれを低減することができる。
図6は、実施形態1に係るさらに別の蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図である。図6(b)では、(断面に含まれない)カバーシート11aの位置を破線で示している。
図6(a)に示されるように、マスクシート10は、側端部G1および中間部Mの間に、括れ形状の2つの狭幅部K1(側端部側)および狭幅部k1(中間部側)を備える。また、側端部G2および中間部Mの間に、括れ形状の2つの狭幅部K2(側端部側)および狭幅部k2(中間部側)を備える。
狭幅部K1・K2の幅Wkおよび狭幅部k1・k2の幅Wk’は中間部の幅Wmよりも小さい。例えば、狭幅部K1においてD2方向に向かい合う2つのエッジE1・e1は、中間部MにおいてD2方向に向かい合う2つのエッジE3・e3よりも、D2方向に関して内側に位置し、狭幅部k1においてD2方向に向かい合う2つのエッジE1’・e1’は、前記2つのエッジE3・e3よりも、D2方向に関して内側に位置している。
また、側端部G1・G2の幅Wgは、中間部の幅Wmと同一で、有効部の幅Waよりも大きい。
図6(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20では、2つの狭幅部K1・k1間に設けられた溶接部Yと、2つの狭幅部K2・k2間に設けられた溶接部Yとにおいてマスクシート10と枠体12とが溶接されている。
図6(a)(c)に示すように、溶接部YのD2方向の長さである溶接長Lyは、狭幅部K1の最小幅WKおよび狭幅部k1の最小幅WK’に等しい。また、溶接長Lyは、側端部G1・G2の幅Wgよりも小さい。また、溶接長Lyは有効部Aaの幅Wa以上である。
図6(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20のマスクシート10は、中間部MにおいてD2方向に向かい合う2つのエッジの一方E3がカバーシート11aに重ねられるとともに、他方e3がカバーシート11bに重ねられた状態で溶接部Yがフレーム12に溶接される。ここでは、溶接長Lyが、中間部の幅Wmから、中間部Mの2つのエッジの一方E3とカバーシート11aとの重畳幅と、これら2つのエッジの他方e3とカバーシート11bとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
図6のマスクシート10では、溶接長Lyが溶接部Yにおけるシート幅よりも小さくなるものの、溶接部YのD1方向の両側に2つの狭幅部(K1・k1あるいはK2・k2)を設けることで、D2方向にみて溶接部Yよりも外側に位置する部分にかかる張力を極力小さくすることができ、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができる。
なお、Lyを、WKおよびWK’よりも大きくすれば、溶接部Yの外側応力を効果的に低減でき、Lyを、WKおよびWK’よりも小さくすれば、マスクシート10が比較的薄い場合に溶接部Yの外側応力を効果的に低減でき、Lyを、WKよりも大きくWK’よりも小さくすれば、マスクシート10の剛性を保ちつつ、溶接部Yの外側応力を低減することができる。
実施形態1では、カバーシート11a・11bがサポートシート13よりも上側(マスクシート側)に位置するが、カバーシートとサポートシートの上下関係を逆にする(サポートシートを上側とする)こともでき、この場合も前記と同様の効果が得られる。
〔実施形態2〕
図7は、実施形態2に係る蒸着マスクを示すもので、(a)は蒸着マスクの平面図、(b)は蒸着マスクのc−c断面図、(c)は蒸着マスクのf−f断面図、(d)はマスクシートの架張手法を示す平面図である。図7(b)では、(断面に含まれない)カバーシート11aの位置を破線で示している。
実施形態2のマスクシート10では、図7のように、側端部G1および中間部Mの間に、幅方向に向かい合う2つのシートエッジEa・Ebに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターンPa・Pbが形成され、側端部G2および中間部Mの間に、幅方向に向かい合う2つのシートエッジEa・Ebに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターンpa・pbが形成されている。
2つのエッジパターン(Pa・Pbあるいはpa・pb)の間隔Wpは有効部の幅Wa)よりも大きい。また、側端部G1・G2の幅Wgは、中間部の幅Wmと同一で、有効部の幅Waよりも大きい。
図7(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20では、2つのエッジパターンPa・Pbの間に設けられた溶接部Yと、2つのエッジパターンpa・pbの間に設けられた溶接部Yとにおいてマスクシート10と枠体12とが溶接されている。
図7(a)(c)に示すように、溶接部YのD2方向の長さである溶接長Lyは、2つのエッジパターン(Pa・Pbあるいはpa・pb)の間隔Wpに等しく、側端部G1・G2の幅Wgおよび中間部の幅Wmよりも小さい。
図7(a)〜(c)に示されるように、蒸着マスク20のマスクシート10は、中間部MにおいてD2方向に向かい合う2つのエッジの一方Eaがカバーシート11aに重ねられるとともに、他方Ebがカバーシート11bに重ねられた状態で溶接部Yがフレーム12に溶接される。ここでは、溶接長Lyが、中間部の幅Wmから、中間部Mの2つのエッジの一方Eaとカバーシート11aとの重畳幅と、これら2つのエッジの他方Ebとカバーシート11bとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
図7のマスクシート10では、溶接長Lyが溶接部Yにおけるシート幅よりも小さくなるものの、溶接部YのD2方向の両側に2つのエッジパターン(Pa・Pbあるいはpa・pb)を設けることで、D2方向にみて溶接部Yよりも外側に位置する部分にかかる張力を小さくすることができ、図7(d)のグリッパD1〜D4解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができる。
さらに、実施形態2のマスクシート10では、溶接部Yと中間部Mとの間に、厚みが中間部Mの最大厚みよりも小さい複数の線条パターンLpが、中間部Mに向けて放射状に伸びるように設けられているため、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化をさらに抑制することができる。なお、線条パターンLpは、厚みが中間部Mの最大厚みよりも小さければよく、スリット形状(完全に貫かれて厚みがない状態)でも構わない。
〔まとめ〕
態様1のマスクシートは、第1方向(D1)を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、グリップ可能な第1側端部(G1)と、複数の貫通孔を有する中間部(M)とを備え、前記第1側端部および中間部の間に、第1方向と直交する第2方向(D2)の長さである幅(Wk)が中間部よりも小さい第1狭幅部(K1)、あるいは、前記第2方向に向かい合う2つのエッジ(Ea・Eb)に沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターン(Pa・Pb)を含む。
態様2では、第1狭幅部において第2方向に向かい合う2つのエッジ(E1・e1)は、中間部において第2方向に向かい合う2つのエッジ(E3・e3)よりも、第2方向に関して内側に位置する。
態様3では、前記中間部は、複数の貫通孔が形成された有効部(Aa)と、有効部を取り囲む非有効部とを含む。
態様4では、前記第1側端部の幅(Wg)は、中間部の幅(Wm)よりも小さく、有効部の幅(Wa)よりも大きい。
態様5では、前記第1狭幅部は括れ形状であって、第1狭幅部の最小幅(WK)が、有効部の幅(Wa)よりも大きく、第1側端部の幅(Wg)よりも小さい。
態様6では、前記第1側端部と中間部との間に、中間部の最大厚みよりも小さな厚みをもつ複数の線条パターン(Lp)が、中間部に向けて放射状に伸びるように設けられている。
態様7では、前記2つのエッジパターンの間隔(Wp)が有効部の幅(Wa)よりも大きい。
態様8では、グリップ可能な第2側端部(G2)および上記中間部の間に、中間部よりも幅が小さい第2狭幅部(K2)、あるいは、前記第2方向に向かい合う2つのエッジ(Ea・Eb)に沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターン(pa・pb)を含む。
態様9では、前記複数の貫通孔は、蒸着対象となる粒子を通過させる蒸着孔である。
態様10の蒸着マスクは、前記マスクシート(10)と、このマスクシートが固定される枠体とを備える。
態様11では、前記第1狭幅部に設けられた溶接部(Y)、あるいは、前記2つのエッジパターンの間に設けられた溶接部(Y)においてマスクシートと枠体とが溶接されている。
態様12では、前記溶接部の第2方向の長さ(Ly)が、第1狭幅部の幅に等しい。
態様13では、前記溶接部の第2方向の長さが、第1狭幅部の最小幅に等しい。
態様14では、前記溶接部の第2方向の長さが、第1側端部の幅に等しい。
態様15では、前記溶接部の第2方向の長さが、中間部に設けられる有効部の幅以上である。
態様16では、前記枠体に架ける第1および第2架橋シート(11a・11b)を備え、中間部において第2方向に向かい合う2つのエッジの一方(E3)が前記第1架橋シートに重ねられるとともに、他方(e3)が前記第2架橋シートに重ねられている。
態様17では、前記溶接部の第2方向の長さが、中間部の幅から、前記中間部の2つのエッジの一方と前記第1架橋シートとの重畳幅と、前記中間部の2つのエッジの他方と前記第2架橋シートとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
態様18では、前記第1および第2架橋シートの各端部は、枠体に設けられた凹部に、その開口から露出しないように嵌め込まれている。
態様19の表示パネルの製造方法は、前記蒸着マスクを用いた蒸着工程を含む。
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
10 マスクシート
11a・11b カバーシート
12 フレーム
20 蒸着マスク
M 中間部
G1・G2 側端部
D1〜D4 グリッパ
H (フレームの)凹部
K1・K2・k1・k2 狭幅部
Aa 有効部
Pa・Pb・pa・pb エッジパターン
Lp 線条パターン
E1・e1 狭幅部におけるエッジ
E3・e3 中間部におけるエッジ






Claims (19)

  1. 第1方向を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、
    グリップ可能な第1側端部と、複数の貫通孔を有する中間部とを備え、
    前記第1側端部および中間部の間に、第1方向と直交する第2方向の長さである幅が中間部よりも小さい第1狭幅部、あるいは、前記第2方向に向かい合う2つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターンを含むマスクシート。
  2. 第1狭幅部において第2方向に向かい合う2つのエッジは、中間部において第2方向に向かい合う2つのエッジよりも、第2方向に関して内側に位置する請求項1記載のマスクシート。
  3. 前記中間部は、複数の貫通孔が形成された有効部と、有効部を取り囲む非有効部とを含む請求項1記載のマスクシート。
  4. 前記第1側端部の幅は、中間部の幅よりも小さく、有効部の幅よりも大きい請求項3記載のマスクシート。
  5. 前記第1狭幅部は括れ形状であって、第1狭幅部の最小幅が、有効部の幅よりも大きく、第1側端部の幅よりも小さい請求項3記載のマスクシート。
  6. 前記第1側端部と中間部との間に、中間部の最大厚みよりも小さな厚みをもつ複数の線条パターンが、中間部に向けて放射状に伸びるように設けられている請求項1記載のマスクシート。
  7. 前記2つのエッジパターンの間隔が有効部の幅よりも大きい請求項1記載のマスクシート。
  8. グリップ可能な第2側端部および上記中間部の間に、中間部よりも幅が小さい第2狭幅部、あるいは、前記第2方向に向かい合う2つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた2つのエッジパターンを含む請求項1に記載のマスクシート。
  9. 前記複数の貫通孔は、蒸着対象となる粒子を通過させる蒸着孔である請求項1〜8のいずれか1項に記載のマスクシート。
  10. 請求項1に記載のマスクシートと、このマスクシートが固定される枠体とを備える蒸着マスク。
  11. 前記第1狭幅部に設けられた溶接部、あるいは、前記2つのエッジパターンの間に設けられた溶接部においてマスクシートと枠体とが溶接されている請求項10に記載の蒸着マスク。
  12. 前記溶接部の第2方向の長さが、第1狭幅部の幅に等しい請求項11に記載の蒸着マスク。
  13. 前記溶接部の第2方向の長さが、第1狭幅部の最小幅に等しい請求項12に記載の蒸着マスク。
  14. 前記溶接部の第2方向の長さが、第1側端部の幅に等しい請求項11に記載の蒸着マスク。
  15. 前記溶接部の第2方向の長さが、中間部に設けられる有効部の幅以上である請求項11に記載の蒸着マスク。
  16. 前記枠体に架ける第1および第2架橋シートを備え、中間部において第2方向に向かい合う2つのエッジの一方が前記第1架橋シートに重ねられるとともに、他方が前記第2架橋シートに重ねられている請求項11記載の蒸着マスク。
  17. 前記溶接部の第2方向の長さが、中間部の幅から、前記中間部の2つのエッジの一方と前記第1架橋シートとの重畳幅と、前記中間部の2つのエッジの他方と前記第2架橋シートとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている請求項16記載の蒸着マスク。
  18. 前記第1および第2架橋シートの各端部は、枠体に設けられた凹部に、その開口から露出しないように嵌め込まれている請求項16に記載の蒸着マスク。
  19. 請求項10〜18のいずれか1項に記載の蒸着マスクを用いた蒸着工程を含む表示パネルの製造方法。
JP2018539013A 2016-09-14 2016-09-14 マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法 Pending JPWO2018051444A1 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2016/077185 WO2018051444A1 (ja) 2016-09-14 2016-09-14 マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2018051444A1 true JPWO2018051444A1 (ja) 2019-06-24

Family

ID=61619104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018539013A Pending JPWO2018051444A1 (ja) 2016-09-14 2016-09-14 マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20180366649A1 (ja)
JP (1) JPWO2018051444A1 (ja)
CN (1) CN109689920A (ja)
WO (1) WO2018051444A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102559894B1 (ko) * 2018-06-15 2023-07-27 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리, 이를 포함하는 증착설비, 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법
JP2021175824A (ja) * 2020-03-13 2021-11-04 大日本印刷株式会社 有機デバイスの製造装置の蒸着室の評価方法、評価方法で用いられる標準マスク装置及び標準基板、標準マスク装置の製造方法、評価方法で評価された蒸着室を備える有機デバイスの製造装置、評価方法で評価された蒸着室において形成された蒸着層を備える有機デバイス、並びに有機デバイスの製造装置の蒸着室のメンテナンス方法
CN115298722B (zh) * 2020-04-02 2023-08-29 夏普株式会社 蒸镀掩模、显示面板及显示面板的制造方法
WO2022092846A1 (ko) * 2020-10-30 2022-05-05 에이피에스홀딩스 주식회사 증착 마스크 스틱 중간체

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004014513A (ja) * 2002-06-03 2004-01-15 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
US20110265714A1 (en) * 2010-04-29 2011-11-03 Lee Choong-Ho Mask frame assembly
US20140130735A1 (en) * 2012-11-15 2014-05-15 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly for thin film vapor deposition and manufacturing method thereof
JP2014133934A (ja) * 2013-01-11 2014-07-24 Dainippon Printing Co Ltd 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク
JP2015127446A (ja) * 2013-12-27 2015-07-09 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置の製造方法および保護フィルム付き蒸着マスク

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101450728B1 (ko) * 2008-05-28 2014-10-14 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 그의 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004014513A (ja) * 2002-06-03 2004-01-15 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
US20110265714A1 (en) * 2010-04-29 2011-11-03 Lee Choong-Ho Mask frame assembly
US20140130735A1 (en) * 2012-11-15 2014-05-15 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly for thin film vapor deposition and manufacturing method thereof
JP2014133934A (ja) * 2013-01-11 2014-07-24 Dainippon Printing Co Ltd 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク
JP2015127446A (ja) * 2013-12-27 2015-07-09 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置の製造方法および保護フィルム付き蒸着マスク

Also Published As

Publication number Publication date
US20180366649A1 (en) 2018-12-20
CN109689920A (zh) 2019-04-26
WO2018051444A1 (ja) 2018-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI536632B (zh) 沉積遮罩
KR101107159B1 (ko) 평판 표시장치의 박막 증착용 마스크 조립체
JPWO2018051444A1 (ja) マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法
TWI673162B (zh) 蒸鍍遮罩之拉伸方法、附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法、有機半導體元件之製造方法及拉伸裝置
US10663857B2 (en) Mask and fabrication method thereof
KR102036073B1 (ko) 증착 마스크, 프레임을 갖는 증착 마스크, 및 유기 반도체 소자의 제조 방법
JP4913786B2 (ja) マスク組立体及びその製造方法
WO2013105645A1 (ja) 多面付け蒸着マスクの製造方法及びこれにより得られる多面付け蒸着マスク並びに有機半導体素子の製造方法
WO2015099013A1 (ja) フレーム付き蒸着マスクの製造方法、引張装置、有機半導体素子の製造装置及び有機半導体素子の製造方法
JP7327969B2 (ja) 蒸着用マスク
WO2015053250A1 (ja) 成膜マスク及びその製造方法
JP6326885B2 (ja) 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法
WO2019030801A1 (ja) 蒸着用マスク及び蒸着用マスクの製造方法
JP2005232474A (ja) 蒸着用マスク
JP2004055231A (ja) 有機el素子製造に用いる真空蒸着用多面付けメタルマスク
KR20100101919A (ko) 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
JP2008066269A (ja) 表示素子製造用マスク
US20220002858A1 (en) Metal mask strip, metal mask plate, and manufacturing method thereof
CN111593299B (zh) 掩膜板及其制造方法
KR20220113588A (ko) 마스크 및 이의 제조 방법
KR102427523B1 (ko) 단차가 최소화된 대면적 oled 증착용 마스크 조립체
WO2019038833A1 (ja) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造装置
WO2019062232A1 (zh) 掩模板及掩模板制作方法
CN111809146A (zh) 掩膜片和掩膜版
JP2012022932A (ja) 有機エレクトロルミネッセンスパネルとその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190917

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20200317